第九章_金属的电沉积过程

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第九章_金属的电沉积过程要点

第九章_金属的电沉积过程要点
在络盐溶液中,金属以简单金属离子到具
有不同配位数的各种络离子都有,其浓度
也不相同。
2、金属络离子阴极还原机理
(2)配位数较低、浓度适中的络离子在电极 上得到电子而还原。 原因:配位数低,还原所需的能量小; 浓度适中,才能有一定的量。
2、金属络离子阴极还原机理
(3)当有两种络合剂存在,而一种络离子 又比另一种络离子容易放电,则在表面转 化步骤之前,还要经过不同类型配位体的 交换过程。
衡电位,并获得一定过电位。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
2、某金属在阴极析出的充分条件: 溶液中其他粒子不会优于该金属在阴极上 首先析出。 例如:金属离子还原电位比氢离子还原电 位更负,则氢在电极 上优先大量析出,金 属就很难沉积出来。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
3、从周期表中的位置,判断金属离子从水 溶液中还原的可能性:
(从难放电的络离子形式转变为易放电的络 离子形式。)
2、金属络离子阴极还原机理
• 例如:氰化镀锌溶液中存在两种络合剂, NaCN 、NaOH 其阴极还原过程如下:
2 Zn(CN ) 2 4 OH Zn ( OH ) 4 CN 配位体交换 4 4 Zn(OH ) 2 Zn ( OH ) 2 OH 4 2 Zn(OH ) 2 2e Zn(OH ) 2 2吸附 Zn(OH ) 2 Zn 2 OH 2吸附 晶格中
第九章 金属的电沉积过程
定义:通过电解的方法,在电解池阴极
上,金属离子通过还原反应和电结晶过
程在固体表面生成金属层。
目的:改变固体材料的表面性能或制取 特定成分和性能的金属材料。
第九章 金属的电沉积过程
§9.1 金属电沉积的基本历程和特点 §9.2 金属的阴极还原过程 §9.3 金属的电结晶过程

电化学第九章金属的电沉积过程

电化学第九章金属的电沉积过程

添加剂的影响
添加剂可以改变溶液的电导率、界面张力和金属离子的还原过程,从而影响电沉 积过程。
常用的添加剂包括络合剂、缓冲剂、表面活性剂等。
温度的影响
温度可以影响电沉积过程的反应速率和产物形貌,通常随着温度的升高,电沉积速率加快。
但温度过高可能导致析出金属结构松散和溶液中气体的大量析出。
04
CATALOGUE
总结词
镀镍是一种具有优良防腐蚀性能的金属 电沉积技术,具有较低的孔隙率和较高 的硬度和耐磨性。
VS
详细描述
镀镍层呈银白色,具有良好的抗腐蚀和抗 磨损性能,广泛应用于电子、电力、石油 化工和航空航天等领域。在镀镍过程中, 应控制电流密度、电镀液成分和温度等参 数,以确保获得高质量的镀层。
镀金
总结词
镀金是一种具有优良导电性能和抗氧化性能 的金属电沉积技术,具有美观的外观和良好 的延展性。
电化学第九章金属 的电沉积过程
目录
• 电沉积过程的基本原理 • 金属电沉积的种类与特性 • 电沉积过程的影响因素 • 电沉积的应用领域 • 电沉积技术的发展趋势与展望
01
CATALOGUE
电沉积过程的基本原理
电沉积的定义
总结词
电沉积是指通过在电解液中施加电流,使金属离子还原并沉积在阴极表面上的过程。
03
CATALOGUE
电沉积过程的影响因素
金属离子的影响
金属离子浓度
金属离子浓度越高,电沉积速率越快,但过高的浓度可能导致析 出金属颗粒粗大。
络合剂
络合剂可以控制金属离子的水解和聚合,从而影响电沉积过程。
金属离子的电荷和半径
金属离电沉积过程。
流电沉积和脉冲电沉积。
电沉积的物理化学基础

金属的电沉积过程

金属的电沉积过程
第九章 金属的电沉积过程
第一节 金属电沉积的基本历程的特点
一.基本历程 液相传质 前置转化 电荷传递 电结晶
二.金属电沉积过程的特点


阴极过电位是电沉积过程进行的动力; 双电层的结构,特别是粒子在紧密层中 的吸附对电沉积过程有明显影响; 沉积层的结构、性能与电结晶过程中新 晶粒的生长方式和过程密切相关,同时 与电极表面(基体金属表面)的结晶状 态密切相关。
2
电子转移
进入晶格
第三节
金属电结晶过程
金属电结晶的形式 阴极还原的新生态吸附原子聚集形成晶 核,晶核长大称晶体;

新生态吸附原子在电极表面扩散,达到 某一位置并进入晶核,在原有金属的晶 格上延续生长。
盐溶液中结晶过程

过饱和度越大,结晶出来的晶粒越小;
过饱和度越小,结晶出来的晶粒越大; 在一定过饱和度的溶液中,能继续长大 的晶核必须具有一定大小的尺寸 。
金属络离子的阴极还原
机理:(以氰化镀锌为例)
ZnCN 4OH ZnOH 4CN
2 4 2 4
配位体交换 配位数降低
ZnOH ZnOH 2 2OH
2 4
2 4 2 2

ZnOH 2e ZnOH (吸附)
ZnOH 2 (吸附)=Zn(晶格中) 2OH
第二节 金属的阴极还原过程

金属离子从水溶液中阴极还原的可能性 :
满足上式金属离子才能从水溶液中还原。
平+
简单金属离子的阴极还原
M
n
mH 2 0 ne M mH 2 O
步骤: 水分子的重排和水化程度的降低 水化离子转变为吸附原子(离子) 吸附原子(离子)转变为金属原子

第9章金属的电沉积过程

第9章金属的电沉积过程

⑵阴极还原产物不是纯金属而是合金有利于还原 反应的实现。
⑶在非水溶液中,由于各种溶剂性质不同于水, 往往在水溶液中不能阴极还原的某些金属元素, 可以在适当的有机溶剂中电沉积出来。
⑷电沉积层的质量





3、溶剂对金属电化学性质的影响
表9-2金属在水和某些有机溶液中25℃时的标准电极电位(V) 电极 Li|Li+ K|K+ Na|Na+ Ca|Ca2+ Zn|Zn2+ Cd|Cd2+ Pb|Pb2+ H|H+ Ag|AgCl,ClCu|Cu2+ Hg|Hg2+ Ag|Ag+ H2O -3.045 -2.925 -2.714 -2.870 -0.763 -0.402 -0.129 0 0.222 0.337 0.789 0.799 CH3OH -3.095 -2.925 -2.728 --0.74 -0.43 -0 -0.010 --0.764 C2H5OH -3.042 --2.657 ----0 -0.088 ---N2H4 -2.20 -2.02 -1.83 -1.91 -0.41 -0.10 0.35 0 --0.77 -CH3CN -3.23 -3.16 -2.87 -2.75 -0.74 -0.47 -0.12 0 --0.28 -0.23 HCOOH -3.48 -3.36 -3.42 -3.20 -1.05 -0.75 -0.72 0 --0.14 0.18 0.17
目前认为 电结晶过 程有两种 形式
一是阴极还原的新生态吸附原子聚集形成晶核,晶 核逐渐长大形成晶体;
一是新生态吸附原子在电极表面扩散,达到某一位 置并进入晶格,在原有金属的晶格上延

电沉积的一般过程

电沉积的一般过程

电沉积的一般过程嘿,咱今儿就来唠唠电沉积的一般过程哈。

你说这电沉积,就好比是一场奇妙的魔法秀呢!想象一下,在一个神秘的溶液世界里,各种离子就像小精灵一样欢快地游来游去。

这时候,通上了电,就像给这个世界注入了神奇的力量。

首先呢,那些带电荷的离子们,就开始有了行动啦。

它们在电场的作用下,朝着特定的方向涌动,就像是一群有目标的小勇士。

这一步啊,可重要了,离子们得找对自己的“位置”呢。

然后呀,这些离子到达了目的地,就开始发生一系列神奇的变化啦。

它们就像是找到了自己的舞台,开始展现自己的独特魅力。

有的离子会在电极表面聚集,慢慢堆积起来,一层又一层,逐渐形成我们想要的沉积物。

这过程可不简单哦!就好像盖房子,一砖一瓦都得精心堆砌。

而且呀,这中间还得注意好多细节呢。

比如溶液的成分啦,温度啦,电流大小啦等等,这些都能影响到电沉积的效果。

要是溶液成分不合适,那可就像做菜盐放多了或者放少了一样,味道就不对啦。

温度不合适呢,就好比人在太冷或者太热的环境里不舒服,电沉积也没法好好进行。

电流大小也很关键呀,大了小了都可能出问题呢。

电沉积的这个一般过程,其实挺有意思的哈。

你想想,通过这么一个小小的电的作用,就能让那些看不见摸不着的离子们乖乖听话,变成我们需要的东西。

这不是很神奇吗?而且啊,电沉积在我们生活中的应用可多啦。

比如说一些金属制品的表面处理,让它们更漂亮、更耐用。

还有在电子行业,也少不了电沉积的功劳呢。

总之呢,电沉积的一般过程就像是一场精彩的演出,离子们是主角,电场是导演,而我们就是观众,看着它们在溶液的舞台上展现奇妙的变化。

是不是很有趣呀?你对电沉积的一般过程有没有更清楚一点啦?哈哈!。

金属的电沉积过程

金属的电沉积过程

金属的电沉积过程电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下,经电极反应还原成金属原子并在阴极上进行金属沉积的过程。

图4.4是电沉积过程示意图,完成电沉积过程必须经过液相传质、电化学反应和电结晶三个步骤。

电镀时以上三个步骤是同时进行的,但进行的速度不同,速度最慢的一个被称为整个沉积过程的控制性环节。

不同步骤作为控制性环节,最后的电沉积结果是不一样的。

(1)液相传质步骤液相传质使镀液中的水化金属离子或络离子从溶液内部向阴极界面迁移,到达阴极的双电层溶液一侧。

液相传质有三种方式:电迁移、对流和扩散。

在通常的镀液中,除放电金属离子外,还有大量由附加盐电离出的其他离子,使得向阴极迁移的离子中放电金属离子占的比例很小,甚至趋近于零。

因此,电迁移作用可略去不计。

如果镀液中没有搅拌作用,则镀液流速很小,近似处于静止状态,此时对流的影响也可以不予考虑。

扩散传质是溶液里存在浓度差时出现的一种现象,是物质由浓度高区域向浓度低区域的迁移过程。

电镀时,靠近阴极表面的放电金属离子不断地进行电化学反应得电子析出,从而使金属离子不断地被消耗,于是阴极表面附近放电金属离子的浓度越来越低。

这样,在阴极表面附近出现了放电金属离子浓度高低逐渐变化的溶液层,称为扩散层。

扩散层两端存在的放电离子的浓度差推动金属离子不断地通过扩散层扩散到阴极表面。

因此,扩散总是存在的,它是液相传质的主要方式。

假如传质作为电沉积过程的控制环节,则电极以浓差极化为主。

由于在发生浓差极化时,阴极电流密度要较大,并且达到极限电流密度i d时,阴极电位才急剧地向负偏移,这时很容易产生镀层缺陷。

因此,电镀生产不希望传质步骤作为电沉积过程的控制环节。

图4.4电沉积过程(2)电化学反应步骤电化学反应水化金属离子或络离子通过双电层,并去掉它周围的水化分子或配位体层,从阴极上得到电子生成金属原子(吸附原子)的过程。

水化金属离子或络离子通过双电层到达阴极表而后,不能直接放电生成金属原子,而必须经过在电极表面上的转化过程。

电镀基础知识

电镀基础知识

目 录

第六章 磷化
第一章 电镀基础 上一页
下一页 退 出 第三章 镀锌 第二章 电镀工艺流程
第七章 热浸镀锌 第八章 挂镀
第四章 锌铬酸盐
第五章 煮黑
第九章 镀镍
第十章 镀铬
第一章
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下一页 退 出
电镀是获得金属保护层的主要方法之一,根 据对电镀层不同的要求,电镀层可分为:防护性 镀层、防护装饰性镀层、耐磨和减磨镀层、电性 能镀层、磁性能镀层、可焊性镀层、耐热镀层、 修复用镀层以及一些其它特殊功能性要求镀层。 电镀是一种电化学过程,也是一种氧化还原过 程。电镀的基本过程(以锌为例)是将零件浸在 金属盐的溶液中作为阴极,金属锌块作阳极,接 通直流电源后,在零件上就会沉积出金属锌镀 层。
四、浸药
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1、开机工作时要将药桶内温度调到25—30℃,粘 度在55-85秒要搅拌均匀,产品浸泡时间在10—20秒, 因在生产中会有少量的砂粒带入桶中,所以,浸药桶内 药液需每周过滤一次,做螺帽时则须多过滤,以防砂粒 沉积在牙纹当中,生产过程中要随时测量药液的温度、 粘度。
第二章
目 录
常见的工艺流程: 前处理( 化 学 除
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电化学除油
油 化学除锈或喷砂
活化 ) 后处理
电镀 (镀锌、镍、铜铬等) ( 钝化 封闭 脱水
烘干 )
注:每道工序之间都有水洗。
一、前处理
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㈠、除油:
1、有机溶剂除油:利用有机溶剂能溶解两类 油脂的特点。 2、化学除油(碱液除油)借助于溶液皂化与 乳化作用以达到除去两类油污的目的。所谓皂化 就油脂与除油液中的碱起化学反应生成肥皂的过 程,动植物油中的主要成份硬脂酸酯与氢氧化钠 的化学反应是:

金属的电沉积过程

金属的电沉积过程

北京科技大学电化学理论结业论文金属的电沉积过程学院:姓名:学号:邮箱:电话:金属的电沉积过程摘要:文章介绍了金属电沉积的基本历程和特点,简单说明了金属的阴极还原过程,探讨了简单阴离子、络离子和有机活性物质对此过程的影响,并讨论了金属的电结晶过程,简单分析了金属电沉积层的形态结构与性能,简要介绍了研究金属电沉积的方法。

关键词:金属电沉积;阴极还原;电结晶;镀层;0 引言金属的电沉积是通过电解方法,即通过在电解池阴极上金属离子的还原反应和电结晶过程在固体表面生成金属层的过程。

其目的是改变固体材料的表面性能或制取特定成分和性能的金属材料。

金属电沉积应用的领域也很广泛,通常包括电冶炼、电精炼、电铸和电镀四个方面,它的这些应用使其受到了越来越多的关注,因此,研究并掌握电沉积过程的基本规律变得尤为重要。

1金属电沉积的基本历程和特点1.1 金属电沉积的基本历程金属沉积的阴极历程,一般由以下几个单元步骤串联组成:(1)液相传质:溶液中的反应粒子,如金属水化离子向电极表面迁移。

(2)前置转化:迁移到电极表面附近的反应粒子发生化学转化反应,如金属水化离子水化程度降低和重排;金属络离子配位数降低等。

(3)电荷传递:反应粒子得电子,还原为吸附态金属原子。

(4)电结晶:新生的吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置(生长点)进入金属晶格生长,或与其他新生原子聚集而形成晶核并长大,从而形成晶体。

上述各个单元步骤中反应阻力最大、速度最慢的步骤则成为电沉积过程的速度控制步骤。

不同的工艺,因电沉积条件不同,其速度控制步骤也不同。

1.2 金属电沉积过程的特点电沉积过程实质上包括两个方面,即金属离子的阴极还原(析出金属原子)的过程和新生态金属原子在电极表面的结晶过程(电结晶)。

前者符合一般水溶液中阴极还原过程的基本规律,但由于电沉积过程中,电极表面不断生成新的晶体,表面状态不断变化,使得金属阴极还原过程的动力学规律复杂化;后者遵循结晶动力学的基本规律,但以金属原子的析出为前提,又受到阴极界面电场的作用。

电沉积

电沉积

电沉积是指简单金属离子或络合金属离子通过电化学途径在材料表面形成金属或合金镀层的过程。

电沉积的应用范围广泛,在材料科学技术(一级学科);材料科学技术基础(二级学科);材料合成、制备与加工(二级学科);表面改性和涂层技术(二级学科)等学科中都有研究。

电沉积主要分为两个方面,分别是;(一)金属或合金从其化合物水溶液、非水溶液或熔盐中电化学沉积的过程;(二)电泳涂漆中的一个过程,在直流电场作用下带电荷的树脂粒子到达相反电极,通过放电(或得到电子)析出不溶于水的漆膜沉积在被涂物表面。

对电沉积现象的研究主要分为两个方面,分别是对电沉积形态的研究和对电沉积引起的晶格畸变的研究。

对电沉积形态的研究主要有电沉积中结晶形态控制技术[1]与合金薄层电沉积形态研究[2]等。

前者将分形几何引入到电化学中,基于DLA模型,通过将沉积粒子设置不同的沉积几率,成功模拟了射流电沉积中枝晶的可控交织生长,后者以铅锡合金为例,研究铅锡合金薄层电沉积物的形态及其形态随电解液含不同铅锡离子浓度的转变。

对电沉积引起的晶格畸变现象的研究,包括电沉积引起的位错现象与电沉积引起的孪晶现象的研究。

在电沉积过程中,不同工艺操作条件会使金属镀层产生内应力,同时产生大量位错[3]。

在电沉积的过程中也会产生孪晶。

分析表明,孪晶现象的产生会提高金属的力学能力,产生高强度金属材料[4-6]。

对电沉积的应用有电镀、电沉积塑性等。

其中,电沉积银在工业中得到了广泛的应用。

对电沉积银的研究包括对电沉积银的生长过程研究[7]、以及使用电沉积法制备新型发泡银催化剂[8]。

[1]田宗军,王桂峰,沈理达,刘志东,黄因慧.电沉积中结晶形态控制技术[J].创新交流.2011.(3):29-35.[2]杜燕军,尹志刚,夏同驰.铅锡合金薄层电沉积形态研究[J].电化学.2007.13(3):312-315.[3]赵祖欣.镍镀层内应力及镍镀层中的位错[J].表面技术.1992.21(5).205-207.[4]朱未. 超高强度高导电性的纳米孪晶纯铜[J].华通技术.2006.(1):42.[5]卢磊,卢柯.纳米孪晶金属材料[J].金属学报.2010.46(11):1422-1427.[6]卢磊,陈先华,黄晓旭,卢柯.纳米孪晶纯铜的极值强度及纳米孪晶提高金属材料综合强韧性[J].中国基础科学.2010.(1):16-18.[7] C. H. Siah,N. Aziz, Z. Samad,N. Noordint, M. N. Idris and M. A. Miskam.FUNDAMENTALS STUDIES OF ELECTRO~SILVER PLATING PROCESS[J].Proceedings of the 18th Symposiwn ofMalaysian Chemical Engineers:424-428.[8]李宝山,牛玉舒,翟玉春,全明秀,胡壮麒.电沉积法制备新型发泡银催化剂.石油化工.2000.29(12):910-913。

年电镀工艺课件金属电沉积

年电镀工艺课件金属电沉积

金属电沉积的应用
电子工业:制造电子元件、电路板等 化学工业:生产化学试剂、催化剂等 材料科学:制造金属材料、合金等 环境保护:废水处理、废气处理等
03
电镀液的成分及作用
主盐
作用:提供金属离子,形成电 镀层
常见种类:硫酸铜、硫酸镍、 氯化锌等
影响因素:浓度、纯度、稳定 性等
应用:广泛应用于电子、机械、 化工等领域
电镀设备的影响
电镀槽:影响镀层的均匀性和 厚度
电流密度:影响镀层的质量和 速度
温度:影响镀层的结晶度和硬 度
搅拌速度:影响镀层的均匀性 和平整度
环境条件的影响
温度:影响镀层厚度和均匀性
湿度:影响镀层质量,过高或 过低都会影响镀层性能
空气污染:影响镀层质量,可 能导致镀层出现缺陷
电场强度:影响镀层厚度和均 匀性,过高或过低都会影响镀 层性能
络合剂
作用:络合剂是 电镀液的重要组 成部分,可以稳 定金属离子,防 止金属离子沉淀
类型:常见的络 合 剂 有 E DTA 、 DT PA 、 N TA 等
作用原理:络合 剂通过与金属离 子形成稳定的络 合物,防止金属 离子沉淀,提高 电镀液的稳定性
应用:络合剂广 泛应用于电镀行 业,可以提高电 镀液的稳定性, 提高电镀质量
排放,降低废水处理成本
发展新型电镀液和添加剂
环保型电镀液:减少有害物质排放, 提高环保性能
功能性电镀液:提高电镀层的性能, 如耐磨性、耐腐蚀性等
纳米电镀液:提高电镀层的精细度 和均匀性
智能电镀液:实现电镀过程的自动 化和智能化控制
新型添加剂:提高电镀液的性能, 如分散性、稳定性等
绿色添加剂:减少有害物质排放, 提高环保性能
电解质:能导电的物质, 包括离子和电子

电化学原理-第九章节-金属的电沉积过程

电化学原理-第九章节-金属的电沉积过程
应用场景
电镀金和银广泛应用于珠宝、饰品、电子等领域,作为装饰材料 和导电材料。
金和银电镀的优缺点
金和银电镀具有高贵典雅的外观和良好的导电性,但成本较高, 且银易氧化变色。
电镀镍和钴
镍和钴的电沉积原

通过电解液中的镍或钴离子在阴 极上还原成金属单质,实现镍或 钴的电沉积。
应用场景
电镀镍和钴广泛应用于汽车、机 械、航空航天等领域,作为防护 涂层和耐磨涂层。
络合剂
02
03
阴离子
络合剂的存在可以稳定金属离子, 影响其在电极表面的沉积行为。
阴离子的种类和浓度也会影响金 属的电沉积过程,例如氯离子可 以促进金属的沉积。
电极的材质和表面状态
电极材质
不同电极材料的电化学性质不同,会影响金 属的沉积过程。
电极表面粗糙度
电极表面粗糙度对金属的电沉积过程有显著 影响,粗糙度越高,电沉积速率越快。
镍和钴电镀的优缺

镍和钴电镀具有优良的耐磨、耐 腐蚀性能,但镍易形成氢脆,钴 价格较高。
07
电沉积的未来发展
高性能电沉积材料的开发
总结词
随着科技的不断进步,高性能电沉积材料的开发已成为未来发展的重要方向。
详细描述
目前,科研人员正在研究新型的高性能电沉积材料,如纳米材料、合金材料等, 这些材料具有更高的强度、硬度、耐腐蚀性和导电性等特性,能够满足更广泛的 应用需求。
在这个过程中,电流通过电解液中的 离子传输到电极上,并在电极上还原 成金属原子,这些原子随后在电极表 面沉积形成金属层。
金属电沉积的应用
在电子制造中,金属电沉积被用 于制造导线和电路板,以及在半 导体器件上形成金属电极。
在电镀中,金属电沉积可用于将 金属涂层沉积到各种基材上,如 钢铁、铜、铝等,以提高其美观 性和耐久性。

第九章电镀修复技术

第九章电镀修复技术
冲洗干净,再放入10%的 NaOH 碱溶
液中30min,中和后取出清洗干净,进
行质量检查,合格后即可拆除挂具与
绝缘,再在表面涂机油防锈.
第四节: 镀铬修复技术
❖ 一.镀铬层的性质 优点:1.硬度很高,电解析出的铬层硬度高达
HB800~1000,且具有较高的耐磨性; 2.具有较高的耐热性,500°C以下不
工件上作相对运动,与镀笔接触的部位会因镀液中的金属离子在 其表面上的还原而形成镀层.
(二)电刷镀技术的特点
❖1.工艺特点 ⑴刷镀时,镀笔与工件始终保持一定的
相对运动速度,镀液能随镀笔及时送到 工件的表面,不易产生金属贫乏现象.
⑵允许用比槽镀大几倍到几十倍的电流 密度,沉积速度比槽镀快5~50倍.
⑶镀层的形成是一个断续的结晶过程.
3.镀层的强化机理
❖ 由于存在超细晶强化,高密度位错强 化和固溶强化,使电刷镀层比槽镀层 具有更高的硬度和耐磨性.
研究镍层时,镍层的晶粒尺寸只有 0.01~0.07μm左右,这时因刷镀时,采 用了比槽镀大得多的电流密度,提高 了阴极极化作用,使过电位和双电层 的电场强度很高,形成大量
的细晶核.刷镀时,电. 笔与工件的相对
运动使被镀工件表面上电流密度的
作用时断时续,造成晶粒尙未来得及 长大就暂停生长.当镀笔重新运动到 该表面时,才又重新形核及生长,从而 使镀层晶粒细化.对于一些镀层,合金 元素固溶于基体中,使其晶格点阵畸 变,这种固溶强化也对镀层性能提高 起一定的作用.
(四)电刷镀工艺
❖ 1.工件表面的镀前处理 ①机械整修 ②遮蔽 ③填塞 ④电化学处理
⑺废气废水的毒性小,对人的健康和环境 影响小.
❖镀一铁.设镀备铁与设常备规电镀.设备相似,主要是电

电沉积法的原理

电沉积法的原理

电沉积法的原理
电沉积法是利用电流在电解液中的传导性,将金属离子从溶液中运送至电极表面,并以原子形式沉积在电极表面上的一种方法。

它是一种解决工业水处理、电化学制备、磁力学及有机合成等问题的有效技术。

电沉积法的原理是:当电极放入溶液中时,电解液中的金属离子会被电场吸引,然后被电流带到电极表面,在电极表面上沉积形成金属纳米粒子。

电流的强度会影响沉积的速率,而溶液的pH值也会影响沉积的速率。

如果电流强度越大,沉积速率也就越快;如果pH值越高,沉积速率也就越快。

电沉积法的原理

电沉积法的原理

电沉积法的原理
电沉积法的原理
电沉积法是利用电流在液体中的电化学作用,将溶质从原液中沉积到电极上的一种技术。

简单地说,它是一种将溶质从溶液中沉积到电极上的方法。

电沉积法是一种简便、灵活、可控的沉积方式,它可以将低浓度溶质沉积到电极上,从而获得高浓度的沉积物。

电沉积法的基本原理是电化学反应。

它是通过将电解质溶液中的正负离子迁移到电极表面,从而产生电化学反应来实现沉积的。

电沉积法的流程包括:溶液准备、沉积电位设定、沉积电流设定、沉积时间设定和沉积净化。

电沉积法与其他沉积技术相比具有许多优势,它可以在短时间内实现快速沉积,沉积结构致密,晶体尺寸均匀,耐腐蚀性高,可以在短时间内实现大量沉积,并且可以控制沉积的厚度和形态。

电沉积法的应用非常广泛,可以用于制备金属薄膜、氧化物薄膜、纳米晶体薄膜等材料,也可以用于制备纳米结构、微纳米器件、芯片封装等微结构。

电沉积法是一种简便、灵活、可控的沉积方式,可以用来制备多种材料,具有广泛的应用前景。

电化学第九章_金属的电沉积过程

电化学第九章_金属的电沉积过程
M n mH 2O ne M mH 2O
• 需要指出:
二、简单金属离子的阴极还原
1、简单金属离子在水溶液中以水化离子形式存在。 它们在还原时经过以下过程: 水化离子周围水分子的重排和水化程度降低 ; 在电极表面 吸附(成为吸附原子或吸附离子); 吸附原子脱去剩余的水化膜成为金属原子。
三、金属络离子的阴极还原
化学动力学参数可能不同。
§9.2 金属阴极还原过程
一、金属离子从水溶液中阴极还原的可能性 二、简单金属离子的阴极还原 三、金属络离子的阴极还原
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
1、某金属在阴极析出的必要条件: 阴极的电位负于该金属在该溶液中的平
衡电位,并获得一定过电位。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
小 Zn
(
OH
)
2 4
三、金属络离子的阴极还原
§9.3 金属电结晶过程
1、金属电结晶的特点: (1)电结晶过程符合一般结晶过程的规律。 (2)电结晶过程在电场的作用下完成,因此
又受下列因素影响: • 电极表面状态(阴极) • 电极附近溶液的化学和电化学过程 • 阴极极化作用(过电位)
§9.3 金属电结晶过程
电结晶形核理论
电沉积过程: • 形成圆柱形二维晶核(半径r、一个原子高h); • 生长为单原子薄层; • 在新的晶面上再次形核、长大; • 一层层生长,直至成为宏观晶体沉积层。
电结晶形核理论
• 通过推导可得体系自由能的总变化:
金属 密度
金属离 子价数
金属相对 原子量
晶核/溶 液界面 张力
晶核/电 极界面 张力
• 或金属原子在已有的金属面上继续电沉积, 因 1 3, 2 0
• 则(9.4)可简化为:

电沉积的分

电沉积的分

电沉积是指金属或合金从其化合物水溶液、非水溶液或熔盐中电化学沉积的过程。

是金属电解冶炼、电解精炼、电镀、电铸过程的基础。

这些过程在一定的电解质和操作条件下进行,金属电沉积的难易程度以及沉积物的形态与沉积金属的性质有关,也依赖于电解质的组成、pH值、温度、电流密度等因素。

电沉积过程中非常关键的步骤是新晶核的生成和晶体的成长,这两个步骤的竞争直接影响到镀层中生成晶粒的大小,其决定的因素是由于吸附表面的扩散速率和电荷传递反应速率不一致造成的。

如果在阴极表面具有高的表面扩散速率,由于较慢的电荷传递反应引起的少量吸附原子以及低的过电势将有利于晶体的成长;相反,低的表面扩散速率和大量的吸附原子以及高的过电势,都将增加成核速率。

研究表明,高的阴极过电势、高的吸附原子总数和低的吸附原子表面迁移率是大量形核和减少晶粒生长的必要条件[1] 。

脉冲电沉积脉冲电沉积过程中,除可以选择不同的电流波形外,还有三个独立的参数可调,即脉冲电流密度、脉冲导通时间和脉冲关断时间。

采用脉冲电沉积时,当给一个脉冲电流后,阴极-溶液界面处消耗的沉积离子可在脉冲间隔内得到补充,因而可采用较高的峰值电流密度,得到的晶粒尺寸比直流电沉积的小。

此外,采用脉冲电流时由于脉冲间隔的存在,使增长的晶体受到阻碍,减少了外延生长,生长的趋势也发生改变,从而不易形成粗大的晶体。

电沉积纳米晶较多采用脉冲电沉积法,所用脉冲电流的波形一般为矩形波。

脉冲电沉积与直流电沉积相比,更容易得到纳米晶镀层。

脉冲电沉积可通过控制波形、频率、通断比及平均电流密度等参数,从而可以获得具有特殊性能的纳米镀层。

喷射电沉积喷射电沉积是一种局部高速电沉积技术,由于其特殊的流体动力学特性,兼有高的热量和物质传递速率,尤其是高的沉积速率而引人注目。

电沉积时,一定流量和压力的电解液从阳极喷嘴垂直喷射到阴极表面,使得电沉积反应在喷射流与阴极表面冲击的区域发生。

电解液的冲击不仅对镀层进行了机械活化,同时还有效地减少了扩散层的厚度,改善了电沉积过程,使镀层组织致密,晶粒细化,性能提高。

电沉积工艺

电沉积工艺

电沉积工艺
电沉积工艺是一种将金属离子通过电化学方法沉积在金属基材表面的技术,也称为电镀。

其工艺流程包括:制备金属离子溶液、选择合适的金属基材、在电解槽中进行电化学反应、清洗和烘干等环节。

电沉积工艺具有以下优点:可以在基材表面形成均匀、致密、高质量的金属覆盖层;可用于不同形状的基材;沉积速度快、生产效率高;可控性好,可以通过调整电流、电压、温度等参数来控制覆盖层的厚度和性质。

电沉积工艺在航空、汽车、电子、冶金等领域得到广泛应用,例如用于制备金属零件、防腐蚀涂层、电路板等。

但是电沉积工艺也存在一些缺点,如产生废水、废气和废液等环境问题,以及金属离子浓度和助剂使用量对环境的影响等。

因此,发展绿色、环保的电沉积工艺是未来的趋势。

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原因:电极平衡电位取决于络离子在溶液中的 存在形式和性质。 放电粒子在电极上的吸附热 配位体重排 过电位 脱去部分配位体形成活化络 取决于 合物的能量变化
2 17 Zn ( CN ) 不稳定常数 1 . 9 10 4 例如: 16 Zn(OH ) 2 不稳定常数 7 . 1 10 4
指前 因子 波尔兹 曼常数
(9.6)
k R/L
气体常数 阿佛加德 罗常数
• 将 代入(9.5) 得形核速度与阴极过电位的关 (9.6)
系:
K exp(h LA / nFRT c )(9.7)
2 1
电结晶形核过程的规律
1、只有当阴极极化达到一定值时(即阴极电 位达到析出电位时), 晶核的形成才有可能。 2、过电位 c 越高,晶核临界半径 r临界 越小, 形核速度 越大。 3、过电位 c 越高,晶核数量越多,沉积层越 细致。
(从难放电的络离子形式转变为易放电的络 离子形式。)
2、金属络离子阴极还原机理
• 例如:氰化镀锌溶液中存在两种络合剂, NaCN 、NaOH 其阴极还原过程如下:
2 Zn(CN ) 2 4 OH Zn ( OH ) 4 CN 配位体交换 4 4 Zn(OH ) 2 Zn ( OH ) 2 OH 4 2 Zn(OH ) 2 2e Zn(OH ) 2 2吸附 Zn(OH ) 2 Zn 2 OH 2吸附 晶格中
电结晶形核理论
• 如果阴极过电位很高,使
G1 G2
• 或金属原子在已有的金属面上继续电沉积, 因
1 3, 2 0
• 则 可简化为: (9.4)
2 Gc h1 A / nFc
(9.5)
电结晶形核理论
• 已知形核速度与临界自由能变化有如下关系:
K exp(Gc / kT )
例如:
RT 银在1m ol/ LAgNO3溶液中的e ln a Ag 0.756 V F 加入1m ol/ LKCN后,e 0.533
0
讨论:络合物不稳定常数越小, 平衡电位下降越多;而平衡电位越负, 还原反应越难进行。
2、金属络离子阴极还原机理
(1)金属络离子的存在形式:
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
②由于合金的活度比单金属小,所以金属以合金的形
式比以单金属的形式容易在阴极还原。
③不能在水溶液中还原的某些金属,可以在适当的有
机溶剂中沉积出来。例:铝、铍、镁可从醚中沉积
出来。
二、简单金属离子的阴极还原
• 简单金属离子在阴极上的还原历程遵循
第一节所述的金属电沉积基本历程。
总反应式:
M n mH2O ne M mH2O
• 需要指出:
二、简单金属离子的阴极还原
1、简单金属离子在水溶液中以水化离子形式存在。 它们在还原时经过以下过程: 水化离子周围水分子的重排和水化程度降低 ; 在电极表面 吸附(成为吸附原子或吸附离子);
吸附原子脱去剩余的水化膜成为金属原子。
G1
在一定过电位下, 形核使体系自由 能降低
G2 形成新相界面使
(9.2)
体系自由能升高
电结晶形核理论
当 而
G G1 G2 0
时,形核过程能够进行。
G f r 是晶核尺寸的函数,
只有 r 达到一定尺寸时,才有 晶核能够稳定存在。
G 0

此时
r r临界
电结晶形核理论
• 基体金属的表面状态。
• 例如:不同的金属晶面上,电沉积的电 化学动力学参数可能不同。
§9.2 金属阴极还原过程
一、金属离子从水溶液中阴极还原的可能性
二、简单金属离子的阴极还原 三、金属络离子的阴极还原
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
1、某金属在阴极析出的必要条件:
阴极的电位负于该金属在该溶液中的平
一、金属电沉积的基本历程 二、电沉积过程遵循的一般规律 三、金属电沉积过程的特点
一、金属电沉积的基本历程
金属电沉积的阴极过程,一般由以下单元步骤串 联组成:
1、液相传质:溶液中的反应粒子向电极表面 迁移。
2、前臵转化:金属水化离子水化程度降低或
重排,金属络离子配 位数降低。
一、金属电沉积的基本历程
3、电荷传递:反应离子得电子,还原为吸附态 金属原子。 4、电结晶:吸附态金属原子沿电极表面扩散到 适当位臵(生长点),进入金属晶格生长或 与其他新生原子集聚而形成晶核并长大。 上述各步骤中,速度最慢的步骤为电沉积过程 的速度控制步骤。
二、电沉积过程遵循的一般规律
(1)金属离子阴极还原析出金属原子
金属元素在周期表中的位臵愈靠左边,化学
活泼性越强,还原的可能性越小。
金属元素在周期表中的位臵愈靠右边,化学
活泼性越弱,还原的可能性越大。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
0 1.5V
铬分族
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
4、分析金属离子能否沉积时,还应考虑以下 因素:
①金属以络离子存在时,其平衡电位会明显 负移,还原更加困难。 例如:铁、钴、镍以水溶液形式存在时,可 在阴极还原;而以络盐形式存在时,不能 在阴极还原。
既符合一般水溶液中阴极还原过程的基本 规律,又受不断变化着的电极表面状态的 影响。
(2)新生态金属原子在电极表面的结晶 既遵循结晶过程动力学基本规律, 又受金属原子的析出及界面电场的影响。
三、金属电沉积过程的特点
(1)阴极过电位对金属析出和电结晶有重要影 响 阴极过电位 c 是电沉积过程的动力,只有阴极 极化达到金属析出电位时,才能发生金属离子 的还原反应。
衡电位,并获得一定过电位。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
2、某金属在阴极析出的充分条件: 溶液中其他粒子不会优于该金属在阴极上 首先析出。 例如:金属离子还原电位比氢离子还原电 位更负,则氢在电极 上优先大量析出,金 属就很难沉积出来。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
3、从周期表中的位臵,判断金属离子从水 溶液中还原的可能性:
c
晶核生成功 成核率
临界晶核尺寸 结晶层细致
三、金属电沉积过程的特点
(2)双电层结构,特别是离子在紧密层中 的吸附对电沉积过程有明显影响。 金属的析出速度和位臵 吸附影响 金属的结晶方式和致密性 镀层结构和性能
三、金属电沉积过程的特点
(3)沉积层的结构、性能的影响因素有:
• 电结晶过程中新晶粒的生长方式、过程。
位错生长方式)。
(b)螺旋位错生长。
四、讨
2、如果
c

小 ,电极过程动力小,由螺旋位错
生长方式进行电结晶过程。 此时,吸附原子浓度和扩散速度相当小,原
子通过表面扩散并入晶格,因此,表面扩散
步骤成为电沉积过程的速度控制步骤。
四、讨
3、如果
c

大 ,电极过程动大,电结晶以
形核方式进行。 此时,吸附原子浓度大,容易形成新的晶 核并长大。 这时,电极过程速度控制步骤为电子转移 步骤。
二、电结晶形核过程
• 金属的电结晶是一个电化学过程,其形 核和长大所需的能量来源于界面电场。 • 例子:镉在铂上沉积时,阴极电位随时 间变化。 • 可见:过电位是电结晶过程发生的必要 条件。

电极表 面充电 断电 长大
恒电流状态
镉的平 衡电位
长大过电位
形核
形核过电位
电结晶形核理论
电沉积过程:
• 形成圆柱形二维晶核(半径r、一个原子高h);
接近 但
Zn (CN ) 大
2 4
Zn (OH ) 小
2 4
三、金属络离子的阴极还原
§9.3 金属电结晶过程
1、金属电结晶的特点: (1)电结晶过程符合一般结晶过程的规律。 (2)电结晶过程在电场的作用下完成,因此 又受下列因素影响: • 电极表面状态(阴极)
• 电极附近溶液的化学和电化学过程
配位数降低 电子转移
进入晶格
2、金属络离子阴极还原机理
(4)特别指出: • 络合剂使金属电极的平衡电位负移,改变了 电极的热力学性质;但对电极体系动力学性 质的影响不完全 一样。 • 例如:络离子不稳定常数越小,电极平衡电 位越负;但金属络离子在阴极还原时的过电 位不一定越大。
2、金属络离子阴极还原机理
第九章 金属的电沉积过程
定义:通过电解的方法,在电解池阴极
上,金属离子通过还原反应和电结晶过
程在固体表面生成金属层。
目的:改变固体材料的表面性能或制取 特定成分和性能的金属材料。
第九章 金属的电沉积过程
§9.1 金属电沉积的基本历程和特点 §9.2 金属的阴极还原过程 §9.3 金属的电结晶过程
§9.1 金属电沉积的基本历程和特点
• 生长为单原子薄层;
• 在新的晶面上再次形核、长大;
• 一层层生长,直至成为宏观晶体沉积层。
电结晶形核理论
• 通过推导可得体系自由能的总变化:
金属 密度 金属离 子价数 金属相对 晶核/溶 晶核/电 电极/溶 液界面 极界面 液界面 原子量 张力 张力 张力
G r 2hnFc / A 2rh1 r 2 (1 2 3 )
2、晶体的螺旋位错生长
位错扭 结点
实际晶体表面有许多位 错,晶面上的吸附原子 扩散到位错台阶边缘时, 可沿位错线生长。
三、吸附原子在已有晶面上的延续生长
2、晶体的螺旋位错生长 如此反复螺旋生长,
晶体将沿位错线螺旋
式长大,成为棱锥体。
四、讨

1、电结晶过程有两种方式:
(a)形核—长大(长大也可能包括螺旋
• 在
G 0 r
条件下,
• 推导出临界晶核半径:
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