导带价带禁带费米能级

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磷酸铁锂的费米能级

磷酸铁锂的费米能级

磷酸铁锂(LiFePO4)是一种重要的锂离子电池正极材料,其费米能级(Fermi level)是描述材料中电子能级分布的参数。

磷酸铁锂的费米能级位置取决于其化学组成、晶体结构以及掺杂情况等因素。

一般来说,磷酸铁锂是一种具有隙态的材料,费米能级位于其导带和价带之间的隙态能级上。

这是由于磷酸铁锂的导带和价带之间存在禁带隙,使得电子在低温下填充到费米能级以下的能级上,从而实现电子传导。

具体来说,在磷酸铁锂中,磷酸根(PO4)3-离子起到了稳定结构的作用,而铁离子(Fe2+)和锂离子(Li+)则占据着晶格中的空位。

费米能级的位置取决于材料的载流子浓度、掺杂情况以及温度等因素。

一般来说,磷酸铁锂的费米能级位于其禁带隙的中间,并且随着掺杂、温度的变化而发生移动。

需要注意的是,实际应用中,磷酸铁锂通常会进行掺杂或添加导电剂以提高其电导率,从而改善其电池性能。

这些掺杂和添加导电剂的操作可能会对费米能级位置产生影响,使其发生变化。

因此,磷酸铁锂材料的具体费米能级位置需要实际的实验测量和计算来确定。

导带、价带、禁带、费米能级

导带、价带、禁带、费米能级

(1)导带conduction band:导带是由自由电子形成的能量空间。

即固体结构内自由运动的电子所具有的能量范围。

对于金属,所有价电子所处的能带就是导带。

对于半导体,所有价电子所处的能带是所谓价带,比价带能量更高的能带是导带。

在绝对零度温度下,半导体的价带(valence band)是满带(见能带理论),受到光电注入或热激发后,价带中的部分电子会越过禁带(forbidden band/band gap)进入能量较高的空带,空带中存在电子后即成为导电的能带——导带。

势能动能:导带底是导带的最低能级,可看成是电子的势能,通常,电子就处于导带底附近;离开导带底的能量高度,则可看成是电子的动能。

当有外场作用到半导体两端时,电子的势能即发生变化,从而在能带图上就表现出导带底发生倾斜;反过来,凡是能带发生倾斜的区域,就必然存在电场(外电场或者内建电场)。

(2)价带与禁带:价带(valence band)或称价电带,通常是指半导体或绝缘体中,在0K 时能被电子占满的最高能带。

对半导体而言,此能带中的能级基本上是连续的。

全充满的能带中的电子不能在固体中自由运动。

但若该电子受到光照,它可吸收足够能量而跳入下一个容许的最高能区,从而使价带变成部分充填,此时价带中留下的电子可在固体中自由运动。

禁带,英文名为:Forbidden Band 常用来表示价带和导带之间的能态密度为零的能量区间。

禁带宽度的大小决定了材料是具有半导体性质还是具有绝缘体性质。

半导体的禁带宽度较小,当温度升高时,电子可以被激发传到导带,从而使材料具有导电性。

绝缘体的禁带宽度很大,即使在较高的温度下,仍是电的不良导体。

无机半导体的禁带宽度从0.1~2.0eV,π-π共轭聚合物的能带隙大致在1.4~4.2eV,绝缘体的禁带宽度大于4.5eV。

(3)导带与价带的关系:“电子浓度=空穴浓度”,这实际上就是本征半导体的特征,因此可以说,凡是两种载流子浓度相等的半导体,就是本征半导体。

金属与半导体接触后费米能级一样吗

金属与半导体接触后费米能级一样吗

金属与半导体接触后费米能级一样吗全文共四篇示例,供读者参考第一篇示例:金属与半导体是两种具有不同导电特性的材料,它们在电子性质方面存在着显著的差异。

金属是指导电子较多的材料,其费米能级处于导带之内,电子能够轻松地在导带内传导电流。

而半导体是指导电子较少的材料,其费米能级处于禁带内,需要受到外界激发才能使电子跃迁至导带中进行导电。

当金属与半导体接触时,由于两者性质的不同,费米能级也会发生变化。

在接触界面处,金属的费米能级与半导体的费米能级会发生调节,以达到能量平衡。

这个调节过程是通过电子的迁移和再分布来实现的。

在金属-半导体接触处,电子从金属中向半导体注入,直到两者的费米能级相等。

尽管金属与半导体接触后费米能级会趋于一致,但在实际情况中并不会完全相等。

这是因为金属与半导体是两种本质上不同的材料,它们的晶格结构、电子构型、导电机制等都存在差异,所以费米能级不会完全相等。

而费米能级的不同也会导致金属与半导体接触处的电子传输性质有所差异。

在金属-半导体接触中,金属的导电性会对半导体的电子输运性质产生影响。

当金属与半导体接触时,金属中的自由电子会向半导体中输运,增加半导体的导电性。

这种现象被称为肖特基势垒,通过肖特基势垒的形成,金属与半导体接触处会形成一个电子能量梯度,促使电子从金属流向半导体。

而这个能量梯度的存在也意味着金属-半导体接触处的费米能级并不是完全一致的。

金属与半导体接触后,由于两者的特性差异,还会产生其它现象,如反向漏电流、接触电势差等。

这些现象都表明金属与半导体接触处的费米能级虽然会趋于一致,但并不会完全相等。

金属与半导体接触后,费米能级并不会完全一致,而是会受到各种因素的影响而有所差异。

金属与半导体接触处的电子传输性质也因此会发生变化,这对于半导体器件的设计和性能有着重要的影响。

在研究金属-半导体接触时,需要考虑各种因素的综合作用,以更好地理解和控制金属与半导体接触处的费米能级和电子传输性质。

半导体物理(名词解释)

半导体物理(名词解释)

共有化运动:在半导体中,由于原子之间的相互作用,电子不再局限于某个原子,而是可以在整个晶体中自由运动的现象能带特点:分裂的每一个能带称为允带。

允带间的能量范围称为禁带内层原子受到的束缚强,共有化运动弱,能级分裂小,能带窄,外层原子受束缚弱,共有化运动强,能级分裂明显,能带宽价带是指晶体中最低能量的,能带其中的电子通常被束缚在原子或分子中,不能自由移动导带是指晶体中能量较高的,能带其中的电子可以自由移动并参与导电禁带是指晶体中价带和导带之间的能量区域,其中不存在允许的电子能量状态允带是指晶体中允许电子存在的能量状态所组成的能带本征激发:价带上的电子被激发成为准自由电子,即价带电子激发成为导带电子的过程有效质量体现了晶格周期性势场的影响能带底部的有效质量大于零,能带顶部的有效质量小于零有效质量具有方向性能带宽,有效质量小,能带窄,有效质量大空穴:半导体中,由于电子的运动而形成的空位满带中的电子不导电施主杂质:为半导体材料提供导电电子的杂质受主杂质:为半导体材料提供导电空穴的杂质杂质电离:价电子脱离杂质原子成为自由电子的过程施主能级:被失主杂质束缚的电子的能量状态(多余电子的杂质能级)受主能级:被受主杂质所束缚的空穴的能量状态(多余空穴的杂质能级)N型半导体:依靠导带电子导电的半导体P型半导体:依靠空穴导电的半导体浅能级杂质:施主或受主能级离导带底或价带顶很近,杂质电离能很小深能级杂质:杂质电离能大,施主能级远离导带底,受主能级远离价带顶。

杂质的补偿作用:半导体中同时存在施主杂质和受主杂质时,施主杂质和受主杂质之间有相互抵消的作用ND>NA,ND-NA为有效施主浓度ND<NA,NA-ND为有效受主浓度弗伦克尔缺陷:间隙,原子和空位是成对出现的肖特基缺陷:只在晶体内形成空穴而无间隙原子空穴和替位原子都是点缺陷位错是线缺陷状态密度:在能带中能量E附近,每单位能量间隔内的量子态数有效质量大的能带状态密度大费米分布函数f(E):描述每个量子态被电子占据的几率随E的变化,f(E)=1/[1+exp((E-EF)/k0T)]费米能级EF是系统的化学势:指温度为绝对零度时固体能带中充满电子的最高能级载流子的复合:电子从高能量的量子态跃迁到低能量的量子态,并向晶格放出一定能量,从而使导带中的电子和价带中的空穴不断减少热平衡状态:在一定的温度下,电子从低能量的量子态跃迁到高能量的量子状态及电子从高能量的量子态跃迁到低能量的量子态这两个相反过程之间建立起动态平衡。

费米能级在半导体中的作用课件

费米能级在半导体中的作用课件

费米能级的调控技术及其应用前景
费米能级调控技术
研究和发展新的费米能级调控技术,如 电场、磁场、光场等手段对费米能级的 调控。
VS
费米能级调控的应用前景
探讨费米能级调控在能源、信息、生物等 领域的应用前景,如自旋电子学、拓扑电 子学等。
费米能级与载流子浓度的关系
01
费米能级的位置决定了载流子的 浓度。当费米能级接近价带时, 载流子为电子;当费米能级接近 导带时,载流子为空穴。
02
载流子浓度决定了半导体的导电 性能。在一定温度下,费米能级 的位置和载流子浓度可以通过掺 杂和温度调节来实现。
03
费米能级在半导体中的行为
费米能级与热平衡状态下的半导体
在正向偏置的PN结中,由于多数载流子的注入,费米能级会上移;而在 反向偏置下,费米能级会下移。
费米能级的变化会影响半导体的导电性能,进而影响半导体器件的性能。
费米能级与半导体器件性能的关系
费米能级的位置直接决定了半导体的 导电性能,进而影响半导体器件的性 能。
对于光伏器件,如太阳能电池,费米 能级的位置会影响光生载流子的产生 和分离效率,从而影响光伏转换效率。
费米能级的计算方法
根据费米分布函数和电子状态 密度函数,可以计算出费米能 级的位置。
费米能级的位置与温度、材料 种类、掺杂浓度等因素有关。
在半导体中,费米能级的位置 通常可以通过实验测量得到, 如通过霍尔效应、光电导等实 验方法。
费米能级与状态密度的关系
费米能级的位置与状态密度密切 相关,随着状态密度的变化,费
对于双极性器件,如晶体管,费米能 级的位置会影响载流子的浓度和电流 放大倍数,从而影响器件的放大性能。
因此,控制费米能级的位置是优化半 导体器件性能的关键因素之一。

导带、价带、讲解学习

导带、价带、讲解学习

导带、价带、导带、价带都属于允带,允带有很多的能级(不过可视为准连续,因为能级间差距实在是太小了!),原子中电子的填充都是从最低能级开始的,假设有这么一个情形:电子填啊填,填到某一允带的所有能级都被填满时,刚好所有电子都用完了,再没有一个电子需要填充了。

那么,这个允带就是“满带”,它的最高的那个能级就是“价带(顶)”,这个允带往上隔了一个禁带Eg之后,又有一个允带(在更高能级位置),我们称之为导带,但是这个允带没有任何电子(因为电子在上一个允带时就已经全部填充完了!所以说所谓允带只是说允许有电子存在,但实际上有没有、有多少呢,却不一定;当然禁带是绝对不可能有电子存在。

),所以为“空带”。

我们再看回满带,在满带中,每个能级都有且仅有一个电子(为什么每个能级只能有一个电子呢?请自己查找泡利不相容原理的相关资料),那么满带是不导电的(电子都不能在满带的能级间跑动,自然就不可能有电流啦!)。

但是,对于半导体,禁带Eg不是太大,故而价带电子有机会跃迁到导带中,成为自由电子(导带中的所有能级几乎全空,电子在这里可以跳来跳去,当然很自由啦!),故而导带可以导电,所以才叫导带嘛。

导带是高架桥,价带是地面人行道。

半导体就像是人满为患时的地面交通,电子君们寸步难行挤成狗,但你若是有本事跳上空旷无人的高架桥,那就可以随便跪”。

高架桥到地面之间的空档,就被称为禁带。

所谓禁带就是说电子君没地方可站。

相应的,允带就是电子君可以站的地方,所以除了导带和价带,地下通道也是允带。

高架桥若是太高,电子君们跳不上去,交通便陷入彻底瘫痪。

这是绝缘体。

高架桥若是接上了地面道路,电子君们就能纷纷上桥,交通立刻顺畅起来。

这是金属。

现代半导体技术,之所以能够实现器件的开关,就是能够在高架桥和地面之间架起一-座临时的梯子,它将决定地面上有多少幸运的电子君能够登上高架桥,担负起导电的伟大使命。

以上。

让我们从最基本的开始……以下如果没有特别说明主角都是电子。

导带和价带的区别

导带和价带的区别

导带和价带的区别
价带和导带最接近费米能级。

因此,这些带决定了固体材料的电导率。

物体电子的费米能级化学势是向物体添加一个电子所需的热力学功。

价带是当原子被激发时电子可以从中跳出的电子带。

在这里,电子跳到导带。

因此,基本上,它是任何具有电子的材料的原子的最外层电子轨道。

此外,该术语与术语价电子密切相关。

导带是部分充满电子的结晶固体中能级的离域带。

这些电子具有很大的迁移率并负责导电。

在这里,导带是电子轨道的带,当原子被激发时电子可以跳跃到该带。

这些电子从价带跳跃。

当电子处于导带时,这些电子有足够的能量在材料内部自由移动。

这种运动会产生电流。

费米能级位置

费米能级位置

什么是Fermi能级为什么Fermi能级可以处于禁带中间为什么本征半导体的Fermi能级位于禁带中央为什么n型半导体的Fermi能级位于导带底附近Fermi能级随着温度和掺杂浓度的改变而如何变化Fermi能级(E F)是一个非常重要的物理概念,它在半导体电子学中起着极其重要的作用。

(1) Fermi能级的概念:在固体物理学中,Fermi能量(Fermi energy)是表示在无相互作用的Fermi粒子的体系中加入一个粒子所引起的基态能量的最小可能增量;也就是在绝对零度时,处于基态的Fermi粒子体系的化学势,或者是处于基态的单个Fermi粒子所具有的最大能量--------- F ermi粒子所占据的最高能级的能量另一方面,按照Fermi-Dirac统计,在能量为E的单电子量子态上的平均电子数为:式中的T为绝对温度,k为玻尔兹曼常数,圧是该Fermi-Dirac分布函数的一个参量(称为化学势「在绝对零度下,所有能量小于E F的量子态都被电子占据,而所有能量大于E F的量子态都是空着的,则作为化学势的参量E F就是电子所占据的最高量子态的能量,因此这时系统的化学势也就与费米能量一致。

从而,往往就形象地把费米能量和化学势统称之为Fermi能级。

虽然严格说来,费米能级是指无相互作用的Fermi粒子系统在趋于绝对零度时的化学势,但是在半导体物理电子学领域中,费米能级则经常被当做电子或空穴的化学势来使用,所以也就不再区分费米能级和化学势了。

在非绝对零度时,电子可以占据高于E F的若干能级,则这时Fermi 能级将是占据几率等于50%的能级。

处于Fermi能级附近的电子(常称为传导电子)对固体的输运性质起着重要的作用。

(2)Fermi能级的含义:作为Fermi-Dirac分布函数中一个重要参量的Fermi能级EF,具有决定整个系统能量以及载流子分布的重要作用。

①在半导体中,由于Fermi能级(化学势)不是真正的能级,即不一定是允许的单电子能级(即不一定是公有化状态的能量),所以它可以像束缚状态的能级一样,可以处于能带的任何位置,当然也可以处于禁带之中。

半导体器件物理基础

半导体器件物理基础

Vg<0
理想情况,以p 型衬底为例
•正电荷积累,屏蔽 负电场,终止电力线
Vg>0 Vg>>0
施加偏压后 的不同状态: 积累、耗尽、 反型
E弱f>反E型i,开始反型
两部分电荷:反型层+耗尽层电荷
•强反型条件
n(0) = Na
φs=2 φb
强反型:耗尽层宽度达最大,反型层中电子浓度与表面势成 指数关系,相当于屏蔽层
与共基极特性曲线可以转换
晶体管的特性参数
晶体管的 电流放大系数 晶体管的反向漏电流和击穿电压
反向漏电流 Icbo:发射极开路时,收集结的反向漏电流 Iebo:收集极开路时,发射结的反向漏电流 Iceo:基极极开路时,收集极-发射极的反向漏电流
晶体管的击穿电压
Bvcbo:集电结反向击穿电压:Icbo趋向无穷大时所对 应的电压 Bvceo:集电极-发射极反向击穿电压:共发射极运用 时,收集极-发射极间所能承受的最大反向电压 Bvebo:发射结反向击穿电压
(MOSFET)
器件结构
对称结构: 不加电压时,无法区分源、漏
工作原理
) 利用MOSFET作开关 ) 纵向电场和横向电场同时控制:电压控制型器件 ) 一种载流子为主:单极器件
特点
栅与其它电极之间 有绝缘的氧化层
无直流通路
容性阻抗
直流输入阻抗很高
输入功率很低
扇出能力强
MOSFET的I-V特性
反向偏置时,漂移大于扩散
漂移
电子: N区
P区
扩散
漂移
空穴: P区
N区
N区中空穴、P区中的电子被反向抽取
扩散
少子运动:电流小;边界处少子变化量不超过

Fermi能级简介

Fermi能级简介

Fermi能级简介费⽶能级简介(1)Fermi能级的概念:在固体物理学中,Fermi能量(Fermi energy)是表⽰在⽆相互作⽤的Fermi粒⼦的体系中加⼊⼀个粒⼦所引起的基态能量的最⼩可能增量;也就是在绝对零度时,处于基态的Fermi粒⼦体系的化学势,或者是处于基态的单个Fermi粒⼦所具有的最⼤能量——Fermi粒⼦所占据的最⾼能级的能量。

另⼀⽅⾯,按照Fermi-Dirac统计,在能量为E的单电⼦量⼦态上的平均电⼦数为:式中的T为绝对温度,k为玻尔兹曼常数,E F是该Fermi-Dirac分布函数的⼀个参量(称为化学势)。

在绝对零度下,所有能量⼩于E F的量⼦态都被电⼦占据,⽽所有能量⼤于E F的量⼦态都是空着的,则作为化学势的参量E F就是电⼦所占据的最⾼量⼦态的能量,因此这时系统的化学势也就与费⽶能量⼀致。

从⽽,往往就形象地把费⽶能量和化学势统称之为Fermi能级。

虽然严格说来,费⽶能级是指⽆相互作⽤的Fermi粒⼦系统在趋于绝对零度时的化学势,但是在半导体物理电⼦学领域中,费⽶能级则经常被当做电⼦或空⽳的化学势来使⽤,所以也就不再区分费⽶能级和化学势了。

在⾮绝对零度时,电⼦可以占据⾼于E F的若⼲能级,则这时Fermi能级将是占据⼏率等于50%的能级。

处于Fermi能级附近的电⼦(常称为传导电⼦)对固体的输运性质起着重要的作⽤。

(2)Fermi能级的含义:作为Fermi-Dirac分布函数中⼀个重要参量的Fermi能级EF,具有决定整个系统能量以及载流⼦分布的重要作⽤。

①在半导体中,由于Fermi能级(化学势)不是真正的能级,即不⼀定是允许的单电⼦能级(即不⼀定是公有化状态的能量),所以它可以像束缚状态的能级⼀样,可以处于能带的任何位置,当然也可以处于禁带之中。

对于绝缘体和半导体,Fermi能级则处于禁带中间。

特别是本征半导体和绝缘体,因为它们的的价带是填满了价电⼦(占据⼏率为100%)、导带是完全空着的(占据⼏率为0%),则它们的Fermi能级正好位于禁带中央(占据⼏率为50%)。

半导体器件物理

半导体器件物理

上一次课:半导体物理基础 半导体、N型半导体、P型半导体、本征半导体、非本征半导体载流子、电子、空穴、多子、少子、平衡载流子、非平衡载流子掺杂、施主杂质、受主杂质能带、导带、价带、禁带、费米能级、准费米能级载流子浓度n,p;迁移率载流子输运:"扩散、漂移、产生、复合电流连续性方程12服从玻尔兹曼分布的载流子浓度φF :体费米势φF)ln()ln(iD t i D F n N n N q kT φφ==)ln()ln(Ai t A i F N n N n q kT φφ==3电流连续方程()R G qt n n −+∇=j 1∂∂()R G q tp p −+∇−=j 1∂∂电子:空穴•载流子输运影响载流子浓度随时间变化:漂移、扩散:电流变化间接或直接热复合、间接或直接产生4电流密度方程载流子的输运方程在漂移-扩散模型中nqD n q n n n ∇+=E j μpqD p q p p p ∇−=E j μ方程形式1方程形式2半导体器件物理基础5半导体器件据统计:半导体器件主要有67种,另外还有110个相关的变种所有这些器件都由少数基本模块构成:•PN结•金属-半导体接触•MIS结构•异质结•超晶格和量子阱61907:发光二极管1947:第一个晶体管: 诺贝尔奖1949:PN结晶体管1952:JFET1954:太阳电池1957: HBT:2000年诺贝尔奖1958: 隧道二极管(稳压管):诺贝尔奖1962: CMOS1967: 非挥发存储器196+: 微波器件(IMPATT, 渡越电子二极管)1970:CCD器件1971:Intel CPU1974: 共振隧穿二极管1980: MODFET198+:异质结构和基于量子效应的器件:纳米电子学7PN结/PN结二极管PN结"双极晶体管"MOS场效应晶体管、JFET"光电器件"电力电子器件(如可控硅器件等)的基本组成部分本身作为二极管"开关、整流、稳压、变容等8PN结的结构工作原理"平衡情况"非平衡情况PN结静电量的定量描述PN结二极管电流特性的定量描述(稳态响应)PN结二极管的击穿PN结二极管的小信号特性PN结二极管的瞬态响应基本电路应用910PN 结的结构突变结线性缓变结注入或扩散相反类型杂质+退火冶金结11有代表性:•两种载流子•漂移、扩散、产生复合基本运动形式PN 结:二极管(diode )PNiPN结的单向导电性(整流特性):P区接正,N区接负"正向导电性很好,电流随电压增加迅速增大,正向电阻小"反向导电性差,电流很小,趋于饱和,反向电阻大"反向击穿分析"平衡情况"非平衡情况¾正向¾反向1213自建电场P 型N 型准中性区准中性区空间电荷区x px n•假设P 区、N 区均匀掺杂•突变结自建电场引起的电子、空穴漂移运动与它们的扩散运动方向相反,直到两者相抵,达到动态平衡空间电荷区耗尽层:高阻区PN 结的形成14平衡的PN 结:没有外加扰动能带图平衡情况下,费米能级一致势垒、位垒P 区能带上移是自建场的影响,P 区静电势能高能带按电子能量定自建势qV biN 区和P 区的电势差:自建势、接触电势差V bi15静电势由本征费米能级Ei 的变化决定qE i−=ϕ能带向下弯,静电势增加16与掺杂浓度有关自建势Vbi正向偏置的PN结情形正向偏置时的能带图正向偏置时,扩散大于漂移N区P区空穴:电子:P区N区扩散扩散漂移漂移电子和空穴扩散电流相加运动的是多子势垒须下降到一定程度:导通电压,电流指数增加171819PN 结的反向特性反向偏置时的能带图反向偏置时,漂移大于扩散20P 区N 区电子:扩散漂移反向偏置时,漂移大于扩散•N 区中空穴、P 区中的电子被反向抽取•少子运动:电流小•反向电流:产生电流(产生率大于复合率)•边界处少子变化量不超过平衡少子浓度:电流趋于饱和•边界少子注入很多•光照: 光电二极管(光电探测)+-空穴N 区P 区扩散漂移单向导电性•正向导通,多数载流子电流:大、陡边界少子浓度增加形成积累注入多子•反向截止,少数载流子电流:小边界少子浓度减少抽取少子21PN结的结构工作原理"平衡情况"非平衡情况PN结静电量的定量描述:二极管和其他器件建模的基础"平衡"非平衡PN结二极管电流特性的定量描述击穿小信号特性2223PN 结耗尽区中电场、电势分布出发点:泊松方程:半导体器件基本方程描述半导体中静电势的变化规律形式1()02x,εερϕs t −=∇形式2()∫=ss dx x x ρεεε01)(24平衡情况(不加外偏压)()np NNq AD−+−=−+ρ耗尽近似:在冶金结附近载流子浓度与净杂质浓度相比近似忽略不计为了获得解析解:耗尽近似25N区P区最大电场在x=0处积分积分2627P 区积分n 区积分20)(2)(x x qN x p sA +=εεϕ20)(2)(x x qN V x n sD bi −−=εεϕ在x =0处电势连续突变结耗尽近似正负电荷28耗尽区宽度例:单边突变结:P+/N结,NA>>N DP型N型x p 0x n掺杂浓度高,耗尽区宽度小29加外偏压后30•两边费米能级之差为外加电压qV•能带弯曲q(V bi-V)31加外偏压VP型xpx nP型x p x nN型N型加正压:w变小电荷减少场减弱加负压:w变大电荷增加场增强32PN结的结构工作原理"平衡情况"非平衡情况PN结静电变量的定量描述:二极管和其他器件建模的基础"平衡"非平衡"线性缓变结(自学)PN结二极管电流-电压特性的定量描述PN结击穿小信号特性3334PN 结二极管的电流-电压特性:稳态响应 假设:"无光照等"外偏压全部加在耗尽区上,耗尽区以外没有电场(仅考虑扩散电流)"小注入情况:注入的少子浓度远低于多子浓度"耗尽区中无产生复合"载流子分布服从玻尔兹曼分布P 型x px nN 型35xn n qD xn qD J p p np nN ∂−∂=∂∂=)(0xp p qD x p qD J n n pn p P ∂−∂−=∂∂−=)(0P 型x px nN 型假设耗尽区中无产生、复合:J =J N +J P =J N (-x p )+J P (x n )扩散方程36()R G qt n n −+∇=j 1∂∂()R G qt pp −+∇−=j 1∂∂从电流连续性方程出发求出少子分布无产生,G=0;稳态,上式左边=0pn n pnp p p R ττ)(0−−=Δ−=np p npn n n R ττ)(0−−=Δ−=以求解空穴少子分布为例边界条件的推出:37平衡少子浓度P型x p x nN型ppp DLτ=边界条件Wn>>Lp情况下38394041反向饱和电流:与ni 有关,与浓度有关Is42与理想情况的偏差Log 坐标的斜率q/nkT ,斜率越陡越好 理想情况60mV/dec 低温下性能会好 高掺杂n =2•串联电阻压降•大注入电导调制P 型x px nN 型PN结的结构工作原理"平衡情况"非平衡情况PN结静电变量的定量描述:二极管和其他器件建模的基础"平衡"非平衡"线性缓变结(自学)PN结二极管电流-电压特性的定量描述PN结击穿小信号特性43PN结的反向击穿:可恢复•反向击穿区反向击穿电压Vrb,PN结承受的反向偏压的上限击穿机制•雪崩击穿•齐纳击穿/隧穿击穿4445PN 结的击穿(1)雪崩击穿:电场很强,获得很大的能量,碰撞,电子激发,在耗尽区产生电子空穴对:碰撞电离产生的额外载流子被加速,又发生碰撞电离载流子倍增在平均自由程中可以获得足够大的能量,与电场相关。

导带、价带、讲解学习

导带、价带、讲解学习

导带、价带、导带、价带都属于允带,允带有很多的能级(不过可视为准连续,因为能级间差距实在是太小了!),原子中电子的填充都是从最低能级开始的,假设有这么一个情形:电子填啊填,填到某一允带的所有能级都被填满时,刚好所有电子都用完了,再没有一个电子需要填充了。

那么,这个允带就是“满带”,它的最高的那个能级就是“价带(顶)”,这个允带往上隔了一个禁带Eg之后,又有一个允带(在更高能级位置),我们称之为导带,但是这个允带没有任何电子(因为电子在上一个允带时就已经全部填充完了!所以说所谓允带只是说允许有电子存在,但实际上有没有、有多少呢,却不一定;当然禁带是绝对不可能有电子存在。

),所以为“空带”。

我们再看回满带,在满带中,每个能级都有且仅有一个电子(为什么每个能级只能有一个电子呢?请自己查找泡利不相容原理的相关资料),那么满带是不导电的(电子都不能在满带的能级间跑动,自然就不可能有电流啦!)。

但是,对于半导体,禁带Eg不是太大,故而价带电子有机会跃迁到导带中,成为自由电子(导带中的所有能级几乎全空,电子在这里可以跳来跳去,当然很自由啦!),故而导带可以导电,所以才叫导带嘛。

导带是高架桥,价带是地面人行道。

半导体就像是人满为患时的地面交通,电子君们寸步难行挤成狗,但你若是有本事跳上空旷无人的高架桥,那就可以随便跪”。

高架桥到地面之间的空档,就被称为禁带。

所谓禁带就是说电子君没地方可站。

相应的,允带就是电子君可以站的地方,所以除了导带和价带,地下通道也是允带。

高架桥若是太高,电子君们跳不上去,交通便陷入彻底瘫痪。

这是绝缘体。

高架桥若是接上了地面道路,电子君们就能纷纷上桥,交通立刻顺畅起来。

这是金属。

现代半导体技术,之所以能够实现器件的开关,就是能够在高架桥和地面之间架起一-座临时的梯子,它将决定地面上有多少幸运的电子君能够登上高架桥,担负起导电的伟大使命。

以上。

让我们从最基本的开始……以下如果没有特别说明主角都是电子。

金属与半导体接触后费米能级一样吗

金属与半导体接触后费米能级一样吗

金属与半导体接触后费米能级一样吗1. 引言1.1 金属与半导体的能级特性金属和半导体是两种在电子能带结构方面具有明显差异的物质。

金属通常具有高导电性和良好的电子流动性,其能带结构呈现连续的态密度分布,电子几乎填满了费米能级以下的能级,而在费米能级以上则存在着大量空缺态,使得金属能够轻易导电。

相比之下,半导体的能带结构则具有明显的带隙,使得其电导性较差。

在绝对零度下,半导体的价带全满,导带空缺,费米能级处于带隙中。

金属与半导体的能级特性差异导致它们在接触时会发生电荷转移和费米能级的调整。

当金属与半导体接触时,由于费米能级一致性原则,两者之间的费米能级会趋于一致。

在接触处形成的Schottky接触或Ohmic接触会导致电子从金属流向半导体或者从半导体流向金属,最终使得两者之间建立起稳定的电荷平衡态。

1.2 费米能级的定义费米能级,又称费米面能级或费米面,是固体物理学中一个重要的概念。

它指的是在热平衡时,电子系统中电子的能级达到50%的概率,也就是说费米能级是将电子分布的概率分为两等分的能级。

通常情况下,费米能级是指在零度时电子能级最高的能级。

在绝对零度时,费米能级以下的所有能级都被电子所填满,而费米能级以上的能级则为空。

费米能级在固体中起着至关重要的作用,它不仅关系到电子的导电性质,还决定了物质的电子输运、化学反应等性质。

在金属中,费米能级通常位于导带底部,这意味着金属中的电子能够自由传导并具有良好的导电性。

而在半导体中,费米能级则位于禁带中部,处于导带和价带能级之间,这使得半导体表现出了半导体的特性,即具有一定的导电性但电阻相对较大。

费米能级的位置不仅取决于材料的性质,还受到温度、掺杂等因素的影响。

在研究金属与半导体接触后费米能级的调整过程中,费米能级的定义和性质是至关重要的。

通过对费米能级的理解,可以更好地解释金属与半导体接触后电子态的变化和界面特性的形成。

2. 正文2.1 金属与半导体接触的费米能级调整金属与半导体接触后费米能级调整是一个非常重要的物理现象,它直接影响着材料的电子输运性质和器件的性能。

能带理论

能带理论

锗、硅和砷化镓GaAs等一些重要的半导体材料,都是典型的共价晶体。

在共价晶体中,每个原子最外层的电子和邻近原子形成共价键,整个晶体就是通过这些共价键把原子联系起来。

对于半导体,所有价电子所处的能带是所谓价带,比价带能量更高的能带是导带。

在绝对零度温度下,半导体的价带(valence band)是满带(见能带理论),受到光电注入或热激发后,价带中的部分电子会越过禁带(forbidden band/band gap)进入能量较高的空带,空带中存在电子后即成为导电的能带——导带。

导带:满带是指晶体中最低能带的各个能级都被电子填满,这样的能带称为满带。

当满带中的电子从它原来占据的能级转移到同一能带中其它能级时,因受泡利不相容原理的限制,必有另一个电子作相反转移,总效果与没有电子转移一样。

即外电场不能改变电子在满带中的分布,所以满带中的电子不能起导电作用。

直接带隙半导体材料就是导带最小值(导带底)和满带最大值在k空间中同一位置。

电子要跃迁到导带上产生导电的电子和空穴(形成半满能带)只需要吸收能量。

间接带隙半导体材料导带最小值(导带底)和满带最大值在k空间中不同位置。

形成半满能带不只需要吸收能量,还要改变动量。

间接带隙半导体材料导带最小值(导带底)和满带最大值在k空间中不同位置。

电子在k状态时的动量是(h/2pi)k,k不同,动量就不同,从一个状态到另一个必须改变动量。

禁带:价带与导带之间的区域。

绝缘体,半导体,导体的能级关系。

热力学系统,可以证明处于热平衡状态下的电子系统有统一的费米能级。

泡利不相容原理(Pauli’s exclusion principle)指在原子中不能容纳运动状态完全相同的电子。

又称泡利原理、不相容原理引。

一个原子中不可能有电子层、电子亚层、电子云伸展方向和自旋方向完全相同的两个电子。

经典的解释{费米能级是绝对零度时电子的最高能级.如果真的想了解一些,建议咬牙看一看,我觉得我写的比较不好理解,物理本来就是这样.我就从最简单的自由电子气体模型来解释.自由粒子的波函数是平面波,波动方程是f(r)=(1/V^0.5)*Exp(i k*r)k是平面波波矢,电子能量是E=(hk)^2/2m (这个h是除以2PI后的那个普朗克常数,原来表示此量的符号太不好找了)可以看出,电子对于取不同的k时,可以处在不同能量状态.下面引入k空间,尽量理解.一般用周期性边界条件,f(x y z)=f(x+L y z)=f(x y+L z)=f(x y z+L )确定k的取值kx=(2PI/L)Nxky=(2PI/L)Nykz=(2PI/L)NzNxNyNz是整数,因此把k看作空间矢量,在k空间中,k只能取一个个分立的点.你可以想象以kxky kz3个方向建立坐标系,因为NxNyNz是整数,kxkykz只能取到一个个点.就比如Nx是整数,永远不会有kx=(2PI/L)*0.4处被取到.每个点代表一种k的取值,前面有说过,每个k都对应电子的不同能量状态,E=(hk)^2/2m ,这些能量状态也因为k的分立取值而只能分立出现,就是能级. 把电子放在k空间的各个点上,代表电子处在那个k值的状态,也对应一个能量状态,即处在该能级上.因为泡利不相容原理,每个态上只可以放2个电子,(自旋相反)不会有第3个跟他们在同一个状态(k空间的各个点)上.现在有一个总共有N个电子的体系,各个电子都处于什么状态哪?粒子总是先占据能量小的能级,从kx=0ky=0kz=0开始(显然这时候能量最小,不过这个模型有点局限,你不必理了)kx=0ky=0kz=1.....kx=33 ky=34 kz=34.....反正越来越大,越来越往能量更大的高能级上添.最后第N个电子会处在最高能级上(能量最大),这个能级就是费米能级.注意:1 不在绝对零度的话,电子填充能级不是仅仅由泡利不相容原理决定,因此费米能级是绝对零度时,电子的最高能级.2 通常宏观体系的电子数N很大,电子填充能级时,在k空间的占据态,也就是可以处在的那N/2的点,会形成一个球形,称为费米球.这很好想象,粒子总是先占据能量小的能级,离(0 0 0)越近的能级(哪个点)先占据,最后被占据的点肯定不会有"支出去"的,而是程球形.这个球面叫费米面,有时也说费米面上的能级是费米能级.我前面说"第N个电子会处在最高能级上(能量最大),这个能级就是费米能级"是为了理解方便,实际上第N个电子,不见得比N-1的能级高了,简单的看kx=0ky=0kz=1和kx=0ky=1kz=0和kx=1ky=0kz=0不是能量一样吗?当离(0 0 0)很远后,这种k不同但能量一样或近似一样的点会更多,形成一个近似的球面--费米面.一般就认为费米面上的能级就是最高能级--费米能级.3 从费米分布函数角度解释也可以,费米分布函数给出了不在绝对0度的情况下各个能级被占据的几率,费米能级是本征态占据几率1/2的态对应能级在绝对0度的极限.你可以看黄昆先生的固体物理.4 你问这个问题,应该是大学生了吧.对于f(x y z)=f(x+L y z)=f(x y+L z)=f(x y z+L )确定k的取值,可以自己计算一下.波动方程只是为了得出能级概念,并不需要注意,解法可以去看量子力学.}非辐射复合的本质就是将电子和空穴复合释放的能量转变为热能,但是通过实验还难以获得非辐射跃迁的详细信息,因此人们对它们的复合过程还不是太清楚。

第10章半导体电化学与光电化学基础

第10章半导体电化学与光电化学基础

电化学原理
10.3.2非平衡条件下(极化时)的电荷传递
1.非平衡条件下半导体/溶液界面的能带结构
电化学原理 E
EC ,b
EF
EV ,b
EC ,s
e
EV ,s
EO0
E 0FO/ R
E
0 R
E
j
j
j E
j E
(b)正逆反应的电流密度
(a)能带结构
图10.11阴极极化时N型半导体/溶液界面的电子跃迁
电化学原理 2.非平衡条件下半导体/溶液界面的净电流
⑵P型半导体
电化原理
载流子浓度
p0 NA
n 少子(电子)浓度
ni2 0 NA
掺杂后半导体的费米能级
EF EV k ln
NA NV
EC
EF
EV
(c)P型半导体能带结构
电化学原理
10.2半导体/溶液界面的结构与性质
10.2.1半导体/溶液界面的结构与性质
1、半导体/溶液界面接触时的能带结构
EC
x
lsc
B
0
EF EV
x
EC . s
EV .s
lsc
(d)反型层
4、平带
x B
lsc
电化学原理
EC EF
0
EV
x
lsc
(b)平带
EC . s
EV .s
电化学原理
10.2.3半导体/溶液界面的电位分布
1.半导体/溶液界面半导体一侧空间电荷层的电位分布
d
8 nikT
dx
sc
e y e y 2 1/ 2
1、积累层(富集层)及其特点
电化学原理 ⑴电位和能带弯曲

导带、价带、禁带

导带、价带、禁带

【半导体】之阳早格格创做(1)导戴conduction bandA阐明导戴是由自由电子产死的能量空间.即固体结构内自由疏通的电子所具备的能量范畴.对付于金属,所有价电子所处的能戴便是导戴.对付于半导体,所有价电子所处的能戴是所谓价戴,比价戴能量更下的能戴是导戴.正在千万于整度温度下,半导体的价戴(valence band)是谦戴(睹能戴表里),受到光电注进大概热激励后,价戴中的部分电子会越过禁戴(forbiddenband/band gap)加进能量较下的空戴,空戴中存留电子后即成为导电的能戴——导戴.B导戴的涵义:导戴是半导体最表里(能量最下)的一个能戴,是由许多准连绝的能级组成的;是半导体的一种载流子——自由电子(简称为电子)所处的能量范畴.导戴中往往惟有少量的电子,大普遍状态(能级)是空着的,则正在中加效率下不妨爆收状态的改变,故导戴中的电子不妨导电,即为载流子.导戴底是导戴的最矮能级,可瞅成是电子的势能,常常,电子便处于导戴底附近;离启导戴底的能量下度,则可瞅成是电子的动能.当有中场效率到半导体二端时,电子的势能即爆收变更,进而正在能戴图上便表示出导戴底爆收倾斜;反过去,通常是能戴爆收倾斜的地区,便必定存留电场(中电场大概者内修电场).导戴底到真空中自由电子能级的间距,称为半导体的亲战能,即是把一个电子载流子从半导体里里拿到真空中去所需要的能量.那是半导体的一个特性参量.(2)价戴与禁戴价戴(valence band)大概称价电戴,常常是指半导体大概绝缘体中,正在0K时能被电子占谦的最下能戴.对付半导体而行,此能戴中的能级基础上是连绝的.齐充谦的能戴中的电子没有克没有及正在固体中自由疏通.然而若该电子受到光照,它可吸支脚够能量而跳进下一个容许的最下能区,进而使价戴形成部分充挖,此时价戴中留住的电子可正在固体中自由疏通.价戴中电子的自由疏通对付于与晶体管有闭的局里是很要害的.被价电子吞噬的允戴(矮温下常常被价电子占谦).禁戴,英文名为:Forbidden Band 正在能戴结构中能态稀度[1]为整的能量区间.时常使用去表示价戴战导戴之间的能态稀度为整的能量区间.禁戴宽度的大小决断了资料是具备半导体本量仍旧具备绝缘体本量.半导体的禁戴宽度较小,当温度降下时,电子不妨被激励传到导戴,进而使资料具备导电性.绝缘体的禁戴宽度很大,纵然正在较下的温度下,仍是电的没有良导体.(3)导戴与价戴的闭系:对付于已掺纯的本征半导体,导戴中的电子是由它底下的一个能戴(即价戴)中的电子(价电子)跃迁上去而产死的,那种爆收电子(共时也爆收空穴——半导体的其余一种载流子)的历程,称为本征激励.正在本征激励历程中,电子战空穴是成对付爆收的,则经常有“电子浓度=空穴浓度”.那本量上便是本征半导体的特性,果此不妨道,通常是二种载流子浓度相等的半导体,便是本征半导体.那便表示着,没有然而已掺纯的半导体是本征半导体,便是掺纯的半导体,正在一定条件下(比圆下温下)也不妨转化成本征半导体.价戴的能量矮于导戴,它也是由许多准连绝的能级组成的.然而是价戴中的许多电子(价电子)本去没有克没有及导电,而少量的价电子空位——空穴才搞导电,故称空穴是载流子.空穴的最矮能量——势能,也便是价戴顶,常常空穴便处于价戴顶附近.价戴顶与导戴底之间的能量好,便是所谓半导体的禁戴宽度.那便是爆收本征激励所需要的最小仄衡能量.那是半导体最要害的一个特性参量.对付于掺纯半导体,电子战空穴大普遍是由纯量去提供的.不妨提供电子的纯量称为施主;不妨提供空穴的纯量称为受主.施主的能级处正在靠拢导戴底的禁戴中;受主的能级处正在靠拢价戴顶的禁戴中.能隙能隙(Bandgap energy gap)大概译做能戴隙,正在固态物理教中泛指半导体大概是绝缘体的价戴(valence band)顶端至传导戴(conduction band)底端的能量好同.能戴表里是钻研固体中电子疏通顺序的一种近似表里.固体由本子组成,本子又包罗本子真战最中层电子,它们均处于没有竭的疏通状态.为使问题简化,最先假定固体中的本子真牢固没有动,并按一定顺序做周期性排列,而后进一步认为每个电子皆是正在牢固的本子真周期势场及其余电子的仄衡势场中疏通,那便把所有问题简化成单电子问题.能戴表里便属那种单电子近似表里,它最先由F.布洛赫战L.-N.布里渊正在办理金属的导电性问题时提出.表里应用对付一个本征半导体(intrinsic semiconductor)而行,其导电性与能隙的大小有闭,惟有赢得脚够能量的电子才搞从价戴被激励,跨过能隙并跃迁至传导戴.利用费米-狄推克统计(Fermi-Dirac Statistics)不妨得到电子吞噬某个能阶(energystate)E0的机率.又假设E0 > > EF,EF是所谓的费米能阶(Fermi level),电子吞噬E0的机率不妨利用波兹曼近似简化为:正在上式中,Eg是能隙的宽度、k是波兹曼常数(Boltzmann's Constant),而T则是温度.半导体资料的能隙不妨利用一些工程脚法加以安排,特地是正在化合物半导体中,比圆统造砷化镓铝(AlGaAs)大概砷化镓铟(InGaAs)百般元素间的比率,大概是利用如分子束磊晶(Molecular Beam Epitaxy, MBE)收展出多层的磊晶资料.那类半导体资料正在下速半导体元件大概是光电元件,如同量接里单载子晶体管(Heterojunction Bipolar Transistor, HBT)、雷射二极管,大概是太阳能电池上已经成为合流.固体的能戴固体的导电本能由其能戴结构决断.对付一价金属,价戴是已谦戴,故能导电.对付二价金属,价戴是谦戴,然而禁戴宽度为整,价戴与较下的空戴相接叠,谦戴中的电子能吞噬空戴,果而也能导电,绝缘体战半导体的能戴结构相似,价戴为谦戴,价戴与空戴间存留禁戴.无机半导体的禁戴宽度从0.1~2.0eV,π-π共轭散合物的能戴隙大概正在1.4~4.2eV,绝缘体的禁戴宽度大于4.5eV.正在所有温度下,由于热疏通,谦戴中的电子总会有一些具备脚够的能量激励到空戴中,使之成为导戴.由于绝缘体的禁戴宽度较大,常温下从谦戴激励到空戴的电子数微缺累讲,宏瞅上表示为导电本能好.半导体的禁戴宽度较小,谦戴中的电子只需较小能量便能激励到空戴中,宏瞅上表示为有较大的电导率.能戴表里正在证明电子正在晶格中的疏通顺序、固体的导电机构、合金的某些本量战金属的分离能等圆里博得了要害成便,然而它到底是一种近似表里,存留一定的限造性.比圆某些晶体的导电性没有克没有及用能戴表里阐明,即电子公有化模型战单电子近似没有适用于那些晶体.多电子表里修坐后,单电子能戴论的截止常动做多电子表里的起面,正在办理新颖搀纯问题时,二种表里是相辅相成的.。

已知硅的费米能级处于禁带中央,t=300k,计算价带顶能态空占机率

已知硅的费米能级处于禁带中央,t=300k,计算价带顶能态空占机率

我们要计算在给定的温度下,硅的价带顶能态空占机率。

首先,我们需要了解硅的能带结构,特别是费米能级的位置。

题目告诉我们硅的费米能级处于禁带中央,这意味着价带顶和导带底是相同的能态。

在热平衡状态下,电子占据各个能态的机率是遵循玻尔兹曼分布的。

空占机率(也称为占据数)可以用以下的公式表示:
f(E) = 1 / (exp((E - E_f) / kT) + 1)
其中,E 是能态,E_f 是费米能级,k 是玻尔兹曼常数,T 是绝对温度。

由于题目告诉我们费米能级处于禁带中央,所以 E_f 就是价带顶的能量。

将给定的T=300K代入上式,我们就可以求出价带顶能态的空占机率。

计算结果为:价带顶能态的空占机率为 0.5。

所以,在300K的温度下,硅的价带顶能态是空的,占据机率为50%。

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导带价带禁带费米能级 The Standardization Office was revised on the afternoon of December 13, 2020
(1)导带conduction band:
导带是由自由电子形成的能量空间。

即固体结构内自由运动的电子所具有的能量范围。

对于金属,所有价电子所处的能带就是导带。

对于半导体,所有价电子所处的能带是所谓价带,比价带能量更高的能带是导带。

在绝对零度温度下,半导体的价带(valence band)是满带(见),受到光电注入或热激发后,价带中的部分电子会越过禁带(forbidden
band/band gap)进入能量较高的空带,空带中存在电子后即成为导电的能带——导带。

势能动能:导带底是导带的最低能级,可看成是电子的势能,通常,电子就处于导带底附近;离开导带底的能量高度,则可看成是电子的动能。

当有外场作用到半导体两端时,电子的势能即发生变化,从而在能带图上就表现出导带底发生倾斜;反过来,凡是能带发生倾斜的区域,就必然存在电场(外电场或者内建电场)。

(2)价带与禁带:
价带(valence band)或称价电带,通常是指半导体或绝缘体中,在0K 时能被电子占满的最高能带。

对半导体而言,此能带中的能级基本上是连续的。

全充满的能带中的电子不能在固体中自由运动。

但若该电子受到光照,它可吸收足够能量而跳入下一个容许的最高能区,从而使价带变成部分充填,此时价带中留下的电子可在固体中自由运动。

禁带,英文名为:Forbidden Band 常用来表示价带和导带之间的能态密度为零的能量区间。

禁带宽度的大小决定了材料是具有半导体性质还是具有绝缘体性质。

半导体的禁带宽度较小,当温度升高时,电子可以被激发传到导带,从而使材料具有导电性。

绝缘体的禁带宽度很大,即使在较高的温度下,仍是电的不良导体。

无机半导体的禁带宽度从~,π-π共轭聚合物的能带隙大致在~,绝缘体的禁带宽度大于。

(3)导带与价带的关系:
“电子浓度=空穴浓度”,这实际上就是本征半导体的特征,因此可以说,凡是两种载流子浓度相等的半导体,就是本征半导体。

注意:不仅未掺杂的半导体是本征半导体,就是掺杂的半导体,在一定条件下(例如高温下)也可以转变为本征半导体。

空穴,载流子:价带中的许多电子(价电子)并不能导电,而少量的价电子空位——空穴才能导电,故称空穴是载流子。

空穴的最低能量——势能,也就是价带顶,通常空穴就处于价带顶附近。

禁带宽度:价带顶与导带底之间的能量差,就是所谓半导体的。

这就是产生本征激发所需要的最小平均能量。

施主与受主:对于掺杂半导体,电子和空穴大多数是由杂质来提供的。

能够提供电子的杂质称为施主;能够提供空穴的杂质称为受主。

施主的能级处在靠近导带底的禁带中;受主的能级处在靠近价带顶的禁带中。

实际上未掺杂半导体的费米能级在价带和导带的中央附近。

n型半导体的费米能级在导带底附近,而p型在价带顶附近。

(4)能隙:
能隙(Bandgap energy gap)或译作能带隙,在固态物理学中泛指半导体或是绝缘体的价带(valence band)顶端至传导带(conduction band)底端的能量差距。

费米能:
根据量子力学理论,具有半奇数自旋量子数(通常为1/2)的费米子,如电子,遵循泡利不相容原理,即一个量子态只能被一个粒子所占据。

因此,费米子在能级中的分布遵循费米-狄拉克分布。

一个由无相互作用的费米子组成的系统的基态模型可按照如下的方法构造:从无粒子系统开始,将粒子逐个填入现有而未被占据的最低能量的量子态,直到所有粒子全部填完。

此时,系统的费米能就是最高占据分子轨道的能量。

费米面:
金属中的自由电子满足泡利不相容原理,其在单粒子能级上分布几率遵循费米统计分布f(E) = 1 / (1 + expE − Ef / KbT)(其中Ef表示费米能级,Kb表示玻尔兹曼常数,T表示温度)当T=0K时,f(E)= 1。

表示在绝对零度下,电子将占据E≤Ef的全部能级,而大于Ef的能级将全部空着,自由电子的能量表示为E(k)=ћ²к²/2m,它在к空间的等能面是一球面,将E=Ef等能面称为费米面。

注意:
半导体中费米能级和金属费米能级是不同的,金属费米能级就是0K下电子占据的最高能级。

半导体中所谓费米能级实际上是电子系统的化学势,是由
热力学统计物理中推导的一个量,所以说如果从金属费米能级角度理解的就错了。

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