高分辨相位衬度的起源与理论

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第五章 高分辨(相位)衬度的起源与理论

第五章  高分辨(相位)衬度的起源与理论

面电子波。在菲涅尔近似下,有
ψ ( x, y ) =
− 2πik [( x − X ) 2 + ( y − Y ) 2 ] i exp(−2πikZ ) q X Y ( , ) exp dXdY ∫∫ Zλ 2R
= q ( x, y ) * PR ( x, y )
(4-8)
其中,q(x,y) 为物函数,Ψ(x,y)为传播 R 距离后的电子波函数, PR(x,y)为菲涅尔传播因子:
高分辨研究简史
关于高分辨透射电子显微镜的基本成像理论,Boersch 早在 1946 年在研究电子与 原子的相互作用时就提出,固体中的原子会对在其中传播的电子束进行调制,改变电 子波的相位。他认为,利用电子波的相位变化,有可能观察到单个原子,可以用来分 析固体中原子的排列方式。 这一理论实际上成为现代实验高分辨电子显微分析方法的理 论依据; 1947 年, 德国科学家 Scherzer 提出, 磁透镜的离焦 (defocus, 即所谓的 Scherzer 最佳欠焦量,而非通常的高斯正焦)能够补偿因透镜缺陷(球差)引起的相位差,从而 可显著提高电子显微镜的空间分辨率。 高分辨试验方面的最初结果首先是由 Menter 在 1956 年做出的。 在 20 世纪 50 年代, 由于透射电镜的线分辨率只有 1.2 纳米,点分辨率更差,大大限制了这一时期高分辨 电子显微技术的应用。直到 1970 年代,透射电镜点分辨率已达到几个埃的水平,对高 分辨电子显微学的应用创造了良好的物质基础。 1957 年,美国 Arizona 洲立大学物理系的 Cowley 教授等利用物理光学方法来研究 电子束与固体的相互作用,并用所谓“多层法”计算相位衬度随样品厚度、离焦量的变 化,从而定量地解释所观察到的相位衬度像,即所谓高分辨像,从而建立和完善了高分 辨电子显微学的物理基础。1971 年,Cowley、Iijima 等人首次获得了可直接解释的氧化 物晶体的高分辨电镜像,证实了他们所看到的高分辨像与晶体结构之间具有对应关系, 实际上是晶体结构沿着特定方向上的二维投影。 这一时期高分辨电子显微像的分辨率已 优于 4 埃。 Cowley、Iijima 的工作开创了一个应用高分辨电子显微学的新时代,从此 高分辨电子显微术开始被广泛地利用与多种领域,成为现代物理、化学、材料科学、矿 物学、生物学等多种学科研究的常用技术。 在这一章节中, 先介绍要一下有关高分辨电子显微学的一些基本理论和概念。 之后,讨论一下高分辨电子显微术的图像模拟方法,以及主要应用对象,并简单 介绍一下近年来高分辨电子显微学的一些新进展,如球差矫正(Cs corrector) , 以及出射波重构(exit wave reconstruction)等新技术。

材料分析高分辨电子显微学

材料分析高分辨电子显微学





(2)经物镜作用在后焦面处形成衍射谱 Q(u,v)=F[q(x,y)] (3)像平面上形成高分辨电子显微像 当物平面与像平面严格地为一对共轭面时,像面波Ψ(r) 真实地放大了物面波q(r),而当物镜有像差时,像平面不严 格与物平面共轭,此时像面波不再真实地复现物面波。像面 波与物面波之间的这种偏差可用在物镜后焦面上给衍射波加 上一个乘子,就是衬度传递函数exp(iⅹ (u,v)) 。 同时考虑物镜光阑的作用C(U,V).因而像平面的电子散射 振幅为: Ψ(u,v)=F[C(U,V) Q(u,v) exp(iⅹ (u,v)) ] 像平面上像的强度为像平面上电子散射振幅的平方,即 振幅及其共轭的乘积: I(x,y)= Ψ*(u,v) · Ψ(u,v) =│1 +iF{C(U,V)F[σφ(x,y) Δz ] exp(iⅹ (u,v))} │2
(4)样品厚度对像衬度的影响 高分辨像实际上是所有参加成像的衍射束与透 射束之间因相位差而形成的干涉图像。因此,试样 厚度非直观地影响高分辨像的衬度。 图3-3所示为Nb2O5单晶在同一欠焦量下不同试 样厚度区域的高分辨照片。在照片上能看到由于试 样厚度不均匀等因素引起的图像衬度区域性变化, 即图像从试样边缘的非晶衬度过渡到合适厚度下的 晶胞单元结构像。
高分辨电子显微学
林鹏 081820022
目录
1.绪论
2.高分辨电子显微相位衬度像的成像原理 3.高分辨电子显微像衬度的影响因素 4.高分辨电子显微像的计算机模拟 5.高分辨电子显微观察和拍摄图像的程序 6.高分辨电子显微图像的类型和应用实例
1.绪论
不同材料有不同的使用性能;材料的性能 决定于材料的结构,特别是它的微观结构。 为了获得能满足人类生活和生产需要的材料, 必须研究材料的结构,首先要直接观察到结 构的细节。 1956年,门特用分辨率为0.8nm的透射 电子显微镜直接观察到酞菁铜晶体的相位衬 度像,这是高分辨电子显微学诞生的萌芽。

第五章 高分辨(相位)衬度的起源与理论

第五章  高分辨(相位)衬度的起源与理论
S ∑ a i q i ( x , y ) i
}= ∑ ai Sqi ( x, y ) }

i
3. 菲聂尔衍射过程-小角近似、进场近似
由于通过求解薛定厄方程解决电子波的传播过程和衍射过程非常 复杂,所以一般用物理光学的方法来处理电子波的传播、衍射和成像 过程。电子波在晶体中传播产生的衍射现象,如直边,狭缝,园孔等 典型衍射过程,可以用惠更斯-菲涅尔原理成功地进行解释。 基尔霍夫(Kirchhoff)从简谐标量波的亥姆霍茨(Helmholtz)微 分方程出发, 推导出与惠更斯-菲涅尔原理的积分公式相似的衍射公 式:
q(r )
Q(u ) = F {q (r )}
ψ (r ) = F
−1
{Q(u )} = q(r )
图 5-1 理想透射电镜磁透镜的 Abbe 成像原理
3
北京大学
物理学院
研究生教材――俞大鹏
2004. 9
2. 线性系统
由于在晶体中传播的电子波函数满足线性的薛定愕方程,所以电 子透镜成像系统可以被看成是线性变换系统。 高分辨透射电镜的成像 过程是一个线性变换过程,其基本特征是,若干个输入信号所产生的 响应等于单个输入信号的响应之和,即:
北京大学
物理学院
研究生教材――俞大鹏
2004. 9第五Biblioteka 相位衬度的起源与理论-高分辨理论
高分辨研究简史
关于高分辨透射电子显微镜的基本成像理论,Boersch 早在 1946 年在研究电子与 原子的相互作用时就提出,固体中的原子会对在其中传播的电子束进行调制,改变电 子波的相位。他认为,利用电子波的相位变化,有可能观察到单个原子,可以用来分 析固体中原子的排列方式。 这一理论实际上成为现代实验高分辨电子显微分析方法的理 论依据; 1947 年, 德国科学家 Scherzer 提出, 磁透镜的离焦 (defocus, 即所谓的 Scherzer 最佳欠焦量,而非通常的高斯正焦)能够补偿因透镜缺陷(球差)引起的相位差,从而 可显著提高电子显微镜的空间分辨率。 高分辨试验方面的最初结果首先是由 Menter 在 1956 年做出的。 在 20 世纪 50 年代, 由于透射电镜的线分辨率只有 1.2 纳米,点分辨率更差,大大限制了这一时期高分辨 电子显微技术的应用。直到 1970 年代,透射电镜点分辨率已达到几个埃的水平,对高 分辨电子显微学的应用创造了良好的物质基础。 1957 年,美国 Arizona 洲立大学物理系的 Cowley 教授等利用物理光学方法来研究 电子束与固体的相互作用,并用所谓“多层法”计算相位衬度随样品厚度、离焦量的变 化,从而定量地解释所观察到的相位衬度像,即所谓高分辨像,从而建立和完善了高分 辨电子显微学的物理基础。1971 年,Cowley、Iijima 等人首次获得了可直接解释的氧化 物晶体的高分辨电镜像,证实了他们所看到的高分辨像与晶体结构之间具有对应关系, 实际上是晶体结构沿着特定方向上的二维投影。 这一时期高分辨电子显微像的分辨率已 优于 4 埃。 Cowley、Iijima 的工作开创了一个应用高分辨电子显微学的新时代,从此 高分辨电子显微术开始被广泛地利用与多种领域,成为现代物理、化学、材料科学、矿 物学、生物学等多种学科研究的常用技术。 在这一章节中, 先介绍要一下有关高分辨电子显微学的一些基本理论和概念。 之后,讨论一下高分辨电子显微术的图像模拟方法,以及主要应用对象,并简单 介绍一下近年来高分辨电子显微学的一些新进展,如球差矫正(Cs corrector) , 以及出射波重构(exit wave reconstruction)等新技术。

03-电子显微分析-基础知识与TEM(3-TEM)

03-电子显微分析-基础知识与TEM(3-TEM)

二、透射电子显微像的质厚衬度及透射电镜样品
使用透射电镜观察分析材料的形貌、组织、结构,需具备以 下两个前提: 一是制备适合TEM观察的试样,厚度100-200nm,甚至更薄;
TEM试样大致有三种类型: 粉末颗粒 材料薄膜 复型膜
二是建立电子图像的衬度理论
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二、像衬度及复型像
(一)电子像衬度(像衬度)——质厚衬度
一般都采用双聚光镜系统。
②成象放大系统
主要组成:
➢ 物镜

➢ 中间镜(1-2个)


➢ 投影镜(1-2个)
大 系

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物镜
①形成显微像
将来自试样同一点的不同方向的弹性散射束会聚于其像
作用:平面上,构成与试样组织结构相对应的显微像。 ②形成衍射花样
将来自试样不同点的同方向、同相位的弹性散射束会聚 于其后焦面上,构成含有试样晶体结构信息的衍射花样
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(2)放大倍数
透射电镜的放大倍数是指电子图象对于所观察试样区的 线性放大率。
最高放大倍数表示电镜的放大极限。实际工作中,一般 都是在低于最高放大倍数下观察,以得到清晰的图像。
(3)加速电压
电镜的加速电压指电子枪的阳极相对于阴极的电压 决定电子枪发射的电子束的波长和能量 200kV电镜是一种比较理想的电镜(0.00251nm )
三、电子衍射
四、透射电子 显微像
电子衍射和X-ray衍射异同点 电子衍射基本公式 电子衍射花样 阿贝显微镜成像原理 透射电子显微镜中选区电子衍射 电子衍射花样的标定
像衬度:质厚衬度、衍射衬度、相位衬度 选择衍射成像原理 双光束条件 电子衍射分析的特点
一、透射电子显微镜
结构组成与工作原理 ➢ 光学成像系统 ➢ 真空系统 ➢ 电气系统

相位衬度原理

相位衬度原理

相位衬度原理今天来聊聊相位衬度原理。

你们有没有见过那种在阳光下会有特殊视觉效果的物品呢?比如说一些蝴蝶的翅膀,从不同的角度看,会有不一样的色泽和光晕。

其实这背后就有点类似相位衬度原理在微观世界里的表现。

我最开始接触相位衬度原理的时候啊,那可真是一头雾水。

这就要说到光和物质相互作用的特性了。

在微观世界里,当光穿过一个物体的时候,就像一群小蚂蚁在搬东西,物体不同的区域会对光产生不同的影响。

简单来说,相位衬度原理主要是关涉到光的相位变化。

咱们就把光想象成是一群有着整齐步伐的士兵在跑步,当经过一个微观的物体结构时,有的地方会让士兵的脚步加快或者减慢(也就是光的相位变化)。

通常我们的眼睛只能看到光的强度信息,也就是看到那些很亮或者很暗的地方。

但是当我们利用特殊的技术手段(就像是给这些变化了步伐的士兵专门建一个舞台来展示他们的不同),让相位的变化能够通过强度的变化被我们的眼睛或者探测器察觉到,这就是相位衬度成像。

比如说晶体的结构研究里。

晶体内部的原子排列就像一个精细设计的小迷宫,原子间不同的疏密排列会使穿过的光有相位的变化。

通过相位衬度原理相关的成像技术,我们可以观察到晶体内部原子的阵列。

注意哦,这里面“相位回廊”(这里只是形象化说法,实际是微观的结构环境)可就不是随便逛逛那么简单,如果不理解这个原理,就丢失了很多微观结构的重要信息。

有意思的是,在生物样本成像里,相位衬度也帮我们不少忙。

细胞结构,比如细胞器,像是微观世界里的小工厂,相位衬度可以让我们在不染色(染色类似于一种破坏原生状态的化妆)的情况下,清楚观察到这些小工厂的结构排列等信息。

老实说,我一开始也不明白为什么相位这么个摸不着的东西这么重要。

打个比方吧,相位就像交响乐里每个乐器发出声音的先后顺序,如果不关注这个顺序,那整个交响乐的协同美感就没了。

同样,不关注相位,微观世界成像就缺少准确性和全面性。

说到这里,你可能会问,那在我们的日常生活中有什么更直接的应用呢?在集成电路中的电子元件检测这里就用到了,微小的电路像是一座微型城市,相位衬度成像可以把里面的小零件成像,帮助工程师找出故障或者优化设计。

TEM-10

TEM-10

2 其中: [ (r )] = -4 (r) 电荷密度函数
I (r) = 1+2f (r) 即: I(r)与ρ(r)成线形关系 ρ(r)与原子的周期势场有关,这样就建立了物与像的一一对应关系。
3)赝弱相位物体相互理论(考虑厚度对衬度的影响)
四、高分辨电镜的试验技术
HR
NBD
5 K/ min
E (412 C)
250
300
350
400
450
500
Temperature (C)
000
130
220
1-10
incommensurate
[002] Zr2Ni (T)
FT
IFT
The HR images and NBD of QCs with 2f, 3f and 5f symmetries HR HR HR
1、高分辨电镜的技术要求

照明光源有足够的亮度,采用LaB6灯丝, V,I稳定
放大倍数足够大,一般 M>50~100 万倍
2、试验技术


合轴:电子束与所以透镜的光轴精确重合
薄区:寻找理想薄区,一般, 100 KV, 1000 KV, t<10nm t<50nm


寻找合适的晶带轴,使其与光轴严格重合。
Chapter 7 高分辨电镜及 高分辨衍衬像原理
一、高分辨电镜与普通电镜的区别
高分辨电镜
分辨率高 ∆r≈2Å 放大倍数M=50~ 100万倍 多束成像(至少一透 射束+一衍射束)
球差 相位衬度 散焦 欠焦 转化 振幅衬度
普通电镜
∆r=1nm M=20~30万倍
明(透射束)

高角度环形暗场Z衬度像成像原理及方法

高角度环形暗场Z衬度像成像原理及方法

STEM 图像的获得可以采用专用的透射扫描电 镜( 如英国生产的 HB- 501 等) , 它的光学 镜筒与 SEM 类似。这种仪器不具备普通 TEM 的功能, 因 此只在 STEM 和 SEM 模式下工作。常用的是一种 TEM/ STEM 混合型仪器, 一般表示为( S) TEM。它 是在通常的 TEM 中加装了扫描附 件、探测设备及 分析装置。如环形探测器、8 过滤器、电子能量损失 谱仪等等。这种仪器具有 STEM, TEM 及 SEM 的 各种功能。如日本生产的 JEOL 2010F 分析电镜。 1. 2 STEM 与 TEM 的电子光学系统比较
变化的能力。
2 高角度环形暗场(HAADF) 方法
在 TEM 中, 被高电压加速的电子照射到试样
46
兵器材料科学与工程
第 25 卷
上, 入射电子与试样中原子之间发生多种相互作用。
其中弹性散射电子分布在比较大的散射角范围内,
而非弹性散射电子分布在较小的散射角范围内, 因
此, 如果只探测高角度散射电子则意味着主要探测
3
散射几率建立在散射截面与 Z 2 成正比的基础上, 其 中 Z 是原子序 数。因此环形暗场像可 以显示某种 原子序数的衬 度[7] 。随后, Pennycook 等人 开发了 环形暗场技术的应用, 他们用特殊设计的环形探测 器收集高角度弹性散射电子( 即高角度环形暗场方 法) 。并用这种方法得到了高分辨的 YBa2Cu3O7- X 和 ErBa2 Cu3O7- X 的 Z 衬度非相干图 像[8] 。Penny2 cook 认为 Crewe 等人使用的环形探测 器收集了包 含非弹性散射在内的低角散射电子, 因此散射截面
信息的透射束和若干衍射束经过透镜重构就得到了 晶体 的高分 辨像。高 分辨 透射电 子显 微方 法 (H RTEM) 可以获得有关原子排列、晶格缺陷、表面 形态等信息。但是如果晶体试样厚度超过若干原子 层, 相位衬度像的解释就变的复杂了。

TEM结构原理及应用

TEM结构原理及应用

2、 复型法
复型是利用一种薄膜(如碳、塑料、氧化物薄膜)将固体试 样表面的浮雕复制下来的一种间接样品,只能作为试样形貌 的观察和研究,而不能用来观察试样的内部结构。
对于在电镜中易起变化的样品和难以制成电子束可以透过 的薄膜的试样多采用复型法。
在材料研究中,复型法常用以下三种: (1)碳一级复型 (2)塑料-碳二级复型 (3)萃取复型
投影镜:为高级强透镜,最后一级放大镜,用来 放大中间像后在荧光屏上成像。
D、观察记录部分
荧光屏:在电子束照射下,电子图像反映在荧 光屏上,可呈现终像。研究者通过观察窗在荧 光屏上进行像的观察、选择和聚焦。3~10倍。
照相底片:最常用的透射电镜的照相底片是片 状的胶片。胶片的一面有厚度约为25μm的明胶 层,明胶层含有均匀分散的10%的卤化银颗粒。 照相底片在电子束的照射下能感光。
透射电镜剖面图 结构示意图
1、电子光学系统组成
电 电子枪 子 聚光镜 光 样品台 学 物镜 系 中间镜 统 投影镜
荧光屏 底片盒
照明部分 样品装置部分 成像部分
观察记录部分
A、照明部分
电子枪:发射电子的场所,也是电镜的照明源。由阴极(灯 丝)、栅极、阳极组成。阴极管发射的电子通过栅极上的小 孔形成电子束,电子束有一定发射角,经阳极电压加速后射 向聚光镜,起到对电子束加速加压的作用,形成很小的平行 电子束。
可得d约为200nm
对于TEM在100kV加速电压下,波长0.0037nm,d约为 0.002nm,目前电子显微镜达不到其理论极限分辨率,最 小分辨率达到0.1nm
光学显微镜与透射电镜的比较
比较部分 光源 透镜
放大成象系统 样品 介质
像的观察 分辨本领 有效放大倍数 聚焦方法

高分辨衬度原理与像计算

高分辨衬度原理与像计算

偶数倍时,出现半点阵周期条纹。离焦量每变化
2.当离焦量Δf为定值,球差系数Cs等于
数Cs等于
时,出现半点阵周期条纹,球差系
时,出现点阵周期条纹。
简单点阵条纹像
第三种成像模式:
实线、虚线和点线分别代表 获得与点阵相重的正反衬度 点阵周期和半点阵周期条纹 像的取值轨迹。 然而,并非图上所有取值都 可以获得条纹像,只有当离 焦量接近“稳态相位离焦设 置”,即 时,才 能观察到所需衬度的像。此 时 规定获得特定周期的点阵 条纹像允许的聚焦范围为 景深。又常规透镜球差系 数约为1.4mm-2.6mm。
相位物近似、相位栅近似及高压近似关系
电子波在传播厚度z的样品后物透射波函数为:
式中
Hale Waihona Puke 是势函数沿电子束方向的投影,称这一模型为相位栅 近似。相位栅近似忽略了菲涅尔扩展效应, 即A处出射波的相位只源于BA晶柱内势的散 射,与C点的散射贡献无关。
判断经验法则: t为样品厚度、d为需要分辨的物尺寸、 λ为电子波长。
当 (h ) n 时,上式最后一项为零,观察到周期为1/2点阵间距的 条纹衬度。当 (h ) (2n 1) / 2 时,周期为点阵间距的条纹衬度叠加 在半点阵周期条纹衬度上。后者弱的多,一般在像上观察不到半点阵周期条纹。
1.考虑球差系数Cs为0的情况,离焦量取
奇数倍时,出现点阵周期条纹,取 ,条纹衬度翻转一次。
可直接解释的高分辨晶体结构像
赝弱相位物近似
实际工作中,当试样厚度比弱相位物近似要求要厚,但满足赝弱相位 物近似是,在Scherzer欠焦条件下得到的结构像也可以直接解释为晶体势 函数投影。 定义:由弱相位物近似要求的厚度开始计算,找出随着厚度增加,计算像 上的投影由黑变白时的厚度值。称厚度小于这个值时的物样满足赝弱相位物

相位衬度成像原理

相位衬度成像原理

相位衬度成像原理咱们先来说说普通成像吧。

就像咱用手机拍照,那拍出来的东西呢,主要是根据物体不同部分对光的吸收不一样来成像的。

比如说,一个黑色的东西吸收光多,在照片上就显得暗;白色的东西吸收光少,就显得亮。

这就像是光在物体上打了一场小仗,有的光被“俘虏”得多,有的被“俘虏”得少,最后呈现出不同的亮度来。

但是相位衬度成像可就不一样啦。

它的关注点不是光被吸收了多少,而是光的相位发生了啥变化。

啥是相位呢?你可以把光想象成一群小波浪,相位就像是这些小波浪的起始点的位置。

当光穿过物体的时候啊,它的相位就可能会改变。

就好像小波浪在经过一个障碍物的时候,它的节奏被打乱了,起始点的位置就变了。

那这个相位的变化怎么就能成像呢?这里面可就有大学问啦。

当光经过物体后,有相位变化的光和没经过物体的光就不一样啦。

它们再相遇的时候呢,就会产生一种很奇妙的干涉现象。

这种干涉就像是两个小水波叠加在一起,有的地方会变得更高,有的地方会变得更低。

在相位衬度成像里,这种干涉就会让有相位变化的地方和没有相位变化的地方显示出不同的亮度或者颜色来。

你看啊,这就像是光在物体里玩了一场魔法游戏。

光在物体里穿梭的时候,偷偷地改变了自己的相位,然后出来和小伙伴们一汇合,就制造出了一幅特别的图像。

这个图像可不是简单地告诉我们物体哪里亮哪里暗,而是能反映出物体内部更细微的结构呢。

比如说,在生物领域,有些很微小的细胞结构,它们对光的吸收可能差别不大,用普通成像就很难看清楚。

但是用相位衬度成像就不一样啦。

细胞内部那些小结构可能会让光的相位发生变化,这样就能清晰地显示出细胞的内部构造啦。

就好像我们有了一双透视眼,能看到细胞里面那些隐藏的小秘密。

再比如说在材料科学里,有些材料内部有很细微的缺陷或者特殊的结构。

这些结构可能不会让光的吸收有太大变化,但是却能让光的相位改变。

相位衬度成像就能把这些细微之处给揪出来,让科学家们能更好地研究材料的性能和结构关系。

高分辨透射电子显微术优秀课件.ppt

高分辨透射电子显微术优秀课件.ppt
高分辨透射电子显微术优秀课件
波的干涉
Yi
底片
高分辨透射电子显微术优秀课件
高分辨透射电子显微术:是材料原子级别显微组织结构的相 位衬度显微术。它能使大多数晶体材料中的原子成串成像。
高分辨透射电子显微术优秀课件
)首次用电子显微镜拍摄了 Ti2Nb10O29 的二维像,并指出高分辨像中一个亮点对应于 晶体结构中电子束入射方向的一个通道。这是由于通道与周 围相比对电子的散射较弱,因此在像中呈现为亮点。在弱相 位体近似成立的条件下,高分辨电子显微像就是晶体结构在 电子束方向的投影,因此将晶体结构与电子显微像结合起来。 这种直观地显示晶体结构的高分辨像就称为结构像。
高分辨透射电子显微术优秀课件
阿贝成像原理
成像系统光路图如图所示。 当来自照明系统的平行电子束投射
到晶体样品上后,除产生透射束外 还会产生各级衍射束,经物镜聚焦 后在物镜背焦面上产生各级衍射振 幅的极大值。 每一振幅极大值都可看作是次级相 干波源,由它们发出的波在像平面 上相干成像,这就是阿贝光栅成像 原理。
在此期间,人们还致力于发展超高压电镜、扫描 透射电镜、环境电镜以及电镜的部件和附件等, 以扩大电子显微分析的应用范围和提高其综合分 析能力。
高分辨透射电子显微术优秀课件
高分辨电镜可用来观察晶体的点阵像或单原子像等所谓的高 分辨像。这种高分辨像直接给出晶体结构在电子束方向上的 投影,因此又称为结构像(图4-86)。
高分辨TEM
用物镜光阑选择透射波,观察到的象为明场象; 用物镜光阑选择一个衍射波,观察到的是暗场像; 在后焦平面上插上大的物镜光阑可以获得合成象,即高分辨
电子显微像
高分辨透射电子显微术优秀课件
高分辨显微像
高分辨显微像的衬度是由合成的透射波与衍射波的相位差所 形成的。

【材料分析方法】18 衬度原理和STEM

【材料分析方法】18  衬度原理和STEM
倾动一下样品,样品上相应于 s=0的位置发生变化,消光条 纹的位置也跟着发生变化。等 倾消光条纹对样品取向非常敏 感。
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完整晶体的衬度
➢ S恒定,厚度改变,产生等厚条纹; ➢ 厚度一定,S改变,产生等倾条纹; ➢ 样品厚度均匀,亦无弯曲,则产生均匀的衬度; ➢ 衍射衬度与成像所用的衍射束有关,用不同的
Φg=Σ(iπ/ξg)exp(-2πisz)dz= (iπ/ξg)∫exp(-2πisz)dz= (iπ/ξg)exp(iπst)(sinπst)/πs P点的衍射强度为
Ig=ΦgΦg*=(π2/ξg2)sin2(πst)/(πs)2
这就是完整晶体衍射强度的运动学方程,Ig是暗场像的强度。 sin2(πst)/(πs)2是干涉函数。
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消光距离
• 双束条件下的散射过程,当波矢量为ko的入射波在样品表面时, 就受到晶体原子的散射,产生波矢为k的衍射波,但衍射波的强 度较小。随着电子波在晶体内沿入射方向传播,透射波不断地
发生衍射,强度不断下降,若忽略非弹性散射所引起的吸收效
应,则相应的能量(强度)转移到衍射波方向,所以衍射波的
g
d cos nFg
Vc强够c度多os不的断单加胞强参。与电了子散波射在,晶将体使内透传射播波到的一振定幅深下度降时到,零由,于全有部足能 量F都g 转移到衍射波方向,使其振幅达到最大。
由于入射波与hkl晶面相交成精确
的布拉格角θ,所产生的衍射波也
与hkl晶面相交成θ角,强度增加的
衍射波同样也可以作为入射波在
• 如果样品的厚度不变,但是局部晶面取向发生变化,衍射 强度将随偏离参量的变化而变化,有
Ig=(t2π2/ξg2)sin2(πst)/(πst)2

完整版TEM高分辨透射电镜讲稿

完整版TEM高分辨透射电镜讲稿
?1934年Ruska在实验室制成第一部透射电子显微鏡( transmission electron microscope ,TEM)
?1938 年,德国西门子公司第一部商业电子显微镜問世
?1940年代,常用的50 至100 keV 之TEM 其分辨率約在l0 nm左右, 而最佳分辨率則在2至3 nm之間。当时由于研磨試片的困难及缺乏 应用的动机,所以很少为物理科学研究者使用。直到 1949年, Heidenreich制成适于TEM观察的鋁及鋁合金薄膜,观察到因厚度 及晶面不同所引起的像衬度效应,並成功的利用电子衍射理论加 以解释。同時也获得一些与材料性质有关的重要結果,才使材料 界人士对TEM看法改变。但因为一般試片研制不易,发展缓慢。
我国电镜研制起步较迟,1958年 在长春中国科学院光学精密机械研 究所生产了第一台中型电镜。
到1977年生产的TEM分辨率为 0.3nm,放大倍率为80万倍。
具体发展历程:
?J.J.Thomson作阴极射线管实验时观察到 电场及磁场可偏折电子.
?1926年Busch发现可用电磁场聚焦电子,产生放大作用。电 磁场对 电子之作用与光学透鏡对光波之作用非常相似,因而发展出电磁 透鏡.
?70年代末日本大阪大学应用物理系教授桥本初次朗应用透射电子显 微镜直接观察到单个重金属原子(金原子)及原子集团中的近程有序 排列,并用快速摄影记录下原子跳动的踪迹,终于实现了人类直接观 察原子的宿愿。
60多年的实践证明,电子显微镜是上世纪最重大发明之一,卢斯 卡教授由于他的先驱工作给科学所带来的巨大贡献,从而获得 1986 年的诺贝尔物理学奖。
?TEM发展概述
Байду номын сангаас
主要内容
?TEM的结构和成像原理

stem相位衬度显微术 锂电

stem相位衬度显微术 锂电

一、 stem相位衬度显微术的概念stem相位衬度显微术是一种先进的电子显微镜技术,能够以极高的分辨率观察样品的微观结构。

相位衬度显微术是通过探测电子束通过样品后的相位偏移来获得影像信息,从而实现对样品内部微观结构的高分辨率描绘。

stem相位衬度显微术在材料科学、生物学、纳米技术等领域具有重要的应用价值。

二、 stem相位衬度显微术的原理1. 电子束与样品相互作用在stem相位衬度显微术中,电子束穿过样品时,与样品相互作用会导致电子的相位和振幅发生变化。

这种相位和振幅的变化是样品内部微观结构的信息载体。

2. 相位差的探测stem相位衬度显微术利用探测器来测量电子束通过样品后的相位差。

通过对电子束的相位差进行检测和分析,可以获得样品的高分辨率相位衬度图像。

三、 stem相位衬度显微术在锂电池研究中的应用1. 锂电池的微观结构研究锂电池作为一种重要的电池类型,在能源领域具有广泛的应用前景。

而锂电池的性能与微观结构密切相关,因此对锂电池的微观结构进行研究具有重要意义。

2. stem相位衬度显微术在锂电池研究中的优势相对于传统的电子显微镜技术,stem相位衬度显微术具有更高的分辨率和更强的微观结构表征能力,能够有效观察锂电池中微观结构的细节和变化。

这为研究者提供了一种全新的手段,来深入了解锂电池内部的微观机理和性能表现。

四、结语stem相位衬度显微术作为一种重要的高分辨率显微镜技术,对于材料科学、生物学等领域的研究具有重要作用。

特别是在锂电池研究中,stem相位衬度显微术能够为研究者提供更丰富、更详细的微观结构信息,有望促进锂电池技术的发展和改进。

相信随着stem相位衬度显微术技术的不断进步和应用范围的拓展,其在锂电池研究中的应用前景将更加广阔。

五、 stem相位衬度显微术在锂电池研究中的具体应用随着电动汽车和可再生能源的发展,锂电池作为一种高能量密度的电池类型,受到了广泛关注。

然而,锂电池内部的微观结构、化学反应动力学和界面电化学等问题仍然是制约其性能和寿命的重要因素。

tem中的相位衬度

tem中的相位衬度

tem中的相位衬度在电力系统中,传输线路扮演了极其重要的角色。

而为了提高传输线路的功率传输能力和降低损耗,我们需要考虑传输线的参数设计,其中一个重要的参数是相位衬度。

相位衬度是指在变压器或线路中,两个相序(A、B、C相)之间的相位差。

本文将详细介绍相位衬度的概念、计算方法以及对电力系统运行的影响。

二、相位衬度的定义:相位衬度是指两个相序之间的相位差,通常以电角度来度量,常用的单位是度或弧度。

在三相电力系统中,相位衬度能够从线路的传输特性以及负载电流的分布来计算和评估。

三、相位衬度的计算方法:1.基于电角度计算:相位衬度的计算方法之一是基于电角度的。

具体方法是测量两个相序之间的电角度差,并转换为度或弧度单位。

例如,如果A相和B相之间的电角度差是60度,则相位衬度为60度。

2.基于频率计算:相位衬度的计算方法之二是基于频率的。

这种方法通过测量不同相序之间的频率差异,并将其转换为相位衬度。

例如,如果C相的频率比A相低1Hz,则相位衬度为2π(1Hz)。

四、相位衬度的影响:相位衬度对电力系统的运行具有重要的影响,包括以下几个方面:1. 功率传输能力:相位衬度的增加会导致电力系统的功率传输能力下降。

因为相位差增大会导致线路电流的不平衡,从而降低了传输线的有效功率传输能力。

2. 谐波产生:相位衬度的存在会引起电力系统中的谐波问题。

当相位衬度过大时,不同相序的谐波电流会相互干扰,导致电流和电压的畸变增加,给电力设备带来潜在的损坏风险。

3. 系统稳定性:相位衬度的变化会影响电力系统的稳定性。

当相位衬度过大时,电力系统的稳定性可能会降低,出现振荡等问题。

4. 站点电压平衡:相位衬度的增加也会影响电力系统站点电压的平衡。

当相位衬度过大时,不同站点之间的电压失衡可能会增加,对电力设备的正常运行造成影响。

五、相位衬度的改善方法:为了减小相位衬度对电力系统的影响,可以采取以下改善方法:1. 优化变压器铜损和铁损:通过选择合适的变压器型号和设计参数,可以降低铜损和铁损,减少相位衬度对线路功率的影响。

材料科学研究:高分辨原理

材料科学研究:高分辨原理

(2)加速电压
sin sin (5 105 2 103 1.5 )
d2
d2
加速电压增加,平台增宽, 倒数变小,分辨率提高
(3)球差系数
sin sin(0.02484 Cs
d4
0.483845
Cs ) d2
球差系数减小,平台增宽, 倒数变小,分辨率提高
注意:球差系数和加速电压一般为常数,故欠焦量为最佳调节量获取高分辨率
谢谢!
S(u, v) exp[i (u, v)] cos i sin
三. 像平面上的像面波函数 B(x, y)
理论推导得:
B(x, y) [1(x, y) F sin ] i[(x, y) F sin ]
其强度函数为
I (x, y)=B(x, y) B(x, y)
令I0=1,则像衬度为
材料研究方法
高分辨原理
基本概念
1.高分辨操作: 物镜光阑同时让透射束和多个衍射束通过,共同达到像平面干涉成像 的操作。 物镜光阑完成四种操作:
明场操作 暗场操作 中心暗场操作 高分辨操作
2.成像过程两个环节(3个函数):
环节1)电子波与试样的相互作用,在试样的下表面形成透射波,又称物面 波;其数学表达为试样透射函数
课程内容
一 试样透射函数(物面波函数)

衬度传递函数

像面波函数
四 最佳欠焦条件及电镜最高分辨率
五 第一通带宽度sin =-1 的影响因素
一、试样透射函数的近似表达式(物面波函数)
推导得物面波函数即透射函数: A(x, y) 1 i(x, y)
B(x, y) F 1Q(u, v) F 1F (q(x, y)) A(x, y)
二 、衬度传递函数

相位衬度医学成像的实验研究的开题报告

相位衬度医学成像的实验研究的开题报告

相位衬度医学成像的实验研究的开题报告摘要:相位衬度医学成像技术是一种非侵入性、无辐射的新型成像方法,与传统的X射线、CT、MRI等成像技术相比,相位衬度医学成像具有更高的成像分辨率和对软组织的更好的分辨能力。

本文将介绍相位衬度医学成像的基本原理与实验方法,并通过实验研究探究其在医学影像诊断中的应用前景。

关键字:相位衬度医学成像,成像分辨率,软组织。

1. 研究背景与意义传统医学成像技术(如X射线、CT、MRI)在医学影像诊断方面具有重要的应用价值。

但是,由于其成像原理、成像分辨率等问题,在某些场合下可能无法满足医学影像诊断的需要。

相位衬度医学成像技术是一种新的医学成像方法,它可以通过对光的相位信息的提取和处理,实现对生物组织的非侵入性、无辐射成像。

由于其具有更高的成像分辨率和对软组织的更好的分辨能力,相位衬度医学成像技术有望成为未来医学影像诊断中的新宠。

目前,相位衬度医学成像技术尚处于实验室阶段,尚未广泛应用于医学影像诊断中。

因此,本研究将通过实验研究,探究相位衬度医学成像技术在医学影像诊断中的应用前景,为其未来的应用与推广提供理论和实验基础。

2. 研究内容2.1 相位衬度成像的基本原理相位衬度成像是一种非侵入性成像技术,其基本原理是利用光的相位信息而非强度信息来成像生物组织。

相位衬度成像通过对被成像物体的相位信息进行挖掘,然后通过图像处理技术来生成高分辨率图像。

2.2 实验设备和方法本研究将采用成像器件、相机、图像处理技术等设备进行实验。

具体实验步骤包括样品的制备、成像设备的组装、成像实验的设计和实验数据的处理等。

2.3 实验内容和方法本研究将选取四个样品进行实验,包括:(1) 间质水肿型脑胶质瘤(2) 非小细胞肺癌(3) 前列腺癌(4) 乳腺癌2.4 实验结果分析通过实验研究,本文将得到各个样品的相位衬度图像,并对图像进行分析和比较。

通过比较不同样品的相位衬度图像,可以评估相位衬度成像技术在医学影像诊断中的应用前景。

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因此,对于一个处于高斯正焦状态的理想磁透镜而言,像函数是 物函数的完全“再现”,成像过程不会造成图像失真。换句话说,对于 一个正焦的理想透镜而言,我们无法在想平面上看到相位物体的任何
像上的对应点为 g(x, y)。我们知道,对于任何周期函数,都可以进 行 Fourier 展开成为周期函数(如正玄函数、指数函数等)之和。因 此,对于 g(x, y),可以展开为:
∑ g(x, y) = g(r) = G(ux , u y )exp(2πi(xu x + yuy )) u x,y
= ∑ G(u)exp(2πik ⋅ r) u
6
北京大学 物理学院 研究生教材――俞大鹏 2004. 9
糊函数,或点扩展函数,也被称为脉冲响应函数,原因是透镜系统有 缺陷,包括衍射效应,球差、色差、聚焦、光阑函数等。在非相干光 学成像系统中,点扩展函数对应于衬度传递函数的 Fourier 变换:
h(r − r') = cos2 (x, y) + sin 2 (x, y)
G(k)=H(k)F(k) 意即,实空间的卷积,在倒空间变成了简单的乘积形式了。 对于理想透镜(指无衍射效应,无限大透镜,无象差、畸变下), H(k)≡1,像函数等于物函数与脉冲响应函数的卷积。显然,这个函数 只是一个放大了的透射波,其强度是:
I = Ψ(x, y) 2= exp(-iσVt (x, y) 2 = 1
在这一章节中,先介绍要一下有关高分辨电子显微学的一些基本理论和概念。 之后,讨论一下高分辨电子显微术的图像模拟方法,以及主要应用对象,并简单 介绍一下近年来高分辨电子显微学的一些新进展,如球差矫正(Cs corrector), 以及出射波重构(exit wave reconstruction)等新技术。
)
exp(−2πikrq ) rq
cosθ
− cosθq

式中θ和θq 分别是面积微元 dσ的法线方向与矢量 rr 和 rrq 的夹角。
基尔霍夫公式的主要用途不在于解释波在真空中的传播,而是为
了研究波在透过样品以后的传播及波函数ψ(x,y)在观测点的分布。
作为一个简单的例子,入射波是位于 Q 的单位强度的点光源发出的球
似。菲涅尔近似的本质就是在近光轴区域用抛物面形的电子波代替球
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北京大学 物理学院 研究生教材――俞大鹏 2004. 9
面电子波。在菲涅尔近似下,有
ψ
(x,
y)
=
i
exp(−2πikZ ) Zλ
∫∫
q( X
,Y
)
exp

2πik[(x

X )2 2R
+
(
y
−Y
)2
]
dXdY
= q(x, yபைடு நூலகம் * PR (x, y)
这里 u 为倒易空间的矢量,即特定方向上的空间频谱。根据 Fourier 定理,展开系数 G(k)为 g(x,y)的 Fourier 变换。
同样的道理,物函数 f(x,y)也可以表达成类似的形式, 即 F(k)为 物函数 f(x,y)的 Fourier 变换。点扩展函数(或脉冲响应函数)h(x,y) 也 可以表达成类似的形式,即 H(k)为点扩展函数 h(r)的 Fourier 变换。 由于脉冲响应函数 h(x,y)描述了在实空间从物到图像的信息传递过 程,因此,H(k)则描述了倒空间中信息的传递过程,被称为衬度传递 函数(CTF)。总的像函数可以写成以下形式:
1、 Abbe 成像原理
尽管电子显微镜已经成为重要的现代分析手段,其电子光学成像 原理可以用物理光学的 Abbe 成像原理进行说明。过去,人们在讨论 透镜成像时,仅局限于样品的物点与像点之间的对应关系。一百多年 前的 1873 年,Ernst Abbe(阿贝)在研究如何提高显微镜的分辨率时, 提出了一个相干成像的新理论。阿贝从物体空间频率信息的分解与合 成的角度,研究了透镜的成像过程。具体方法是,把一束单色平行光 照射到平面物体 ABC 上,使整个系统成为相干成像系统。单色光波 通过透镜后发生 Fraunhofer 衍射,透射波中蕴含了样品的空间频率信
向。上式可以直接应用于高能电子经样品散射后的传播过程的研究。
在实际问题中,为了简化,可以在基尔霍夫公式引入适当的近似
与假设。Fresnel 衍射,就是一种近场、小角近似下的衍射过程(平 面波近似)。
首先,假设入射波为一平面波,则在离样品距离为 R 的观察点的
波函数为:
ψ
(x,
y)
=
i 2λ
∫∫
q(
X
过程是一个线性变换过程,其基本特征是,若干个输入信号所产生的
响应等于单个输入信号的响应之和,即:
∑ ∑
S
i
ai qi (x, y)
}
=
i
ai Sqi (x, y)
}
3. 菲聂尔衍射过程-小角近似、进场近似
由于通过求解薛定厄方程解决电子波的传播过程和衍射过程非常
复杂,所以一般用物理光学的方法来处理电子波的传播、衍射和成像
高分辨透射电镜的成像过程可以大致分为三个过程: 1)、入射电子束在晶体内的散射; 2)、各散射波透过样品后,在后焦面上形成的衍射波; 3)、各衍射波相互干涉,在像平面上形成图像。 对于样品中的点(x, y),设它的物(样品)函数为 f(x, y),在图
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北京大学 物理学院 研究生教材――俞大鹏 2004. 9
q(r)
Q(u) = F{q(r)}
ψ (r) = F −1 {Q(u)} = q(r)
图 5-1 理想透射电镜磁透镜的 Abbe 成像原理
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北京大学 物理学院 研究生教材――俞大鹏 2004. 9
2. 线性系统
由于在晶体中传播的电子波函数满足线性的薛定愕方程,所以电
子透镜成像系统可以被看成是线性变换系统。高分辨透射电镜的成像
电子透镜的脉冲响应函数就是菲涅尔传播因子。菲涅尔衍射的强度分
布可以用半波带方法和菲涅尔积分求出。
4. 光学系统的作用与传递函数(Transfer Function)
和光学成像系统一样,电子光学成像系统-磁透镜的作用是,把样 品中每一点 point(x, y)转换成图像中的扩展区域(extended region), 如图 2 所示:
4
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面波,照射在一个二维物体上,其透射函数为 q( X ,Y ) ,在观察点 P 波
函数可以写为,
{ } ψ (x, y) =
i 2λ
∫∫
exp(−2πikrq rq
)
q(
X
,
Y
)
exp(−2πikr r
)
cosθ
+ cosθq
dXdY
其中 X,Y 是固定在样品上的坐标,Z 沿样品所在平面的法线方
1957 年,美国 Arizona 洲立大学物理系的 Cowley 教授等利用物理光学方法来研究 电子束与固体的相互作用,并用所谓“多层法”计算相位衬度随样品厚度、离焦量的变 化,从而定量地解释所观察到的相位衬度像,即所谓高分辨像,从而建立和完善了高分 辨电子显微学的物理基础。1971 年,Cowley、Iijima 等人首次获得了可直接解释的氧化 物晶体的高分辨电镜像,证实了他们所看到的高分辨像与晶体结构之间具有对应关系, 实际上是晶体结构沿着特定方向上的二维投影。这一时期高分辨电子显微像的分辨率已 优于 4 埃。 Cowley、Iijima 的工作开创了一个应用高分辨电子显微学的新时代,从此 高分辨电子显微术开始被广泛地利用与多种领域,成为现代物理、化学、材料科学、矿 物学、生物学等多种学科研究的常用技术。
,Y
)
exp(−2πikr) r
{cosθ
+
1}dXdY
式中 r 2 = (x − X )2 + ( y − Y )2 + R2 。
其次,如果入射波的波长很短(如高能电子波),并且观察点到样
品的距离 R 远远大于样品上的被观测范围(X,Y 的最大取值范围)和观
测点的活动范围(x,y 的最大取值范围),则任一观测点所观察到的衍
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一、相位衬度 (phase contrast): 干涉条纹 fringes
1. 透射电镜成像原理
高 分 辨 电 子 显 微 镜 的 成 像 机 制 是 所 谓 的 相 位 衬 度 (phase contrast),即假设穿过样品后,电子束的强度基本不发生变化,仅仅 是电子的相位受到周期晶体势场的调制而改变,从而使得出射电子束 携带了晶体的结构细节信息。高分辨透射电镜的成像过程是一个利用 透射束与许多衍射束之间相互干涉后形成点阵条纹像的过程。因此, 高分辨成像理论,或相位衬度理论是一个多束成像理论。在特定条件 下,点阵条纹像(高分辨像,HRTEM)与晶体结构存在一一对应的 关系,此时才能称为高分辨结构像。
对于样品中的点 A、B, 有样品函数 fA(x, y)、fB(x, y)
光学系统
gA
gB
图像中对应的扩展盘 gA、gB(x, y)
图 5-2 光学成像系统示意图:样品中的点经过成像系统后,在 图像面上被转换成为扩展盘。
对于透射电镜,由于考虑的是相干成像过程,系统的传递函数与 衬度传递函数(CTF)是有区别的。
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第五章 相位衬度的起源与理论-高分辨理论
高分辨研究简史
关于高分辨透射电子显微镜的基本成像理论,Boersch 早在 1946 年在研究电子与 原子的相互作用时就提出,固体中的原子会对在其中传播的电子束进行调制,改变电 子波的相位。他认为,利用电子波的相位变化,有可能观察到单个原子,可以用来分 析固体中原子的排列方式。这一理论实际上成为现代实验高分辨电子显微分析方法的理 论依据;1947 年,德国科学家 Scherzer 提出,磁透镜的离焦(defocus,即所谓的 Scherzer 最佳欠焦量,而非通常的高斯正焦)能够补偿因透镜缺陷(球差)引起的相位差,从而 可显著提高电子显微镜的空间分辨率。
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