电子科技大学2012半导体物理期末考试试卷B试题答案
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
子的准费米能级。
'.
.
A、n0 B、p0
C、Δn D、Δp
E、n
F、p
G、 高于
H、等于
I、小于
8. 在室温下,低掺杂 Si 的载流子散射机制主要是( B D
)。
A、压电散射 B、电离杂质散射 C. 载流子-载流子散射 D.晶格振动散射
9.
适用于( B )半导体。
A、简并
B、非简并
10. Ge 和 Si 是( B )能隙半导体,( D)是主要的复合过程。而 GaAs 是( A)
平方。该关系( D )于本征半导体,( D )于非本征半导体。
A、 大于
B、 小于
C、等于
D、 适用
E、 不适用
6. 电子是(A),其有效质量为(D);空穴是(B),其有效质量为(C)。
A、粒子
B、准粒子
C、 负
D、 正
E、 0
7. p 型半导体中的非平衡载流子特指( C ),其空穴的准费米能级( I )电
( A )。
A、VFB>0
B、VFB<0
C、VFB=0
13. 最有利于陷阱作用的能级位置在( C )附近,常见的是( E )的陷阱
A、EA
B、ED
C、 EF
D、Ei E、少子 F、多子
14. 金属与 n 型半导体形成阻挡层,其功函数需满足( A ),该结构正向电流的
方向是( D )。
A、Wm>Ws
பைடு நூலகம்
B、Wm<Ws
C、Wm=Ws
D、从金属到半导体
E、从半导体到金属
二、简答题:(共 12 分)
1. 画出中等掺杂硅的电阻率随温度的变化情况。(3 分)命题人:罗小蓉
'.
.
2. n 型半导体衬底形成的 MIS 结构,画出外加不同偏压下多子积累和反型二种状态的能带 图。画出理想的低频和高频电容-电压曲线。解释平带电压(7 分) 命题人:白飞明,钟志亲 图略(各 2 分) 平带电压:功函数或者绝缘层电荷等因素引起半导体内能带发生弯曲,为了恢复平带状态 所需加的外加栅偏压。或者使半导体内没有能带弯曲时所加的栅电压。(1 分)
得 分 一、多选题:在括号中填入正确答案(共 30 分,共 19 题,每空 1 分)
1. 受主是能增加(B)浓度的杂质原子,施主是能增加(A)浓度的杂质原子,
A、电子
B、空穴
2. 如果杂质在化合物半导体中既能作施主又能作受主的作用,则这种杂质称为
(
B
)。
A、 受主
B、 两性杂质
C、施主
3. 对于掺杂浓度为 ND 的非简并半导体,0 K 下,其电子浓度=( D
3. 写出至少两种测试载流子浓度的实验方法。(2 分)命题人:白飞明,钟志亲 可以采用四探针法、C-V 测试以及霍耳效应来测试载流子浓度(写出两种即可);(2 分)
三、证明题:证明 命题人:刘诺
证明:
因为
。(7 分)
且
(1 分)
(1 分) (1 分)
所以 对本征半导体
(1 分) (1 分)
所以,
故 四、计算题(36 分)
电 子 - 空 穴 对 的 产 生 率 是 1020 cm3 / s 。 已 知 :
n 1100 cm2 / V s , p 400 cm2 / V s, ni 1.5 1010cm3 ,设杂质全电离,求:
(1)光照下样品的电导率;(5 分)
非平衡载流子浓度 n p g 1014 cm3
1分
电子浓度 n n0 n 1.11015 cm3
1分
空穴浓度 p p0 p ni2 / n0 p 2.25 105 1014 1014 cm3
1分
nqn pqp (1.11015 11001014 400)1.61019 2101S • cm1 2 分
(2)电子和空穴准费米能级 EFn 和 EFp 与平衡费米能级 EF 的距离,并在同一能带图标出 EF,
能隙半导体,( C )是主要的复合过程。
A、直接
B、 间接
C、直接复合
D、间接复合
11. 在外加电场作用下,载流子的( C)运动是定向的。在无外加电场时,载流子
的( B)运动是随机的。
A、扩散
B、 热
C、漂移
12. p 型半导体构成的 MIS 结构,若 Wm >Ws,假定绝缘层中无电荷时,其平带电压
(1 分) (1 分)
1. Si 与金属形成的肖特基势垒接触,反向饱和电流为 I0=10-11A,若以测试得到的正向电流达 到 10-3A 为器件开始导通。 (1)求正向导通电压值;(4 分)
'.
.
IF
I
0
exp
qVF k0T
1
I0
exp
qVF k0T
VF
k0T q
ln
IF I0
0.48V
每步各 2 分
(2)如果不加电压时半导体表面势为 0.55V,耗尽区宽度为 0.5μm,计算加 5V 反向电压
时的耗尽区宽度;(4 分)
xd 0
2 sVbi qN0
xd
2 s Vbi V
qN0
xd Vbi V
xd 0
Vbi
xd 3.2m
1 2
5.55 0.55
每步各 1 分
2、施主浓度 ND=1015cm-3 的薄 n 型 Si 样品,寿命为 1 s , 室温下进行光照射,光被均匀吸收,
EFn 和 EFp;(7 分)
答: EFn
EF
k0T
ln
n n0
0.002eV
2分
EF
EFp
k0T
ln
p p0
0.52eV
2分
作图 3 分 EFn 和 EFp 与 EF 各 1 分
Ec
'.
.
E
n F
EF
E
p F
Ev
(3)若同时给该样品加 10V/cm 的电场,求通过样品的电流密度。(4 分) J E 0.2 10 2A / cm2
);在低温
下,其电子浓度=( B );在高温本征温度下,其电子浓度=( C );
A、 ND
B、nD+
C、ni
D、0
4. 对于宽带隙的半导体,激发电子从价带进入导带需要更( A )的能量,本征
温度区的起始温度更( A
)。
A、 高
B. 低
5. 在一定温度下,非简并半导体的平衡载流子浓度的乘积(C)本征载流子浓度的
.
半导体期末考试
课程考试题 B 卷 ( 120 分钟) 考试形式:闭卷 考试日期 2011 年 月 日
课程成绩构成:平时 15 分, 期中 5 分, 实验 10 分, 期末 70 分
一
二
三
四
五
六
七
八
九
十
合计
复核人 签名
得分
签名
可能用到的物理常数:电子电量 q=1.602×10-19C,真空介电常数 ε0=8.854×10-12F/m,室温(300K)的 k0T=0.026eV,SiO2 相对介电常数=3.9, N C=2.8×1019cm-3,300K 时,ni(GaAs)=1.1×107cm-3.