重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂——正性光致抗蚀剂的制备与性质

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂——正性光致抗蚀剂的制备与性质
重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂——正性光致抗蚀剂的制备与性质

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂

正性光致抗蚀剂的制备与性质

摘要:本实验采用2,3,4-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,5-重氮萘醌磺酰氯进行酯化,合成感光化合物。之后再与线性酚醛树脂—BTB24配合,溶于乙二醇乙醚,再加入少量添加剂,制得酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂。将其涂布于铝版基上,烘干,曝光,显影。结果表明,最佳曝光时间为90S,分辨率为12um,网点保留下限为10%,上限为90%。

关键词:光致抗蚀剂化学增幅感光度重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂

在半导体器件和集成电路制造中,要在硅片等材料上获得一定几何图形的抗蚀保护层,是运用感光性树脂材料在控制光照(主要是UV光)下,短时间内发生化学反应,使得这类材料的溶解性、熔融性和附着力在曝光后发生明显的变化;再经各种不同的方法显影后获得的。这种方法称为“光化学腐蚀法”,也称为“光刻法”。这种作为抗蚀涂层用的感光性树脂组成物称为“光致抗蚀剂”(又称光刻胶)。

按成像机理不同,光致抗蚀剂可分为负性光致抗蚀剂和正性光致抗蚀剂:(1)负性光致抗蚀剂:在紫外光照射下,光刻胶中光照部分发生交联反应,溶解度变小,用适当溶剂即可把未曝光的部分显影除去,在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像,因此称为负性光致抗蚀剂。(2)正性光致抗蚀剂:在紫外光照射下,光刻胶的光照部分发生分解,溶解度增大,用适当溶剂可以把光照部分显影除去,即形成与掩膜一致的图像,因此称为正性光致抗蚀剂。如图1所示。

图1 光致抗蚀剂成像过程

20世纪30年代, 德国卡勒公司的Oskar Süss首先发现了重氮萘醌系感光化合物。它是以2,1,5或2,1,4重氮萘醌磺酰氯为代表的重氮萘醌化合物与含羟基的高分子或小分子进行酯化后得到的感光化合物。由于其具有感光范围宽, 从i-线(感光波长: 365nm)到g-线(感光波长: 436nm) 都有较高的分光感度,尤其是与线形酚醛树脂或酚树脂配合, 具有稀碱水显影, 显影宽容度高, 操作方便,储存稳定性好等优点,使得重氮萘醌系感光材料在20世纪60年代后广泛应用于印刷PS版感光剂及集成电路加工光致抗蚀剂。至今仍普遍使用的g-线和i-线光致抗蚀剂都主要采用重氮萘醌系感光体系。

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂体系正性光致抗蚀剂的成像原理:感光涂层受紫外光照射后,曝光区的重氮萘醌磺酸酯发生光解,放出N2形成烯酮,烯酮遇水形成茚酸而易溶于稀碱水。由此通过稀碱水显影便得到了在未曝光区抗蚀膜保留的正型图形。以2,1,4-重氮萘醌磺酸酯为例,其成像原理如图2所示:

图2 重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂正性抗蚀剂的成像原理

1. 实验部分

1.1 仪器与试剂 1.1.1主要仪器

常用玻璃仪器;电子天平;恒温磁力搅拌器,81-2型,上海司乐仪器厂;循环水泵;干燥箱;显微熔点仪,SGW X-4型,上海精密科学仪器有限公司;傅里叶红外光谱仪,A V ATAR360型,美国Nicolet 公司;匀胶台,SC-1B 型,北京创威纳科技有限公司;烘胶台,BP-2B 型,北京创威纳科技有限公司;碘镓灯;PS版测试条;光学显微镜。 1.1.2 试剂

2,1,5--重氮萘醌磺酰氯,2,4,4’-三羟基二苯甲酮,丙酮,三乙胺,乙二醇乙醚,染料,硅酸钠,氯化氨,盐酸。 1.2 感光剂的制备 1.2.1感光剂的合成

称取2,1,5-重氮萘醌磺酰氯1.35g(0.005mol)、三羟基二苯甲酮0.56g (0.0025mol)于100mL 单口烧瓶中,再加入15mL 丙酮,室温下搅拌使其溶解,再加入1.5mL 水。装上衡压漏斗,逐渐滴入与2,1,4-重氮萘醌磺酰氯等当量的三乙胺(0.53g ,过量5%,溶于5mL 丙酮),滴加时间持续0.5h 左右。滴加完毕后,用薄层色谱观察反应进行的情况,继续搅拌反应,再用薄层色谱观察反应进行的情况,至酰氯基本反应完。反应结束后,将反应溶液搅拌下倒入100毫升蒸馏水中,加入适量氯化氨固体并溶解,促使反应产物析出,过滤,产物少量水洗三遍,40-50o

C 干燥至恒重,得到黄色固体。整个实验过程需要在黄光下或避光下进行。 1.2.2配胶

称取0.7g 上述制得的感光剂、1.4g BTB-24酚醛树脂和10mL 乙二醇乙醚,于100ml 棕色瓶中,再加入少量染料,搅拌溶解2h ,用滤纸过滤,得到粗滤的感光胶,备用。 1.3 感光剂的表征 1.3.1感光剂熔点的测定

取少量重氮萘醌磺酸酯于一洁净的载玻片上,盖上盖玻片,至于熔点仪上并将熔点仪调制加热状态。通过显微镜观察,记录重氮萘醌磺酸酯融化的温度。 1.3.2感光剂红外光谱的测定

取少量重氮萘醌磺酸酯于玛瑙研钵中,加入约5倍的KBr ,充分研磨。将研磨后的混合物取适量放入模具中压片,取出样品的薄片置于红外光谱仪中扫描得到其红外光谱图。

O

N 2

SO 2Ar

hv C

SO 2O

SO Ar

????????ó°3é??

-N 2

1.4 成像试验

将铝版基放置到匀胶机上,开启真空吸紧,将上述所得感光溶液倒于铝版基或硅片上,控制匀胶转速800转/分钟、匀胶时间15s。涂好感光胶的版基转移到烘胶台上,在110o C烘干2分钟以除去溶剂。将干燥好的版基转移到曝光机上,把PS版测试条覆到胶面上,其余裸露部分用黑纸覆盖,抽真空,分别曝光60s、90s、120s。最后在适当浓度(2-4%)硅酸钠溶液中显影至灰梯尺洗净3段,约20-40s。显影完的版基用水冲洗,得到正型测试条图像。光学显微镜下观察并记录下分辨率,观察并记录网点保留情况,确定最佳曝光量。

2 结果与讨论

2.1感光剂的制备

实验生成黄绿色粉末状固体1.37g,产率为78.8%。

重氮萘醌磺酸酯应为黄色固体,但是由于实验过程中加入了过量的三乙胺,使产物呈黄绿色。实验过程中加入三乙胺是为了使反应体系处于碱性环境,从而促进酯化反应。而过量的三乙胺也会对反应产生不利影响,使产物稳定性降低,易分解。因此,加入三乙胺的量要适当,稍过量于重氮萘醌磺酰氯的摩尔量即可。

2.2感光剂的表征

未测得产物熔点,产物在140 ℃发生了分解。

在测熔点过程中应该注意:(1)制片的样品要少且不能压得太紧太密,样品也不能太分散,保证薄薄的一层即可;(2)观察要仔细,如果看到样品某一块晶莹透明,说明样品已经在熔化,记录温度和熔化完全的温度即为熔点。

测得所得产物的红外光谱如图3所示。

图3 感光剂的红外光谱图

二苯甲酮标准产物的红外光谱图如图4所示。

图4 二苯甲酮标准红外光谱图

图谱分析:由感光剂的红外光谱图可以看到在 2117 cm-1 左右出现了强度较大的峰,且与二苯甲酮标准红外图谱中吸收峰相比,羟基吸收峰的强度明显减弱,说明三羟基二苯甲酮已有部分被磺酰氯酯化,说明得到了产物--重氮萘醌磺酸酯感光剂。

2.3成像实验

实验结果记录于表1:

表1 不同曝光时间下的曝光情况

分析上述数据可得:曝光时间为60s时曝光不足,阴影部分的图像无法清晰显出,部分图像见图5;曝光时间为90s时为最佳曝光量,非阴影部分及阴影部分的图像都可以清晰显出,部分图像见图6;曝光时间为120s时曝光过度,非阴影部分的图像会在显影时溶解在显影液中,部分图像见图7。

图5 曝光60s时显微镜下所观察图像

图6 曝光90s 时显微镜下所观察图像

图7 曝光120s 时显微镜下所观察图像

制得感光剂在铝板上曝光显影后表面较脏,有明显“留底”现象,可能原因是感光剂不纯或显影时间不足。由于产物磺酸酯为黄绿色,说明三乙胺有点过量。三乙胺易与酚羟基反应生成三乙胺的酚盐,被包夹在分子内部,空间阻碍效应使其不易被洗脱。酚盐在溶剂中的溶解度小,曝光显影后导致“留底”现象。

感光剂的制备 、感光胶的配制 、匀胶速度、烘胶时间 、曝光量 、显影液浓度和显影时间 都会影响成像效果。

3.结论

由2,3,4-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,5-重氮萘醌磺酰氯进行酯化,合成的感光化合物其最佳曝光时间为90S ,分辨率为12um ,网点保留下限为10%,上限为90%。 致 谢:北京师范大学化学学院实验中心提供的实验器材与实验环境;王老师和师兄师姐们的悉心指导 参考文献:

【1】王力元.综合设计实验讲义;

【2】周芳宇,邹应全.用于LCD 的重氮萘醌系正性抗蚀剂的研究.数字成像技术及影像材料科

学. 2006;

【3】喻小琦. LCD 正型光致抗蚀剂感光树脂的研制. 2006,6(33) 【4】衷红钦,周立锋.液晶显示器用正性光刻胶研究.市场研讨会论文

光刻胶的制备与表征实验报告

一种适用于193nm 光刻胶的硫鎓盐光产酸剂的制备与性质 X X X X X X 摘要:制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫鎓盐。它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性。测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性。结果表明阴离子不含苯基时,在193nm 处有很好的透明性。考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254nm 附近的吸收峰随光解进行迅速减弱。此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193nm )等的化学增幅型光致抗蚀剂。 关键词:光产酸剂 193nm 光致抗蚀剂 化学增幅 硫鎓盐 光产酸剂(photoacid generator, PAG )是各类化学增幅抗蚀剂的关键组分之一。 无论g 线(436 nm )、i 线(365nm )、氟化氪激光(248 nm )、氟化氩激光(193nm)以及采用更短波长光源的抗蚀剂,为了提高感度,无一例外地采取了化学增幅的方法,从而也就必须使 用光产酸源,甚至使用酸致产酸的酸增殖剂[1],以实现光照产酸后的化学增幅放大作用。更具 体地讲,所产生的酸导致抗蚀剂膜层中的物质发生种种化学反应,从而使光照部分与非光照部分溶解反差增大,实现显影成像。氟化氩激光光致抗蚀剂初期所用的光产酸剂主要为三苯基硫鎓盐或带有取代基的三苯基硫鎓盐,二苯基碘鎓盐或带有取代基的二苯基碘鎓盐,但这些鎓盐化合物在光照前后对193nm 光的吸收均较大,其产酸效率不像在248nm 光致抗蚀剂中 那样高,并导致成像质量下降,分辨率难以提高[2 3]。针对上述缺点,Shigeyuki Iwasa [4]等人 开发了不含苯环的丁酮-2-基戊硫环硫鎓盐化合物,配伍离子为CF 3SO 3—或C 4F 9SO 3—,它在193 nm 处透明度和感度都很好,且热稳定性高。Hiroyuki Ishii [5]等人提出产酸源透明度的改善是提 高193 nm 光致抗蚀剂性质的关键因素之一,他们用分子轨道计算法估算产酸源的透明度。结果表明多环芳香体系在1 93 nm 处有好的透明性,合成了1-烷氧基4-锍基萘鎓盐化合物。用此光产酸剂在聚甲基丙烯酸酯体系中进行光刻蚀成像,获得了高质量的图像。根据文献统计, 以往硫鎓盐的研究开发工作最多,不过近期也开始有一些新的体系的报道[6]。例如N-羟基琥 珀酰亚胺对甲苯磺酸酯或其它磺酸酯,N-三氟甲烷磺酰氧萘二甲酰亚胺、二硝基苄基对甲苯磺酸酯或其它磺酸酯和α-羟甲基安息香对甲苯磺酸酯或其它磺酸酯等。 以往的工作多集中在各种光产酸剂实际用于光致抗蚀剂的成像效果评价上,有关光产酸剂的合成及性质研究的报道相对较少。为了解光产酸剂结构与其性质间的关系以及为ArF 激 光(193nm)光致抗蚀剂的研制选择适用的光产酸剂, 我们参考文献[7]的方法合成了已有报道的 以下结构的硫鎓盐光产酸剂[8,9]: 其特点是硫鎓盐阳离子中不含苯基但含有萘基和羰基。其配伍阴离子分别为:对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸。 S +C H 2O RSO 3 -

光刻胶的发展及应用

Vo.l14,No.16精细与专用化学品第14卷第16期 F i n e and Specialty Che m ica ls2006年8月21日市场资讯 光刻胶的发展及应用 郑金红* (北京化学试剂研究所,北京100022) 摘 要:主要介绍了国内外光刻胶的发展历程及应用情况,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶今后的研发重点及未来的发展方向。 关键词:集成电路;光刻胶;感光剂 D evelop m ent T rends and M arket of Photoresist Z HENG J in hong (Be iji ng Instit u te o f Che m ica l R eagents,Be iji ng100022,Chi na) Abstrac t:The deve l op m ent course and app licati on o f photoresist i n Chi na and abroad we re i ntroduced.The m arket sta t us and head i ng d irec tion o f pho toresist in Ch i na and abroad w ere also analyzed.T he research f o cuses and deve l op m ent trends of pho t o res i st i n Ch i na w ere descri bed. K ey word s:i n teg ra ted c ircuit;photoresist;photosensiti zer 光刻胶(又称光致抗蚀剂)是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工,同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性,可利用其进行光化学反应,将光刻胶涂覆半导体、导体和绝缘体上,经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用,然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。 现代微电子(集成电路)工业按照摩尔定律在不断发展,即集成电路(I C)的集成度每18个月翻一番;芯片的特征尺寸每3年缩小2倍,芯片面积增加1 5倍,芯片中的晶体管数增加约4倍,即每过3年便有一代新的集成电路产品问世。现在世界集成电路水平已由微米级(1 0 m)、亚微米级(1 0~0 35 m)、深亚微米级(0 35 m以下)进入到纳米级(90~65nm)阶段,对光刻胶分辨率等性能的要求不断提高。因为光刻胶的可分辨线宽 =k /NA,因此缩短曝光波长和提高透镜的开口数(NA)可提高光刻胶的分辨率。光刻技术随着集成电路的发展,也经历了从g线(436nm)光刻,i线(365nm)光刻,到深紫外248nm光刻,及目前的193nm光刻的发展历程,相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生。随着曝光波长变化,光刻胶的组成与结构也不断地变化,使光刻胶的综合性能满足集成工艺制程的要求。 表1为光刻技术与集成电路发展的关系,其中光刻技术的变更决定了光刻胶的发展趋势。 1 国外光刻胶发展历程及应用 光刻胶按曝光波长不同可分为紫外(300~ 450nm)光刻胶、深紫外(160~280n m)光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。根据曝 24 *收稿日期:2006 07 19 作者简介:郑金红(1967 ),女,北京化学试剂研究所有机室主任,教授级高工,主要从事微电子化学品光刻胶的研究工作。

光刻胶实验报告

综合实验报告 题目:重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂正性光致抗蚀剂的制备与性质 院系:化学学院 年级:2011级 指导老师:王力元 姓名:姚宁 学号:201111014918

摘要:本文关于制备一种正性光致抗蚀剂——重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂及其成像性质的研究。重氮萘醌磺酸酯采用2,4,4’-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化得到,产量 1.43g,产率82.6% ;并用红外光谱和熔点仪对产物进行了表征。重氮萘醌磺酯感光剂与酚醛树脂和乙二醇配胶并均匀铺在铝板上,在紫外下曝光,稀碱水洗涤显影。成像试验得到的结果是:最佳曝光时间为90S,分辨率为12um。 关键词:重氮萘醌磺酸酯重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂光化学腐蚀法感光化合物负性光致抗蚀剂正性光致抗蚀剂 正文: 实验目的: 1. 初步了解光致抗蚀剂的概念 2. 了解酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂的成像原理 3. 学习重氮萘醌磺酸酯的制备方法 4. 学习匀胶机、烘胶台、碘镓灯的使用方法 5. 学习抗蚀剂曝光、显影等评价方法。 实验原理: 在半导体器件和集成电路制造中,要在硅片等材料上获得一定几何图形的抗蚀保护层,是运用感光性树脂材料在控制光照(主要是UV光)下,短时间内发生化学反应,使得这类材料的溶解性、熔融性和附着力在曝光后发生明显的变化;再经各种不同的方法显影后获得的。这种方法称为“光化学腐蚀法”,也称为“光刻法”。这种作为抗蚀涂层用的感光性树脂组成物称为“光致抗蚀剂”(又称光刻胶)。 按成像机理不同,光致抗蚀剂可分为负性光致抗蚀剂和正性光致抗蚀剂:(1)负性光致抗蚀剂:在紫外光照射下,光刻胶中光照部分发生交联反应,溶解度变小,用适当溶剂即可把未曝光的部分显影除去,在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像,因此称为负性光致抗蚀剂。(2)正性光致抗蚀剂:在紫外光照射下,光刻胶的光照部分发生分解,溶解度增大,用适当溶剂可以把光照部分显影除去,即形成与掩膜一致的图像,因此称为正性光致抗蚀剂。如图1所示。

印刷厂环境影响评价报告表

资料来源于环工网:https://www.360docs.net/doc/645466796.html, 建设项目环境影响报告表 项目名称:药品包装及特种印刷工程项目 建设单位(盖章):**印务有限公司 编制日期:2005年08月16日 国家环境保护总局制

《建设项目环境影响报告表》编制说明 《建设项目环境影响报告表》由具有从事环境影响评价工作资质的单位编制。 1.项目名称——指项目立项批复时的名称,应不超过30个字(两个英文字段作一个汉字)。 2.建设地点——指项目所在地详细地址,公路、铁路应填写起止地点。 3.行业类别——按国标填写。 4.总投资——指项目投资总额。 5.主要环境保护目标——指项目区周围一定范围内集中居民住宅区、学校、医院、保护文物、风景名胜区、水源地和生态敏感点等,应尽可能给出保护目标、性质、规模和距厂界距离等。 6.结论与建议——给出本项目清洁生产、达标排放和总量控制的分析结论,确定污染防治措施的有效性,说明本项目对环境造成的影响,给出建设项目环境可行性的明确结论。同时提出减少环境影响的其他建议。 7.预审意见——由行业主管部门填写答复意见,无主管部门项目,可不填。 8.审批意见——由负责审批该项目的环境保护行政主管部门批复。

评价单位: 项目负责人: 评价人员情况 姓名从事专业职称上岗证书号职责

建设项目基本情况 项目名称药品包装及特种印刷工程项目 建设单位**印务有限公司 法人代表联系人 通讯地址 联系电话传真邮政编码建设地点 立项审批部门批准文号 建设性质新建行业类别 及代码 印刷业 C-231 占地面积(平方米) 53280 绿化面积 (平方米) 15984 总投资(万元) 18450 其中:环保投 资(万元) 100 环保投资占 总投资比例 0.5% 评价经费 (万元) 预期投产日期2007年 工程内容及规模: 1、工程内容及规模: **印务有限公司目前位于**,占地9233m2,场地狭窄,办公、生活设施配套不合理,不能满足公司拓展业务的需要,因此公司拟在**内征用80亩土地,计划投资18450万元异地扩建一座现代化的药品包装和特征票据印刷生产企业。项目建设工程主要有综合办公楼、生产车间、配套的职工生活设施和围墙、道路、绿化等配套设施,总建筑面积15000 m2,其中:厂房9500 m2,综合办公楼3000 m2,职工倒班宿舍1300 m2,员工食堂500 m2,车库400 m2,大门门房60 m2,项目建设周期为18个月。详见项目地理位置图、总平面布置图和用地范围图。

光刻胶实验报告

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂 正性光致抗蚀剂的制备与性质 摘要:本文关于制备一种正性光致抗蚀剂——重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂及其成像性质的研究。重氮萘醌磺酸酯采用2,4,4’-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化得到,产量 1.59g ,产率91.4% ;并用红外光谱和熔点仪对产物进行了表征。重氮萘醌磺酯感光剂与酚醛树脂和乙二醇配胶并均匀铺在铝板上,在紫外下曝光,稀碱水洗涤显影。成像试验得到的结果是:最佳曝光时间为90S ,分辨率为10um ,网点保留情况下限为10%,上限小于90%。 关键词:重氮萘醌磺酸酯 重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂 制备 性质 正性光致抗蚀剂 在半导体器件和集成电路制造中,要在硅片等材料上获得一定几何图形的抗蚀保护层,是运用感光性树脂材料在控制光照(主要是UV 光)下,短时间内发生化学反应,使得这类材料的溶解性、熔融性和附着力在曝光后发生明显的变化;再经各种不同的方法显影后获得的。这种方法称为“光化学腐蚀法”,也称为“光刻法”;这种作为抗蚀涂层用的感光性树脂组成物称为“光致抗蚀剂”(又称光刻胶)。 按成像机理不同,光致抗蚀剂可分为两类:(1)负性光致抗蚀剂:紫外光照射下,光刻胶中光照部分发生交联反应,溶解度变小,用适当溶剂把未曝光的部分显影除去,在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像。(2)正性光致抗蚀剂:紫外光照射下,光刻胶的光照部分发生分解,溶解度增大,用适当溶剂把光照部分显影除去,即形成与掩膜一致的图像。 20世纪30年代, 德国卡勒公司的Oskar S üss 发现了重氮萘醌系光化合物。由于其具有感光范围宽, 从i-线(感光波长: 365nm)到g-线(感光波长: 436nm) 都有较高的分光感度,尤其是与线形酚醛树脂或酚树脂配合, 具有稀碱水显影, 显影宽容度高, 操作方便,储存稳定性好等优点,使得重氮萘醌系感光材料在20世纪60年代后广泛应用于印刷PS 版感光剂及集成电路加工光致抗蚀剂。至今仍普遍使用的g-线和i-线光致抗蚀剂都主要采用重氮萘醌系感光体系。 重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂体系正性光致抗蚀剂的成像原理:感光涂层受紫外光照射后,曝光区的重氮萘醌磺酸酯发生光解,放出N 2形成烯酮,烯酮遇水形成茚酸而易溶于稀碱水。由此通过稀碱水显影便得到了在未曝光区抗蚀膜保留的正型图形。 本实验采用2,3,4-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化,合成感光化合物。之后再与线性酚醛树脂—BTB24配合,溶于乙二醇乙醚,再加入少量添加剂,制得酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂。将其涂布于铝版基上,烘干,曝光,显影。 O N 2 SO 2Ar hv C SO 2O -N 2

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂——正性光致抗蚀剂的制备与性质

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂 正性光致抗蚀剂的制备与性质 摘要:本实验采用2,3,4-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,5-重氮萘醌磺酰氯进行酯化,合成感光化合物。之后再与线性酚醛树脂—BTB24配合,溶于乙二醇乙醚,再加入少量添加剂,制得酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂。将其涂布于铝版基上,烘干,曝光,显影。结果表明,最佳曝光时间为90S,分辨率为12um,网点保留下限为10%,上限为90%。 关键词:光致抗蚀剂化学增幅感光度重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂 在半导体器件和集成电路制造中,要在硅片等材料上获得一定几何图形的抗蚀保护层,是运用感光性树脂材料在控制光照(主要是UV光)下,短时间内发生化学反应,使得这类材料的溶解性、熔融性和附着力在曝光后发生明显的变化;再经各种不同的方法显影后获得的。这种方法称为“光化学腐蚀法”,也称为“光刻法”。这种作为抗蚀涂层用的感光性树脂组成物称为“光致抗蚀剂”(又称光刻胶)。 按成像机理不同,光致抗蚀剂可分为负性光致抗蚀剂和正性光致抗蚀剂:(1)负性光致抗蚀剂:在紫外光照射下,光刻胶中光照部分发生交联反应,溶解度变小,用适当溶剂即可把未曝光的部分显影除去,在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像,因此称为负性光致抗蚀剂。(2)正性光致抗蚀剂:在紫外光照射下,光刻胶的光照部分发生分解,溶解度增大,用适当溶剂可以把光照部分显影除去,即形成与掩膜一致的图像,因此称为正性光致抗蚀剂。如图1所示。 图1 光致抗蚀剂成像过程 20世纪30年代, 德国卡勒公司的Oskar Süss首先发现了重氮萘醌系感光化合物。它是以2,1,5或2,1,4重氮萘醌磺酰氯为代表的重氮萘醌化合物与含羟基的高分子或小分子进行酯化后得到的感光化合物。由于其具有感光范围宽, 从i-线(感光波长: 365nm)到g-线(感光波长: 436nm) 都有较高的分光感度,尤其是与线形酚醛树脂或酚树脂配合, 具有稀碱水显影, 显影宽容度高, 操作方便,储存稳定性好等优点,使得重氮萘醌系感光材料在20世纪60年代后广泛应用于印刷PS版感光剂及集成电路加工光致抗蚀剂。至今仍普遍使用的g-线和i-线光致抗蚀剂都主要采用重氮萘醌系感光体系。 重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂体系正性光致抗蚀剂的成像原理:感光涂层受紫外光照射后,曝光区的重氮萘醌磺酸酯发生光解,放出N2形成烯酮,烯酮遇水形成茚酸而易溶于稀碱水。由此通过稀碱水显影便得到了在未曝光区抗蚀膜保留的正型图形。以2,1,4-重氮萘醌磺酸酯为例,其成像原理如图2所示:

重氮萘醌酚醛树脂光刻胶

重氮萘醌-酚醛树脂体系光刻胶 感光性基团邻重氮萘醌基有机化合物+线型甲酚醛树脂+溶剂 特点:特性:分辨率高、台阶覆盖好、对比度好;粘附性差、抗蚀刻能力差、高成本。 原理:使用酯缩醛聚合物(线性酚醛树脂)为感光树脂,以重氮萘醌磺酸酯为光致产酸剂,光解产生磺酸,而酯缩醛聚合物具有高酸解性,在酸的作用下,室温即可分解为小分子片段,该体系用碱水显影时,具有更高的溶解速度和酸解活性,可进一步提高光致蚀刻剂的分辨率。 溶剂可选用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA),乙二醇乙醚,乙二醇乙醚乙酸酯等,其沸点大约在130℃左右,这有利于预烘工艺中溶剂的快速挥发。 原材料: (1)光刻胶用线性甲酚-甲醛树脂(本产品是甲酚与甲醛在催化剂作用下缩聚而成的热塑性聚合物,以反应工艺配方的严格设计控制树脂的分子量大小和分布、甲酚异构体比例以及甲撑连接方式。) 基本参数: 应用领域:本品是g-line、i-line光刻胶的关键组分之一,因其优异的热稳定性与抗蚀性,可用于制备高分辨率的树脂图像。 供应商:北京金介特新材料科技有限公司 (2)WL-8014(光刻胶专用酚醛树脂,红棕色) 供应商:濮阳蔚林化工股份有限公司 (3)光致产酸剂(化学增幅型如硫鎓盐,二砜化合物)及重氮萘醌磺酸酯2,1,4-重氮萘醌磺酸酯和2,1,5-重氮萘醌磺酸酯。 供应商:邯郸开发区立业化工有限公司 另一家公司的重氮萘醌磺酸酯(2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮-2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4-三羟基二苯甲酮-2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4-三羟基二苯甲酮 -2,1,5-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮-2,1,5-重氮萘醌磺酸酯)

光刻胶

一.光刻胶的定义(photoresist) 又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,得到所需图像(见图光致抗蚀剂成像制版过程)。 二.光刻胶的分类 光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能,将光刻胶作涂层,就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。 基于感光树脂的化学结构,光刻胶可以分为三种类型。 ①光聚合型 采用烯类单体,在光作用下生成自由基,自由基再进一步引发单体聚合,最后生成聚合物,具有形成正像的特点。 ②光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的材料,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可以制成正性胶. ③光交联型 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,而起到抗蚀作用,这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。 三.光刻胶的化学性质 a、传统光刻胶:正胶和负胶。 光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent),保持光刻胶的液体状态,使之具有良好的流动性;添加剂(Additive),用以改变光刻胶的某些特性,如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。 负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯,一种天然的橡胶;溶剂是二甲苯;感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂,产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得

一种新型苯磺酸光致产酸剂的合成

目录 摘要: (2) 引言 (2) 1实验部分 (3) 1.1仪器与试剂 (3) 1.2试验方法 (3) 2结果与讨论 (4) 2.1反应历程 (4) 2.2粗产品产率 (4) 2.3 红外特征吸收光谱 (4) 结论 (6) 参考文献 (6) 致谢 (7)

一种新型苯磺酸酯类光致产酸剂的合成 摘要:本文自主设计合成了一种新型苯磺酸酯类光致产酸剂。利用1-萘酚与苯磺酰氯在吡啶条件下,合成一种新型苯磺酸酯。最后通过IR的方法对合成的化合物进行确认以及性能表征。 关键词:苯磺酸酯类;光致产酸剂;1-萘酚;苯磺酰氯 Synthesis of a novel benzene sulfonic acid ester photoacid generator Abstract:This article independently designed and synthesized a new sulfonic acid esters light-induced production of acid.1 - naphthol and benzene sulfonyl chloride in pyridine under the conditions of synthesis of a new sulfonic acid ester. Finally, the IR method for confirmation and characterization of synthetic compounds. Key words : sulfonic acid esters; light-induced production of acid; 1 - naphthol; benzene sulfonyl chloride 引言 光致产酸剂又称为光产酸剂(photoacid generator,PAG)是指在紫外可见光、X射线、电子束、离子束等适当光照射下的光作用下,能产生酸的化合物。此酸能够作为催化剂使光照区域发生酸解反应,从而使曝光区域和非曝光区域有很大的溶解性差异,可以通过显影得到所需要的图像。 1983年由IBM公司的Ito等提出的化学增幅(Chemically Amplified,CA)光致产酸剂被认为是非常有前景的感光成像体系,因为光产酸剂体系具有很好的化学增幅效应、较高的成像灵敏度和记录精度。提到光产酸剂最容易想到的一种用途就是应用到光刻胶领域中,光刻胶作为集成电路中的一种关键性材料而被人

印刷制版用的光刻胶

印刷制版用的光刻胶 摘要介绍现代印刷制版所用光刻胶,着重介绍正性光刻胶的感光机理,对负性光刻胶和免处理光刻胶的基础知识进行了扼要介绍。可作为高中化学阅读材料,供一线教师选用。 关键词高中化学阅读材料光刻胶感光机理印刷制版重氮萘醌 将一种材料均匀涂布在底板上,表面覆盖掩膜,经紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,曝光区与非曝光区的溶解性产生显著差异。曝过光的底片或相纸用药液处理显出影像(称为显影)后,底板表面呈现出与掩膜一致或相反的图形。这种材料就是光刻胶(又称光致抗蚀剂),这个过程称为制版。光刻胶可分为两类:一类是正性光刻胶,其曝光部分可溶,非曝光部分不溶,形成的图像与掩膜相同;另一类是负性光刻胶,其曝光部分不溶,非曝光部分可溶,形成的图像与掩膜相反。 1 正性光刻胶 正性光刻胶因其高反差、不溶胀和非有机溶剂显影等优点,被广泛应用于印刷、电子及精密加工等领域。典型正性光刻胶的有效成分是线性酚醛树脂、重氮萘醌类感光化合物。那么,这些物质在曝光时发生了什么变化使得曝光区与非曝光区的溶解性产生了显著差异呢?对于这个问题,学者们有着不同的认识,这里我们介绍两种主流观点。 1.1 分子间氢键作用机理 早期的分子间氢键作用机理[1,2]得到了较多人认可。该机理认为,感光前,酚醛树脂的羟基与重氮萘醌通过氢键作用(如图1所示),形成了稳定的6元环结构,因此不溶于碱水。 图1 重氮萘醌系正性光刻胶分子间氢键作用 曝光时,如图2所示,重氮萘醌先失去1分子氮,并迅速重排成烯酮,然后转变成茚羧酸,上述6元环结构被破坏。茚羧酸遇碱水生成茚羧酸盐而溶解,酚醛树脂本身就是可溶于碱水的,这样曝光部分都溶解了,留下与掩膜相同的图像。 图2 重氮萘醌的光分解过程示意图 1.2 新的酚醛树脂分子溶解模型 Reiser后来提出的这种机理认为[3,4],重氮萘醌分子中的S=O键极性非常

数字印前印前制作员理论考试复习题一考试卷模拟考试题.docx

《印前制作员理论考试复习题一》 考试时间:120分钟 考试总分:100分 遵守考场纪律,维护知识尊严,杜绝违纪行为,确保考试结果公正。 1、 在Photoshop 中对图像执行“转换配置文件”命令,图像的颜色外观可能 发生改 变,但图像的像素值并不发生变化。( ) 2、 颜色调整操作既不会增加像素,也不会减少像素( ) 3、一般情况下最大扫描分辨率最好不要超过扫描仪的光学分辨率。( ) 4、矢量图一般比较适合描述企业的 LOGO 等细节变化较少的图。( ) 姓名:________________ 班级:________________ 学号:________________ --------------------密----------------------------------封 ----------------------------------------------线-------------------------

5、梯尺的级差为 0.3,阳图 PS版干净级数加一级,曝光量需增加 2倍。() 6、排出血图的目的是为了美化版面,同时还可使画面适当放大,便于欣赏。() 7、显示器上显示的图像大小就是最终打印的图像尺寸。() 8、平台扫描仪的光电转换器是电荷藕合器,滚筒扫描仪的是光电倍增管。() 9、一般在对图像进行阶调调整时选复合通道,色彩调整时要选单色通道。() 10、正面印刷丝网版的晒版原版是正向阳图版。()

11、一般安排色序的原则是先印专色,后印四色。() 12、一般印刷品光泽均随承印物吸附能力的增加而增强。() 13、对图像扫描定标时,如果白场定的较高,则图像的颜色较深。() 14、GATF星标中心白点大,说明网点增大。() 15、 RGB颜色比CMYK颜色的像素需要更大的存储容量。() 16、分辨率高,尺寸大的图像,其文件数据量就大。() 17、Lab、RGB、灰度和 CMYK 图像的每个颜色通道包含 8 位数据。() 18、在印前工作中为保证图像质量,不允许图像模式反复转换。()

我国正性光刻胶的制备与应用研究进展

综述学术论文 036 收稿日期:2018-07-18 作者简介:杜新胜(1974-),男,工程师,主要从事高分子材料方面的研究。E-mail :dux325@https://www.360docs.net/doc/645466796.html, 。 我国正性光刻胶的制备与应用研究进展 12 杜新胜,张红星(1.中国石油兰州石化公司研究院,甘肃 兰州 730060;2.兰州石化公司乙烯厂聚丙烯车间,甘肃 兰州 730060) 摘要:简述了正性光刻胶的光聚合机理,重点阐述了我国正性光刻胶的制备研究进展,并指出了我国正性光刻胶研究及发展方向。 关键词:正性;光刻胶;光聚合机理;聚合;应用中图分类号:T Q 437;T Q 31 文献标识码:A 文章编号:1001-5922(2019)01-0036-05 光刻胶是一类通过光束、电子束、离子束等能量辐射后,溶解度发生变化的耐蚀刻随着我国半导体工业的迅速发展,对光 薄膜材料,在集成电路和半导体分立器件的刻技术提出了越来越高的要求,从最早的436 [1~5]nm 光刻,365 nm 光刻,248 nm 光刻,到目前微细加工中有着广泛的应用。通过将光刻的193 nm 光刻及最有发展前景的极紫外13.5 胶涂覆在半导体、导体和绝缘体材料上,经nm 光刻,光刻技术的分辨率从微米级发展到曝光、显影后留下的部分对底层起保护作纳米级,相应地对光刻胶也提出了更高的要用,然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要求,开发新型具有高分辨率、低边缘粗糙度的微细图形从掩膜版转移到待加工的衬底的光刻胶,使其综合性能满足光刻工艺的要上,因此光刻胶是微细加工技术中的关键材求成为目前光刻技术发展的重要任务。正性料。跟据光化学反应机理不同,光刻胶分为光刻胶具有高分辨率、抗干法蚀刻性强、耐正性光刻胶与负性光刻胶:曝光后,光刻胶热性好、去胶方便、台阶覆盖度好、对比度在显影液中溶解性增加,得到与掩膜版相同好的特点,但粘附性和机械强度较差且成本图形的称为正性光刻胶;曝光后,光刻胶在较高,鉴于它的高分辨率,广泛应用在显影液中溶解性降低甚至不溶,得到与掩膜版0.8~1.2 μm 及0.35 μm 集成电路的微细加相反图形的称为负性光刻胶。2种光刻胶都有工上。 各自不同的应用领域,通常来讲,正性光刻胶[6]用的更为普遍,占到光刻胶总量的80%以上。 曹昕利用2种不同重均分子质量的改性酚醛树脂(PF)与一种3个酯化度的四羟基二苯甲酮一重氮萘醌磺酸酯光敏剂(PAC)按比1 光聚合机理 例配制,加入适量助剂优化感光性能,制备出一种应用于电子触屏加工领域的I-line 正正性光刻胶树脂提供光刻胶的粘附性、性光刻胶,其具有刻蚀精度高、工艺性能优化学抗蚀性,当没有溶解抑制剂存在时,光良、单位成本较低等优势特点。图1为重氮萘刻胶树脂会溶解在显影液中;感光剂是光敏醌体系正性光刻胶分子间氢键作用图。 化合物,最常见的是重氮萘醌(DNQ)。在曝光前,DNQ 是一种强烈的溶解抑制剂,降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后,DNQ 在光刻胶中化学分解,成为溶解度增强剂,大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ 中产生羧酸,它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度,所以生成的图形具有良好的分辨率。烯类单体,在光作用下生成自由基,自由基再进一步引发单体聚合,最后生成聚合物,具有形成正像的特点。 2 正性光刻胶的制备研究进展 图1 重氮萘醌体系正性光刻胶分子间氢键作用F i g .1 H y d r o g e n b o n d i n g i n t e r a c t i o n b e t we e n d i a z o n a p h t h o q u i n o n e p o s i t i v e p h o t o r e s i s t s

酚醛树脂的研究进展

酚醛树脂的研究进展 专业:高分子材料与工程 班级:100309 学号:100309129 姓名:周欢 2013年10月21日

酚醛树脂的研究进展 周欢(班级:100309 学号:100309129) 摘要:综述了 2011-2012 年国外酚醛树脂的生产情况,新型酚醛泡沫材料在防火、建筑保温领域的应用。酚醛模塑料新产品的开发以及新型改性酚醛树脂的合成以及反应机理方面的研究进展。及酚醛树脂的主要增韧方法,详细地分析和总结了各种增韧方法的增韧机理。结果表明:增韧方法可以归结为内增韧和外增韧两大类,不同的增韧方法对应不同的增韧机理。 关键字:酚醛树脂;增韧机理;增韧方法 引言:酚醛树脂作为最古老的合成树脂,经历了 100多年的历史,因其具有较高的力学性能、耐热性好、阻燃、耐烧蚀、低毒、低发烟等优良性能,因而广泛用于模塑料、铸造树脂、摩擦材料、泡沫塑料、半导体封装材料、复合材料等诸多领域。 1.生产和市场概况 据统计,2011年度全球酚醛树脂总计产量为458. 8万t 左右,其中美洲 211. 2万t,欧洲 100.2万t,亚洲 147.4万t( 其中中国为116.3万t) 。近几年来,亚洲产量迅速提高,2011 年度亚洲产量已占全球的32. 12%,其中中国产量已占全球的 25.34%。 酚醛树脂由于其良好的粘结性,优良的耐热性,独特的烧蚀性,阻燃性以及经济性,使其得到了很好的发展与应用,主要应用在汽车、电气电子住宅和钢铁工业等领域。在壳型铸造方面,近几年来开发铝铸件用易溃散型铸造树脂的环保课题,着重研究了减少乌洛托品添加质量以减轻臭氧的生成及崩裂,还成功研究了在酚醛树脂中添加各种改性剂,以提高其强度,并开发了兼具烟油少、低热膨胀性和易溃散性的酚醛树脂。 酚醛树脂作为摩擦材料已广泛使用在汽车和铁路车辆制动及驱动使用的制动衬片,缓冲型离合器衬片的粘合剂。日本已研究用特殊芳香族和特殊硅化合物,以及合成橡胶改性的酚醛树脂,开发了不用乌洛托品,固化时不产生气体的粉末酚醛树脂。对于在光致抗蚀材料的应用,是形成半导体和LCD 组件用的感光材料,它们大多使用具有高分辨率的阳极型,其主要成分是具有耐腐蚀性( 耐酸性、耐热性) 的甲酚系酚醛清漆和重氮萘醌系列感光剂。随着 LCD 玻璃基板大型化,研究着重提高成品率和产量,对于光致抗蚀材料,要求曝光、显像及低湿干燥过程中具有稳定性,涂布方式改为非旋转式,并开发了减少升华物的二聚物酚醛清漆树脂。 酚醛树脂在耐火材料的应用方面,日本已成功开发了熔融粘性高的不定形耐火物、热流动性好的液状酚醛树脂,尽量降低游离酚和游离醛成分,提高干燥性和固化性。酚醛泡沫塑料是一种性能优良的防火、隔热、轻质节能产品。其导热系数低,密度最低仅为 30 ~40 kg/m 在欧美日等工业发达国家,对重要建筑和高层建筑进行墙体保温均有严格的防火要求。美国有20 多个州已禁止使用 PS 作为墙体保温材料; 在英国,18 m 以上建筑不允许使用 PS 作为墙体保温材料; 在德国,22 m 以上建筑不允许使用 PS 作为墙体保温材料。因此各国有关建设部门将目光转向既节能又防火的 PF 用于墙体保温系统中。 英国普玛洛克制品公司是一家以生产酚醛外保温板知名的厂家,酚醛泡沫( PF) 防火性能达到英国标准BS476 -7 的 1 级。该公司经多年来的开发研究,按照英国标准制定并实施了一套完整成熟的施工应用技术体系规范。该公司宣称,外保温系统在公用建筑或民用住宅施工后至少 30 a 不会出现损坏事故。 英国金斯潘保温材料公司是欧洲酚醛泡沫协会( EPFA) 主要成员,也是世界上最大的 PF 生产厂家之一。它的 PF 商标名 Kooltherm,根据用途不同可分成 10 个牌号。常用牌号如下: K3 是用于地板保温; K7 是用于屋面保温; K8 是一般传统墙体保温; K10 是天花板保温; K12 是用于钢框架或木框架结构外墙保温。 美国西碧化学公司多年来主要从事于酚醛树脂、表面活性剂、催化剂及相关发泡设备的生产销售和研发。 30 多年来该公司致力于开发一种名为Tripolymer 的 PF。如今该公司在美国国内已有 8 个生产厂,在英国、德国和澳大利亚也建立了工厂。在新建或既有的民用和商用建筑上共装配了 3600万 m2的 Tripolymer。近

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