椭圆偏振法
椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率
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实验原理
一束自然光经偏振器变成偏振光,再经过1/4波 片使它变成椭圆偏振光入射在待测膜上;
反种变化,便可推算出待测膜面的膜 厚度和折射率.
A
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多光反射示意图
p s d
A
n1 n2 n3
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理论推导
总反射系数
Rp Erp/Eip
Rs Ers/Eis
引入两个物理量
反射光为线性偏振光 rprs0()
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简化目的
ta n Erp/Ers 恰好是反射光p和s的幅值比,通过 检偏器角度A可求;
(ipis)0() 为光经过膜位相的改变,可通 过起偏器的角度P求得
A
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简化条件的实现
起偏器加上1/4波片即可得到等幅椭圆偏振光; 调节起偏器的角度就可以使入射光的位相差连
续可调.
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仪器校准
•自准法调光路水平和共轴 •利用布儒斯特角调节检偏器 •利用检偏器和起偏器的关系调节起偏器 •确定1/4波片
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实验操作
将1/4波片快轴转到+450位置 仔细调节检偏器A和起偏器P,使目镜内的亮点最暗,
即检流计值最小。计下A、P的刻度值,测得两组消 光位置数值 将1/4波片快轴转到-450位置 重复2的工作。
其中:A分别取大于900和小于900 两种情况。
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测试结果点
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实验15椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率
实验15 椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率在近代科学技术的许多部门中对各种薄膜的研究和应用日益广泛.因此,更加精确和迅速地测定一给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要.在实际工作中虽然可以利用各种传统的方法测定光学参数(如布儒斯特角法测介质膜的折射率、干涉法测膜厚等),但椭圆偏振法(简称椭偏法)具有独特的优点,是一种较灵敏(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)、精度较高(比一般的干涉法高一至二个数量级)、并且是非破坏性测量.是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法.它能同时测定膜的厚度和折射率(以及吸收系数).因而,目前椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用.这个方法的原理几十年前就已被提出,但由于计算过程太复杂,一般很难直接从测量值求得方程的解析解.直到广泛应用计算机以后,才使该方法具有了新的活力.目前,该方法的应用仍处在不断的发展中.实验目的(1)(1)了解椭圆偏振法测量薄膜参数的基本原理;(2)(2)初步掌握椭圆偏振仪的使用方法,并对薄膜厚度和折射率进行测量.实验原理椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光.根据偏振光在反射前后的偏振状态变化,包括振幅和相位的变化,便可以确定样品表面的许多光学特性.1 椭偏方程与薄膜折射率和厚度的测量图15.1图15.1所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜.它有两个平行的界面,通常,上部是折射率为n1的空气(或真空).中间是一层厚度为d折射率为n2的介质薄膜,下层是折射率为n3的衬底,介质薄膜均匀地附在衬底上,当一束光射到膜面上时,在界面1和界面2上形成多次反射和折射,并且各反射光和折射光分别产生多光束干涉.其干涉结果反映了膜的光学特性.设φ1表示光的入射角,φ2和φ3分别为在界面1和2上的折射角.根据折射定律有n1sinφ1=n2sinφ2=n3sinφ3(15.1)光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P分量和垂直于入射面振动的s分量.若用E ip和E is分别代表入射光的p和s分量,用E rp及E rs分别代表各束反射光K0,K1,K2,…中电矢量的p分量之和及s分量之和,则膜对两个分量的总反射系数R p和R s定义为R P=E rp/E ip , R s=E rs/E is(15.2)经计算可得式中,r1p或r1s和r2p或r2s分别为p或s分量在界面1和界面2上一次反射的反射系数.2δ为任意相邻两束反射光之间的位相差.根据电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,可以证明r1p=tan(φ1-φ2)/ tan(φ1+φ2), r1s=-sin (φ1-φ2)/ sin(φ1+φ2);r2p=tan(φ2-φ3)/tan(φ2+φ3), r2s =-sin (φ2-φ3)/sin(φ2+φ3). (15.4)式(15.4)即著名的菲涅尔(Fresnel)反射系数公式.由相邻两反射光束间的程差,不难算出. (15.5)式中,λ为真空中的波长,d和n2为介质膜的厚度和折射率.在椭圆偏振法测量中,为了简便,通常引入另外两个物理量ψ和Δ来描述反射光偏振态的变化.它们与总反射系数的关系定义为上式简称为椭偏方程,其中的ψ和Δ称为椭偏参数(由于具有角度量纲也称椭偏角).由式(15.1),式( 15.4),式( 15.5)和上式可以看出,参数ψ和Δ是n1,n2,n3,λ和d的函数.其中n1,n2,λ和φ1可以是已知量,如果能从实验中测出ψ和Δ的值,原则上就可以算出薄膜的折射率n2和厚度d.这就是椭圆偏振法测量的基本原理.实际上,究竟ψ和Δ的具体物理意义是什么,如何测出它们,以及测出后又如何得到n2和d,均须作进一步的讨论.2 ψ和Δ的物理意义用复数形式表示入射光和反射光的p和s分量E ip=|E ip|exp(iθip),E is=|E is|exp(iθis);E rp=|E rp|exp(iθrp) ,E rs=|E rs|exp(iθrs).(15.6)式中各绝对值为相应电矢量的振幅,各θ值为相应界面处的位相.由式(15.6),式(15.2)和式(15.7)式可以得到.(1 5.7)比较等式两端即可得tanψ=|E rp||E is|╱|E rs||E ip| (15.8)Δ=(θrp–θrs)- (θip–θis) (15.9)式(15.8)表明,参量ψ与反射前后p和s分量的振幅比有关.而(15.9)式表明,参量Δ与反射前后p和s分量的位相差有关.可见,ψ和Δ直接反映了光在反射前后偏振态的变化.一般规定,ψ和Δ的变化范围分别为0≤ψ<π /2和0≤Δ<2π.当入射光为椭圆偏振光时,反射后一般为偏振态(指椭圆的形状和方位)发生了变化的椭圆偏振光(除开ψ<π/4且Δ=0的情况).为了能直接测得ψ和Δ,须将实验条件作某些限制以使问题简化.也就是要求入射光和反射光满足以下两个条件:(1)要求入射在膜面上的光为等幅椭圆偏振光(即P和S 二分量的振幅相等).这时,|E ip|/|E is|=1,式(15.9)则简化为tanψ=|E rp|/|E rs| .(15.10)(2)要求反射光为一线偏振光.也就是要求θrp–θrs=0(或π),式(15.9)则简化为(15.15)满足后一条件并不困难.因为对某图 15.2一特定的膜,总反射系数比R p/R s是一定值.式(15.6)决定了⊿也是某一定值.根据(15.9)式可知,只要改变入射光二分量的位相差(θip–θis),直到其大小为一适当值(具体方法见后面的叙述),就可以使(θip–θis)=0(或π),从而使反射光变成一线偏振光.利用一检偏器可以检验此条件是否已满足.以上两条件都得到满足时,式(15.10)表明,tan ψ恰好是反射光的p和s分量的幅值比,ψ是反射光线偏振方向与s方向间的夹角,如图15.2所示.式(15.15)则表明,Δ恰好是在膜面上的入射光中s和s分量间的位相差.3 ψ和Δ的测量实现椭圆偏振法测量的仪器称为椭圆偏振仪(简称椭偏仪).它的光路原理如图15.3所示.氦氖激光管发出的波长为 632. 8 nm的自然光,先后通过起偏器Q,1/4波片C入射在待测薄膜F上,反射光通过检偏器R射入光电接收器T.如前所述,p和s分别代表平行和垂直于入射面的二个方向.快轴方向f,对于负是指平行于光轴的方向,对于正晶体是图15.3 从Q,C和R用虚线引下的三个插图都是迎光线看去的指垂直于光轴的方向.t代表Q的偏振方向,f代表C的快轴方向,t r 代表R的偏振方向.慢轴方向l,对于负晶体是指垂直于光轴方向,对于正晶体是指平等于光轴方向.无论起偏器的方位如何,经过它获得的线偏振光再经过1/4波片后一般成为椭圆偏振光.为了在膜面上获得p和s二分量等幅的椭圆偏振光,只须转动1/4波片,使其快轴方向f与s方向的夹角α=土π/4即可(参看后面).为了进一步使反射光变成为一线偏振光E,可转动起偏器,使它的偏振方向t与s方向间的夹角P1为某些特定值.这时,如果转动检偏器R使它的偏振方向t r与E r垂直,则仪器处于消光状态,光电接收器T接收到的光强最小,检流计的示值也最小.本实验中所使用的椭偏仪,可以直接测出消光状态下的起偏角P1和检偏方位角ψ.从式(15.15)可见,要求出Δ,还必须求出P1与(θip–θis)的关系.下面就上述的等幅椭圆偏振光的获得及P1与Δ的关系作进一步的说明.如图15.4所示,设已将1/4波片置于其快轴方向f与s方向间夹角为π/4的方位.E0为通过起偏器后的电矢量,P1 为E0与s方向间的夹角(以下简称起偏角).令γ表示椭圆的开口角(即两对角线间的夹角).由晶体光学可知,通过1/4波片后,E0沿快轴的分量E f与沿慢轴的分量E l比较,位相上超前π/2.用数学式可以表达成.(15.12).(15.13)从它们在p和s两个方向的投影可得到p和s的电矢量分别为:图15.4.(15.14).(15.15)由式(15.14)和式(15.15)看出,当1/4波片放置在+π/4角位置时,的确在p和s二方向上得到了幅值均为E0/2的椭圆偏振入射光.p和s的位相差为θip–θis =π/2-2P1.(15.16)另一方面,从图15.4上的几何关系可以得出,开口角γ与起偏角P1的关系为γ/2=π/4-P1γ=π/2-2P1 (15.17)则(15.16)式变为θip–θis=γ(15.18)由式(15.15)可得Δ=—(θip -θis)= -γ(15.19)至于检偏方位角ψ,可以在消光状态下直接读出.在测量中,为了提高测量的准确性,常常不是只测一次消光状态所对应的P1和ψ1值,而是将四种(或二种)消光位置所对应的四组(P1,ψ1)),(P2,ψ2),(P3,ψ3)和(P4,ψ4)值测出,经处理后再算出Δ和ψ值.其中,(P1,ψ1)和(P2,ψ2)所对应的是1/4波片快轴相对于S方向置+π/4时的两个消光位置(反射后P和S光的位相差为0或为π时均能合成线偏振光).而(P3,ψ3)和(P4,ψ4)对应的是1/4波片快轴相对于s方向置-π/4的两个消光位置.另外,还可以证明下列关系成立:|p1-p2|=90˚,ψ2=-ψ1.|p3-p4|=90˚,ψ4=-ψ3.求Δ和ψ的方法如下所述.(1) 计算Δ值.将P1,P2,P3和P4中大于π/2的减去π/2,不大于π/2的保持原值,并分别记为< P1>,< P2>,< P3>和< P4>,然后分别求平均.计算中,令和, (15.20)而椭圆开口角γ与和的关系为. (15.21) 由式(15.22)算得ψ后,再按表15.1求得⊿值.利用类似于图15.4的作图方法,分别画出起偏角P1在表15.1所指范围内的椭圆偏振光图,由图上的几何关系求出与公式(15.18)类似的γ与P1的关系式,再利用式(15.20)就可以得出表15.1中全部Δ与γ的对应关系.1(2)(2)计算ψ值:应按公式(15.22)进行计算. (15.22) 4折射率n2和膜厚d的计算尽管在原则上由ψ和Δ能算出n2和d,但实际上要直接解出(n2,d)和(Δ,ψ)的函数关系式是很困难的.一般在n1和n2均为实数(即为透明介质的),并且已知衬底折射率n3(可以为复数)的情况下,将(n2,d)和(Δ,ψ)的关系制成数值表或列线图而求得n2和d值.编制数值表的工作通常由计算机来完成.制作的方法是,先测量(或已知)衬底的折射率n2,取定一个入射角φ1,设一个n2的初始值,令δ从0变到180°(变化步长可取π/180,π/90,…等),利用式(15.4),式(15.5)和式(15.6),便可分别算出d,Δ和ψ值.然后将n2增加一个小量进行类似计算.如此继续下去便可得到(n2,d)~(Δ,ψ)的数值表.为了使用方便,常将数值表绘制成列线图.用这种查表(或查图)求n2和d的方法,虽然比较简单方便,但误差较大,故目前日益广泛地采用计算机直接处理数据.另外,求厚度d时还需要说明一点:当n1和n2为实数时,式(15.4)中的φ2为实数,两相邻反射光线间的位相差“亦为实数,其周期为2π.2δ可能随着d的变化而处于不同的周期中.若令2δ=2π时对应的膜层厚度为第一个周期厚度d0,由(15.4)式可以得到由数值表,列线图或计算机算出的d值均是第一周期内的数值.若膜厚大于d0,可用其它方法(如干涉法)确定所在的周期数j,则总膜厚是D = (j -1) d0+d.5金属复折射率的测量以上讨论的主要是透明介质膜光学参数的测量,膜对光的吸收可以忽略不计,因而折射率为实数.金属是导电媒质,电磁波在导电媒质中传播要衰减.故各种导电媒质中都存在不同程度的吸收.理论表明,金属的介电常数是复数,其折射率也是复数.现表示为=n2 -iκ式中的实部n2并不相当于透明介质的折射率.换句话说,n2的物理意义不对应于光在真空中速度与介质中速度的比值,所以也不能从它导出折射定律.式中κ称为吸收系数.这里有必要说明的是,当为复数时,一般φ1和φ2也为复数.折射定律在形式上仍然成立,前述的菲涅尔反射系数公式和椭偏方程也成立.这时仍然可以通过椭偏法求得参量d,n2和k,但计算过程却要繁复得多.本实验仅测厚金属铝的复折射率.为使计算简化,将式(15.25)改写成以下形式=n2-i nκ由于待测厚金属铝的厚度d与光的穿透深度相比大得多,在膜层第二个界面上的反射光可以忽略不计,因而可以直接引用单界面反射的菲涅尔反射系数公式(15.4).经推算后得公式中的n1,φ1和κ的意义均与透明介质情况下相同.实验内容关于椭偏仪的具体结构和使用方法,请参看仪器说明书.实验时为了减小测量误差,不但应将样品台调水平,还应尽量保证入射角φ1放置的准确性,保证消光状态的灵敏判别.另外,以下的测量均是在波长为632.8nm时的参数.而且,所有测量均是光从空气介质入射到膜面.1 测厚铝膜的复折射率取入射角φ1=π/3.按已述方法测得Δ和ψ.由式(15.26)和式(15.27)式算出n和κ值,并写出折射率的实部和虚部. 2 测硅衬底上二氧化硅膜的折射率和厚度已知衬底硅的复折射率为n3=3.85-i0.02,取入射角φ1=7π/18.二氧化硅膜只有实部.膜厚在第一周期内.测出Δ和ψ后,利用列线图(或数值表)和计算机求出n2和d,将两种方法的结果进行对比.并计算膜的一个周期厚度值d0.3 测量κ0玻璃衬底上氟化镁(MgF2)膜层的折射率和厚度 (1) 测κ0玻璃的折射率首先测出无膜时K0玻璃的Δ和ψ值,然后代入n3=n3(Δ,ψ,φ1)的关系式中算出n3值,测量时入射角φ1取7π/18.关于n3与三个参量的关系式,根据式(15.1),式(15.4),式(15.5)和式(15.6),并令膜厚d=0,便可以算出n3的实部n0的平方值和n3的虚部κ值为(15.28)(15.29)(2)测透明介质膜氟化镁的折射率和厚度仍取入射角φ1=7π/18.膜厚在第一周期内.测出Δ和ψ后也用列线图和计算机求出结果.思考题(1) 用椭偏仪测薄膜的厚度和折射率时,对薄膜有何要求?(2) 在测量时,如何保证φ1较准确?(3) 试证明:|P1-P2| =π/2,|P3-P4| =π/2.(4) 若须同时测定单层膜的三个参数(折射率n2,厚度d 和吸收系数κ),应如何利用椭偏方程?。
椭圆偏振法简称椭偏法
椭圆偏振法简称椭偏法,是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。
椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难,直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。
椭偏法的测量经过几十年来的不断改进,已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测,极大地促进了纳米技术的发展。
椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级),测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。
利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率,也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。
因此,椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
通过实验,读者应了解椭偏法的基本原理,学会用椭偏法测量纳米级薄膜的厚度和折射率,以及金属的复折射率。
一、实验原理椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光。
根据偏振光在反射前后的偏振状态变化(包括振幅和相位的变化),便可以确定样品表面的许多光学特性。
设待测样品是均匀涂镀在衬底上的透明同性膜层。
如图3.5.1所示,n1,n2和n3分别为环境介质、薄膜和衬底的折射率,d是薄膜的厚度,入射光束在膜层上的入射角为,在薄膜及衬底中的折射角分别为和。
按照折射定律有(1)光的电矢量分解为两个分量,即在入射面内的P分量及垂直于入射面的S分量.根据折射定律及菲涅尔反射公式,可求得p分量和s分量在第一界面上的复振幅反射率分别为,而在第二界面处则有,从图3.5.1可以看出,入射光在两个界面上会有多次的反射和折射,总反射光束将是许多反射光束干涉的结果。
利用多光束干涉的理论,得p分量和s分量的总反射系数,其中( 2)是相邻反射光束之间的相位差,而为光在真空中的波长。
光束在反射前后的偏振状态的变化可以用总反射系数比(R P/R S)来表征。
在椭偏法中,用椭偏参量和来描述反射系数比,其定义为 (3)分析上述各式可知,在,,n1和n3确定的条件下,和只是薄膜厚度d和折射率n2的函数,只要测量出和,原则上应能解出d和n2。
变角度椭圆偏振光谱法
变角度椭圆偏振光谱法:揭示薄膜秘密的非接触式光学利器引言:在科技的快速发展中,光学技术日益成为研究各种物质特性的重要手段。
其中,变角度椭圆偏振光谱法作为一种非接触式、非破坏性的光学技术,正越来越受到科研人员的青睐。
它能够测量薄膜厚度、折射率(n)和消光系数(k)等参数,为研究薄膜物理和光学特性提供了强有力的工具。
一、变角度椭圆偏振光谱法的基本原理光束在遇到薄膜时,其偏振态会产生变化。
这种变化与薄膜的厚度、折射率和消光系数等因素有着密切的关系。
变角度椭圆偏振光谱法通过测量入射光和反射光的偏振态变化,采用拟合方法获得薄膜的厚度、折射率和消光系数等参数。
在具体操作中,光源会发出一定角度的光束照射到样品表面,然后收集反射回来的光束,并测量其偏振态的变化。
通过改变入射光的角度,可以获得不同角度下的偏振态变化数据。
通过拟合这些数据,我们就可以获得薄膜的厚度、折射率和消光系数等参数。
二、变角度椭圆偏振光谱法的应用变角度椭圆偏振光谱法不仅可以用于测量薄膜的物理参数,如厚度、折射率和消光系数,还可以用于研究影响光偏振的其他特性,例如粗糙度、光学各向异性(双折射)、晶体性质、成分、光学带隙和热膨胀等。
这些研究对于理解材料的物理和化学性质,以及在工业生产中的应用具有重要意义。
然而,需要注意的是,这种方法并不直接测量上述参数,而是通过构建一个描述样品光学参数的模型,然后拟合未知参数以获得理论响应与实验数据之间的最佳匹配。
因此,结果的准确性取决于模型的准确性和实验条件等因素。
三、变角度椭圆偏振光谱法的优势与前景变角度椭圆偏振光谱法作为一种非接触式和非破坏性的光学技术,具有以下优势:非接触性:这种方法不需要直接接触样品,避免了可能对样品产生的物理或化学影响。
非破坏性:在样品制备过程中或者珍贵样品的使用过程中,非破坏性的测试方法显得尤为重要。
高精度:通过对实验数据的精确测量和理论模型的精确构建,可以实现高精度的参数测量。
适用范围广:这种方法可以应用于各种不同类型的薄膜材料,无论是金属、半导体还是有机材料。
椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验报告
椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验报告实验名称:椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验目的:利用椭圆偏振法测量薄膜的厚度和折射率,掌握椭圆偏振法的基本原理和实验操作方法。
实验原理:椭圆偏振法是一种常用的测量薄膜光学性质的方法。
当偏振光通过具有一定折射率的薄膜时,会发生透射和反射,经过反射和透射之后的光束会发生干涉现象。
当入射光是偏振光时,通过表层膜的透射光经过增偏器后变为线偏振光,其振动方向决定于表层膜的光学性质以及入射角。
通过调节增偏器的方向和旋转其角度,使得通过增偏器的振动方向与振动椭圆的长轴平行,此时称之为白光不通过表层膜,反射线偏振光与透射线偏振光的相位差为0. 形成一个相干叠加的椭圆偏振光。
根据椭圆偏振光的特性,可以通过测量椭圆偏振光的特性参数(主轴角度、椭圆离心率等)来确定薄膜的厚度和折射率。
实验装置:椭圆偏振仪、光源、待测试薄膜样品。
实验步骤:1. 启动椭圆偏振仪,调整光源使其达到合适的亮度和稳定性。
2. 将待测薄膜样品放置在椭圆偏振仪的样品台上,并通过对焦镜调整样品的焦距。
3. 调整增偏器的方向,使通过增偏器的线偏振光振动方向与椭圆的长轴平行。
4. 调整旋转台上的角度,使反射线偏振光与透射线偏振光的相位差为0,此时形成相干的椭圆偏振光。
5. 在椭圆偏振仪上的读数器上记录椭圆偏振光的主轴角度、椭圆离心率等参数。
6. 重复上述操作,测量多组数据,以提高测量准确度。
7. 根据测量得到的参数计算薄膜的厚度和折射率。
实验结果:通过测量多组数据,记录椭圆偏振光的主轴角度和椭圆离心率等参数,得到一组薄膜的厚度和折射率。
注意保留合适的有效数字。
实验讨论:1. 实验中应确保光源的稳定性和一致性,以获得准确的测量结果。
2. 实验中可以通过调整增偏器和旋转台的角度,使椭圆偏振光的参数达到最佳值,以提高测量精度。
3. 实验中应注意测量时的环境条件,避免与外部环境光的干扰。
实验结论:通过椭圆偏振法测量薄膜的厚度和折射率,可以得到薄膜的光学性质参数。
椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率
椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率摘要:本实验中,我们用椭圆偏振光法测量了MgF 2,ZrO 2,TiO 2三种介质膜的厚度和折射率,取MgF 2作为代表,测量薄膜折射率和厚度沿径向分布的不均匀性,此外还测量了Au 和Cr 两种金属厚膜的折射率和消光系数。
掌握了椭圆偏振光法的基本原理和技术方法。
关键词:椭偏法,折射率,厚度,消光系数 引言:薄膜的厚度和折射率是薄膜光电子器件设计和制备中不可缺少的两个参数。
因此,精确而迅速地测定这两个参数非常重要。
椭圆偏振光法就是一个非常重要的方法。
将一束单色椭圆偏振光投射到薄膜表面,根据电动力学原理,反射光的椭偏状态与薄膜厚度和折射率有关,通过测出椭偏状态的变化,就可以推算出薄膜的厚度和折射率。
椭圆偏振光法是目前测量透明薄膜厚度和折射率时的常用方法,其测量精度高,特别是在测量超薄薄膜的厚度时其灵敏度很高,因此常用于研究薄膜生长的初始阶段,而且由于这种方法时非接触性的,测量过程中不破坏样品表面,因而可用于薄膜生长过程的实时监控。
本实验的目的是掌握椭偏法测量薄膜的厚度和折射率的原理和技术方法。
测量几种常用介质膜的折射率和厚度,以及金属厚膜的复折射率。
原理:1. 单层介质膜的厚度和折射率的测量原理(1)光波在两种介质分界面上的反射和折射,有菲涅耳公式:121122112112211122322323223223322233cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos p s p s n n r n n n n r n n n n r n n n n r n n ϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕ-⎧=⎪+⎪-⎪=⎪+⎪⎨-⎪=⎪+⎪-⎪=⎪+⎩(tp-1); (2)单层膜的反射系数图1 光波在单层介质膜中传播以上各式中1n 为空气折射率,2n 为膜层的折射率,3n 为衬底折射率。
1ϕ为入射角,2ϕ,3ϕ分别为光波在薄膜和衬底的折射角。
半导体物理实验指导书 椭偏法
(6)
(7) 式中λ为单色光波长,d 为薄膜厚度。将式(3)代入(6)消去 t1p*及 r1p*得
考虑到|x|<1 时
(8) 成立,求式(8)中级数和,并定义薄膜系统反射率
(9) 可得
式(10)中 Rp,Rs 通常是复数,定义它们的比值
(10)
(11) 其中 tgψ相当于复数的模,Δ相当于幅角.合并式(10),(11)得到椭偏法的基本公 式
实验六 椭偏法测薄膜厚度、折射率 和固体的复折射率
椭圆偏振法,简称椭偏法是一种研究两媒介间界面、表面或薄膜中光学性质 变化的一种技术。其原理是利用偏振光束在分界面上的反射和透射出现的偏振变 换。它的优点是检测手段是非破坏性的;测量的精度极高。
本实验的目的是:掌握椭偏法的基本原理,学会使用传统椭偏仪测硅衬底上 透明膜厚度、折射率以及测量固体材料的光学性质。
2.仪器调整步骤 (l)打开激光电源开关,调节激光电流为 5mA 左右。 (2)将人射光路与反射光路调成一直线(人射角与反射角都为 90o)。检查光点 是否在观察窗中心位置。调整好后,恢复入射角等于反射角(70o). (3)调节样片台,使激光经样片反射后能进入反射光管到达观察中心位置。 (4)将起偏器 P,λ/4 波片,检偏器 A 都旋到零附近,检查观察窗光点是否 完全消光,微调起偏器,λ/4 波片,检偏器角度,直至观察窗中心光 点最暗为止.记下真正起点的读数作零读数(如仪器零读数确已调好,此 步骤可免)。
手轮(0—180 O,使红窗光点基本消失。 5、把红窗的手柄向左旋转,关闭红窗,此时 μA 表有指示。转动起偏器 P 手
轮和检偏器 A 手轮,使 μA 表指示趋于 0,(或最小),记下检偏器读数 A1 (0<A1<90o)和起偏器读数 P1。 6、转动起偏器 P 手轮,使 P=P1+90O,再转动 A 手轮,使 μA 表指示最小,记
椭圆偏振实验报告
椭圆偏振实验报告椭圆偏振实验报告椭圆偏振实验是一种用于研究光的偏振性质的实验方法。
通过该实验,我们可以了解光的偏振方向、偏振度以及光的振动状态等相关信息。
本次实验旨在通过测量不同偏振光通过样品后的光强变化,来确定样品的偏振特性。
实验装置主要由光源、偏振片、样品、检光器等部分组成。
首先,我们使用光源产生一束线偏振光,然后通过旋转偏振片,调整光的偏振方向。
接着,将光照射到样品上,并使用检光器测量通过样品后的光强。
在实验过程中,我们可以通过旋转偏振片,改变光的偏振方向,从而观察到光强的变化。
在实验中,我们选择了几种常见的样品进行测试,包括透明介质、金属表面以及液晶材料等。
首先,我们测试了透明介质的偏振特性。
通过测量不同偏振方向的光通过样品后的光强,我们可以确定样品的透过率以及光的偏振方向。
实验结果显示,透明介质对不同偏振方向的光有不同的吸收和透射特性,这与光的偏振性质有关。
接下来,我们研究了金属表面的偏振特性。
金属表面对光的反射特性与入射光的偏振方向密切相关。
通过实验测量,我们发现金属表面对于垂直入射的s偏振光具有较高的反射率,而对于p偏振光则具有较低的反射率。
这一现象可以通过光的振动方向与金属表面的电场分布之间的关系来解释。
最后,我们研究了液晶材料的偏振特性。
液晶材料是一种具有特殊光学性质的材料,可以通过电场的作用改变光的偏振状态。
通过实验测量,我们发现液晶材料对于不同偏振方向的光有不同的旋光性质。
这一现象可以用液晶分子的排列方式以及电场对分子排列的影响来解释。
通过以上实验,我们可以得出结论:不同的样品对于光的偏振有不同的影响。
透明介质、金属表面以及液晶材料都具有特殊的光学性质,可以通过调整光的偏振方向来改变光的传播和反射特性。
这些实验结果对于深入理解光的偏振性质以及应用于光学器件的设计和制造具有重要意义。
总结起来,椭圆偏振实验是一种研究光的偏振性质的有效方法。
通过测量不同偏振光通过样品后的光强变化,我们可以确定样品的偏振特性。
椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率 (2)
椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率5-姓名:陈正 学号:PB05210465 系别:6系实验目的:本实验的目的有以下两个:1.了解椭偏仪测量薄膜参数的原理.2.初步掌握反射型椭偏仪的使用方法.实验原理:椭圆偏振光经薄膜系统反射后,偏振状态的变化量与薄膜的厚度和折射率有关,因此只要测量出偏振状态的变化量,就能利用计算机程序多次逼近定出膜厚和折射率。
参数∆描述椭圆偏振光的P 波和S 波间的相位差经薄膜系统关系后发生的变化,ψ描述椭圆偏振光相对振幅的衰减。
有超越方程:tan pr pi sr si E E E E ψ⎛⎫⎛⎫= ⎪ ⎪⎝⎭⎝⎭()()pr sr pi si ββββ∆=---为简化方程,将线偏光通过方位角±45︒的14波片后,就以等幅椭圆偏振光出射,pi si E E =;改变起偏器方位角ϕ就能使反射光以线偏振光出射,()0pr sr ββπ︒∆=-=或,公式化简为:tan pr sr E E ψ=()pi si ββ∆=--实验仪器:分光计、He-Ne 激光器及电源 、起偏器 、检偏器 、14波片,待测样品、黑色反光镜、放大镜等;实验内容:1. 按调分光计的方法调整好主机.2. 水平度盘的调整.3. 光路调整.4. 检偏器读数头位置的调整和固定.5. 起偏器读数头位置的调整与固定.6. 4/1波片零位的调整.7. 将样品放在载物台中央,旋转载物台使达到预定的入射角70゜即望远镜转过40゜,并使反射光在白屏上形成一亮点.8. 为了尽量减小系统误差,采用四点测量.9. 将相关数据输入“椭偏仪数据处理程序”,经过范围确定后,可以利用逐次逼近法,求出与之对应的d 和n ;由于仪器本身的精度的限制,可将d 的误差控制在1埃左右,n 的误差控制在0.01左右.数据处理:原始数据列表:由分析知A,P 应满足以下条件:⎪⎪⎩⎪⎪⎨⎧==︒=+︒=+42314321180180A A A A A A A A ⎪⎪⎩⎪⎪⎨⎧︒=+︒=+︒=-︒=-270270909042314321P P P P P P P P 所以测量数据基本满足以上的条件。
椭圆偏振光光矢量旋转方向的几种判断方法
椭圆偏振光光矢量旋转方向的几种判断方法近年来,椭圆偏振光作为新兴的光学技术,被越来越多的科研实验室和工厂所采用,椭圆偏振光的特殊性及复杂性,传播过程中的偏振特性的变化及其在传感器、通信系统和过程控制等应用中的重要性,使得研究和发展椭圆偏振光技术显得格外重要。
椭圆偏振光是由自然界中水传播出来的一种复杂的光学波,其波长比普通的线性偏振光多一倍,具有两个不同的振幅而只有一个线性极化矢量的特征,其光矢量的旋转方向不确定。
有效的判断椭圆偏振光的旋转方向及其与线性偏振幅度的关系,是目前研究和发展椭圆偏振光技术的一个重要的实际问题。
由于椭圆偏振光的变化过程非常复杂,其旋转方向判断技术也一直是椭圆偏振光研究的一个重要课题。
目前已经提出了不少用于判断椭圆偏振光旋转方向和线性偏振幅度的算法,其中最常被采用的有三种,它们分别是坐标变换法、拟合法和自相关法。
首先,坐标变换法是判断椭圆偏振光旋转方向的一种最为经典和常见的方法。
它采用坐标变换的思想,将波的坐标系从参考系变换到新的坐标系,以解决椭圆偏振光的旋转方向问题。
它的优点是简单明确,不存在太多的实现步骤,使用起来也比较简单,且按照一定的方法步骤可以很好的判断椭圆偏振光的旋转方向。
其次,拟合法也是一种判断椭圆偏振光旋转方向的常用方法。
它利用偏振矢量的模和相位来进行拟合,模值与偏振比值的变化,可以得出椭圆偏振光的旋转方向。
它的优点在于能够计算出椭圆偏振光的精确旋转方向,而且可以基于拟合的数值进行精细的调整,可以得出更为准确的旋转方向。
最后,自相关法也是判断椭圆偏振光旋转方向的常见方法。
它将椭圆偏振光中的线性偏振分量与椭圆偏振分量分别进行相关性分析,从而判断椭圆偏振光的旋转方向。
它的优点在于可以较快捷地对椭圆偏振光进行旋转方向判断,不会有太多的数学计算,在实际计算时,也可以节约大量的时间。
综上所述,坐标变换法、拟合法和自相关法等,是目前应用较广泛的判断椭圆偏振光旋转方向的三大常用方法,它们各有优缺点,在实际应用中,要根据实际需要,灵活选择和应用。
【国家自然科学基金】_椭圆偏振法_基金支持热词逐年推荐_【万方软件创新助手】_20140801
推荐指数 2 2 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1
2013年 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19
2013年 科研热词 推荐指数 金属有机化合物气相沉积(mocvd) 2 有限元法 2 光子晶体光纤 2 si衬底 2 gan 2 高非线性 1 高双折射 1 薄膜 1 离子束溅射 1 电子束蒸发 1 溶胶-凝胶 1 椭偏光谱法 1 有效模场面积 1 双折射 1 化学缺陷 1 二氧化锆 1 x射线反射法 1 aln成核层 1 a1n成核层 1
推荐指数 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1
2012年 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16
科研热词 薄膜 光学常数 高速沉积 锑铋合金 锑基铋掺杂薄膜 近红外波段 膜厚 籽晶法 磁控溅射 微晶硅薄膜 实时在线椭圆偏振光谱 双芯光子晶体光纤 半矢量光束传播法 全矢量有限元法 光纤光学 偏振分束器
推荐指数 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1
2010年 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19
科研热词 虚拟仪器 薄膜光学 紫外敏感 硅纳米晶 真空蒸发法 电学特性 椭圆偏振光谱学 椭圆偏振光谱 旋转波片 斯托克斯参量 尺寸效应 光谱表征 光致发光 光学常数 傅里叶变换 偏振态 p(vdf-trfe)薄膜 lumogen薄膜 lb技术
2008年 序号 1 2 3 4 5 6 7 8
科研热词 锆合金 近椭圆内包层 耐腐蚀性 氧化膜 椭圆偏振法 双折射 光子晶体光纤 偏振稳定性
推荐指数 1 1 1 1 1 5 6 7 8 9 10 11
光波的偏振态
1 2
i 1 , er
1 1
2
i
39
E1
E2
f11 f21
f12
f22
e1
e2
40
41
28
29
30
(4)图示法
31
32
33
34
35
(5)Jones矢量与Stokes矢量的关系
36
37
1.3 偏振态的分解
由于偏振光可用二维列矩阵形式的琼斯矢量来表示,如果两个琼斯矢量满 足下列条件:
E1 E2 E2 E1 0 Ei Ei 1 (i 1, 2)
这里,+表示转置复共扼。这样两个琼斯矢量E1、E2组成正交完备系, 可以表示任意琼斯矢量E:
其中, 2 1
上式是椭圆方程,因为其系数行列式大于零。
3
想一想,磁场矢量的端点轨迹,电场矢量 E与磁场矢量H的关系如何?
4
(2)线偏振与圆偏振
线偏振是指光波电场矢量E的方向始终保持不变。 圆偏振是指光波电场矢量E的端点轨迹是圆。
5
讨论: 如何判断偏振光矢量端点的旋转方向?
6
总结:
7
8
如,归一化的x方向线偏振光与归一化的y方向线偏振光对应的琼斯矢量 (e1,e2);归一化的右旋圆偏振光与归一化的左旋圆偏振光对应的琼斯矢 量(er,el)。
38
[e1
e2 ] el
er
2 i
2
1
1 i
转换矩阵
A
2 i
2
1
1
i
为酉矩阵。
因为矩阵A满足:A-1 = A+
这里:
1 0 e1 0 , e2 1 , el
(3)偏振光器件
3.1 椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率
实验3.1 椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率一、引言椭圆偏振测量法,简称椭偏光法,是测量研究介质表面界面或薄膜光学特性的一种重要光学方法。
它是将一束偏振光非垂直地投射到被测样品表面,由观察反射光或透射光的偏振状态的变化来推知样品的光学特性,例如薄膜的厚度,材料的复折射率等。
这种测量方法的优点是测量精度非常高,而且对样品是非破坏性的,它可以测量出薄膜厚度约0.1 nm的变化。
因此。
可以用于表面界面的研究,也可用于准单原子层开始的薄膜生长过程的实时自动监测。
椭偏光法的应用范围广泛,自然界中普遍存在着各种各样的界面和薄膜,人工制备薄膜的种类也越来越多,因此椭偏光法应用于物理、化学、表面科学、材料科学、生物科学以及有关光学、微电子、机械、冶金和生物医学等领域中。
在材料科学中椭偏测量常用来测量各种功能介质薄膜、硅上超薄氧化层以及超薄异质层生长的实时监控、溅射刻蚀过程的实时监控等。
自1945年罗中(A. Rothen)描述了用以测量薄膜表面光学性质的椭偏仪以来,随着科学技术的迅速发展,椭偏光法发展很快,椭偏仪的制造水平也不断提高,特别是使用计算机处理复杂繁冗的椭偏测量数据后使测量快捷简便了许多。
二、实验目的1. 了解椭偏光测量原理和实验方法。
2. 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法。
3. 测量介质薄膜样品的厚度和折射率,以及硅的消光系数和复折射率。
三、实验原理本实验介绍反射型椭偏光测量方法。
其基本原理是用一束椭偏光照射到薄膜样品上,光在介质膜的交界面发生多次的反射和折射,反射光的振幅和位相将发生变化,这些变化与薄膜的厚度和光学参数(折射率、消光系数等)有关,因此,只要测出反射偏振状态的变化,就可以推出膜厚和折射率等。
1. 椭圆偏振方程图1所示为均匀、各向同性的薄膜系统,它有两个平行的界面。
介质1通常是折射率为n 1的空气,介质2是一层厚度为d 的复折射率为n 2的薄膜,均匀地附在复折射率为n 3的衬底材料上。
φ1为光的入射角,φ2和φ3分别为薄膜中和衬底中的折射角。
椭圆偏振光分析法测定单轴晶体的折射率
椭圆偏振光分析法测定单轴晶体的折射率邢进华;石芳【摘要】By analyzing the common methods of measuring refractive index in a crystal, the authors of this paper try to get an easier and more effective way of acquiring refractive index of uniaxial crystal. Based on the Fresnel formula and the propagating characteristics of light in a uniaxial crystal, the relationship between s and p compo⁃nents with the long and short axes of the elliptically polarized light is analyzed in detail when an elliptically po⁃larized light is incident on the sample surface of crystal. Also, the relationship between refractive index and the direction of optical axis is determined. Combining measurements of long and short axes of the incident and re⁃flected elliptically polarized light with the nature of Brewster angle, the two principal refractive indices and the optical axis in a uniaxial crystal with buried optical axis are completely obtained. Experiment results confirm the accuracy and correctness of the method.% 根据菲涅耳公式和光在晶体中的传播特性,分析了入射或反射椭圆偏振光长、短轴分量与 s、p 分量的关系以及晶体中的折射率与光轴方向的关系。
Y偏振光与椭圆偏振光的产生与分析方法
Y偏振光与椭圆偏振光的产生与分析方法激光是一种具有高强度和高相干性的光源,其偏振性也是研究的重要方向之一。
本文将探讨Y偏振光和椭圆偏振光的产生与分析方法,带大家一起深入了解这些光源的特性。
一、Y偏振光的产生Y偏振光是一种特殊的线偏振光,它可以通过使用特定的光学元件来产生。
其中一个常用的方法是利用三个线偏振器构成的Y型构造。
通过调整三个偏振器的角度,可以得到不同强度和方向的Y偏振光。
这种方法的原理是利用一个线偏振器的通过率较高,而另外两个的通过率较低,因此在光束的输出端获得了一个Y形状的光强分布。
Y偏振光常用于光学研究、光通信和光电子器件中。
二、椭圆偏振光的产生椭圆偏振光是具有椭圆偏振度的光源,其偏振度可以称之为椭圆度。
椭圆偏振光的产生可以通过多种方法实现。
一种常见的方法是使用偏振波片。
偏振波片是一种具有特定轴向方向的光学元件,可以将线偏振光转换为椭圆偏振光。
通过调整偏振波片的方向和角度,可以得到不同椭圆度和方向的椭圆偏振光。
椭圆偏振光可用于生物医学成像、材料表征和光学检测等领域。
三、Y偏振光的分析方法分析Y偏振光的方法主要包括偏振片法和偏振分束器法。
偏振片法是利用偏振片的透射率特性来进行分析。
通过调整偏振片的方向,可以观察到光的强度变化。
当光束经过偏振片时,透射光的强度最大,而垂直于偏振片方向的偏振光的强度最小。
通过逐步旋转偏振片,可以获取到光束的偏振方向。
偏振分束器法是一种新型的分析方法,它利用偏振分束器分离出光矢量的两个分量进行分析。
通过调整偏振分束器的角度,可以得到光矢量的水平和垂直分量。
这种方法能够提供更准确和全面的光学信息。
四、椭圆偏振光的分析方法为了分析椭圆偏振光的椭圆度和方向,可以利用椭圆偏振仪。
椭圆偏振仪是一种特殊的光学仪器,可以测量光源的椭圆度和方向。
通过将椭圆偏振光通过椭圆偏振仪,可以得到光的椭圆度和方向的定量信息。
椭圆偏振仪的工作原理是将椭圆偏振光通过一系列的光学元件,如波片、偏振片等,再通过探测器进行检测和分析。
椭圆偏振测厚实验
椭圆偏振测厚实验
椭圆偏振测厚实验是一种常用的非接触式表面膜厚度测量方法。
本实验中使用了一台椭圆偏振仪,通过测量样品反射光经过偏振元件后的偏振状态的变化,计算出样品表面上的膜厚度。
本实验的实验步骤如下:
1. 准备样品:实验中使用了一块玻璃基片,上面镀有一层二氧化硅膜。
将样品清洗干净,并用乙醇擦拭干燥。
2. 调节椭圆偏振仪:将椭圆偏振仪接通电源,打开软件。
选择透射模式,调节偏振元件和旋转相位板,使得反射光完全反射回光源。
3. 测量没有膜的基片:将样品放在样品架上,在椭圆偏振仪软件中记录下没有膜的基片的偏振状态信息。
记录参数有样品倾角,偏振状态椭圆中心坐标,及方位角等。
5. 计算样品表面膜厚度:根据理论公式计算出椭圆参数与样品表面膜厚度之间的关系,从而计算出样品表面的膜厚度值。
需要注意的是,在实验中需要保证椭圆偏振仪的精度,尤其是要注意避免偏振元件和样品之间的光漏。
椭圆偏振测厚实验是一种非接触而且具有高精度的测量方法,适用于金属、半导体、多层膜、涂层、生物医学等领域的膜厚度测量,具有广泛的应用前景。
椭偏仪测量薄膜厚度和折射率讲义
实验:椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率随着现代科技的快速发展,薄膜材料的研究和应用受到越来越多的关注。
如何快速准确的测量薄膜材料的厚度和折射率等光学参数成为急需解决的问题之一。
椭圆偏振法是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法,这种方法测量灵敏度高(可探测小于0.1nm 的厚度变化)、精度较好(比干涉法高一到两个数量级)、对待测样品无损伤并且能同时测量薄膜的厚度和折射率。
因而,目前椭圆偏振法已经在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用。
实验目的:1. 了解椭圆偏振测量的基本原理,掌握利用椭偏仪测量薄膜厚度和折射率的基本方法。
2. 学会组装椭圆偏振仪,熟悉椭圆偏振仪使用。
实验原理:椭圆偏振法测量的基本思路是,经由起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后获得等幅椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光.根据偏振光在反射前后的偏振状态变化,包括振幅和相位的变化,便可以确定样品表面的许多光学特性。
图1光在薄膜和衬底系统上的反射和折射 图1所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜.它有两个平行的界面,通常,上部是折射率为n 1的空气(或真空).中间是一层厚度为d 折射率为n 2的介质薄膜,下层是折射率为n 3的衬底,介质薄膜均匀地附在衬底上,当一束光射到膜面上时,在界面1和界面2上形成多次反射和折射,并且各反射光和折射光1ϕ介质n 1薄膜n 2衬底n 3 界面1 界面22ϕ3ϕ分别产生多光束干涉.其干涉结果反映了膜的光学特性。
设φ1表示光的入射角,φ2和φ3分别为在界面1和2上的折射角.根据折射定律有:n 1sin φ1=n 2sin φ2=n 3sin φ3(1) 光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P 分量和垂直于入射面振动的s 分量。
用r 1p 、r 1s 表示光线的p 分量、s 分量在界面1的反射系数,用r 2p 、r 2s 表示光线的p 分量、s 分量在界面2的反射系数。
椭圆偏振光偏振度计算
椭圆偏振光偏振度计算1. 引言1.1 背景介绍椭圆偏振光是一种具有特殊偏振特性的光束,其具有不同于线偏振光和圆偏振光的偏振状态。
椭圆偏振光在光学领域具有重要的应用价值,在生物医学、材料科学、通信技术等领域都有广泛的应用。
研究椭圆偏振光的偏振度计算方法具有重要意义。
随着光学技术的不断发展,现有的偏振度计算方法已经能够对线偏振光和圆偏振光进行准确计算,然而对于椭圆偏振光的偏振度计算仍存在一定挑战。
深入研究椭圆偏振光的特性和表示方法,探索有效的偏振度计算方法,对于提高光学测量的精度和准确度具有重要意义。
本文旨在详细介绍椭圆偏振光的特点、表示方法以及偏振度的计算方法,通过实际计算实例和对影响因素的分析,探讨椭圆偏振光偏振度计算的重要性,为未来相关研究提供参考和指导。
1.2 研究目的研究目的:椭圆偏振光偏振度计算是光学研究的重要组成部分,其研究目的包括但不限于以下几点:1. 探究椭圆偏振光的特点及表示方法,深入理解椭圆偏振光在光学领域的重要性和应用价值;2. 研究偏振度的计算方法,探索如何准确、快速地计算椭圆偏振光的偏振度,为光学实验和应用提供技术支持;3. 运用计算实例来验证偏振度的计算方法的准确性和稳定性,为椭圆偏振光的实际应用提供参考;4. 分析影响椭圆偏振光偏振度计算结果的因素,探讨如何优化计算方法,提高计算的准确性和稳定性;5. 总结椭圆偏振光偏振度计算的重要性,指出未来研究的重点和方向,为光学研究领域的发展提供参考和借鉴。
2. 正文2.1 椭圆偏振光的特点椭圆偏振光是一种具有非线性振荡模式的电磁波,它具有以下特点:1. 椭圆偏振光具有两个主要振动方向,通常被描述为主轴和次轴方向。
主轴方向上的光强大于次轴方向上的光强,导致光波的振动方向不再只沿着一个方向。
2. 椭圆偏振光的偏振态可以通过椭圆度和偏振度来描述。
椭圆度是描述椭圆偏振光偏振特性的参数,偏振度是描述光波偏振程度的参数。
3. 椭圆偏振光在传播过程中会发生偏振态的演变,导致光学性质的变化。
实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率
实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率椭圆偏振法是一种常用的非破坏性薄膜厚度和折射率测量方法,它可以通过对样品反射和透射光的偏振状态进行测量,来获得样品的光学特性参数。
下面我们将介绍实验椭圆偏振法的测量步骤和注意事项。
1. 实验原理当一束偏振光碰到被测薄膜表面时,反射的光和透射的光都会发生偏振,其偏振状态可以通过椭圆偏振仪来测量。
通过测量样品反射和透射光的偏振椭圆参数,可以计算出薄膜厚度和折射率等光学参数。
2. 实验步骤(1) 样品制备准备一片光学平整的样品,涂上一层薄膜。
需要保证样品表面光洁度良好,无明显缺陷和表面过度粗糙。
(2) 调整椭圆偏振仪首先需要进行仪器校准,保证椭圆偏振仪能够正常工作。
然后,将样品放置在椭圆偏振仪的样品台上,调整偏振仪的角度、波长等参数,使样品的反射和透射光能够被完全接收和测量。
(3) 测量反射光打开椭圆偏振仪的偏振片,使入射光为线偏振光,然后测量样品反射光的偏振椭圆参数。
一般需要测量三个不同角度和波长条件下的参数,以保证数据的准确性。
(5) 数据处理通过测量数据,可以得到样品的反射和透射光的偏振椭圆参数。
根据计算公式,可以计算出样品的折射率和厚度等光学参数。
需要注意的是,测量过程中需保持仪器稳定,以免数据误差。
3. 注意事项(1) 样品表面应该光洁度良好,无缺陷和过度粗糙。
(2) 测量前需要进行椭圆偏振仪的校准,保证仪器能够正常工作。
(4) 测量过程中需要保持仪器稳定,以免数据误差。
(5) 需要注意心理学处理的方法和如何保留数据以及整合数据,以便之后的进一步研究和分析。
总结:实验椭圆偏振法是一种非常实用的分析方法,能够快速准确地测量薄膜的厚度和折射率等光学参数。
在实验过程中需要注意样品表面光洁度、仪器稳定等因素,以保证数据的准确性。
此外,数据分析也是实验的重要部分,需要采用合适的处理方法和工具,以得出正确的结论和结论。
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得分教师签批改日期名深 圳 大 学 实 验 报 告课程名称:近代物理实验实验名称:椭圆偏振法测量薄膜厚度及折射率学院:物理科学与技术学院组号指导教师:报告人:学号:实验地点实验时间:实验报告提交时间:1、 实验目的1、利用椭偏仪测量硅衬底薄膜的折射率和厚度;提高物理推理与判别处理能力。
2、用自动椭偏仪再测量,进行比对;分析不同实验仪器两种方式的测量。
提高误差分析与分配能力。
二、实验原理椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光。
根据偏振光在反射前后的偏振状态变化(包括振幅和相位的变化),便可以确定样品表面的许多光学特性。
设待测样品是均匀涂镀在衬底上的透明同性膜层。
如图3.5.1所示,n1,n2和n3分别为环境介质、薄膜和衬底的折射率,d是薄膜的厚度,入射光束在膜层上的入射角为φ1,在薄膜及衬底中的折射角分别为φ2和φ3。
按照折射定律有(3.5.1)光的电矢量分解为两个分量,即在入射面内的P分量及垂直于入射面的S 分量。
根据折射定律及菲涅尔反射公式,可求得P分量和S分量在第一界面上的复振幅反射率分别为而在第二个界面处则有从图3.5.1可以看出,入射光在两个界面上会有很多次的反射和折射,总反射光束将是许多反射光束干涉的结果,利用多光束干涉的理论,得p分量和s分量的总反射系数其中是相邻反射光束之间的相位差,而λ为光在真空中的波长。
光束在反射前后的偏振状态的变化可以用总反射系数比(Rp/Rs)来表征。
在椭偏法中,用椭偏参量ψ和Δ来描述反射系数比,其定义为分析上述格式可知,在 λ,φ1,n1,n3确定的条件下,ψ和Δ只是薄膜厚度d和折射率n2的函数,只要测量出ψ和Δ,原则上应能解出d和n2。
然而,从上述格式却无法解析出d=(ψ,Δ)和n2=(ψ,Δ)的具体形式。
因此,只能先按以上各式用电子计算机算出在λ,φ1,n1和n3一定的条件下(ψ,Δ)~(d,n)的关系图表,待测出某一薄膜的ψ和Δ后再从图表上查出相应的d和n(即n2)的值。
测量样品的ψ和Δ的方法主要有光度法和消光法。
下面介绍用椭偏消光法确定ψ和Δ的基本原理。
设入射光束和反射光束电矢量的p分量和s分量分别为 Eip,Eis,Erp,Ers,则有于是为了使ψ和Δ成为比较容易测量的物理量,应该设法满足下面的两个条件:1. 使入射光束满足1. 使发射光束成为线偏振光,也就是令反射光两分量的位相差为0或π。
满足上述两个条件时,有其中βip,βis,βrp,βrs分别是入射光束和反射光束的p分量和s分量的位相。
图3.5.2是本实验装置的示意图,在图中的坐标系中,x轴和x’面内且分别与入射光束或反射光速的传播方向垂直,而y和y’垂直于入射面。
起偏器和检偏器的透光轴t和t’ 与x轴或x’角分别为P和A。
下面将会看到,只需让1/4波片的快轴f与x轴的夹角π/4(即45°),便可以在1/4波片后面得到所需的满足条件| E-ip | = | Eis | 的特殊椭圆偏振入射光束。
图3.5.3中的Eip代表由方位角为P的起偏器出射的线偏振光。
当它投射到快轴与x轴夹角为π/4的1/4波片时,将在波片的快轴f和慢轴s上分解为通过1/4波片后,Ef将比Es超前π/2,于是在1/4波片之后应有把这两个分量分别在x轴及y轴上投影并再合成为Ex和Ey,便得到可见,Ex和Ey也就是即将投射到待测样品表面的入射光束的p分量和s分量,即显然,入射光束已经成为满足条件| E-ip | = | Eis |的特殊圆偏振光,其两分量的位相差为由图3.5.4可以看出,当检偏器的透光轴t’与合成的反射线偏振光束的电矢量Eip垂直时,即反射光在检偏器后消光时,应该有这样,由式(3.5.5)可得可以约定,A在坐标系(x’,y’)中只在第一及第四象限内取值。
下面分别讨论(βrp-βrs)为0或π时的情形。
(1)(βrp-βrs)=π. 此时P记为P1,合成的反射线偏振光的Er在第二及第四象限里,于是A在第一象限并记为A1。
由式(3.5.7)可得到(2)(βrp-βrs)=0. 此时的P记为P2,合成的放射线偏振光E-r在第一及第三象限里,于是A在第四象限并记为A2,由式(3.5.7)可得到从式(3.5.8)和式(3.5.9)可得到(P1,A1)和(P2,A2)的关系为因此,在图(3.5.2)的装置中只要使1/4波片的快轴f于x轴的夹角为π/4,然后测出检偏器后消光时的起、检偏器方位角(P1,A1)或(P2,A2),便可按式(3.5.8)或式(3.5.9)求出(ψ,Δ),从而完成总反射系数比的测量。
再借助已计算好的(ψ,Δ)~(d,n)的关系图表,即可查出待测薄膜的厚度d和折射率n2。
附带指出,当n1和n2均为实数时,也是一个实数。
d0称为一个厚度周期,因为从式(3.5.2)可见,薄膜的厚度d每增加一个d0,相应的位相差2δ也就改变2π,这将使厚度相差d0的整数倍的薄膜具有相同的(ψ,Δ)值,而(ψ,Δ)~(d,n)关系图表给出的d都是以第一周期内的数值为准的,因此应根据其它方法来确定待测薄膜厚度究竟处在哪个周期怀中。
不过,一般须用椭偏法测量的薄膜,其厚度多在第一周期内,即在0~d0之间。
能够测量微小的厚度(纳米量级),正是椭偏法的优点。
用椭偏法也可以测量金属的复折射率。
金属复射率n2可分解为实部和虚部,即据理论推导(参见附录),上式中的系数N,K与椭偏角ψ,Δ有如下的近似关系:可见,测量出与待测金属样品总反射系数比对应的椭偏参量ψ和Δ,便可以求出其复折射率n2的近似值。
三、实验仪器以及实验内容1、测厚仪的调节。
按一起说明书调节好起偏器、检偏器和1/4波片的位置,确定入射角,如70°,放上样品,打开仪器主机电源和计算机电源,使仪器处于待测状态。
2、测量硅(Si)衬底表面的SiO2薄膜厚度和折射率n2.其中硅的复折射率取3.85-0.02i,空气折射率取n1=1.3、测量氧化锆(ZrO2)衬底表面上生长超导薄膜厚度d和折射率n2.其中ZrO2的折射率取2.1.4、测量金属铝或硅的复折射率n2.5、进一步实验。
改变入射角,使其等于60°和50°.分别测量同一块薄膜样品(如SiO2)的厚度和折射率,并分析结果的相对误差和产生误差的原因。
四、数据处理:1.手动椭偏仪测量:入射角为70°:P1=174.30° A1=62.75° P2=81.09° A2=143.4°计算得平均值: P=172.70°, 理论值 P=173.7°理A=49.675°, 理论值 A=46.95°理∴Ψ=A=45.925°Δ=630°-2P=289.1°误差:ΔE P=(173.7°-172.70°)/173.7=0.58%ΔE A=(49.675°-46.95°)/46.95=5.80%2.自动椭偏仪测量:入射角薄膜折射薄膜厚度P A率70° 1.511153.3nm172.313°56.85°60° 1.484153.8nm12.75°51.112°计算得平均值:折射率 n=(1.511+1.484)/2=1.497 理论值为1.487厚度 d=(153.3+153.8)/2=153.55nm 理论值为168.2nm误差:ΔE n=(1.497-1.487)/1.487=0.67% ΔE d=(168.2-153.55)/168.2=8.71%五、实验总结:本次实验操作较为简单,但是雪仔细阅读仪器说明并理解原理,熟悉操作。
而在使用手动椭偏仪时,因薄膜正反面放反了,导致调节仪器是无法消光。
后经过校正,很快完成实验。
本次利用椭偏仪测量硅衬底薄膜的折射率和厚度,通过使用手动椭偏仪和自动椭偏仪分别进行测量,并作比较。
使用手动椭偏仪测量得到的数据误差较大:ΔE P=0.58%,ΔE A=5.80%,因为存在仪器误差和操作误差。
而自动的误差较小:ΔE n=0.67%,ΔE d=8.71%。
六、思考题:1. 椭偏仪册厚仪的基本思想是什么?各主要光学不见的作用是什么?答:基本思想:起偏器产生的线偏振光经去想一定的1/4波片合成特殊的椭圆偏振光,把它透射到待测样品的表面时,只要起偏器取适当的透光方向,变测样品反射出的便是线偏振光,有偏振光在反射前后的偏振状态,便可以测定样品表面的光学特性,因此只要测出偏振状态的变化量,就能定出膜的厚度和折射率,实验中利用消光法测出椭偏系数,从中接触薄膜的厚度和折射率。
其主要光学部件有起偏器、检偏器、1/4波片,作用如下:起偏器:产生线偏振光,读数度盘刻有360个等分线,相隔1°,游幅度为0.1°,随度盘同步转动。
检偏器:检验偏振光,与起偏器的构造相同。
1/4波片:使入社的线偏振光变成等幅度的椭圆偏振光,即圆偏振光。
2. 试列举椭偏法测量中可能的误差来源,并分析它们对测量结果的影响。
答:①在调节光路的过程中,没有调好共轴,使激光与偏振片、1/4波片不是严格正入射,导致测量的折射率与理论值存在偏差;②在实验过程中,用手接触了介质薄膜的表面,使得上面带有手印,灰尘等杂质,导致测得的折射率有 误差;③用眼睛观察消光点,带有个人主观视觉因素;④由于波片快慢轴分量的相位不严格为π/2,即光路中存在补偿的偏差,在安装调整过程中1/4波片快轴与入射面夹角不严格为70°,促在偏差,最后起偏器角还有可能存在零点误差,这都是测量中的系统误差。
分析表明系统误差的二级小量可以忽略,用两个不同消光位置的测量值求平均值可以消除。
而对仪器的使用误差不可忽略,这些误差会使得测量结果与真实值有误差。