完整版TEM高分辨透射电镜讲稿

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第七章TEM透射电子显微镜PPT课件

第七章TEM透射电子显微镜PPT课件

由电子光学系统、电源与控制 系统及真空系统三部分组成。
电子光学系统通常称镜筒,是
TEM的核心,它的光路原理与
透射光学显微镜十分相似。其
分为三部分:照明系统、成像
系统和观察记录系统。
(a)
(b)
一、照明系统
(1)电子枪 电子枪是TEM的电子源。 常用的是热阴极三极电子枪,
由发夹形钨丝阴极、阳极和栅 极组成。
➢ 作用:提高像衬度;减小孔径角,从而减小像 差;进行暗场成像; ➢ 光阑孔径:20-120um。
选区光阑(Diffraction lens holders)
➢ 来限定微区,对该微区进行衍射分析; ➢ 光阑孔直径:20-400um。
TEM的型号
Philips CM12透射电镜
加速电压20、40、60、80、100 、 120KV LaB6或W灯丝 晶格分辨率 2.04Å 点分辨率 3.4Å 最小电子束直径约2nm; 倾转角度α=±20度
具有很大的景深和焦长。
二、成像系统
样品在物镜的物平面上,物镜的像平面是中间镜的物平面, 中间镜的像平面是投影镜的物平面,荧光屏在投影镜的像平 面上。 物镜和投影镜的放大倍数固定,通过改变中间镜的电流来调 节电镜总M。 M越大,成像亮度越低,成像亮度与M2成反比。 高性能TEM大都采用5级透镜放大,中间镜和投影镜有两级。 放大成像操作:中间镜的物平面和物镜的像平面重合,荧光 屏上得到放大像。 电子衍射操作:中间镜的物平面和物镜的后焦面重合,得到 电子衍射花样。
二、成像系统
高倍放大
电子衍射
成像系统光路
三、观察记录系统
观察和记录装置包括荧光屏和照相机结构。 人眼无法观测电子,TEM中的电子信息通过荧光屏和

透射电镜TEMpresentation资料

透射电镜TEMpresentation资料

1.Brief introductionTransmission electron microscopyTransmission electron microscopy (TEM) is a microscopy technique in which a beam of electrons is transmitted through an ultra-thin specimen, interacting with the specimen as it passes through it. An image is formed from the interaction of the electrons transmitted through the specimen; the image is magnified and focused onto an imaging device, such as a fluorescent screen, on a layer of photographic film, or to be detected by a sensor such as a CCD camera.2.Development:The first TEM was built by Max Knoll and Ernst Ruska in 1931, with this group developing the first TEM with resolution greater than that of light in 1933. The first commercial TEM was produced by Siemens AG of Germany in 1939. In 1986, Ruska was awarded the Nobel Prize in physics for the development of transmission electron microscopy.ponents:A TEM is composed of several components (Vacuum system 、Specimen stage、Electron gun、Electron lens、Apertures,)which include a vacuum system in which the electrons travel, an electron emission source for generation of the electron stream, a series of electromagnetic lenses, as well as electrostatic plates. The latter two allow the operator to guide and manipulate the beam as required. Also required is a device to allow the insertion into, motion within, and removal of specimens from the beam path. Imaging devices are subsequently used to create an image from the electrons that exit the system.Vacuum systemTo increase the mean free path of the electron gas interaction, a standard TEM is evacuated to low pressures, typically on the order of 10−4 Pa. The need for this is twofold: first the allowance for the voltage difference between the cathode and the ground without generating an arc, and secondly to reduce the collision frequency of electrons with gas atoms to negligible levels—this effect is characterized by the mean free path.Specimen stageThe specimen holders are adapted to hold a standard size of grid upon which the sample is placed or a standard size of self-supporting specimen. Standard TEM grid sizes are a 3.05 mm diameter ring, with a thickness and mesh size ranging from a few to 100 μm. The sample is placed onto the inner meshed area having diameter of approximately 2.5 mm. Usual grid materials are copper, molybdenum, gold or platinum.Electron gunBy connecting the filament to the negative component power supply, electrons can be "pumped" from the electron gun to the anode plate, and TEM column, thus completing the circuit. The gun is designed to create a beam of electrons exiting fromthe assembly at some given angle, known as the gun divergence semi-angle, α. By constructing the Wehnelt cylinder such that it has a higher negative charge than the filament itself, electrons that exit the filament in a diverging manner are, under proper operation, forced into a converging pattern the minimum size of which is the gun crossover diameter.Electron lens4.Application:TEMs are capable of imaging at a significantly higher resolution than light microscopes, owing to the small de Broglie wavelength of electrons. This enables the instrument's user to examine fine detail—even as small as a single column of atoms, which is thousands of times smaller than the smallest resolvable object in a light microscope. TEM forms a major analysis method in a range of scientific fields, in both physical and biological sciences. TEMs find application in cancer research, virology, materials science as well as pollution, nanotechnology, and semiconductor research. Ernst Abbe originally proposed that the ability to resolve detail in an object was limited approximately by the wavelength of the light used in imaging, which limits the resolution of an optical microscope to a few hundred nanometers. Developments into ultraviolet (UV) microscopes, led by Köhler and Rohr, allowed for an increase in resolving power of about a factor of two. However this required more expensive quartz optical components, due to the absorption of UV by glass. At this point it was believed that obtaining an image with sub-micrometer information was simply impossible due to this wavelength constraint.5.formation theory:Contrast formation in the TEM depends greatly on the mode of operation. Complex imaging techniques, which utilize the unique ability to change lens strength or to deactivate a lens, allow for many operating modes. These modes may be used to discern information that is of particular interest to the investigator.(1)Bright field:吸收像The most common mode of operation for a TEM is the bright field imaging mode. In this mode the contrast formation, when considered classically, is formed directly by occlusion and absorption of electrons in the sample. Thicker regions of the sample, or regions with a higher atomic number will appear dark, while regions with no sample in the beam path will appear bright –hence the term "bright field". The image is in effect assumed to be a simple two dimensional projection of the sample down the optic axis, and to a first approximation may be modeled via Beer's law, more complex analyses require the modeling of the sample to include phase information.(2)Diffraction contrast衍射像Transmission electron micrograph of dislocations in steel, which are faults in the structure of the crystal lattice at the atomic scaleSamples can exhibit diffraction contrast, whereby the electron beam undergoesBragg scattering, which in the case of a crystalline sample, disperses electrons into discrete locations in the back focal plane. By the placement of apertures in the back focal plane, i.e. the objective aperture, the desired Bragg reflections can be selected (or excluded), thus only parts of the sample that are causing the electrons to scatter to the selected reflections will end up projected onto the imaging apparatus.(3)Phase contrast相位像Crystal structure can also be investigated by high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM), also known as phase contrast. When utilizing a Field emission source and a specimen of uniform thickness, the images are formed due to differences in phase of electron waves, which is caused by specimen interaction.[31] Image formation is given by the complex modulus of the incoming electron beams. As such, the image is not only dependent on the number of electrons hitting the screen, making direct interpretation of phase contrast images more complex. However this effect can be used to an advantage, as it can be manipulated to provide more information about the sample, such as in complex phase retrieval techniques.透射电镜技术在好氧污泥颗粒超微结构研究中的应用_刘晓云.pdf。

12-高分辨透射电镜

12-高分辨透射电镜

9
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二维晶格像
如果电子束平行于某晶带轴入射,就可以 满足二维衍射条件的衍射花样。在透射波 附近出现反映晶体单胞的衍射波。在衍射 波和透射波干涉生成的二维像中,能观察 到显示单胞的二维晶格像。 该像虽然含有单胞尺度的信息,但不含原 子尺度的信息,称为晶格像。
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二维结构像
在分辨率允许的范围内,尽可能多用衍射 波成像,就可以使获得的像中含有单胞内 原子排列的信息。 一般结构像只有在比较薄的区域才能观察 到,但对于轻元素在较厚的区域也可以观 察到结构像。
纳米线已经形成 在受到电子束照射时 发生变形 电子衍射花样为规律 性的斑点
纳米线已经完全形成 在电子束照射下较为稳定 电子衍射花样:纳米线的 取向取向一致 晶体的C轴同纳米线的走向 一致
29
纳米球的形貌和组成
Al B
Counts. / a.u.
Cu Sr Sr Cu 0 2 4 6 8 10 Energy / keV 12 14
structure transition of sphere hydrolysate under electron beam A: 30sec; B: 2min; C: 5min; D: 10min; E:15min
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MoS2纳米棒
19
层状结构
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催化剂的研究
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催化剂
22
位错研究
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相界研究
7
A: 非晶态合金 B:热处理后微晶的晶格条纹像 C:微晶的电子衍射 明亮部位为非晶 暗的部位为微晶
8
一维结构像
如果倾斜晶体,使电子束平行于某一晶面 入射,就可以获得一维衍射条件的花样。 使用这种衍射花样,在最佳聚焦条件下拍 摄的高分辨率电子显微像不同于晶格条纹 像,含有晶体结构的信息。即将观察像与 模拟像对照,就可以获得像的衬度与原子 排列的对应关系。

透射电镜(TEM)讲义

透射电镜(TEM)讲义

05
TEM操作与注意事项
操作步骤与技巧
01
02
03
04
准备样品
选择适当的样品,进行适当的 处理和固定,以确保观察效果 最佳。
调整仪器参数
根据观察需求,调整透射电镜 的加速电压、放大倍数等参数 ,以达到最佳观察效果。
操作步骤
按照仪器操作手册的步骤进行 操作,包括安装样品、调整焦 距、观察记录等。
技巧
定量分析方法
颗粒统计
对图像中颗粒的数量、大 小和分布进行统计,计算 颗粒的平均尺寸和粒度分 布。
电子衍射分析
利用电子衍射技术分析晶 体结构和相组成,确定晶 格常数和晶面间距。
能谱分析
通过能谱仪测定图像中各 点的元素组成和相对含量, 进行定性和定量分析。
04
TEM图像解析实例
晶体结构分析
利用高分辨的TEM图像,可以观察到晶体内部的原 子排列和晶体结构,如面心立方、体心立方或六方 密排结构等。
掌握操作技巧,如正确使用操 作杆、合理利用观察窗口等, 以提高观察效果和效率。
仪器维护与保养
定期清洁
定期对透射电镜进行清 洁,保持仪器内部和外
部的清洁度。
检查部件
更换消耗品
定期检查透射电镜的部 件,如电子枪、镜筒等,
确保其正常工作。
根据需要,及时更换透射 电镜的消耗品,如真空泵
油、电子枪灯丝等。
保养计划
在操作透射电镜时,应严格遵守操作规程, 确保仪器和人身安全。
THANK YOU
感谢聆听
80%
观察模式
根据观察目的选择不同的观察模 式,如明场、暗场、相位对比和 微分干涉等。
图像解析与解读
01
02
03

TEM -投射电镜 Lecture 11 - 高分辨透射电子显微镜HRTEM and 扫描投射STEM

TEM -投射电镜 Lecture 11 - 高分辨透射电子显微镜HRTEM and 扫描投射STEM

High-resolution EM
general idea
So, the lens effectively ‘scrambles’ the information embedded in the exit wave
The amount of scramble depends on the defocus & Cs
factors
V(x,y)
Model structure
Projected potential
φ(x,y)
Projected potential
Object transmission
function
Objective lens
Multislice calculation
Back focal plane Objective aperture
– In fact, it is because each diffracted wave represents a different solution to the Schrödinger Eqn. for the electron in the crystal
• Resulting phase depends on the strength & spacing of the periodic potential of the lattice along a given direction in the crystal
Transmitted & diffracted waves each have a different phase
Result is an interference pattern - our ‘phase contrast’ or HREM image

第8讲_透射电子显微镜(TEM)_20111104

第8讲_透射电子显微镜(TEM)_20111104

(2)样品室
样品室中有样品杆、样品杯及样品台
(3)成像系统
一般由物镜、中间镜和投影镜组成。物镜的 分辨本领决定了电镜的分辨本领,中间镜和 投影镜的作用是将来自物镜的图像进一步放 大
(4)图像观察与记录系统
该系统由荧光屏、照相机、数据显示等组成
2)真空系统
真空系统由机械泵、油扩散泵、换向阀门、 真空测量仪奉及真空管道组成。它的作用是 排除镜筒内气体,使镜筒真空度至少要在 托 以上 如果真空度低的话,电子与气体分子之间的 碰撞引起散射而影响衬度,还会使电子栅极 与阳极间高压电离导致极间放电,残余的气 体还会腐蚀灯丝,污染样品
第8讲 透射电子显微分析 2011年11月4日 Transmission Electron Microscope TEM
透射电子显微镜是以波长很短的电子束做 照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种具有高 分辨本领,高放大倍数的电子光学仪器。测 试的样品要求厚度极薄(几十纳米),以便 使电子束透过样品。
发展历史
金相复型的制备方法
1.对金相试样的要求 试样要细心磨制,仔细抛光, 力求避免产生 微小的磨痕及变形层,浸蚀剂与做金相试验 时所用的浸蚀剂相同,浸蚀应浅些,这样可 保留组织细节。 2.塑料一碳二级复型 塑料一碳二级复型由于其制备过程不损 坏金相试样表面,重复性好,供观察的第二 级复型一碳膜导电导热性好,在电子束照射 下较为稳定,因而得到广泛的应用。具体制 备方法如下:
在孔洞边缘获得厚度小于500nm的薄膜。
生物磁铁矿晶体的完好晶形 (TEM照片)
沙尘暴的矿物颗粒
海盐气溶胶颗粒;匈牙利上空大陆大气层中收集到的煤灰/硫化 物混合颗粒的TEI
煤灰/硫化物混合颗粒的TEM图象
Sol-gel法合成羟磷灰石, 可分辨出毛发状、长柱状的晶 体轮廓, 但晶面发育不明显 (TEI)

透射电镜tem讲稿精品

透射电镜tem讲稿精品
每周维护
清洗物镜、目镜和聚光镜,检查 真空系统和电子枪的工作状态。
维护保养建议及周期安排
每月维护
对电镜进行全面检查和维护,包括机械部件、真空系统、电子光 学系统和控制系统等。
年度维护
对电镜进行深度维护和保养,包括更换易损件、清洗内部部件和 调整仪器性能等。
THANK YOU
感谢聆听
纳米器件研究
研究纳米器件的结构、工作原理和性能,推动纳 米电子学、纳米光学等领域的发展。
3
纳米生物医学研究
利用TEM观察纳米药物、纳米载体等生物医学应 用中的纳米材料,评估其生物相容性和治疗效果。
05
实验操作规范与注意事项
实验前准备工作规范
02
01
03
样品制备
确保样品纯净,无杂质。
根据实验需求,选择合适的制样方法,如研磨、切片 等。
实验前准备工作规范
设备检查 检查透射电镜的真空度、电子枪、镜头等关键部件是否正常。
确保所有附件和工具齐全且处于良好状态。
实验前准备工作规范
安全防护 穿戴好实验服和防护眼镜。
熟悉紧急情况下的应对措施,如停电、真空泄露等。
实验过程中操作规范
样品安装 将制备好的样品放入样品台,并确保其稳定。
根据需要选择合适的放大倍数和观察模式。
常见故障现象及排查方法
故障现象1:图像模糊或失真
排查方法:检查物镜、目镜和聚光镜是否干净, 调整焦距和像散,检查电子枪和高压系统是否 正常。
故障现象2:真空度下降
排查方法:检查真空泵、真空管道和真空 计是否正常,查找漏气点并及时修复。
故障现象3:电子束不稳定
排查方法:检查电子枪、高压系统和电磁透 镜是否正常,调整电子束的聚焦和偏转。

TEM透射电镜中的电子衍射及分析

TEM透射电镜中的电子衍射及分析

TEM透射电镜中的电子衍射及分析TEM透射电镜(Transmission Electron Microscopy)是一种高分辨率的显微镜,它利用电子束穿透样品,并通过电子衍射和显微成像技术来观察样品的内部结构和晶格信息。

本文将通过一个实例来介绍TEM透射电镜中的电子衍射及分析过程。

实例:研究纳米材料的晶格结构研究目标:使用TEM透射电镜研究一种纳米材料的晶格结构,确定其晶格常数和晶体结构。

实验步骤:1.样品制备:首先,需要制备纳米材料的TEM样品。

常见的制备方法包括溅射,化学气相沉积和溶液法等。

在本实验中,我们将使用溶液法制备纳米颗粒样品,并将其沉积在碳膜上。

2.装载样品:将TEM样品加载到TEM透射电镜的样品台上,并进行适当的调整,以使样品位于电子束的路径中。

3.调整TEM参数:调整透射电镜的参数,如电子束的亮度,聚焦和对比度等。

这些参数的调整对于获得良好的电子衍射图像至关重要。

4. 获得电子衍射图:通过调整TEM中的衍射镜,观察和记录电子衍射图。

可以使用选区衍射(Selected Area Diffraction,SAD)模式,在样品上选择一个小区域进行衍射。

电子束通过纳米颗粒样品时,会与晶体的原子排列相互作用,并在相应的探测器上形成衍射斑图。

5.解析电子衍射图:利用电子衍射图分析软件,对获得的电子衍射图进行解析。

通过测量衍射斑的位置和相对强度,可以推断出样品的晶格常数和晶体结构。

6.确定晶格常数:根据衍射斑的位置,使用布拉格方程计算晶格常数。

布拉格方程为:nλ = 2dsin(θ)其中,n是衍射阶数,λ是电子波长,d是晶体平面的间距,θ是入射角。

通过测量不同衍射斑的位置和计算,可以得到晶格常数及其误差范围。

7.确定晶体结构:根据衍射斑的相对强度以及已知的晶格常数,可以利用衍射斑的几何关系推断样品的晶体结构。

常见的晶体结构包括立方晶系、六方晶系等。

8.结果分析:根据实验获得的数据,进行晶格常数和晶体结构的分析和比较。

完整版TEM高分辨透射电镜讲稿PPT60页

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谢Байду номын сангаас!
完整版TEM高分辨透射电镜讲稿
61、辍学如磨刀之石,不见其损,日 有所亏 。 62、奇文共欣赞,疑义相与析。
63、暧暧远人村,依依墟里烟,狗吠 深巷中 ,鸡鸣 桑树颠 。 64、一生复能几,倏如流电惊。 65、少无适俗韵,性本爱丘山。
61、奢侈是舒适的,否则就不是奢侈 。——CocoCha nel 62、少而好学,如日出之阳;壮而好学 ,如日 中之光 ;志而 好学, 如炳烛 之光。 ——刘 向 63、三军可夺帅也,匹夫不可夺志也。 ——孔 丘 64、人生就是学校。在那里,与其说好 的教师 是幸福 ,不如 说好的 教师是 不幸。 ——海 贝尔 65、接受挑战,就可以享受胜利的喜悦 。——杰纳勒 尔·乔治·S·巴顿

[指南]TEM透射电镜

[指南]TEM透射电镜

透射电子显微镜实验目的1. 掌握透射电镜的工作原理和基本结构2. 了解和掌握透射电镜的样品前处理及数据后处理过程3. 了解透射电镜的操作方法实验原理根据阿贝成像原理,更短波长的光源才能得到更高分辨率的图像;而由波粒二象性可以知道,高速运动的电子波长非常短。

透射电镜就是利用磁场对电子进行聚焦,聚焦后的电子束与样品相互作用,从而得到高分辨的样品形貌。

图1 透射电镜的成像原理透射电镜的成像主要分为两个过程:一是平等电子束与样品作用产生衍射束经磁透镜聚集后形成各级衍射谱,即样品的结构信息通过衍射谱呈现出来;二是从各级衍射谱发出的相干波通过干涉重新在像平面上形成反映样品形貌特征的像。

显然从试样同一点发出的各级衍射波经过上述两个过程后在像平面上会聚集为一点,而从试样不同点发出的同级衍射波经过透镜后,都会聚集到后焦面上的一点。

当中间镜的物平面与物镜的像平面重合时,得到三级高倍放大像,即试样显微成像;当中间镜的位置与物镜的背焦面重合时,将得到放大了的衍射谱,即衍射花样成像。

当成像方式为显微成像时,总的透射电镜总的放大倍数就是各个透镜倍率的乘积。

而改变中间镜的电流,调节其焦距使得中间镜物平面移到物镜的后焦面,便可在屏上看到像的后焦面以及变换成衍射谱的过程。

用物镜光阑选择物镜后焦面上的不同衍射斑点,并使所选电子束成像就可以获得不同模式的像。

选择透射波时,观察到的是明场像;选择衍射波时,观察到的是暗场像;当后焦面上的物镜光阑尺寸较大时,可以使两个以上的波干涉成像,观察到的是高分辨电子显微像。

高分辨像主要有晶格条纹像,一维结构像,二维晶格像,二维结构像和特殊像五类。

透射电镜主要由电子光学系统、真空系统和电子控制系统等部分组成,其中电子光学系统是决定透射电镜性能最关键的部分。

另外,有些透射电镜还配置有X射线能谱、电子能量损失谱等附件。

电子光学系统由照明系统、成像系统和图像观察记录系统组成。

照明系统由电子枪和几个电磁聚光镜组构成,主要是提供一个亮度高、尺寸小、性能稳定的光源。

高分辨透射电子显微术优秀课件.ppt

高分辨透射电子显微术优秀课件.ppt
高分辨透射电子显微术优秀课件
波的干涉
Yi
底片
高分辨透射电子显微术优秀课件
高分辨透射电子显微术:是材料原子级别显微组织结构的相 位衬度显微术。它能使大多数晶体材料中的原子成串成像。
高分辨透射电子显微术优秀课件
)首次用电子显微镜拍摄了 Ti2Nb10O29 的二维像,并指出高分辨像中一个亮点对应于 晶体结构中电子束入射方向的一个通道。这是由于通道与周 围相比对电子的散射较弱,因此在像中呈现为亮点。在弱相 位体近似成立的条件下,高分辨电子显微像就是晶体结构在 电子束方向的投影,因此将晶体结构与电子显微像结合起来。 这种直观地显示晶体结构的高分辨像就称为结构像。
高分辨透射电子显微术优秀课件
阿贝成像原理
成像系统光路图如图所示。 当来自照明系统的平行电子束投射
到晶体样品上后,除产生透射束外 还会产生各级衍射束,经物镜聚焦 后在物镜背焦面上产生各级衍射振 幅的极大值。 每一振幅极大值都可看作是次级相 干波源,由它们发出的波在像平面 上相干成像,这就是阿贝光栅成像 原理。
在此期间,人们还致力于发展超高压电镜、扫描 透射电镜、环境电镜以及电镜的部件和附件等, 以扩大电子显微分析的应用范围和提高其综合分 析能力。
高分辨透射电子显微术优秀课件
高分辨电镜可用来观察晶体的点阵像或单原子像等所谓的高 分辨像。这种高分辨像直接给出晶体结构在电子束方向上的 投影,因此又称为结构像(图4-86)。
高分辨TEM
用物镜光阑选择透射波,观察到的象为明场象; 用物镜光阑选择一个衍射波,观察到的是暗场像; 在后焦平面上插上大的物镜光阑可以获得合成象,即高分辨
电子显微像
高分辨透射电子显微术优秀课件
高分辨显微像
高分辨显微像的衬度是由合成的透射波与衍射波的相位差所 形成的。

(完整版)透射电镜TEM分析

(完整版)透射电镜TEM分析
50nm) • 1939年,德国西门子公司生产出第一批商用透射电镜
(点分辨率10nm) • 1950年 ,开始生产高压电镜(点分辨率优于0.3nm,
晶格条纹分辨率由于0.14nm) • 1956年 ,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开
创了高分辨电子显微术, 获得原子象。
清华大学化学系
表面与材料实验室
清华大学化学系
表面与材料实验室
5
与光学显微镜的比较
• 光学显微镜的分辨率不可能高于200nm,限制因素是光波 的波长。
• 加速电压为100 KV的电子束的波长是0.0037nm。最小分 辨率可达0.002nm左右,因此,电子波的波长不是分辨率 的限制因素。球差和色差是分辨率的主要限制因素。
• 透射电镜可以获得很高的放大倍数150万倍。可以获得原 子象。
• 对于透射电镜常用的加速电压100KV,如果样品是金 属其平均原子序数在Cr的原子附近,因此适宜的样品 厚度约200纳米。
清华大学化学系
表面与材料实验室
13
样品制备
• 对于块体样品表面复型技术和样品减薄技术是制 备的主要方法。
• 对于粉体样品,可以采用超声波分散的方法制备 样品。
• 对于液体样品或分散样品可以直接滴加在Cu网 上;
清华大学化学系
表面与材料实验室
10
成像部分
• 样品室位于照明部分和物镜之间,一般还可以配置加 热,冷却和形变装置。
• 物镜是最关键部分,透射电镜分辩本领的好坏在很大 程度上取决于物镜的优劣。物镜的最短焦距可达 1mm , 放 大 倍 率 ~ 300 倍 , 最 佳 理 论 分 辨 率 可 达 0.1nm,实际分辨率可达0.2nm。
清华大学化学系

透射电镜(TEM)PPT课件

透射电镜(TEM)PPT课件

2021/3/9

授课:XXX
2
JEM2010-透射电子显微镜
原理
透射电子显微镜的成像原理可分为三种情况:
1.吸收像:当电子射到质量、密密度大的样品时,主要的成相作用是散射作用。样品 上质量厚度大的地方对电子的散射角大,通过的电子较少,像的亮度较暗。早期的透 射电子显微镜都是基于这种原理
2.衍射像:电子束被样品衍射后,样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体 各部分不同的衍射能力,当出现晶体缺陷时,缺陷部分的衍射能力与完整区域不同, 从而使衍射钵的振幅分布不均匀,反映出晶体缺陷的分布。 3.相位像:当样品薄至100A以下时,电子可以穿过样品,波的振幅变化可以忽略, 成像来自于相位的变化。
2021/3/9
授课:XXX
5
二:特点:以电子束作光源,电磁场作透镜。电子束波长与加速电压(通常 50~120KV)成反比。由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、 电源系统等5部分构成。分辨力0.2nm,放大倍数可达百万倍。TEM分析技术是以 波长极短的电子束作照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率(1nm)、高放 大倍数的电子光学分析技术;用电镜(包括TEM)进行样品分析时,通常有两个 目的:一个是获得高倍放大倍数的电子图像,另一个是得到电子衍射花样;TEM
常用于研究纳米材料的结晶情况,观察纳米粒子的形貌、分散情况及测量和评估纳 米粒子的粒径。是常用的纳米复合材料微观结构的表征技术之一。
2021/3/9
授课:显X微XX镜原理对比图
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应用举例
1.元素分布分析
利用微束技术对在光学显微镜下所选区域进行扫描分析,可 获得元素的分布图(线分布、面分布、深度分布和断层), 来比较研究元素的区域(或相)分布特征。这类分析称为元 素分布分析。

完整版TEM高分辨透射电镜讲稿

完整版TEM高分辨透射电镜讲稿
?1934年Ruska在实验室制成第一部透射电子显微鏡( transmission electron microscope ,TEM)
?1938 年,德国西门子公司第一部商业电子显微镜問世
?1940年代,常用的50 至100 keV 之TEM 其分辨率約在l0 nm左右, 而最佳分辨率則在2至3 nm之間。当时由于研磨試片的困难及缺乏 应用的动机,所以很少为物理科学研究者使用。直到 1949年, Heidenreich制成适于TEM观察的鋁及鋁合金薄膜,观察到因厚度 及晶面不同所引起的像衬度效应,並成功的利用电子衍射理论加 以解释。同時也获得一些与材料性质有关的重要結果,才使材料 界人士对TEM看法改变。但因为一般試片研制不易,发展缓慢。
我国电镜研制起步较迟,1958年 在长春中国科学院光学精密机械研 究所生产了第一台中型电镜。
到1977年生产的TEM分辨率为 0.3nm,放大倍率为80万倍。
具体发展历程:
?J.J.Thomson作阴极射线管实验时观察到 电场及磁场可偏折电子.
?1926年Busch发现可用电磁场聚焦电子,产生放大作用。电 磁场对 电子之作用与光学透鏡对光波之作用非常相似,因而发展出电磁 透鏡.
?70年代末日本大阪大学应用物理系教授桥本初次朗应用透射电子显 微镜直接观察到单个重金属原子(金原子)及原子集团中的近程有序 排列,并用快速摄影记录下原子跳动的踪迹,终于实现了人类直接观 察原子的宿愿。
60多年的实践证明,电子显微镜是上世纪最重大发明之一,卢斯 卡教授由于他的先驱工作给科学所带来的巨大贡献,从而获得 1986 年的诺贝尔物理学奖。
?TEM发展概述
Байду номын сангаас
主要内容
?TEM的结构和成像原理
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?1950年代中期,英国Hirsch改进了试样制备,建立了薄晶体电子衍 衬运动学和动力学理论,成功地分析了透射电子显微镜中所观察到 的图像,例如位借、层错等。各种晶体缺陷,以前只能在理论上描 述和间接地演示,现在直接在电子显微镜下观察到。
? 1956年Menter用多束电子成像的方法,在电子显微镜下直接观察酞 青铜晶体中(201)点阵平面间距为1.2nm的条纹像,开创了高分辨电 子显微术
?TEM发展概述
主要内容
?TEM的结构和成像原理
?TEM的样品制备
?影响TEM分辨率的因素
?TEM的应用
一. TEM发展概述
1926年德国科学家Garbor和Busch发现用 铁壳封闭的铜线圈对电子流能折射聚焦, 既可作为电子束的透镜。 1932年德国科学家Ruska和Knoll在前面两 个发现的基础上研制出第一台TEM。
α=Z e/ U r n rn
α=e / U r e re
α
Zn
+
-
α
α
样品 物镜
物镜光阑 背焦平面
⑴原子引起电子束偏转示意图
物镜像பைடு நூலகம்面
⑵ “小孔径角成像”示意图
透射电镜的结构:
电子光学系统 (主体)
TEM
真空系统
(辅助)
电源与控制系统 (辅助)
照明系统 成像系统(主要) 观察记录系统
循环冷却系统 (辅助)
?因为不同结构有不同的相互作用,这样就 可以根据透射电子图象所获得的信息来了 解试样内部的结构。由于试样结构和相互 作用的复杂性,因此所获得的图象也很复 杂。它不象表面形貌那样直观、易懂。
?超高压和中等加速电压技术:电子经过试样后,对成像有贡献的 弹性散射 电子所占的百分比决定了图像分辨率→信号/噪声的高低;
?1934年Ruska在实验室制成第一部透射电子显微鏡( transmission electron microscope ,TEM)
?1938 年,德国西门子公司第一部商业电子显微镜問世
?1940年代,常用的50 至100 keV 之TEM 其分辨率約在l0 nm左右, 而最佳分辨率則在2至3 nm之間。当时由于研磨試片的困难及缺乏 应用的动机,所以很少为物理科学研究者使用。直到 1949年, Heidenreich制成适于TEM观察的鋁及鋁合金薄膜,观察到因厚度 及晶面不同所引起的像衬度效应,並成功的利用电子衍射理论加 以解释。同時也获得一些与材料性质有关的重要結果,才使材料 界人士对TEM看法改变。但因为一般試片研制不易,发展缓慢。
?透射电镜的样品是放置在物镜的上下极靴之间,由于这里的空间很小, 所以透射电镜的样品也很小,通常是直径 3mm的薄片。
成像部分:
?物镜:为放大率很高的短距透镜 ,对样品成像和 放大。它是决定 TEM分辨本领和成像质量的 关键。 因为它将样品中的微细结构成像、放大,物镜中 的任何缺陷都将被成像系统中的其他透镜进一步 放大。
二. TEM的结构和成像原理
透射电镜的成像原理:
?TEM是利用透过样品的 透射电子成像的。 入射电子透射试样后,将与试样内部原子 发生相互作用,从而改变其能量及运动方 向。
?电子枪发射出电子射线(不带信息),经 透射系统照射在样品上, 电子束与样品相 互作用后,当电子射线在样品另一方重新 出现时,以带有样品内的信息,然后进行 放大处理而成像,最终在荧光屏上形成带 有样品信息的图像,使人眼能够识别。
电子光学系统:
电 电子枪 子 聚光镜 光 样品台 学 物镜 系 中间镜 统 投影镜
荧光屏 照相底片
照明部分
样品装置部分 成像部分
观察记录部分
照明部分:
?电子枪:发射电子的场所,也是电镜的照明源。由 阴极(灯丝)、 栅极、阳极组成。阴极管发射的电子通过栅极上的小孔形成电子束, 电子束有一定发射角,经阳极电压加速后射向聚光镜,起到对电子 束加速加压的作用,形成很小的平行电子束。
我国电镜研制起步较迟,1958年 在长春中国科学院光学精密机械研 究所生产了第一台中型电镜。
到1977年生产的TEM分辨率为 0.3nm,放大倍率为80万倍。
具体发展历程:
?J.J.Thomson作阴极射线管实验时观察到 电场及磁场可偏折电子.
?1926年Busch发现可用电磁场聚焦电子,产生放大作用。电 磁场对 电子之作用与光学透鏡对光波之作用非常相似,因而发展出电磁 透鏡.
透射电镜的成像及应用( TEM)
前言
?进行电子显微分析时要把具有一定能量的电子汇聚成细小的电子束,与样 品物质相互作用,激发出可以表征材料微区特征的各种信息,检测并处理 这些信息。
?电子显微镜是利用电子与物质作用所产生的讯号来鉴定微区的晶体结构 (crystal structure )、微观组织 (microstructure )、 化学成份 (chemical composition) 、 化学键(chemical bonding) 和电子分布情 况(electronic structure) 的电子光学装置。
?中间镜:是一个可变倍率的弱透镜 ,可以对电子 像进行二次放大。通过调节中间镜的电流,可选 择物体的像或电子衍射图来进行放大。
?投影镜:为高级强透镜 ,最后一级放大镜,用来 放大中间像后在荧光屏上成像。
透射电子显微镜中, 物镜、中间镜、投影镜 是 以积木方式成像,也就是说,上一透镜的像平 面就是下一透镜的物平面,这样才能保证经过 连续放大的最终像是一个清晰的像。 在这种成像方式中,如果电子显微镜是 三级成 像,那么总的放大倍率就是各个透镜倍率的乘 积。 M最大 =M1×M2×M3
?70年代末日本大阪大学应用物理系教授桥本初次朗应用透射电子显 微镜直接观察到单个重金属原子(金原子)及原子集团中的近程有序 排列,并用快速摄影记录下原子跳动的踪迹,终于实现了人类直接观 察原子的宿愿。
60多年的实践证明,电子显微镜是上世纪最重大发明之一,卢斯 卡教授由于他的先驱工作给科学所带来的巨大贡献,从而获得 1986 年的诺贝尔物理学奖。
?聚光镜:将电子枪所发出的 电子束汇聚到样品平面上。并调节电子 的孔径角、电子束的电流密度和照明光斑的大小。
样品装置部分:
?样品室是电子光学系统中的重要组成部分。它位于聚光镜和物镜之间。 它的主要作用是通过样品台承载样品,并使样品能作平移、倾斜、旋 转,以选择感兴趣的样品区域或位向进行观察分析。
?在特殊情况下,样品室内还可分别装有加热、冷却或拉伸等各种功能 的样品座,以满足相变、形变等过程的动态观察。
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