真空镀膜基础知识
塑料真空镀膜的相关概述介绍
塑料真空镀膜的相关概述介绍一、工艺流程塑料真空镀膜的常用工艺流程包括:基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装。
基材表面处理是首要步骤,其目的是清除塑料表面的污染物以提高镀膜质量。
真空蒸发是将要镀的材料加热至昇华状态,蒸发后附着在塑料表面形成镀层。
离子镀膜是在真空环境中通过离子束轰击镀层,使其更加致密、附着力更强。
最后进行清洗与包装,确保产品的质量和外观。
二、技术原理1.蒸发:将要镀的材料加热至昇华状态,使其转化为蒸汽形式,然后通过真空环境将蒸汽输送到塑料表面,形成附着在塑料表面的镀层。
2.离子镀膜:离子镀膜是在真空环境中,通过引入离子束轰击镀层,使其重排结构,提高附着力和密着度。
离子束轰击还能改善镀层中的应力和控制其颗粒大小。
3.基材表面处理:基材表面处理是清除表面的污染物、氧化物、油脂等,以便提高镀层的附着力。
常用的表面处理方法包括久置灰、化学清洗、离子轰击等。
三、应用领域1.电子产品:塑料真空镀膜能够使电子产品的外观更加美观,并提高耐磨性和耐化学性,例如镀膜后的手机外壳、鼠标等。
2.汽车行业:塑料真空镀膜能够提高汽车零部件的防腐、阻隔性和耐磨性,例如车内装饰品、外观件等。
同时还能提升汽车外观的质感。
3.包装行业:塑料真空镀膜可以提高包装材料的阻氧、阻湿、阻光性能,适用于食品、医药等行业的包装材料,延长产品保质期。
4.家用电器:塑料真空镀膜技术可以为家用电器增添高端质感,提高产品外观的吸引力和市场竞争力。
5.其他领域:塑料真空镀膜技术还可以应用于玩具、眼镜、手表、珠宝等各个领域,为其增加附加值和市场竞争力。
总结:塑料真空镀膜技术是一种常用的塑料表面处理技术,通过工艺流程包括基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装等步骤来实现。
该技术的原理主要包括蒸发、离子镀膜和基材表面处理。
塑料真空镀膜广泛应用于电子产品、汽车行业、包装行业、家用电器等各个领域,提高产品的外观和性能,增加市场竞争力。
真空电镀表面处理介绍
真空电镀表面处理介绍第一节真空电镀表面处理基础知识一、表面处理概述表面处理技术就是通过各种工艺手段,赋予表面不同于基体材料的组织结构、化学组成,因而具有不同于基体材料的特殊性能。
诸如高硬度、高疲劳强度、高耐磨耐蚀性、抗高温氧化性等。
二、表面处理的作用1、腐蚀保护性2、抗磨性3、电性能4、耐热性5、光学特性6、电磁特性7、密封性8、装饰性9、耐疲劳性、保油性、焊接性等。
三、表面处理的分类1、按工艺特点分(1)真空电镀:包括合金电镀、复合电镀、电刷镀、非晶态电镀、非金属电镀等。
(2)涂装(3)堆焊(4)热喷涂:火焰丝材喷涂、火焰粉末喷涂、电弧喷涂、等离子喷涂及爆炸喷涂等。
(5)热渗镀(6)化学转化膜:包括阳极氧化、化学氧化、磷酸盐膜、铬酸盐膜和草酸盐膜。
(7)金属着色:包括电化学着色、化学着色和染料着色。
(8)气相沉积:分化学气相沉积和物理气相沉积。
(9)三束改性:包括电子束技术、离子束技术和激光束技术。
2、按学科特点分(1)表面合金化技术:包括喷焊、堆焊、离子注入、激光熔敷、热渗镀等。
(2)表面覆层与覆膜技术:包括热喷涂、电镀、化学转化处理、化学镀、气相沉积、涂装、堆焊、金属着色、热浸镀等。
(3)表面组织转化技术:包括激光、电子束热处理技术,以及喷丸、滚压等表面加工硬化技术。
第二节热喷涂一、概述热喷涂是利用专用设备把固体材料加热到熔化或半熔化状态,并加速喷射到基体表面上,从而形成一种特制薄层以提高基体的表面性能。
1、热源:火焰、电弧、电热热源、爆炸热源和激光热源等。
2、热喷涂的材料:金属、合金、陶瓷、塑料、尼龙等。
3、基体:金属、陶瓷、玻璃、石膏、木材、布、纸等固体材料。
4、工艺过程:加热熔化、熔滴雾化、粒子飞行、撞击基体、冷却凝固形成涂层5、热喷涂的优点(1)基体温度低,不变形、不弱化。
(2)喷涂尺寸不受限制。
(3)喷涂厚度可以控制。
(4)效率高。
(与电镀相比较)(5)可赋予普通材料以特殊的表面性能。
真空镀膜(ncvm)工艺培训教材PPT课件
颜色不纯
由于反应不完全或杂质污染,膜层可能呈 现出不纯或斑驳的颜色。
分析方法
X射线衍射(XRD)
能谱分析(EDS)
分析膜层的晶体结构和相组成。
附着力测试
对膜层进行元素分析,了解各元 素的分布和比例。
通过划痕、拉拔等试验测定膜层 与基材之间的附着力。
显微观察
通过金相显微镜观察膜层的微观 结构,了解其均匀性、孔隙和缺 陷。
05
真空镀膜(NCVM)问题与 解决方案
常见问题
表面粗糙度大
镀膜后的表面粗糙,影响外观和使用性能 。
膜层不均匀
镀膜过程中,由于气体流动、温度分布不 均或反应物供应问题,可能导致膜层在表 面分布不均。
附着力差
镀膜层与基材之间可能存在弱附着力,导 致镀膜容易剥落。
孔隙率过高
膜层中存在过多的孔隙,影响其防护和装 饰效果。
04
真空镀膜(NCVM)技术参 数与优化
工艺参数
真空度
真空镀膜过程中,需要控制真空室的 真空度,以确保膜层的均匀性和附着 力。
温度
镀膜过程中,基材的温度对膜层的附 着力和性能有影响,需根据不同材料 和镀膜要求进行温度控制。
镀膜时间
镀膜时间的长短直接影响膜层的厚度 和均匀性,需根据工艺要求进行精确 控制。
防护眼镜
保护操作人员的眼睛免受镀膜过程中产生的 有害物质和紫外线的伤害。
夹具
用于固定基材,确保其在镀膜过程中位置稳 定。
手套
保护操作人员的手部免受镀膜过程中产生的 有害物质和高温的伤害。
03
真空镀膜(NCVM)工艺流 程
前处理
表面清洗
使用有机溶剂和超声波清洗技术去除 工件表面的污垢、油脂和杂质,以确 保镀膜层的附着力。
镀膜真空基础知识培训
1.2 真空的单位
對外秘
■ 真空的单位 -. 真空的单位跟压力单位是相同的。 ☞ 如果能表示压力单位的话,就也可以表示真空度
■ 标准大气压 ☞ 认识标准大气压的各种单位的是非常重要的
区分 Torr m㍴ micron psi atm
Torr 1 0.751 0.001 51.72 760
m㍴ 1.33 1 0.0013 68.96 1013
国际单位上使用 Bar 也叫帕斯卡(㎩) 真空技术的现况 现在使用的真空泵能达到的最高真空是 10 torr,残留气体的分子数是 1㎤ 里有3000个 左右。为了产生应用真空需要人为控制生产出真空来。真空技术主要有:发生技术、加工 及部件技术、评价及控制技术,这些要素合起来就成立了真空的应用技术
4
精英荟萃,共创美好明天;创新发展,走特色阳光道
尖端科学
加速器、表面分析装置、质量分析、宇宙科学、次时代材料
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精英荟萃,共创美好明天;创新发展,走特色阳光道
真空泵
對外秘
2.1
低真空泵
2.2
高真空泵
2.3
各部件功能
2.4
安装及事后管理
2.5
泵的维护
2.6
故障措施
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精英荟萃,共创美好明天;创新发展,走特色阳光道
2.1 低真空泵
對外秘
1-1) 旋转叶片泵
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精英荟萃,共创美好明天;创新发展,走特色阳光道
2.2 高真空泵
對外秘
TMP分子泵的内部结构
18
精英荟萃,共创美好明天;创新发展,走特色阳光道
2.2 高真空泵
對外秘
TMP的种类
l 按物理结构分类 l 按制造结构分类
培训系列之真空镀膜技术基础
真空镀膜技术的材料
金属材料:如金、银、铜等,具有良好的导电性和反射性
非金属材料:如碳、氮、氧等,可以用于制造各种薄膜
陶瓷材料:如氧化铝、氧化硅等,具有较高的硬度和耐腐蚀性
玻璃材料:如硼硅酸盐玻璃、石英玻璃等,具有较好的透过性和化学 稳定性
高分子材料:如聚乙烯、聚四氟乙烯等,具有较好的柔韧性和耐候性
真空镀膜技术的基本原理是利用 物理或化学方法,将材料从蒸发 源或溅射源中蒸发或溅射出来, 然后在真空中沉积到基底表面。
空镀膜技术的应用领域
光学应用:提高光学元件的 透过率和反射率
电子应用:提高电子元件的 导电性和绝缘性
装饰应用:为金属表面赋予 美丽的外观和耐腐蚀性
机械应用:提高机械零件的 硬度和耐磨性
薄膜质量高:真空镀膜技术可以获得高质量的薄膜,具有高纯度、高密度和良好的 均匀性。
适用范围广:真空镀膜技术可以应用于各种材料表面,如金属、陶瓷、玻璃等,并 且可以制备多种功能的薄膜,如金属膜、介质膜、半导体膜等。
操作简便:真空镀膜技术操作简单,易于控制,可以连续稳定地生产高质量的薄膜。
环保性好:真空镀膜技术是一种环保型的生产技术,不会产生有害物质,对环境和 人体健康没有负面影响。
真空技术:真空镀膜技 术的基本原理是利用真 空技术,在真空环境下 进行薄膜的沉积。
薄膜沉积:在真空环境 下,通过蒸发、溅射、 化学气相沉积等方法, 将材料沉积在基底表面 形成薄膜。
物理过程:薄膜的 沉积过程涉及物理 和化学过程,如分 子运动、表面吸附、 化学反应等。
薄膜特性:真空镀膜技 术可以制备出具有优异 性能的薄膜,如高硬度、 高耐磨性、高耐腐蚀性 等。
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真空镀膜技术基 础
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真空镀膜技术基础
1.玻璃衰减器 2.透镜 3.光圈 4.光电池 5.分光器 6.透镜 7.基片 8.探头 9.靶 10.真空室 11.激光器
图2-10 激光加热式蒸发源
2.3 真空蒸发镀膜机
2.3.1 间歇式真空蒸发镀膜机
1) 立式真空蒸发镀膜机 2) 卧式真空蒸发镀膜机
4)由于在低电压大电流状态下工作,因此较 安全且易于自动控制;
5)阴极寿命长、结构简单。
1.冷却水套 2.空心阴极 3.辅助阳极 4.聚束线圈 5.枪头 6.膜材 7.坩埚 8.聚焦磁场 9.基片
图2-9 空心阴极等离子体电阻式加热式蒸发源
2.2.5 激光加热式蒸发源
---工厂不用,加工精密特殊功能的材料用
真空溅射镀膜
在真空条件下,利用低压等离子体气体 放电中的溅射现象制备薄膜,即真空溅射镀 膜。
图3-1 离子轰击固体表面时发生的物理过程
与溅射率有关的因素
溅射率与靶材有关 溅射率与入射正离子的能量有关 溅射率与入射离子的种类有关 溅射率与离子入射角有关 溅射率与靶材温度有关
溅射镀膜特点
(2)被蒸发材料置于水冷铜坩锅内,可避免坩 埚材料污染,可制备高纯薄膜;
(3)电子束蒸发粒子动能大,有利于获得致密、 结合力好的膜层。
电子束加热蒸发的缺点:
(1)结构较复杂,设备价格较昂贵; (2)若蒸发源附近的蒸气密度高,电子束流和
蒸气粒子之间会发生相互作用,电子的能 量将散失和轨道偏移;同时引起蒸气和残 余气体的激发和电离,会影响膜层质量。
图3-2 直流二极溅射装置原理图
3.2.2 直流三极或四极溅射
1)直流三极溅射
三极溅射中的三极是指阴极、阳极和靶极。 直流三极溅射是在二极溅射装置中引入热灯丝 阴极和与之相对的阳极,灯丝阴极连接机壳接 地(规定电位为零),阳极为50 ~100V。
真空镀膜知识培训
五、真空镀膜工艺
根据真空镀膜气相金属产生和沉积
方式,塑料真空镀膜的方法主要分为热 蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。
蒸发镀膜和磁控溅射镀膜工艺的示意图:
基材
靶 电源
窗
蒸发源
等离子体
基材
泵 气体 蒸发镀 泵 溅射镀
真空蒸发镀膜法
真空蒸发镀膜法就是在1.3×10-2~ 1.3×10-3pa (10-4~10-5Torr)的真空中以电阻加热镀膜材料,使 它在极短时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉 积在基材表面上形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜 材料蒸发的蒸发源,还有支承基材的工作架或卷绕 装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的 真空度、镀膜材料的蒸发速率、蒸发距离和蒸发源 的间距,以及基材表面状态和温度等都是影响镀膜 层质量的因素。
八、真空镀膜机操作工艺流程:
首先开水、电、气→总电源→开维持 泵→开扩散泵加热→开粗抽泵 →开预抽阀 →关预抽阀→开粗抽阀→开罗茨泵→如有 离子轰击,开轰击30秒,关轰击→ 开真空 计→当真空到6.0—7.0pa时,关粗抽阀→ 开前置阀→开精抽阀,当真空达到7×10 3pa,开转架→开始镀膜操作→镀膜完毕后, 关闭真空计、离子源→关精抽阀,前置阀 →关罗茨泵→开充气阀,取件→上料,反 复开始操作。
镍-铁,铁-钴,金-银-金等。金属化合物型的镀 膜材料有:SiO2 、 Ti3O5 、 SnO2 、MgF2 、 ZnS等。 在众多镀膜材料中,以铝材的应用最多,这是因 为铝在真空条件下,蒸发湿度较低,易操作。铝镀膜 层对塑料的附着力强,富有金属光泽;铝镀膜层还能 够遮蔽紫外线,对气体阻隔性也很好。另外,高纯度 的铝价格比较便宜,这是其他镀膜材料所不及的。铝 的反射率高,厚度40nm铝镀膜层的反射率达90%。
真空镀膜方面的基础知识
真空镀膜技术深圳微普真空系统集成有限公司真空“真空”这一术语译自拉丁文Vacuo,其意义是虚无。
其实真空应理解为气体较稀薄的空间。
在指定的空间内,低于一个大气压力的气体状态统称为真空。
真空状态下气体稀薄程度称为真压力的气体状态统称为真空真空状态下气体稀薄程度称为真空度,通常用压力值表示。
真空技术是基本实验技术之自从真空技术是基本实验技术之一。
自从1643年托里拆利做了著名的有关大气压力实验,发现了真空现象以后,真空技术迅速发展。
现在,真空技术已经成为一门独立的前言学科。
它的基本内容包括:真空物理、真空的获得、真空的测量和检漏、真空系统的设计和计算等。
随着表面科学、空间科学高能粒子加速器、微电子学、薄膜技术、冶金工业以及材料学等尖端科技的发展,真空技术在近代尖端科学技术中的地位越来越重要。
真度单位真空量度单位1标准大气压=760mmHg=760(Torr) 1标准大气压=1.013x105Pa1Torr1333Pa1Torr=133.3Pa真空区域的划分目前尚无统一规定,常见的划分为:35−−粗真空低真空)10760(1010Torr pa )1010(1010313Torr pa −−−−高真空)1010(10108361Torr pa −−−−−−超高真空极高真空)1010(1010128106Torr pa −−−−−−)10(101210Torr pa −−<<真空获得—真空泵1654年,德国物理学家葛利克发明了抽气泵,做了著名的马德堡半球试验。
的马德堡半球试验原理:当泵工作后,形成压差,p1>p2,实现了抽气。
真空泵的分类气体传输泵:是一种能将气体不断地吸入并排出泵外以达到抽气目的的真空泵,例如旋片机械泵、油扩散泵、涡轮分子泵。
气体捕集泵:是一种使气体分子短期或永久吸附、凝结在泵内表面的真空泵,例如分子筛结在泵内表面的真空泵例如分子筛吸附泵、鈦升华泵、溅射离子泵、低温泵和吸气剂泵。
《真空镀膜技术》课件
镀膜时间过长或过短都会影响薄膜的 质量和性能,需要根据工艺要求进行 选择。
04
真空镀膜技术的研究进展
高性能薄膜材料的制备与应用
高性能薄膜材料的制备
随着科技的发展,真空镀膜技术已经能够制备出具有优异性能的薄膜材料,如金刚石薄膜、类金刚石 薄膜、氮化钛薄膜等。这些高性能薄膜材料在刀具、模具、航空航天等领域具有广泛的应用前景。
详细描述
金属薄膜主要用于制造各种电子器件,如集 成电路、微电子器件、传感器等。通过在电 子器件表面镀制金属薄膜,可以起到导电、 导热、抗氧化等作用,提高电子器件的性能 和稳定性。此外,金属薄膜还可以用于制造
磁性材料,如磁记录介质、磁流体等。
功能薄膜的制备与应用
要点一
总结词
功能薄膜在真空镀膜技术中具有广泛的应用前景,可用于 制造各种新型材料和器件。
VS
面临的挑战
尽管真空镀膜技术具有广泛的应用前景和 巨大的发展潜力,但仍面临许多挑战和难 点。例如,如何提高薄膜的附着力和稳定 性、如何降低生产成本和提高生产效率等 。
05
真空镀膜技术的应用实例
光学薄膜的制备与应用
总结词
光学薄膜在真空镀膜技术中具有广泛应用, 主要用于提高光学器件的性能和降低光损失 。
光学领域
用于制造光学元件,如反射镜 、光学窗口等,提高其光学性 能和抗磨损能力。
建筑领域
用于建筑玻璃、陶瓷等材料的 表面装饰和防护,提高其美观 度和耐久性。
02
真空镀膜技术的基本原理
真空环境的形成与维持
真空环境的形成
通过机械泵、分子泵、离子泵等抽气 设备,将容器内的气体逐渐抽出,形 成真空状态。
关闭加热系统和真空泵, 完成镀膜过程。
真空镀膜技术基础
真空镀膜技术基础1.采用什么镀膜机?光学镀膜机多是基于PVD,即物理气相沉积的镀膜机。
国产机以南光和北仪为代表,进口机以德国的莱宝机,美国的Vecco机和日本的光驰机、昭和机为代表。
2.采用什么样的膜料气汽化方式?对于物理气相沉积型真空镀膜机,有三种汽化方式:热蒸发,溅射,离子镀。
目前国内在光学真空镀膜方面多采用热蒸发的方式。
溅射技术以磁控溅射为代表,溅射和离子镀的方式在大批量生产的表面处理、太阳能电池板生产中应用较多。
热蒸发又分为四种方式:电阻加热,电子束加热,电磁感应加热和激光束加热。
四种方式各有特点和优势,电磁感应加热适合大规模连续型设备,并且只能镀金属膜料;激光束加热方式目前尚不成熟;电阻加热方式使用最早,但不适合高熔点膜料,自动化程度低,适合镀制金属膜和膜层较少的膜系;电子束加热方式使用电子枪产生电子束通过聚焦集中于膜料上进行加热,该方法应用最广,自动化程度高,技术成熟。
3.如何精确控制膜层厚度?膜层厚度的控制方法有:目视法、光电极值法,石英晶振法和全光谱在线控制法等。
目视法最早应用,适合于膜层较少的可见光波段的膜系,人为误差较大;全光谱在线控制法适合宽波段膜系的镀制,可以实时反馈及时修正误差,但目前上不普及;光电极值法适合镀制单点要求的膜系,自动化程度不高;石英晶振法自动化程度最高,应用最为普及,他采用石英晶体的振动频率和质量的相关性来测定膜层的质量,从而根据密度换算成物理厚度。
采用石英晶振法控制膜层厚度,和电子束加热的方式相配合,可以实现镀制过程的高度自动化,确保工艺的重复性。
采用美国生产的360石英晶体控制仪,石英晶体探头表面镀金,其振动信号转换成电信号后,经后续电路处理,输入360石英晶体控制仪,实时输出结果,并反馈调节电子束能量,形成闭环控制,确保膜厚控制的精度。
4.如何加强曲面镀膜均匀性?理论上,当蒸发源为点源时,被镀件和蒸发源距离一样时满足均匀性,即蒸发源位于球心,被镀件位于同一球面;当蒸发源为面源时,符合余弦分布,既蒸发源和被镀件位于同一球面。
真空镀膜机详细镀膜方法
真空镀膜机详细镀膜方法真空镀膜技术是一种应用广泛的表面加工技术,可以为各种材料表面提供不同颜色、不同功能的涂层。
如何进行真空镀膜,是一个需要掌握的基本技术。
本文将详细介绍真空镀膜的方法及其优缺点。
一、真空镀膜的基本原理真空镀膜技术是一种在真空环境下对材料表面进行涂层加工的技术。
通过真空系统将膜材料蒸发,沉积在基材表面,形成涂层。
在镀膜过程中需要注意的是:不同材料的膜材料,在蒸发、沉积的过程中有不同的温度和气压要求;基材表面也需要钝化处理,以保证表面涂层的附着性。
二、真空镀膜的优缺点优点:(1)沉积速度快,可制备厚度、均匀度好的涂层。
(2)具有高质量、高透明度、高硬度、高耐磨性及耐高温等特点。
(3)涂层成分稳定,能耐受环境变化,具有长时间稳定性。
缺点:(1)设备及材料投入成本高,要求专业技术人员操作。
(2)镀膜工艺步骤复杂,环境控制要求高。
(3)镀膜过程中会有一定的污染,对真空系统要求高。
三、真空镀膜的具体过程真空镀膜的过程通常包括五个步骤:1. 清洗和钝化处理在进行真空镀膜之前,需要对基材表面进行钝化处理,以提高涂层附着性。
清洗方法需要根据基材的情况和涂层的要求来确定。
通常会采取化学清洗、氧化清洗和机械打磨等方法,以使表面清洁、光滑。
2. 蒸发材料的制备膜材料的蒸发过程需要保证蒸发速度、蒸发量及蒸发均匀度。
膜材料通常选用纯度高、化学稳定的材料,如金属或半导体材料。
制备膜材料的方法也因材料而异,如金属材料可采用电功率热源加热蒸发、电子束蒸发、离子束蒸发等方法,而半导体材料可采用溅射等方法。
3. 准备真空环境真空镀膜需要在高真空环境下进行。
可以使用單純管和机械泵联合的方式轻松地在低真空状态下达到高真空状态。
具体环境控制要求根据不同的蒸发材料有所不同。
4. 蒸发沉积蒸发沉积是最核心的步骤,也是关键的涂层制备过程。
在蒸发材料制备完成后,通过真空系统控制蒸发材料温度和气压,将蒸发材料蒸发并沉积在基材表面。
《真空镀膜》课件
21世纪初
随着新材料和新技术的应 用,真空镀膜技术不断发 展和创新,应用领域越来 越广泛。
02
真空镀膜技术原理
真空环境的建立
真空环境的必要性
为了使镀膜材料在基片上形成连续、 无缺陷的膜层,需要创造一个低气压 的真空环境,以减少气体分子的阻碍 和干扰。
真空获得技术
真空检测与监控
使用真空计对镀膜室的真空度进行实 时监测,确保镀膜过程的稳定性和重 复性。
薄膜制备技术
采用物理气相沉积或化学气相沉积等方法,在超导材料表面形成连 续、均匀的薄膜。
薄膜性能优化
通过调整薄膜的成分、结构和厚度等参数,提高超导薄膜的性能和 稳定性。
装饰薄膜的制备
金属质感膜
01
通过真空镀膜技术在塑料或玻璃表面形成具有金属质感的装饰
膜,提高产品的外观和档次。
彩色膜
02
根据不同的颜色需求,在材料表面形成各种颜色的装饰膜,实
包括加热元件、控温装 置等,用于加热膜料和
蒸发沉积。
控制系统
包括各种传感器、控制 器、执行器等,用于监 测和控制设备的运行状
态。
供气系统
包括气瓶、气体流量计 、减压阀等,用于提供 反应气体和保护气体。
真空镀膜工艺流程
清洁处理
对基材表面进行清洗,去除油污和杂质。
预处理
对基材表面进行活化,提高其附着力和润湿性。
通过机械泵、分子泵、涡轮泵等抽气 设备,将镀膜室内的气体抽出,达到 所需的真空度。
镀膜材料的蒸发与输运
蒸发源的选择
根据镀膜材料的性质,选 择合适的蒸发源,如电阻 加热、电子束加热、激光 加热等。
蒸发过程控制
通过调节蒸发源的功率和 温度,控制镀膜材料的蒸 发速率,以获得所需的膜 层厚度和成分。
培训系列之真空镀膜技术基础
在真空环境中,凝结在基材表面的镀膜材料分子通过聚集形成连续的薄膜。
薄膜的形成是一个动态过程,受到镀膜材料的性质、基材的温度和表面特性、蒸发速率等因素的影响。
用于制造集成电路、太阳能电池等,具有半导体特性。
半导体薄膜
用于散热、隔热等,具有良好的导热性能。
导热膜
用于生物医疗领域,如人工关节、生物传感器等。
生物薄膜
彩色膜
通过镀制不同颜色的薄膜,实现装饰和美化的效果。
THANKS
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真空镀膜技术的起源可以追溯到20世纪初,当时主要是为了解决光学仪器的表面处理问题。
随着科技的不断进步,真空镀膜技术逐渐发展成为一种广泛应用的表面处理技术,涉及的领域也日益扩大。
目前,真空镀膜技术已经成为了新材料、新能源、电子信息等领域的核心技术之一。
光学领域
装饰领域
半导体制造领域
新能源领域
01
02
与先进制造技术的结合
02
真空镀膜技术在先进制造领域如航空航天、汽车、电子等领域的应用越来越广泛,与其他制造技术的结合可以进一步提高产品的性能和可靠性。
与新材料技术的结合
03
新材料技术的发展为真空镀膜提供了更多的选择和应用空间,如新型陶瓷、高分子材料等。
05
CHAPTER
真空镀膜技术的应用实例
通过在光学元件表面镀制一层特定厚度的薄膜,减少光的反射,提高透射率。
减反射膜
增透膜
滤光片
增加光学元件的透光率,减少反射损失。
通过镀制不同材料和厚度的多层薄膜,实现特定波段的透射和反射。
03
02
真空镀膜(PVD)工艺知识介绍
真空镀膜(PVD)工艺知识介绍简介真空镀膜(Physical Vapor Deposition,简称PVD)是一种常用于表面修饰和功能改善的工艺。
通过在真空环境中蒸发或溅射物质来形成薄膜,将薄膜沉积在基材上,以改变基材的性质和外观。
本文将介绍PVD工艺的原理、应用和优势。
PVD工艺原理在PVD工艺中,基材和目标材料被放置在真空环境中。
通过热蒸发或物理溅射的方式,目标材料从固态转化为气态。
这些气体分子会沉积在基材上,形成一层薄膜。
PVD工艺常用的方法有热蒸发和物理溅射。
热蒸发是将目标材料加热至其沸点以上,使其转化为气态,然后沉积在基材上。
而物理溅射则是通过向目标材料表面轰击高能粒子,将其击打下来沉积在基材上。
PVD工艺的应用PVD工艺在多个领域得到了广泛应用。
装饰性涂层PVD工艺可以制备具有不同颜色、质感和光泽度的涂层,用于装饰各种产品,如钟表、珠宝、手袋、饰品等。
常见的装饰性涂层有黄金色、玫瑰金色、银色和黑色等。
防腐蚀涂层PVD工艺可以形成陶瓷涂层、金属涂层或复合涂层,这些涂层具有良好的耐腐蚀性能,可保护基材免受化学腐蚀、氧化和磨损的影响。
这些涂层常用于汽车、航空航天、电子产品等领域。
功能性涂层PVD工艺还可以制备具有特殊功能的涂层,如光学涂层、导电涂层和磁性涂层。
光学涂层可用于改善光学性能,导电涂层可用于制作导电膜,磁性涂层可用于制造磁性材料。
PVD工艺的优势相比其他表面处理工艺,PVD工艺具有以下几个优势:高质量涂层PVD工艺可以制备高质量的涂层,具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损和耐腐蚀等特性。
这些特性使得PVD涂层在各种应用中表现出色。
环保节能PVD工艺不需要使用有机溶剂和其他有害化学物质,对环境友好。
同时,PVD 涂层具有较高的附着力和耐用性,可延长基材的使用寿命,减少资源消耗。
精密控制PVD工艺可以实现对涂层厚度、成分和结构的精确控制。
通过调整工艺参数,可以得到所需的涂层特性,以满足不同应用的需求。
真空镀膜基础知识
真空镀膜设备
真空镀膜机设备图示
汽车车灯真空镀铝生产流程图
来料检验(抽检)
静电除尘
净化除油
手动除尘
喷涂底漆
常温自流平
IR预烘
UV固化
真空镀铝
离子轰击
镀SIO保护膜
检验及包装
来料检验
净化除油
手动除尘
手动除尘:对塑料制品使用特殊化学物品对产品进行擦拭,达到去除产品表面灰尘为目的。
静电除尘
基片与靶材同在真空腔中。 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。 现行涂装厂使用的真空镀膜设备原理为蒸发镀膜原理。
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目录
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真空镀膜应用之范围:
光学
• 反射镜、增透膜、濾光片
• 天文望远镜、建筑玻璃、相机、灯具
• 导电膜、绝缘膜、保护膜
• 逻辑元件、运算器、磁片、CCD
• 透明导电膜、摄像管导电膜
• LCD、录像磁头
电子电路
显示器
元件
• 蒸发镍、铝、金属陶瓷
真空术语解释
真空度单位 通常用托(Torr)为单位,近年国际上取用帕(Pa)作为单位。 1托=1/760大气压=ห้องสมุดไป่ตู้毫米汞柱 托与帕的转换 1托=133.322帕 或 1帕=7.5×10-3托
1643年,意大利物理学家托里拆利(E.Torricelli)首创著名的大气压实验,获得真空。 极限真空 真空容器经充分抽气后,稳定在某一真空度,此真空度称为极限真空。通常真空容器须经12小时炼气,再经12小时抽真空,最后一个小时每隔10分钟测量一次,取其10次的平均值为极限真空值。
真空镀膜技术
(4)铬 Cr Cr膜在可见区具有很好的中性,膜层非常牢固,常用作中性衰
减膜。
2、介质薄膜
对材料的基本要求:透明度、折射率、机械牢固度和化学稳 定性以及抗高能辐射。
(1)透明度
短波吸收或本征吸收I:主 要是由光子作用使电子由 价带跃迁到导带引起的;
(2)折射率
薄膜的折射率主要依赖: 材料种类:材料的折射率是由它的价电子在电场作用下的性质决定。材
料外层价电子很容易极化,其折射率一定很高;对化合物,电子键结合的化 合物要比离子键的折射率高。折射率大致次序递增:卤化物、氧化物、硫化 物和半导体材料。
波长:折射率随波长变化为色散。正常色散为随波长增加而减小。正常色 散位于透明区,反常色散位于吸收区。
电子枪对薄膜性能的影响 1、对膜层的影响: (1)蒸气分子的动能较大,膜层较热蒸发的更致密牢固; (2)二次电子的影响:使膜层结构粗糙,散射增加; 2、对光谱性能的影响
电子枪对光谱的影响主要是焦斑的形状、位臵、大小在成膜的影响。 特别是高精度的膜系,和大规模生产的成品率要求电子枪的焦斑要稳定。
薄膜厚度的测量
u
m
几种常用真空泵的工作压强范围
旋片机械泵 105 102 pa
吸附泵 105 102 pa
扩散泵 100 105 pa
涡轮分子泵 101 108 pa
溅射离子泵 100 1010 pa
低温泵 101 1011 pa
几种常用真空泵的工作原理
1. 旋片机械泵
工作过程是: 吸 气—压缩—排气。
定子浸在油中起润 滑,密封和堵塞缝 隙的作用。
(3)机械牢固度和化学稳定性
真空镀膜机基础知识
真空镀膜机基础知识目录一、真空镀膜机概述 (2)1.1 真空镀膜机的定义 (3)1.2 真空镀膜机的工作原理 (3)1.3 真空镀膜机的应用领域 (4)二、真空镀膜机的主要构成部分 (5)三、真空镀膜机的操作与维护 (6)3.1 开机前的检查与准备 (8)3.2 设备的启动与停止 (9)3.3 环境参数对镀膜质量的影响 (9)3.4 镀膜过程中的注意事项 (10)3.5 设备的日常保养与维护 (11)四、真空镀膜机的性能指标及测试方法 (12)4.1 真空度 (13)4.2 抛光速率 (14)4.3 镀膜厚度 (15)4.4 表面粗糙度 (17)4.5 光泽度 (18)五、真空镀膜机的选购与验收 (19)5.1 选购时应考虑的因素 (20)5.2 选购指南 (22)5.3 设备验收流程 (23)六、真空镀膜机的未来发展与趋势 (24)6.1 新技术的应用 (25)6.2 智能化发展 (26)6.3 绿色环保要求 (27)一、真空镀膜机概述真空镀膜机是一种在真空条件下,利用物理或化学方法,对材料表面进行沉积、改性或镀覆薄膜的设备。
它广泛应用于光学、电子、机械、建筑、轻工、冶金等多个领域,为各种功能性薄膜的制备提供了有效手段。
真空镀膜机的主要工作原理是利用真空技术,将靶材(如金属、合金、化合物等)蒸发或溅射出来,与基体材料(如玻璃、塑料、陶瓷等)表面的原子或分子发生相互作用,从而形成一层厚度均匀、性能稳定的薄膜。
根据不同的应用需求和工艺条件,真空镀膜机可以设计成各种形式,如真空蒸镀机、离子溅射镀膜机、反应离子镀膜机等。
在真空镀膜过程中,基体材料置于真空室内,靶材则置于真空室的另一侧。
通过真空泵系统维持真空室的真空度,使气体分子数量减少,气体分子的平均自由程减小,从而提高沉积速率和薄膜质量。
根据不同的工艺要求,还可以在真空室内设置各种辅助设备,如料筒、料筒旋转机构、料筒加热器、料筒冷却器等,以实现连续化、自动化的镀膜生产。
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气镇的运用
• 泵所抽取的气体中通常会包含一定量的可凝性气体,这种混合气体在泵内压 缩排气的过程中,如果可凝性气体的分压超过了泵温下的饱和蒸汽压,那么 他们就会凝结,和泵油混合,随着凝结物的累加,最终会导致泵油的性能变 差,乃至乳化。 我们可以采用气镇来防止蒸汽凝结,从而避免油污染。具体做法就是将室温 干燥空气或氮气从气镇孔充入泵体的压缩腔,从而起到一个稀释的作用,使 压缩后的蒸汽分压能保持在泵温状态下的饱和蒸气压之下,因此蒸汽可以不 被压缩和其他气体一起排出泵外。 气镇虽然能起到排出蒸汽的目的但同时也降低了泵的抽速及极限真空,因此 通常先打开气镇阀排出蒸汽,等过一段时间就可关闭气镇阀,在抽一会就可 达到泵的极限真空。 当泵油被少量凝结液污染后可以通过气镇来自净化泵油:关闭入口阀门,打 开气镇阀,运行一段时间,泵油即可恢复。
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真空获得
• 本真空系统用到的真空泵有:扩散泵(Diffusion pump),小油封机械泵 (Holding pump),大油封式旋片泵(Roughing pump),罗茨增压泵(Blower pump),干泵(Process pump) • 为了获得更好的真空效果及抽气速率通常采用真空泵组合机组来实现。 工业常用组合:(机械泵+扩散泵)、(机械泵+分子泵) • 本系统所用组合:小油封旋片泵+扩散泵 大油泵+增压泵+扩散泵 干泵:抽特气尾气 • 本真空系统用到罗茨泵的变速靠的是液力联轴器,液压联动技术主要用于 轮船驱动等方面,目的就是防过载,保护马达。 • 液压联动的优点:质量轻,传动无磨损,使用寿命长,易于保护电机等。
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真空知识
• • • • • • 真空:低于一个大气压的状态就是真空。 真空度:真空状态下气体的稀薄程度。 标准环境条件:温度20℃,相对湿度65%,大气压力101325Pa。 真空特点:气体分子平均自由程大; 单位面积上分子与固体表面碰撞几率变小;气体分子密度 低;剩余气体对沉积膜的掺杂减小。 要想获得高品质的薄膜就必须有一个比较理想的本底真空。 常用单位及换算:
真空及薄膜基础
麦田^乌鸦.
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一些基本概念
• • • • 我们生产的为非晶硅薄膜太阳能电池,了解PECVD设备及工艺需要对真空镀膜 真空镀膜有一个 真空镀膜 了解,并且对半导体物理及薄膜知识有一定的认识。 我们先对薄膜的概念做一个粗略的了解。 薄膜: 薄膜:在严格的学术意义上,认为只有聚集厚度小于某一特征厚度的材料才是真正的 薄膜,否则便是一般的薄材料。 特征厚度: 特征厚度:是利用物质的某些基本性质在物质聚集厚度很薄的情况下会发生异常变化 的现象而确定的,即当被选定为参考的某一物理性质或机械性质开始显示出不同于它 通常所具有的特点时的厚度,便是给物质的薄膜特征厚度。 可以认为薄膜是一种二维的材料。 沉积技术:气相沉积(将构成薄膜的物质气化后在沉积到衬底上) 液相沉积(在液体中沉积镀膜) 气相沉积:比较容易控制薄膜的组分 液相沉积:在接近于热平衡的条件下成膜,能获得较好的膜质。 气相沉积又分物理气相沉积(physical vapor deposition)和化学气相沉积 (chemical vapor deposition)
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非晶薄膜太阳能电池生产需要的镀膜方式: 非晶薄膜太阳能电池生产需要的镀膜方式: • 1 LPcvd镀TCO导电层 • 2 pecvd镀非晶硅薄膜 • 3 磁控溅射镀氧化锌减反层和铝背电极 或mocvd镀氧化锌膜层
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薄膜的主要性能
膜厚:越均匀越好,一般应控制在一个范围以内比如5%,这与玻璃基板尺寸 有关 膜表面形貌:通过扫描电子显微镜(SEM)投射电子显微镜(TEM)等分析 表明颗粒状态,可获得薄膜表面的致密情况,缺陷状态,退火处理对膜表 面的影响等信息。 膜机构特性:用X射线衍射分析膜的组成成分,可获得膜的纯度等信息。 膜应力:薄膜内部的应力越小越好,通过退火处理可最大程度的释放膜的内 部应力。 膜与衬底的接触特性:主要是指薄膜与衬底之间的附着力,当然附着力越强 越好,可避免薄膜出现缺失,开路等 膜的致密性:主要指的是膜层的硬度和抗磨性。避免外界划伤引起的开路现 象 膜的化学,热稳定性。 针对金属膜层:要求制备出的金属膜层的电阻率尽可能低,接近体电阻率
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旋片式机械泵工作示意图
• 一般用油机械泵粗抽真空,不能使系统真空 度太高,太高会造成严重的机械泵返油反流 ,只要达到高真空泵工作范围即可。 油位控制 吸入气体粉尘多,油污染问题,可在泵入口 加一除尘装置和一过滤装置 油乳化,吸入气体水蒸汽太多,可加一气镇 装置,或者在罗茨泵排气口加冷凝器(乳化 就是一种液体离散为很多微粒分散到另一种 液体中,成为一种乳液)。 吸入气体温度过高,比如高于50℃,应采用 气冷罗茨泵对气体降温 经常检查泵的各部位温度,及时调节冷却水 水量。
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常用密封方式
• • • • • O型密封圈(挤压密封),特种橡胶材质,一般用 于腔室与门的密封,真空阀门,真空计的衔接处 的密封等。 钢质波纹管(液压成型、焊接成型),用于真空 泵与真空管路等的衔接密封,因其可形变,配合 密封圈使用。 法兰密封,主要用于电极同轴线的连接等 金属密封(O密封、C密封,E密封等)靠的是金 属的自紧作用。 焊接
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液Hale Waihona Puke 联轴器简单介绍• • 液力联轴器是一种靠液体作为工作介质的非刚性联轴器。 液力联轴器安装与泵与电动机之间,其泵轮与涡轮组成一个可使液体循环流动的密 闭工作腔,泵轮安装在输入轴上,涡轮装在输出轴上。电动机带动输入轴旋转时, 液体被离心式泵轮甩出。这种高速液体进入涡轮后推动涡轮旋转,将从泵轮获得的 能量传递给输出轴。最后液体返回泵轮,形成周而复始的流动,即液力联轴器靠液 体来实现电动机与泵之间力矩的传递。液力联轴器输入轴与输出轴靠液体联系,工 作构件间不存在刚性连接。因此其过载保护性能和启动性能好,载荷过大而停转时 输入轴仍可转动,不致造成马达的损坏;当载荷减小时,输出轴转速增加到接近输 入轴的转速。 液力联轴器的传动效率等于输出轴转速与输入轴转速之比,一般正常的转速比在 0.95以上可获得比较高的效率。液力联轴器的特性因工作腔与泵轮、涡轮的形状不 同而有差异。 罗茨泵的最大压差由液力联轴器所传递的最大转矩来决定,而液力联轴器可传递的 最大转矩可由其中的液体量来调节。当泵在高压差下工作或与前级泵同事启动时, 在液力联轴器内部就产生了转速差及会发生滑动,即只传递一定的力矩,使泵减速 工作。随着抽气的进行,气体负荷减小,罗茨泵逐渐加速到额定转速,达到最高抽 气效率。
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罗茨泵工作原理
罗茨泵分3种:低真空罗茨泵;中真空罗茨泵(机械增压泵);高真空多级罗茨泵(干泵)。
罗茨泵压缩气体所需的功率与压差成正比,一旦气体压差过高,泵就可能出现过载现象, 造成电机绕组烧损. 本罗茨泵使用了液力联轴器,使泵可以无级调速,平稳起动,能够在高压差下工作,起 到保护马达的作用。
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薄膜制备方法
渗入法
沉积法
化合
扩散
离子注入
气相沉积
液相沉积
气相扩散
pvd
电镀
固态扩散
真空蒸镀
化学反应镀膜
溅射
离子镀
cvd
化学反应法
镀 膜 常 用 方 法 列 表
热分解法
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等离子体cvd
气相沉积成膜的一般过程:
1 原料及衬底的预处理(清洁等) 2 原料的气化 1) 以分子、原子、离子等形态向真空发射(pvd的气化方式) 蒸发、升华 溅射 电离 离化 2)以化合物形式气化(cvd的气化方式) 3 将粒子输运到衬底上 1)分子、原子、离子的飞行(pvd的输运方式) 2)扩散(cvd的输运方式) 4 粒子在衬底上析出 1)附着(真空蒸镀,cvd) 2)楔入(溅射、离子镀) 5 薄膜的形成 热运动 碰撞 结合
常温下大气压力与大气分子平均自由程的关系
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不同真空状态下真空工艺应用
• 粗真空(100000-1000Pa):气体状态与常压相比只是分子数量的减少,没有气体空间特 性的变化,分子间碰撞频繁,此时的吸附气体释放可以不予考虑,气体运动以粘滞流为主 。主要是利用压力差产生的力来实现真空力学应用(真空吸引或运输固体、液体、胶体等 ,真空吸盘起重,真空过滤)。 低真空(1000-0.1Pa):气体分子间,分子与器壁间碰撞不相上下,气体分子密度较小, 气体释放也可不考虑,气体运动以中间流为主。利用气体分子密度降低可实现无氧化加热 ,利用气压降低时气体的热传导和对流逐渐消失的原理可以实现真空隔热及绝缘,利用压 强降低液体沸点也降低的原理实现真空冷冻和真空干燥(黑色金属真空熔炼脱气,真空绝 缘和真空隔热,真空冷冻及干燥,高速空气动力学实验中的低压风洞)。 高真空(0.1-0.000001Pa):气体分子间相互碰撞极少,气体分子与器壁间碰撞频繁,气 体运动以分子流为主,此时的气体释放是影响真空度及抽气时间的一个主要原因。利用气 体分子密度低,任何物质与气体残余分子发生化学作用微弱的特点进行真空冶金,真空镀 膜(超纯金属、半导体材料的真空提纯及精制,真空镀膜,离子注入、干法刻蚀等表面改 性,真空器件的生产:光电管、各种粒子加速器等)。 超高真空(>0.0000001Pa):气体分子与器壁的碰撞次数极少,气体空间只有固体本身的 原子,几部没有别的分子或原子的存在,此时压强的升高除了泄漏外主要就是器壁分子的 释放。应用:宇宙空间环境的模拟,大型同步质子加速器的运转。
注:绝对的密封是不存在的,任何材质的腔室材料本身都会有气 体分子渗入(一般腔室都制作的很厚),各密封处的渗漏等,腔 室内壁吸附分子的释放(腔室都要经过特殊的内壁处理,减少分 子吸附)等