模拟CMOS集成电路设计-第3章-单级放大器

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CMOS 模拟集成电路课件完整

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反偏电压将使耗尽区变宽,从而降低了有效沟道深度。因此,需 要施加更大的栅极电压以弥补沟道深度的降低,VSB偏压会影响 MOSFET的有效阈值电压VTH。随着VSB反偏电压的增加导致VTH的增 加,这种效应称为“体效应”。这种效应也称为“衬底偏置效应” 或“背栅效应”。
VTHN VTHN0
2qsi Na Cox
VGS 1 0 1.0 VDS 2 0 5
.op .dc vds 0 5 .2 Vgs 1 3 0.5 .plot dc -I(vds) .probe
*model .MODEL MNMOS NMOS VTO=0.7 KP=110U +LAMBDA=0.04 GAMMA=0.4 PHI=0.7
.end
Systems
Ch13 开关电容电路
Ch14 DAC/ADC
complex Ch10 运算放大器 Ch7 频率响应
Ch11 稳定性和频 率补偿
Ch8 噪声
Ch12 比较器 Ch9 反馈
Ch3 电流源电流镜 simple Ch4 基准源 Circuits
Devices
Ch5 单级放大器 ch2 MOS器件
*Output Characteristics for NMOS M1 2 1 0 0 MNMOS w=5u l=1.0u
VGS 1 0 1.0 VDS 2 0 5
设计
属性/规范
系统/电路1
系统/电路2 系统/电路3
……
一般产品描述、想法 系统规范要求的定义
系统设计 电路模块规范定义
电路实现 电路仿真

是否满足系统规范
是 物理(版图)设计
物理(版图)验证
寄生参数提取及后仿真

是否满足系统规范

模拟cmos集成电路设计实验

模拟cmos集成电路设计实验

模拟cmos集成电路设计实验实验要求:设计一个单级放大器和一个两级运算放大器。

单级放大器设计在课堂检查,两级运算放大器设计需要于学期结束前,提交一份实验报告。

实验报告包括以下几部分内容:1、电路结构分析及公式推导(例如如何根据指标确定端口电压及宽长比)2、电路设计步骤3、仿真测试图(需包含瞬态、直流和交流仿真图)4、给出每个MOS管的宽长比(做成表格形式,并在旁边附上电路图,与电路图一一对应)5、实验心得和小结单级放大器设计指标两级放大器设计指标实验操作步骤:a.安装Xmanagerb.打开Xmanager中的Xstartc.在Xstart中输入服务器地址、账号和密码Host:202.38.81.119Protocol: SSHUsername/password: 学号(大写)/ 学号@567& (大写)Command : Linux type 2然后点击run运行。

会弹出xterm窗口。

修改密码输入passwd,先输入当前密码,然后再输入两遍新密码。

注意密码不会显示出来。

d.设置服务器节点用浏览器登陆http://202.38.81.119/ganglia/,查看机器负载情况,尽量选择负载轻的机器登陆,(注:mgt和rack01不要选取)选择节点,在xterm中输入 ssh –X c01n?? (X为大写,??为节点名)如选择13号节点,则输入ssh –X c01n13e.文件夹管理通常在主目录中,不同工艺库建立相应的文件夹,便于管理。

本实验采用SMIC40nm工艺,所以在主目录新建SMIC40文件夹。

在xterm中,输入mkdir SMIC40然后进入新建的SMIC40文件夹,在xterm中,输入cd SMIC40.f.关联SMIC40nm 工艺库在xterm窗口中,输入gedit&,(gedit为文档编辑命令)将以下内容拷贝到新文档中。

SOFTINCLUDE /soft1/cadence/IC5141/share/cdssetup/dfII/cds.lib SOFTINCLUDE /soft1/cadence/IC5141/share/cdssetup/hdl/cds.lib SOFTINCLUDE /soft1/cadence/IC5141/share/cdssetup/pic/cds.lib SOFTINCLUDE /soft1/cadence/IC5141/share/cdssetup/sg/cds.libDEFINE smic40llrf /soft2/eda/tech/smic040/pdk/SPDK40LLRF_1125_2TM_CDS_V1.4/smic40llrf_1 125_2tm_cds_1P8M_2012_10_30_v1.4/smic40llrf保存为cds.lib 。

模拟cmos集成电路设计拉扎维MOS器件物理基础PPT课件

模拟cmos集成电路设计拉扎维MOS器件物理基础PPT课件
定义从D流 向S为正 PMOS管电流驱动能力比NMOS管差 0.8 m nwell:p=250cm2/V-s, n=550cm2/Vs 0.5 m nwell:p=100cm2/V-s, n=350cm2/V-
第23页/共61页
跨导gm
VGS对IDS的控制能力 IDS对VGS变化的灵敏度
gm ID VGS VDS cons tant
• 直流关系式-I/V特性 • 交流关系式-小信号电路中的参数
第6页/共61页
MOS管简化模型
简化模型——开关 由VG控制的一个开关
第7页/共61页
MOS管的结构
Bulk(body)
源漏在物理结构上是完全对称的,靠什么区分开?
提供载流子的端口为源,收集载流子的端口为漏
最重要的工作区域?
受VG控制的沟道区
• 小信号模型 • 信号相对于偏置工作点而言比较小、不会显著影响偏置工作点时用该模型简化计算 • 由gm、 gmb、rO等构成低频小信号模型,高频时还需加上 CGS等寄生电容、寄生电阻(接触孔电阻、 导电层电阻等)
沟道电荷的产生
当VG大到一定 程度时,表面势 使电子从源流向 沟道区 VTH定义为表面电 子浓度等于衬底 多子浓度时的VG
第12页/共61页
阈值电压
0 栅与衬底功函数差
COX
OX
TOX
常通过沟道注入把VTH0调节到合适值 工艺确定后,VTH0就固定了,设计者无法改变
第13页/共61页
I/V特性-沟道随VDS的变化
第3页/共61页
掌握器件物理知识的必要性
• 数字电路设计师一般不需要进入器件内部,只把它当开关用即可 • AIC设计师必须进入器件内部,具备器件物理知识
• MOS管是AIC的基本元件 • MOS管的电特性与器件内部的物理机制密切相关,设计时需将两者结

2010年CMOS模拟集成电路复习提纲

2010年CMOS模拟集成电路复习提纲

2007年《大规模集成电路分析与设计》复习提纲第2章MOSFET 的工作原理及器件模型分析重点内容:* CMOS 模拟集成电路设计分析的最基本最重要的知识:MOS 器件的三个区域的判断,并且对应于各个区域的I D 表达式,和跨导的定义及表达式。

* 体效应的概念,体效应产生的原因,及体效应系数γ。

* 沟道调制效应的概念,沟长调制效应产生的原因,沟道电阻D o I r λ1=,λ与沟道长度成反比。

* MOS 管结构电容的存在,它们各自的表达式。

* MOS 管完整的小信号模型。

MOSFET 的I-V 特性 1. TH GS V V <,MOS 管截止 2. TH GS V V ≥,MOS 管导通a.TH GS DS V V V -<,MOS 管工作在三极管区;⎥⎦⎤⎢⎣⎡--=221)(DS DS TH GS ox n D V V V V L W C I μ 当)(2TH GS DS V V V -<<时,MOS 工作于深Triode 区,此时DS TH GS oxn D V V V LWC I )(-≈μ,DSD V I ~为直线关系. 导通电阻:)(1TH GS ox n DDSon V V LW C I V R -=∂∂=μb .THGS DSV V V -≥,MOS 管工作在饱和区;2)(21TH GS oxn D V V LWC I -=μ 跨导g m :是指在一定的V DS 下,I D 对V GS 的变化率。

饱和区跨导:TH GS DD oxn H T GS oxn m V V I I LW C V V LW C g -==-=22)(μμ三极管区跨导:DS ox n m V L WC g μ=MOSFET 的二级效应1. 体效应: 源极电位和衬底电位不同,引起阈值电压的变化.)22(0F SB F TH TH V V V φφγ-++=)22(0FP BS FP n TH THN V V V φφγ--+=)(H T GS oxn constV GSD m V V LW C V I g DS -=∂∂==μ)22(0FN FN BS P TH THP V V V φφγ---+=2. 沟长调制效应: MOS 工作在饱和区,↑DS V 引起↓L 的现象.)1()(212DS TH GS ox n D V V V LWC I λμ+-⎪⎭⎫⎝⎛= TH GS D DS D ox n DS H T GS oxn GSD m V V I V I L W C V V V LW C V I g -=+⎪⎭⎫⎝⎛=+-=∂∂=2)1(2 )1)((λμλμ 饱和区输出阻抗:λλμ⋅=⋅-⎪⎭⎫⎝⎛=∂∂=D TH GS ox n DS D o I V V LWC V I r 1)(21112线性区输出阻抗:()[]DS TH GS oxn o V V V LW C r --=μ13. 亚阈值导电性V GS <V TH ,器件处于弱反型区.V DS >200mV 后,饱和区I D -V GS 平方律的特性变为指数的关系:T GSD V V I I ζexp0=MOSFET 的结构电容(各电容的表达式见书)MOSFET 的小信号模型MOS 器件在某一工作点附近微小变化的行为,称为小信号分析.此时MOS 器件的工作模型称为小信号模型. MOS 管的交流小信号模型是以其直流工作点为基础的。

模拟集成电路设计教学大纲

模拟集成电路设计教学大纲

模拟集成电路设计教学大纲目录一、课程开设目的和要求2二、教学中应注意的问题2三、课程内容及学时分配2第一章模拟电路设计绪论2第二章MOS器件物理基础2第三章单级放大器3第四章差动放大器3第五章无源与有源电流镜3第六章放大器的频率特性3第八章反馈3第九章运算放大器3高级专题3四、授课学时分配4五、实践环节安排4六、教材及参考书目5课程名称:模拟集成电路设计课程编号:055515英文名称:Analog IC design课程性质:独立设课课程属性:专业限选课应开学期:第5学期学时学分:课程总学时___48,其中实验学时一-一8。

课程总学分--3学生类别:本科生适用专业:电子科学与技术专业的学生。

先修课程:电路、模拟电子技术、半导体物理、固体物理、集成电路版图设计等课程。

一、教学目的和要求CMOS模拟集成电路设计课程是电子科学与技术专业(微电子方向)的主干课程,在教学过程中可以培养学生对在先修课程中所学到的有关知识和技能的综合运用能力和CMOS模拟集成电路分析、设计能力,掌握微电子技术人员所需的基本理论和技能,为学生进一步学习硕士有关专业课程和日后从事集成电路设计工作打下基础。

二、教学中应注意的问题1、教学过程中应强调基本概念的理解,着重注意引导和培养学生的电路分析能力和设计能力2、注重使用集成电路设计工具对电路进行分析仿真设计的训练。

3、重视学生的计算能力培养。

三、教学内容第一章模拟电路设计绪论本课程讨论模拟CMOS集成电路的分析与设计,既着重基本原理,也着重于学生需要掌握的现代工业中新的范例。

掌握研究模拟电路的重要性、研究模拟集成电路以及CMOS模拟集成电路的重要性,掌握电路设计的一般概念。

第二章MOS器件物理基础重点与难点:重点在于MOS的I/V特性以及二级效应。

难点在于小信号模型和SPICE模型。

掌握MOSFET的符号和结构,MOS的I/V特性以及二级效应,掌握MOS 器件的版图、电容、小信号模型和SPICE模型,会用这些模型分析MOS电路。

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第三章作业答案详解完整版教程解析

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第三章作业答案详解完整版教程解析

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第三章作业答案详解完整版教程解析1. 引言在拉扎维模拟CMOS集成电路设计第三章的作业中,涉及了多个内容,包括放大电路、反馈放大电路、功率放大电路等。

本文将对这些内容进行详细的解析和讲解,并给出相应的答案。

2. 放大电路放大电路是电子电路中非常常见且重要的一种电路结构。

在本章的作业中,我们需要设计一个放大电路,并回答一些相关问题。

2.1 放大电路设计根据作业要求,我们需要设计一个放大电路,输入信号为正弦波,放大倍数为10倍。

我们可以选择使用CMOS集成电路来实现这个放大电路。

首先,我们需要根据放大倍数和输入信号的幅度来确定CMOS放大电路的电路参数。

在设计过程中,我们需要考虑一些关键因素,包括电流源、负反馈电阻等。

其次,我们可以选择合适的电路拓扑结构,例如共源共栅放大电路、共源共漏放大电路等。

根据实际情况,我们可以选择合适的电路结构。

最后,我们需要进行电路参数的计算和电路的仿真。

通过计算和仿真,我们可以得到放大电路的性能指标,例如增益、截止频率等。

2.2 放大电路问题解答在作业中,还需要回答一些问题,例如输入电阻、输出电阻、频率响应等。

针对这些问题,我们需要根据放大电路的拓扑结构和电路参数做相应的计算和分析。

例如,输入电阻可以通过计算输入端的电流和电压之比得到;输出电阻可以通过计算输出端的电流和电压之比得到;频率响应可以通过对放大电路进行交流分析得到。

总的来说,放大电路的设计和问题解答需要综合考虑多个因素,包括电路参数、电路结构、输入信号的幅度、负载等。

需要进行一系列的计算和仿真,以得到满足要求的电路性能。

3. 反馈放大电路反馈放大电路是一种常见的电路结构,它可以通过引入反馈回路来改善电路性能,例如增益稳定性、线性度等。

在作业中,我们需要设计一个反馈放大电路,并回答一些相关问题。

3.1 反馈放大电路设计根据作业要求,我们需要设计一个反馈放大电路,输入信号为正弦波,放大倍数为20倍。

《模拟集成电路设计》教学大纲

《模拟集成电路设计》教学大纲

《模拟集成电路设计》课程教学大纲一、课程基本信息1、课程编码:2、课程名称(中/英文):模拟集成电路设计/ Design of Analog integrated Circuits3、学时/学分:56学时/3.5学分4、先修课程:电路基础、信号与系统、半导体物理与器件、微电子制造工艺5、开课单位:微电子学院6、开课学期(春/秋/春、秋):秋7、课程类别:专业核心课程8、课程简介(中/英文):本课程为微电子专业的必修课,专业核心课程,是集成电路设计方向最核心的专业课程之一。

本课程主要介绍典型模拟CMOS集成电路的工作原理、设计方法和设计流程、仿真分析方法,以及模拟CMOS集成电路的最新研发动态。

通过该课程的学习,将为学生今后从事集成电路设计奠定坚实的理论基础。

9、教材及教学参考书:教材:《模拟集成电路设计》,魏廷存,等编著教学参考书:1)《模拟CMOS集成电路设计》(第2版).2)《CMOS模拟集成电路设计》二、课程教学目标本课程为微电子专业的必修课,专业核心课程,是集成电路设计方向最核心的专业课程之一。

通过该课程的学习,将为学生今后从事集成电路设计奠定坚实的理论基础。

本课程主要介绍典型模拟CMOS集成电路的工作原理、设计方法和设计流程、仿真分析方法,以及模拟CMOS模拟集成电路的最新研发动态。

主要内容有:1)模拟CMOS集成电路的发展历史及趋势、功能及应用领域、设计流程以及仿真分析方法;2)CMOS元器件的工作原理及其各种等效数学模型(低频、高频、噪声等);3)针对典型模拟电路模块,包括电流镜、各种单级放大器、运算放大器、比较器、基准电压与电流产生电路、时钟信号产生电路、ADC与DAC电路等,重点介绍其工作原理、性能分析(直流/交流/瞬态/噪声/鲁棒性等特性分析)和仿真方法以及电路设计方法;4)介绍模拟CMOS集成电路设计领域的最新研究成果,包括低功耗、低噪声、低电压模拟CMOS集成电路设计技术。

CMOS模拟集成电路设计-单级放大器(一)

CMOS模拟集成电路设计-单级放大器(一)
模拟CMOS集成电路设计
第 3 章 单级放大器(一)
分离器件构成的音频放大器
2
用CMOS集成电路实现的音频放大器
二者有哪些区别?
3
4
3.1 共源级放大器
电阻做负载的共源级放大器
大信号分析
cutoff active triode
MOS管工作在饱和区时
5
线性区时
6
小信号分析
用小信号模型求解小信号增益
30
Av

gm RD 1 gm RS
RD 1/ gm RS
Av = “在漏极节点看到的电阻”/ “在源
极通路上看到的电阻”
这是一个经验结果,仅适合带源级负反馈的共源级 的分析,但是这个结论可以极大地简化电路的分析。
31
1 从MOS源极看到的阻抗约等于 gm gmb
证明如下:
漏端的电阻被大大衰减了,这 个特性被称为阻抗变换特性
W L
(VIN
VTH
)
跨导随着Vin的变化而变化,引入非线性
如果RS较大, Av
1/
RD gm RS
RD RS
增加源级负反馈电阻,使增益是gm的弱函数,实现线性 的提高。线性化的获得是以牺牲增益为代价的。
25
考虑沟道长度调制及体效应时,电路的交流小信号模型为
计算的复杂性大大增加… 我们需要建立一种直观的联系来分析问题
思考:
随着放大倍数的 提高,输入电压 范围越来越小, 我们真的能保证 输入信号在这么 小的范围内吗?
反馈
22
电流增大,增益怎么变化?
| Av | gmro
2nCox
ID

W

扎维模拟CMOS集成电路设计第三章习题

扎维模拟CMOS集成电路设计第三章习题

9
AV gm1 RD
ID
VDD Vout RD
3 0.437 2 103
1.2815 10 3
gm1
2nCox
W L
1
I
D1
21.34225104 1001.2815103 5.8653103 A /V
AV gm1 RD 5.8653 10 3 2 103 11.73
2023/11/14
AV gm1 roN // rop gm110K // 5K 100 gm1 0.03
2023/11/14
15
gm1
2nCox
W L
1
I
D1
W L
1
g
2 m1
2nCox I D1
0.032 2 1.34225104
103
3352.6
gm1
2I D1 VGS1 VTH 1
2I D1 Vout ,m in
0.5mA
Cox
0 ox
tox
8.851014 F / cm3.9 9109 m
3.835107 F
/ cm2
nCox
350 cm2 3.835 10 7 V s
F cm2
1.34225
10
4
A V2
pCox
100
cm2 V s
3.835 107
F cm2
0.3835
10 4
A V2
10
(3)M1工作在线性区 VDS VDSsat 50 10 3 0.437 0.05 0.387
ID
VDD Vout RD
3 0.387 2 103
1.3065 10 3
ID

模拟CMOS集成电路设计 拉扎维 ——复旦大学课件

模拟CMOS集成电路设计 拉扎维 ——复旦大学课件

参杂半导体
• 掺入三家获五价原子,提供一个载流子。
• N型:掺入五价元素,如磷(P)、砷(As),
提供一个电子,电子导电。
若:ND 是参杂浓度,D代表施主浓度 多子(电子)浓度: nn = ND
少子(空穴)浓度:
Pn
=
n
2 i
/
ND
• P型:掺入三价元素,如硼(B),
提供一个空穴,空穴导电。
若:NA 是参杂浓度,A代表施主浓度 多子(空穴)浓度: Pp = NA
参数化模块/单元 layout
宏模型 Matlab…
器件
器件特性
版图描述 design rule
器件模型 spice model
模拟集成电路的应用
• 模拟电路本质上是不可替代的
– 自然界是“模拟”的
• 集成传感器、显示驱动 • 模数和数模转换
– 数字信号经过传输后à模拟信号
• 无线和有线通讯 • 磁盘驱动
单极点低通Gm-C滤波器
Gm由偏置电流或电压确定,易受工艺、温度和电源 电压变化的影响
磁盘驱动器中的模块电路(2)
• 模数转换器(ADC)
– 6位ADC, – 由VCO提供采样时钟。采样频率由数字时钟恢复电路控
制。 – 偏移控制:采集63个比较器的失调电压,反馈到输入
端,抵消由此引起的失真。
• 数字信号处理
dQn dVR
=
ε 0ε si 2 ΦB
qN D + VR
1
2
=
Cj0
1
1
+
VR ΦB
2
C j0
=
ε
0ε si qN 2Φ B
D
2
= ε0εsi xn

扎维模拟CMOS集成电路设计第三章习题

扎维模拟CMOS集成电路设计第三章习题

I D2
1 W nCox (VGS 2 VTH 2 ) 2 (1 NVDS 2 ) 2 L 2
1 10 1.34225 10 4 [3 Vout 0.7 0.45( 0.9 Vout 0.9 )] 2 [1 0.1(3 Vout )] 2 0.5
W g m1 2 nCox I D1 2 1.34225 10 4 100 0.5 10 3 3.66 10 3 A / V L 1
ro1
1 1 20K 1 N I D 0.1V 0.5m A
5
2019/3/28
0.5 1 L 2 p 0.05 2
ro 2 1 1 40K 3 2 I D 2 0.05 0.5 10
AV gm1 (ro1 // ro2 ) 3.66103 (20K // 40K ) 48.8
(2)M1工作在线性区边缘,满足 VGS 1 VTH 1 VDS 1 Vout
Vout sin g Vout max Vout min 2.0033 0.2693 1.734 V
2019/3/28 7
3.3
50 W , RD 2 K, 0 L 1 0.5
cm2 7 F 4 A nCox 350 3.83510 1.34225 10 2 V s cm V2
AV gm1 Rout 5.1945103 782.16 4.06
2019/3/28 12
20 W 3.12 , I1 1mA, I S 0.75mA, 0 L 1 0.5
cm2 F 4 A nCox 350 3.835107 1 . 34225 10 V s cm2 V2 cm2 7 F 4 A pCox 100 3.83510 0.383510 2 V s cm V2

拉扎维模拟CMOS集成电路设计(前十章全部课件)

拉扎维模拟CMOS集成电路设计(前十章全部课件)
对于半导体:
L
dV ( x ) ID WCox[VGS V ( x ) VTH ]n dx
VDS
x 0
I dx WC
D
V 0
ox
n[VGS V ( x ) VTH]dV (ID为常数)
1 DS [iD x] [nCoxW ((vGS VTH )v(x) v( x) 2 )]v 0 2 1 W ID nCox L [(VGS VTH)VDS VDS2 ] 2
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 17
重邮光电工程学院
MOS管在饱和区电流公式
1 W 2 iD ( nCox ) (vGS VTH ) 2 L
μ
n 的典型值为:μ 2/Vs] ≈ 580 [cm n
tox ≈50A, Cox 6.9fF/m2 t ≈0.02m, C
ox ox
d g g d
NMOS饱和条件:Vd≥Vg+VTHN PMOS饱和条件:Vd≤Vg+|VTHP|
判断MOS管是否工作在饱和区时,不必考虑Vs
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 22
重邮光电工程学院
MOS管的开启电压VT及体效应
VTH Q dep MS 2F , where Cox MS gate silicon F kT q ln Nsub n i Qdep 4qsi F Nsub
重邮光电工程学院
MOS器件版图
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 30
重邮光电工程学院
MOS电容器的结构
t ox ≈ 5 0 A , C ox 6.9 fF/ m 2
t ≈ 0.02 m , C
ox ox

1.75fF/ m 2

模拟CMOS集成电路设计单级放大器

模拟CMOS集成电路设计单级放大器
第8页/共55页
共源MOSFET的单管增益
北大微电子:模拟集成电路原理
Vgs V1 Vin
Rout
Vout I out
|Vin 0
Vin
0时,Iout
Vout ro
Rout ro 单管增益
Vout Vin
gmro
Amplifiers Ch.3 # 8
第9页/共55页
共源级—电阻做负载(1)
考虑体效应
因为V1 VX,Vbs VX,
所以I X
gmV1 gmbVbs
VX ro
gm gmb VX
VX ro
Rout
VX IX
1
gm
gmb
1 ro
,若
gm gmb
ro 1,则Rout
1 gm gmb
北大微电子:模拟集成电路原理
Amplifiers Ch.3 # 16
Amplifiers Ch.3 # 13
第14页/共55页
二极管接法的MOSFET
北大微电子:模拟集成电路原理
Rout
1 gm
1 ro
1 gm
(gmro 1)
Amplifiers Ch.3 # 14
第15页/共55页
共源级:二极管接法MOSFET负载(1)
Rup Rdown
忽略体效应
北大微电子:模拟集成电路原理
gm1 gm1 1
gm2 gmb2
gm2 1
Amplifiers Ch.3 # 17
第18页/共55页
共源级:二极管接法MOSFET负载(4)
gm
Cox
W L
VGS VTH
2
I
D
Cox

2_第二讲_单级放大器

2_第二讲_单级放大器
10
2)小信号增益Av MOS管在饱和状态下,电路的输入输出特性:
小信号增益:
输入输出 变化之比 (斜率)
=-△IDRD/△Vin =-gmRD
M1将输入电压的变化△Vin转换为△ ID,即gm △Vin, 进一步转换为输出电压的变化-gmRD △Vin。
11
3)小信号模型
由小信号模型ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ析可知:
39
(3)小信号增益Av
Av=Vout/Vin=-Gm Rout0
第一步:计算等效跨导Gm
Gm
Iout Vin
RS
1
gmro gm gmb
RS ro
第二步:计算等效输出电阻
Rout
Rout0 Rout RD
40
通过计算等效跨导Gm、等效输出电阻Rout,可以简便地 得出Av。
4、辅助定理
20
5、输入-输出特性曲线
饱和区,输入 输出呈线性
电路的输入输出特性

,M1截止,Vout等于

,M1、M2饱和导通,输入输出呈线性关系

,M1进入线性区,输入输出呈非线性关系
21
(二)采用PMOS二极管负载
没有体 效应
有体 效应

以PMOS二极管连接 为负载的共源极
两种负载的小信号增益:
Av
32
1、等效跨导Gm
Vout=VDD—IDRD
等效跨导
和gm有 何区别?
VGS是Vin的函数
VGS Vin ID RS
VGS / Vin 1 RS ID / Vin Gm
Gm
gm 1 gm RS
1/(1/gm+RS)
也可以通过小信号模型求得,如下:

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第三章作业答案详解完整版教程解析 (2)

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第三章作业答案详解完整版教程解析 (2)

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第三章作业答案详解完整版教程解析第一题题目:请解释拉扎维模拟CMOS集成电路设计的主要目标。

拉扎维模拟CMOS集成电路设计的主要目标是通过集成电路设计技术来实现高性能、低功耗、低噪声、高稳定性的模拟电路。

具体目标包括:1.高性能:通过优化电路结构和参数,提高电路的增益、带宽和速度,以满足高性能模拟信号处理需求。

2.低功耗:采用低功耗设计技术,减少功耗和电源电压,提高电路的能效比,延长电池寿命。

3.低噪声:通过降低噪声源和优化电路设计,减少电路的噪声,并提高信号与噪声比,以提高电路的信号处理能力。

4.高稳定性:通过减小电路参数的变化范围、提高电路对温度、工艺和电源电压的抵抗能力,提高电路的稳定性和可靠性。

综合上述目标,拉扎维模拟CMOS集成电路设计致力于设计出符合实际需求,并具有良好性能、可靠性和可实施性的模拟电路。

第二题题目:什么是负载效应?在拉扎维模拟CMOS集成电路中如何考虑负载效应?负载效应是指当负载改变时,电路的工作条件和性能表现发生变化的现象。

在拉扎维模拟CMOS集成电路中,考虑负载效应是非常重要的。

拉扎维模拟CMOS集成电路中,电路的输入和输出之间会存在阻抗差异,从而导致在连接电路之间引入额外的电容和电阻负载。

这些负载对电路的工作状态产生影响,可能导致增益降低、频率响应偏移、功耗增加等问题。

为了考虑负载效应,在拉扎维模拟CMOS集成电路设计中,需要进行以下步骤:1.电路参数分析:通过计算和仿真,分析电路的输入和输出阻抗,确定电路的负载情况。

2.负载效应补偿:根据负载效应分析结果,采取一系列补偿措施来消除或减小负载效应对电路性能的影响。

例如,可以通过优化电路的结构或参数来改变电路的负载特性,使其更符合设计要求。

3.电路稳定性分析:在设计过程中,还需要对电路的稳定性进行分析。

如果负载效应较大,可能会导致电路的振荡或不稳定现象。

通过稳定性分析,可以预测和避免这些问题的发生。

第3章单级放大器_源跟随器

第3章单级放大器_源跟随器
华侨大学·电子与信息工程学院 电子工程系 杨骁 凌朝东
xiaoyanghqu@
华侨大学IC设计中心
3.3 源跟随器(共漏极)(Source Follower)
对共源级的分析指出,在一定范围的电源电压 下,要获得更高的电压增益,负载阻抗必须尽 可能大。如果这种电路驱动一个低阻抗负载, 为了使信号电平的损失小到可以忽略不计,就 必须在放大器后面放置一个“缓冲器”。源跟 随器(也叫做共漏级放大器)就可以起到一个 电压缓冲器的作用。
GM = g m
RO = 1 1 1 || || ro ≈ g m g mb g m + g mb
ROut = RS // Ro = RS //
1 g m + g mb
Av = Gm Rout
Rs = gm Rs ( g m + g mb ) + 1
1 g m + g mb RS = = 1 RS ( g m + g mb ) + 1 RS + g m + g mb RS
Rout
1 rO 1 rO 2 RL = gmb + gm
1 Av = g m rO1 rO 2 RL g mb + g m
衬偏效应影响
华侨大学IC设计中心
即使源跟随器用理想电流源来偏置,输入-输出 特性仍表现出一些非线性,这源于阈值电压与源 极电压之间的非线性。
Av = Gm Rout Rs g = gm = m = 1 ( g m + g mb ) (1 + η ) Rs ( g m + g mb ) + 1
源跟随器电压增益与输入电压Leabharlann 系Av = Gm Rout
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(b) 对M2,
若I是恒定值,当W2 增加时,Veff2下降,Vds2可以很小,Vout的摆幅很大。一般:
但是,当L2、W2同时增加时,则M2的寄生电容值增加
(c)对M1, 对给定的I值:
摆幅增加
1.1.4 工作在线性区的MOS为负载的 共源级
• 工作在深线性区的MOS器件的特性像电阻一样, 因此可以用来作为共源级的负载。
Vout VDD RD 1 W n C ox Vin VTH 2 L
2
共源级电路
当Vin继续增大,Vout继续减小,这时 还处在饱和区,直到 Vin 比 Vout高出 VTH 即在下图中的A点,在A点满足:
Vin1 vTH VDD RD 1 W n C ox Vin1 VTH 2 L
Av= g m RD
Av 2 n Cox V W I D RD L ID
Av 2 n C ox
W V RD 容增加。 ������ 增大VRD;输出摆幅减小。 ������ 减小ID;RD增加,输出节点的时间常数增加。
沟道长度调制效应
单级放大器
李凯文 2015021743
在大多数模拟电路和许多数字电路中,放大器是最基本的功能块 。
将描述四种放大器: 共源放大器; 共栅放大器; 源极跟随器; 共源共栅放大器。
先从最简化的模型着手,逐渐地在考虑沟长调制和体效应这样的二级效应。
1.1 共源级
• 采用电阻负载的共源级(少,因为工艺上 电阻不好制作) • 带二极管接法负载的共源级(缺点是增益 不大) • 采用电流源负载的共源级 • 工作在线性区的MOS为负载的共源级(少, 线性电阻影响因素很多,无法确定) • 带源级负反馈的共源级
若代入饱和区公式时,考虑沟道长度调制效应,则:
Vout VDD RD
1 W n C ox Vin VTH 2 L
2 1 Vout
2
Vout Vin
1 W W Vout Vin VTH R C R C V V 1 V D n ox D n ox in TH out = L 2 L Vin
当Vin增加,ID也增加,同样在Rs上的压降也会增加, 换句话说,输入电压的一部分出现在电阻Rs上,而不是 作为栅源的过驱动电压上,因此导致ID的变化变得平缓。 从另一个角度看,Vout=VDD-IDRD, Vout与Vin的非线 性源于ID与Vin 之间的非线性。而ID与Vin之间的关系 要是也偏向于线性就好了。所以现在我们就分析ID与 Vin之间的关系。即等效跨导Gm的关系。并希望Gm 接近于一个固定的值。 Vout=VDD-IDRD
输出阻抗:等效图中忽略RD 考虑输出阻抗:输入接地,输出加激励。
一般 输出阻抗提高了

考虑λ和γ一般情况下的增益。
重写上式:
辅助定理:在线性电路中,电压增益为 Gm:输出与地短接时的等效跨导。 Rout:输入电压为零时的等效输出阻抗。
例:恒流源负载:
恒流源的输出阻抗无穷大,Rd可忽略
结论:Av和Rs无关。 因为Io恒定,流过Rs的电流变化为零,导致Rs上 的电压没有变化,等效为:
I D1 1 2 n Cox Vin VTH 1 Vout 2
Vin , 0,Vout
电阻负载的缺点 ������ 不能精确控制电阻值 ������ 电阻值不能大,会导致摆幅下 降 ������ 电阻的面积大,工艺上不好制 造 改进方法 采用MOS器件为负载 ������ 二极管接法 ������ 电流源 ������ 线性区MOS器件
2
W Vout Vin VTH = g m RD R C = Av D n ox L Vin
增益随Vin的线性增加,当输入信号摆幅较大时引入非线性
跨导随输入电压的变化
饱和区
I D gm VGS
= nCox 线性区
W VGS VTH L
增益最大化
2
从上式可以计算出Vin1-VTH,并进一步 计算出Vout
(3)当Vin>Vin1时,M1工作在线性区:
Vout VDD RD
1 W 2 n C ox 2Vin VTH Vout Vout 2 L


(4)如果 Vin的值足够高而进入深线性区, Vout 2Vin VTH ,并从 下图的等价电路中可得:
• 采用大信号分析得出的结论是一样的:即
如VTH2随Vout的变化很小,电路表现出线性的输入-输出特性
用PMOS器件来代替NMOS,无须考虑体效应,则小信号电压增益等于: n W L 1 Av = p W L 2 例如,要获得增益为10,n W L1 p W L2 =100,由于n 2 p 必须使 W L1 50(W / L)2 在某种意义上,高增益要求强的输入器件和弱的负载器件,缺点是高增益会 造成沟宽和沟长过大而不均衡(因此会导致大的输入或者负载电容),同时 还会带来另外一个严重的局限性:允许的输出电压摆幅的减小。
利用小信号等效电路可推导出同样结果,特别是考虑λ和γ的一般情况。
推导Gm:输出接地,加输入电压, 得到输出电流。
增益与跨导
ro很大,则:
式中:
Av、Gm随Vin变化:
a) Vin很小时,M1 导通
b) Vin增加时,
c) Vin很大时,
计算Av的等效方法 ������ 从漏极结点看到的电阻除以源极通路上(Vin=0)的总电阻。
采用NMOS负载,存在体效应 忽略沟道调制,将:
VX 1 RD= g m g mb IX

代入
Av= g m RD
得到:
M1
Av
其中
= g m1
gm2
g m1 1 1 = gm2 1 g mb 2
gmb 2 gm2
2 n Cox W L 1 I D1
1.2 源跟随器
• 源跟随器(共漏放大器)概念 以M1漏极为基准,以栅-漏电压为输入,以源-漏电压驱 动负载。 实现阻抗转换
其特点为: a) 能驱动较小的输出电阻。 例,共源放大器的输出跟一个源跟随器。 b) 电压放大倍数≤1,是电压缓冲器,输入 和输出电平转换。
• 大信号分析
当Vin<Vth时,M1 截止。 当Vin增加,M1导通,得出Vout=Vin-Vth 因为体效应,Vth随Vout而改变,Av< 1,非线性。
用器件的尺寸、偏置电流来表示跨导,可得
Av
=
2 n Cox W L 2 I D 2
1 = 1

W L 1 1 W L 2 1
如果忽略 随输出电压的变化,增益与偏置电流和电压无关 (只要处在饱和区)。 换言之,当输入和输出电平发生变化时,增益仍保持不变,表明输入-输出 特性相对呈线性。
1.1.2 采用二极管连接的负载
• 在CMOS工艺中,制造一个有精确阻值和物理尺寸的电阻 是很困难的 。所以常常要求用一个MOS管来代替图3.3 (a) 中的RD。
VX IX
Vx g m g mb VX I X rO
=
1 g m g mb rO
1
=
1 1 rO g m g mb g m g mb
使用近似公式; I D 1 2 n Cox W LVin VTH 2
Av g m RD RD I D Av
g m RD Av 1 RD I D
再根据 ro
1 I D
结论:增益和跨导gm、输出阻抗成正比。
g rR Av m 0 D gm (ro // RD ) r0 RD
I D1 I D2
所以
W 2 W 2 VGS 1 VTH 1 VGS 2 VTH 2 n L 1 p L 2

VGS 2 VTH 2 VGS 1 VTH 2
Av
在上面的例子中,M 2 驱动电压应该是
M1
的十倍。比如,当
VGS 1 VTH 1 200mV 和 VTH 2 0.7V 可得 VGS 2 2.7V
这严重的限制了输出电压的摆幅
• 性能改进
在M2边上并联一个恒流源,M2 的电流将下降, 跨导下降,增益提高 取:
I S 0.75I1
g m1 Av g m2
=
4 n W L 1
Vout VDD
=
Ron Ron RD
V DD W 1 n C ox R D Vin VTH L

Vout 2Vin VTH
工作在线性区时跨导会下降,所以我们通常要确保 根据饱和时的公式我们可求出小信号增益
Vout VDD RD 1 W n C ox Vin VTH 2 L
1.1.1采用电阻负载的共源级
概念: M1的栅源之间输入电压信号Vin,通过NMOS的跨导放大,在漏极得到一 个小信号电流。电流通过负载电阻产生电压输出。输入栅源电压,输出栅漏 电压������ 共源放大。 (1)如果输入电压从零开始增大,M1截止, VOUT=VDD。 (2)Vin增大到超过并接近VTH时,M1饱和
• 输出阻抗
直观的:
源跟随器实现大阻抗到小阻抗的转换
1.1.5 带源级负反馈的共源级
• 在模拟电路的八边形的法则中我们可知道,线性 化也是一个重要的考虑因素之一。 • 线性化是希望我们的变量和因变量之间是一种最 简单的关系,即它们的增长比例相同。也就是一 种线性函数。 • 但我们知道漏电流和过驱动电压是一种平方关系, 如何让他们也呈现出一种线性关系呢? • 本节中是通过用一个负反馈电阻串联在在晶体管 的源端来实现。
Vo Vin 0, ( RD // ro ) Vin
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