化学镍金工艺探讨

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化学镍金工艺讲座

化学镍金工艺讲座

化学镍金工艺讲座化学镍金工艺讲座一﹑概述化学镍金又叫沉镍金﹐业界常称为无电镍金(Electroless Nickel Immersion Gold)又称为沉镍浸金。

PCB化学镍金是指在裸铜面上化学镀镍﹐然后化学浸金的一种可焊性表面涂覆工艺。

它既有良好的接触导通性﹐而且具有良好的装配焊接性能﹐同时它还可以同其它表面涂覆工艺配合使用。

随着日新月异的电子业的民展﹐化学镍金工艺所显出的作用越来越重要。

二﹑化学镍金工艺原理2.1 化学镍金催化原理2.1.1 催化作为化学镍金的沉积﹐必须在催化状态下﹐才能发生选择性沉积。

Ⅷ族元素及Au等许多金属都可以作为化学镍的催化晶体。

铜原子由于不具备化学镍沉积的催化晶种的特性﹐所以通过置换反应可使铜面沉积所需要的催化晶种。

2.1.2 钯活化剂PCB业界大都使用PdSO4或PdCl2作为化学镍前的活化剂在活化制程中﹐其化学反应如下﹕Pd2++Cu→Pd+Cu2+2.2 化学镍原理2.2.1 化学镍在钯(或其它催化晶体)的催化作用下﹐Ni2+被NaH2PO2还原沉积在裸铜表面。

当镍沉积覆盖钯催化晶体时﹐自催化反应将继续进行﹐直到达到所需要之镍层厚度。

2.2.2 化学反应在催化条件下﹐化学反应产生镍沉积的同时﹐不但伴随着P的析出﹐而且产生氢气的逸出。

主反应﹕Ni2++2H2PO2-+2H2O→Ni+2HPO32-+4H++H2↑副反应﹕4H2PO2-→2HPO32--+2P+2 H2O+H22.2.3 反应机理H2PO2-+H2O→H++HPO32-+2HNi2++2H→Ni+2H+H2PO2-+H→H2O+OH-+PH2PO2-+H2O→H++HPO32-+H2↑2.2.4 作用化学镍的厚度一般控制在3~5μm﹐其作用同金手指电镀镍一样﹐不但对铜面进行有效保护﹐防止铜的迁移﹐而且具备一定硬度和耐磨性能﹐同时拥有良好的平整度。

在镀件浸金保护后﹐不但可以取代拨插不频繁的金手指用途(如计算机内存条)﹐同时还可以避免金手指附近连接导电处斜边时所遗留裸铜切口。

化学镍金

化学镍金

1、前言在一个印制电路板的制造工艺流程中,产品最终之表面可焊性处理,对最终产品的装配和使用起着至关重要的作用。

综观当今国内外,针对印制电路板最终表面可焊性涂覆表面处理的方式,主要包括以下几种:Electroless Nickel and Immersion Gold(1)热风整平;(2)有机可焊性保护剂;(3)化学沉镍浸金;(4)化学镀银;(5)化学浸锡;(6)锡/ 铅再流化处理;(7)电镀镍金;(8)化学沉钯。

其中,热风整平是自阻焊膜于裸铜板上进行制作之制造工艺(SMOBC)采用以来,迄今为止使用最为广泛的成品印制电路板最终表面可焊性涂覆处理方式。

对一个装配者来说,也许最重要的是容易进行元器件的集成。

任何新印制电路板表面可焊性处理方式应当能担当N次插拔之重任。

除了集成容易之外,装配者对待处理印制电路板的表面平坦性也非常敏感。

与热风整平制程所加工焊垫之较恶劣平坦度有关的漏印数量,是改变此种表面可焊性涂覆处理方式的原因之一。

镀镍/金早在70年代就应用在印制板上。

电镀镍/金特别是闪镀金、镀厚金、插头镀耐磨的Au-Co 、Au-Ni等合金至今仍一直在带按键通讯设备、压焊的印制板上应用着。

但它需要“工艺导线”达到互连,受高密度印制板SMT安装限制。

90年代,由于化学镀镍/金技术的突破,加上印制板要求导线微细化、小孔径化等,而化学镀镍/金,它具有镀层平坦、接触电阻低、可焊性好,且有一定耐磨等优点,特别适合打线(Wire Bonding)工艺的印制板,成为不可缺少的镀层。

但化学镀镍/金有工序多、返工困难、生产效率低、成本高、废液难处理等缺点。

铜面有机防氧化膜处理技术,是采用一种铜面有机保焊剂在印制板表面形成之涂层与表面金属铜产生络合反应,形成有机物-金属键,使铜面生成耐热、可焊、抗氧化之保护层。

目前,其在印制板表面涂层也占有一席之地,但此保护膜薄易划伤,又不导电,且存在下道测试检验困难等缺点。

目前,随着环境保护意识的增强,印制板也朝着三无产品(无铅、无溴、无氯)的方向迈进,今后采用化学浸锡表面涂覆技术的厂家会越来越多,因其具有优良的多重焊接性、很高的表面平整度、较低的热应力、简易的制程、较好的操作安全性和较低的维护费。

化学镍金工艺介绍

化学镍金工艺介绍
苏州市三生电子有限公司
化学镍金工艺应知应会
苏州市三生电子有限公司
前言
1、制程介绍 2、药水简介 3、制程管制 4、异常改善 5、保养事项
苏州市三生电子有限公司
制程特征 1、在阻焊之后进行选择性镀镍/金,采取挂篮式作业,无须通电 2、单一表面处理即可满足多种组装城城需求,具有可焊接、可接触导通、
可打线、可散热等功能 3、板面平整、SMD焊垫平坦,适合于密距窄垫的锡膏熔焊。
内置干燥剂。
镍与铜镀层密著不良原因 Nhomakorabea对策绿油残渣附着于铜面
显影后水洗不良
检讨前制程与加强清洁剂,微蚀,磨刷或喷砂 同上
绿油溶入镀液 铜表面氧化没完全去除
1、更换镀液 2、检讨绿油特性,后烧烤条件及前处理流程
加强前处理流程(磨刷是、清洁剂、微蚀等)
微蚀或活化后水洗时间过长
缩短水洗时间 增加水洗槽进水量
前处理机台保养
• 水洗槽定期清洗 • 传送滚轮定期清洗 • 滤芯、滤网定期清洗或更换 • 传动轴上油 • 喷嘴清洗,水洗,风刀 • 药水成份分析补充或更换 • 刷轮定期更换
化金线保养
• 水洗槽清洗 • 管路定期清洗:进水管,过滤筒,循环管等 • 滤芯定期更换 • 机台上油:天车,机械摇摆 • 气压缸:主体清洁,空气管检查 • 药水分析补充更换 • 镍槽防析出装置检查 • 添加系统检查清洁 • 排气设备检查 • 挂架保养或更新 • 硝酸槽及管路管阀检查
• 谢谢
活化
• 主成份 硫酸钯 硫酸 • 作用 1、在铜面置换(离子化趋势Cu>Pd)上一层钯,以作为化
学镍反应之触媒
• 反应 • 阳极反应 Cu--Cu2+ + 2e-(E0 = -0.34V) • 阴极反应 Pd2+ +2e- → Pd(E0=0.98V) • 全反应 Cu + Pd2+ → Cu2+ + Pd

化学镍金解读-51页文档资料

化学镍金解读-51页文档资料
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化学镍金各流程概述
5. 后 浸: 作用: 移去可能吸附于基材或阻焊膜上的离子钯,以免在化 学镍中出现渗镀。 主要成份: 盐酸
化学镍金各流程概述
6. 化学镍:
化学镍层作用:
在铜和金之间提供一层金属扩散阻挡层。 提供一层抗蚀层 提供可焊性表面 为Wire bonding提供坚固的可粘结层
pH缓冲剂 — 长期控制pH 稳定剂 —通过遮蔽催化活性核心,防止溶液分解。
加速剂 — 活化次磷根离子,加速沉积反应,作 用方式和稳定剂,络合剂相反。
湿润剂 — 提高待镀表面的浸润性。
反应式: H2PO2- + OH- H2PO3- + H + e
Ni2+ +2e Ni0
H2PO2- + H P + H2O +OH-
原理:
铜面在钯金属之催化作用下通过还原剂和镍离子开始 化学镀镍反应,由于镍本身是进一步化学镀镍的催化 剂,即使原来的基底表面被镍完全覆盖之后,沉积过 程仍将继续下去,直至线路板从槽液中取出。
主要成份: 硫酸镍 — 金属离子的来源 次磷酸钠 — 还原剂

化学镍金工艺原理.

化学镍金工艺原理.

1.概述化学镍金又叫沉镍金,业界常称为无电镍金(Elestrolss Nickel ImnersionGold又称为沉镍浸金。

PCB化学镍金是指在裸铜表面上化学镀镍,然后化学浸金的一种可焊性表面涂覆工艺,它既有良好的接触导通性,具有良好的装配焊接性能,同时它还可以同其他表面涂覆工艺配合使用,随着日新日异的电子业的发展,化学镍金工艺所显现的作用越来越重要。

2.化学镍金工艺原理2.1 化学镍金催化原理2.1.1催化作为化学镍金的沉积,必须在催化状态下,才能发生选择性沉积,VⅢ族元素以及Au等多金属都可以为化学镍金的催化晶体,铜原子由于不具备化学镍金沉积的催化晶种的特性,所以通过置换反应可使铜面沉积所需要的催化晶种;PCB业界大都使用PdSO4或PdCl2作为化学镍前的活化剂,在活化制程中,化学镍反应如下:Pd2++Cu Cu2++Pd 2.2化学镍原理2.2.1 在Pd(或其他催化晶体的催化作用下,Ni2+被NaH2PO2还原沉积在将铜表面,当Ni沉积覆盖Pd催化晶体时,自催化反应继续进行,直到所需的Ni层厚度2.2.2化学反应在催化条件下,化学反应产生的Ni沉积的同时,不但随着氢析出,而且产生H 2的溢出主反应:Ni2++2H2PO2-+2H2O Ni+2HPO32-+4H++H2副反应:4H2PO2- 2HPO32-+2P+2H2O+H22.2.3 反应机理H2PO2-+H2O H++HPO32-+2HNi2++2H Ni+2H2 H2PO2-+H H2O+OH-+PH 2PO2-+H2O H++HPO32-+H22.2.4作用化学镍的厚度一般控制在3-5um,其作用同金手指电镍一样不但对铜面进行有效保护,防止铜的迁移,而且备一定硬度和耐磨性能,同时拥有良好的平整度,在镀镍浸金保护后,不但可以取代拔插频繁的金手指用途(如电脑的内存条,同时还可避免金手指附近的导电处斜边时所遗留裸铜切口2.3 浸金原理2.3.1浸金是指在活性镍表面,通过化学置换反应沉积薄金化应式:2Au(CH2-+Ni 2Au+Ni2++4CN-2.3.2 作用浸金的厚度一般控制在0.03-0.1um,其对镍面有良好的保护作用,而且具备很好的接触导通性能,很多需按键接触的电子器械(如手机、电子字典都采用化学浸金来保护镍面3.化学Ni/Au的工艺流程3.1 工艺流程简介作为化学镍金流程,只要具备6个工作站就可满足生产要求3-7分钟 1-2分钟 0.5-4.5分钟 2-6分钟除油微蚀活化预浸沉Au沉Ni20-30分钟 7-11分钟3.2 工艺控制3.2.1除油缸一般情况下,PCB沉镍金采用酸性除油剂处理制板,其作用在于除掉铜面的轻度油脂及氧化物,达到清洁及增加湿润效果的目的,它应当具备不伤SOiderMask(绿油以及低泡型易水洗的特点。

化学镍金工艺中金剥落问题的探讨

化学镍金工艺中金剥落问题的探讨

化学镍金工艺中金剥落问题的探讨胡燕辉 柳良平 谢海山 张育猛(杭州方正速能科技有限公司,浙江 杭州 311100)摘 要 化学镍金工艺能够有效的保护导电和焊接表面而被广泛的应用于PCB行业。

然而,针对该工艺的品质保证绝非易事。

化学镍金工艺受药水等因素的影响,在品质上容易会出现甩金、渗镀等不良问题。

本文利用SEM、EDS分析手段对化学镍金工艺中的甩金问题进行了分析探讨。

结果发现:甩金处镍层被腐蚀而形成空洞,EDS分析发现镍层中含有铜元素。

这很有可能是金缸受到污染,镀液中存在一定含量的Cu 2+,镍层与Cu 2+发生自发的置换反应置换出铜而沉积在镍层上面,从而腐蚀镍层形成大量孔洞,使之与金层的结合力下降,导致化学镍金后甩金。

关键词 印制电路信息;化学镍金;甩金;表面处理中图分类号:TN41 文献标识码:A 文章编号:1009-0096(2011)2-0033-02Study on gold-peeling of electroless nickel immersion goldHU Yan-hui LIU Liang-ping ZHANG Yu-meng XIE Hai-shanAbstract Electroless nickel/immersion gold (ENIG) technology is widely used in printed circuit board (PCB), providing a protective, conductive and solderable surface. However, it is not easy to control the quality assurance of the process. For ENIG the problem of gold peeling easily occurs in fl uenced by chemical medicine. Therefore, in this paper, the problem of gold peeling was studied by SEM and EDS. The results showed that Nickel has been corrupted, and emerged many pinholes. Cu element is found in nickel plating. This is most likely contaminated by chemical medicine in gold tank. When there is a certain content of Cu2+, Cu2+ and Ni will spontaneously occur displacement response, and deposit on top of Ni. The binding force of Ni and gold is signi fi cantly reduced, which occurred gold peeling.Key words PCB; ENIG; gold peeling; surface treatment在PCB 行业中,为了保证下游装配的可靠性和可操作性,通常需要对PCB 进行最终表面处理。

化学镍金工艺探讨

化学镍金工艺探讨

∙化学镍金工艺探讨∙化学镍金镀层集可焊接、可接触导通,可打线、可散热等功能于一身,是PCB板面单一处理却具有多用途的湿制程。

目前尚无其它的工艺可与之抗衡。

但该制程不好做已时日已久,问题常常出现且不易重工,问题的解决须从源头开始。

对此,本人将工作过程中遇到的品质问题同业界前辈探讨一下。

首先从化学镍金的反应机理入手。

一、化镍镍盐:以硫酸镍为主,也有氯化镍、乙酸镍还原剂:次磷酸二氢钠,NaH2PO2反应机理:说明:①次磷酸二氢钠的次磷酸根离子水解并氧化成磷酸根,同时放出两个活性氢原子吸附在铜底钯面上。

②镍离子在活化钯面上迅速还原镀出镍金属。

③小部分次磷酸根在催化氢的刺激下,产生磷原子并沉积在镍层中。

④部分次磷酸根在催化环境下,自己也会氧化并生成氢气从镍面上向外冒出。

∙二、化金当PCB板面镀好镍层放入金槽后,其镍面即受到槽液的攻击而溶出镍离子,所抛出的两个电子被金氰离子获得而在镍面上沉积出金层。

反应机理:Ni→Ni2+2eAu(CN)2-+e→Au+2CN-由此可知,一个镍原子溶解可获得两个金原子的沉积,又因金层上有许多疏瓦,故表面虽已盖满了金层,但仍可让疏孔的镍面溶解而继续镀出金层,只是速度越来越慢而已。

其次,化学镍金各流程的管控。

一、前处理。

1.刷磨:使用高目数的尼龙刷(1000-1200目)对板面进行轻刷(刷磨电流2.0±0.2A)除去访垢和氧化物.在刷磨后接板时必须戴干净的手套避免接触成型线内的待镀区,以免后续做板出来后板面上有花斑。

2.去脂:去徐油脂及有机物,只能采用非离子型遥介面活性剂,仅具润湿效果而已,不能用太强的板子型活性剂,以防止防焊漆表面或基材上带有静电而上镍或损伤水性碱液显影的防焊漆而溶出碳份污染槽液。

3.微蚀:通常只咬铜30-40µm即可,如果发现有星点露铜现名象,很可能为湿膜制程之显影不洁或显影后水洗不净造成。

此时可适当延长微蚀时间以便除之。

4.酸洗:去除微蚀生成的铜盐。

化学镍金工艺介绍

化学镍金工艺介绍
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化学镍金工艺应知应会
苏州市三生电子有限公司 前言
1、制程介绍 2、药水简介 3、制程管制 4、异常改善 5、保养事项
苏州市三生电子有限公司 制程特征 1、在阻焊之后进行选择性镀镍/金,采取挂篮式作业,无须通电 2、单一表面处理即可满足多种组装城城需求,具有可焊接、可接触导通、 可打线、可散热等功能 3、板面平整、SMD焊垫平坦,适合于密距窄垫的锡膏熔焊。
原因
铜层针孔 对策
改善镀铜,蚀刻等制程
镀镍时绿油溶出
检讨绿油特性,后烤条件及前处理流程
微蚀过度
调整至正确操作温度,浓度,时间等
金与镍镀层密着不良
原因 对策
金属尤其是Cu或有机杂质 (绿油等)混入Au镀液中
Ni槽有机污染(绿油等) 镀镍后水洗时间过长
1、更换镀液 2、检讨杂质来源
更换镀液 检讨杂质来源 缩短水洗时间 增加水洗槽进水量
化学镍
• 作用:在活化后的铜面镀上一层Ni/P合金,作为阻绝金与铜之间 的迁移(Migration)或扩散(Diffusion)的屏蔽层。 • 主成份:1、硫酸镍---提供镍离子 • 2、次磷酸二氢钠---使镍离子还原为金属镍 • 3、络合剂--形成镍络合离子,防止氢氧化镍及亚磷酸镍生 成,增加药水稳定性,pH缓冲 • 4、pH调整剂--维持适当pH • 5、稳定剂--防止镍在胶体粒子或其他微粒子上还原 • 6、添加剂--增加被镀物表面的负电位,使启镀容易及增加 还原效率
Ni/P晶粒随镀镍时间增大
Ni浓度及pH对Ni/P的晶粒大小的影响
Ni浓度及pH对Ni/P析出速度的影响
置换金
• 注意pH及防止Cu,Fe,Ni污染 • 回收槽需定时更新 • 10um P.P.滤芯连续过滤,循环量3-4次/小时

化学镍金工艺探讨

化学镍金工艺探讨
干净 : 可 能 的 防止 槽 液 析 出 。 液 的活性 心 槽 需 要 十 分 的稳 定 ,最 好 采 用 自动 添加 系 统
焊 垫 镍 层 有 10L 以上 , 做 其 它 料 号 很 2卜 m 且 正 常 , 异 常 曾困 扰 生 产 许 久 , 经 供 应 商 此 后 分 析 是 多 层 板 的 内外 层 存 在 电 位 差 ( 现 此
前 面槽 液 的 污染 , 护 活化 槽 。 保
有加速剂( 多为乳酸)故槽液冷却停用后易 ,
发霉 。 因此 , 产 量 不 太 或 长 时 间 不用 时 , 在
6 .活 化 : 的 活 化 剂 为 离 子 型 的 氯 化 用 钯( 也有 硫 酸 钯 , 酸 钉 等 铂 族 贵 金属 ) 硫 。浓
率 , 量 高 , 液 稳 定 性 差 , 性 太 强 易 析 含 槽 活
出。
有 机添 加剂 : 加剂 主要 有络 合剂{ 添 使 N 产生 成 络 合 物 . 免生 成 氢 氧 化 物 或 亚磷 避
酸 盐 沉 淀)加速 剂 , 定 剂 。 由于槽 液 中加 ; 安
5 预 活化 : 用 氯 化 钯 作 为 活 化 剂 时 , 采 其 预活 化 可 以盐 酸 配 槽 , 除 前 面 槽 , 除 去 去
以 维持 其 品质 及 活性 。
槽 液 析 出 :在 配 槽 前 须 用 5 % 的硝 酸 0 浸泡 8小 时 以 上 ,使 槽 壁 生 成 钝 化 膜 防 止 镍 附着 ,生 产 时在 槽 四角 的假 镀 杆 要 外 加 09 .V左 右 的 直 流 电压 , 以抑 制 镍镀 上槽 壁 , 硝槽 时 , 属 设 备 ( 滤 机 、 道 ) 要 硝 化 附 过 管 也
律 , 同行 参 考 。 供

化学镍金工艺原理

化学镍金工艺原理

化学镍金工艺原理化学镍金是一种将镍和金蒸发到同一个物质表面上的技术。

这种技术通常用于制造电子元器件和其他精密器件,因为镍和金具有良好的电学性能和较低的腐蚀率。

化学镍金工艺的原理是使用一种叫做热解的技术,将镍和金的氧化物转化为游离金属。

首先,将镍和金的氧化物混合在一起,然后在高温下加热,使氧化物解离出金属。

随后,将游离金属沉积在所需要的表面上,最后将表面冷却,使金属固化。

镍金合金具有良好的电学性能,因此广泛应用于电子元器件中。

例如,它常用于制造芯片上的金手指和连接器,以及用于制造电路板的金贴片。

此外,镍金合金还可用于制造医疗器械,因为它具有较低的腐蚀率和耐磨性。

尽管化学镍金工艺具有许多优点,但它也存在一些局限性。

例如,由于镍和金的氧化物需要在高温下加热才能解离出金属,因此无法在温度敏感的器件上使用。

另外,在化学镍金工艺中,还存在另一个潜在的问题是金属沉积不均匀。

这是因为在高温加热过程中,金属氧化物中的金原子会比镍原子更容易解离出来,导致镍金合金中镍的浓度较低。

因此,在制造镍金器件时,需要对镍金合金的组成进行严格控制,以确保合金的性能和稳定性。

总之,化学镍金是一种有效的技术,用于在电子元器件和其他精密器件上制造镍金层。

尽管存在一些局限性,但通过正确的操作和控制,可以使用化学镍金工艺制造出性能优良、稳定可靠的镍金器件。

除了化学镍金工艺,还有另一种称为电镀镍金的技术。

这种技术的原理是使用电流将镍和金的溶液中的金属离子转移到所需要的表面上,使金属沉积在表面上形成膜层。

与化学镍金工艺相比,电镀镍金具有一些明显的优势。

首先,它可以在低温下进行,因此适用于温度敏感的器件。

其次,电镀镍金可以得到更加均匀的金属沉积,因为可以通过调节电流的强度来控制金属离子的转移速率。

然而,电镀镍金也有一些局限性。

首先,它只能用于沉积较薄的金属膜层,因为随着膜层厚度的增加,金属离子的转移速率会减慢。

其次,电镀镍金过程中存在电阻焊接的风险,因此需要进行特殊的控制。

表面处理之化学镍金制程讲解.

表面处理之化学镍金制程讲解.


控制范围 80-120ml/L 清洁无杂质 清洁无杂质 80-120g/L 2-5% 清洁无杂质 8-12% 清洁无杂质 80-120ml/L 建浴用
控 制------操作及控制参数表
温度 35±5℃ 室温 45±5℃ 27±2℃ 室温 室温 室温 室温 时间 1-3min 60-90sec 60sec 1-2min 30-60sec 30-60sec 30-60sec 30-60sec 添加溢流表 20ml/m2 8L/min 不需 30g/m2 5L/min 20ml/m2 5L/min 20ml/m2 更槽频率 Cu2+>7g/L 一次/日 一次/班 Cu2+>15g/L 一次/日 一次/3日 一次/日 一次/日 分析频率 一次/班 不需 不需 一次/班 不需 一次/日 不需 一次/日 机器动作 振动 空气搅拌 不需 空气搅拌 空气搅拌 不需 空气搅拌 不障名称 可能原因分析 1.Ni2+含量太低. 2.NaH2PO2太低. 3.PH值太低. 4.温度太低. 5.循环不够. 1.脱脂时间不够. 2.水洗不良. 3.前处理不够. 4.反应过剧(镍缸). 5空气.搅拌中有杂质. 解决方法 1.分析调整. 2.分析调整20-25g/L. 3.分析调整4.6-5.2. 4.温度升至81±3℃. 5.检查阀门、管道、过滤机. 1.加长脱脂时间200-300秒内. 2.加长水洗时间,保持清洁. 3.加强前处理磨刷次数. 4.降低镍缸活性. 5.每周清洁空气滤芯. 1.分析调整到50±5ppm. 2.分析调整到100±20ml/L. 3.显示温度与实际温度相符 (25±3℃). 4.检查时间并相应延长. 5.水洗时间不可太长,相应调整. 6.提升镍槽活性. 预防措施 1.检查自动添加机管道,各藥水是否添加正 常,并要求化验校正,操作员必须每小时巡 查1次自动添加机. 2.温度显示值与实际值必须相等. 3.检查循环装置是否有堵塞现象. 1.检查更换频率及添加量. 2.按照要求更换并保持溢流. 3.有来料之污染程度进行调节. 4.调整药水时注意做到少量多次添加. 5.保持滤芯及管道之清洁度. 1.按照生产面积定时定量添加. 2.化验后稀释,检查预浸滴水时间. 3.每日测量并校正,标准25-28℃为佳. 4.发现此类问题时,活化时间可延长到34min. 5.保持水洗清洁度,以免Pd后钝化. 6.镍沉积速率保持在6-8u″为佳. 1.加强进料检验及点检各槽是否在管控范围. 2.以磨刷速度和压力进行调节. 3.在未作业时间加以循环过滤,温度在70℃ 以下. 4.从前处理着手,检验铜面光亮无点状粗糙 为佳. 5.按照生产面积定时定量添加,并要求化验 准确. 沉积速率 太低

化学镍金工艺原理.

化学镍金工艺原理.

1.概述化学镍金又叫沉镍金,业界常称为无电镍金(Elestrolss Nickel Imnersion Gold又称为沉镍浸金。

PCB化学镍金是指在裸铜表面上化学镀镍,然后化学浸金的一种可焊性表面涂覆工艺,它既有良好的接触导通性,具有良好的装配焊接性能,同时它还可以同其他表面涂覆工艺配合使用,随着日新日异的电子业的发展,化学镍金工艺所显现的作用越来越重要。

2.化学镍金工艺原理2.1 化学镍金催化原理2.1.1催化作为化学镍金的沉积,必须在催化状态下,才能发生选择性沉积,VⅢ族元素以及Au等多金属都可以为化学镍金的催化晶体,铜原子由于不具备化学镍金沉积的催化晶种的特性,所以通过置换反应可使铜面沉积所需要的催化晶种;PCB业界大都使用PdSO4或PdCl2作为化学镍前的活化剂,在活化制程中,化学镍反应如下:Pd2++Cu Cu2++Pd 2.2化学镍原理2.2.1 在Pd(或其他催化晶体的催化作用下,Ni2+被NaH2PO2还原沉积在将铜表面,当Ni沉积覆盖Pd催化晶体时,自催化反应继续进行,直到所需的Ni层厚度2.2.2化学反应在催化条件下,化学反应产生的Ni沉积的同时,不但随着氢析出,而且产生H 2的溢出主反应:Ni2++2H2PO2-+2H2O Ni+2HPO32-+4H++H2副反应:4H2PO2- 2HPO32-+2P+2H2O+H22.2.3 反应机理H2PO2-+H2O H++HPO32-+2HNi2++2H Ni+2H2 H2PO2-+H H2O+OH-+PH 2PO2-+H2O H++HPO32-+H22.2.4作用化学镍的厚度一般控制在3-5um,其作用同金手指电镍一样不但对铜面进行有效保护,防止铜的迁移,而且备一定硬度和耐磨性能,同时拥有良好的平整度,在镀镍浸金保护后,不但可以取代拔插频繁的金手指用途(如电脑的内存条,同时还可避免金手指附近的导电处斜边时所遗留裸铜切口2.3 浸金原理2.3.1浸金是指在活性镍表面,通过化学置换反应沉积薄金化应式:2Au(CH2-+Ni 2Au+Ni2++4CN-2.3.2 作用浸金的厚度一般控制在0.03-0.1um,其对镍面有良好的保护作用,而且具备很好的接触导通性能,很多需按键接触的电子器械(如手机、电子字典都采用化学浸金来保护镍面3.化学Ni/Au的工艺流程3.1 工艺流程简介作为化学镍金流程,只要具备6个工作站就可满足生产要求3-7分钟 1-2分钟 0.5-4.5分钟 2-6分钟除油微蚀活化预浸沉Au沉Ni20-30分钟 7-11分钟3.2 工艺控制3.2.1除油缸一般情况下,PCB沉镍金采用酸性除油剂处理制板,其作用在于除掉铜面的轻度油脂及氧化物,达到清洁及增加湿润效果的目的,它应当具备不伤SOiderMask(绿油以及低泡型易水洗的特点。

化学镍金的工艺

化学镍金的工艺

化学镍金的工艺化学镍金的工艺Tags: 化学镍金,印制电路板, 积分Counts:907 次本文在简单介绍印制板化学镀镍金工艺原理的基础上,对化学镍金之工艺流程、化学镍金之工艺控制、化学镍金之可焊性控制及工序常见问题分析进行了较为详细的论述。

在一个印制电路板的制造工艺流程中,产品最终之表面可焊性处理,对最终产品的装配和使用起着至关重要的作用。

综观当今国内外,针对印制电路板最终表面可焊性涂覆表面处理的方式,主要包括以下几种:Electroless Nickel and Immersion Gold形电镀铜的常见缺陷及故障排除。

1.前言由于行业竞争的激烈,印制板的制造商不断降低成本提高产品质量,追求零缺陷,以质优价廉取胜。

而客户对印制板的要求也没有单纯停留在对产品性能的可靠性上,同时对产品的外观也提出了更严格的要求。

而图形电镀铜作为化学沉铜的加厚层或其它涂覆层的底层,其质量与成品的关系可谓休戚相关“一荣俱荣,一损俱损”。

所以图形电镀铜上的任何缺陷如镀层粗糙、麻点针孔、凹坑、手印等的存在,严重影响成品的外观,透过涂覆其上的阻碍或铅锡镀层或是镍金层,都能清楚的显露出来。

本文主要叙述图形电镀铜常见的系列故障及缺陷,并针对这些缺陷进行跟踪调查、模拟实验,找出产生缺陷的成因,制定切实的纠正措施,保证生产的正常进行。

2.缺陷特点及成因2.1 镀层麻点图形电镀铜上出现麻点,在板中间较为突出,退完铅锡后铜面不平整,外观欠佳。

刷板清洁处理后表面麻点仍然存在,但已基本磨平不如退完锡后明显。

此现象出现后首先想到电镀铜溶液问题,因为出现故障的前一天(4月2日)刚对溶液进行活性炭处理,步骤如下:1)在搅拌条下件下加入2升H2O22)充分搅拌后将溶液转至一个备用槽中,加入4kg活性碳细粉,并加入空气搅拌2小时,之后关闭搅拌,让溶液沉降。

从调查中发现,生产线考虑到次日有快板,当晚将溶液从备用槽中转回工作槽。

未经过充分过滤沉降活性炭,而转移溶液时未经循环过滤泵(慢)直接从工作槽的输出管理返回(管道粗,快)。

化镍金的工艺控制及常见问题与改善方法

化镍金的工艺控制及常见问题与改善方法

化镍金的工艺控制及常见问题与改善方法
化学镍金又称化镍金、沉镍金或者无电镍金,化学镍金是通过化学反应在铜的表面置换钯再在钯核的基础上化学镀上一层镍磷合金层,然后再通过置换反应在镍的表面镀上一层金。

目前化镍金的沉金有置换和半置换半还原混合建浴两种工艺。

化学镍金主要用于电路板的表面处理。

用来防止电路板表面的铜被氧化或腐蚀。

并且用于焊接及应用于接触(例如按键,内存条上的金手指等)。

工艺控制
1、除油缸
一般情况﹐PCB沉镍金采用酸性除油剂来处理制板﹐其作用在于去除铜面之轻度油脂及氧化物﹐达到铜面清洁及增加润湿效果的目的。

它应当具备不伤Soider Mask(绿油)﹐低泡型易水洗的特点。

除油缸之后通常为二级市水洗﹐如果水压不稳定或经常变化﹐则将逆流水洗设计为三及市水洗更佳。

2、微蚀缸
微蚀的目的在于清洁铜面氧化及前工序遗留残渣﹐保持铜面新鲜及增加化学镍层的密着性﹐常用微蚀液为酸性过硫酸钠溶液。

洗过程中迅速氧化﹐所以微蚀后水质和流量以及浸泡时间都须特别考虑。

否则﹐预浸缸会产生太多的铜离子﹐继而影响钯缸寿命。

所以﹐在条件允许的情况下(有足够的排缸)﹐微蚀后二级逆流水洗之后﹐再加入5%左右的硫酸浸洗﹐经二级逆流水洗之后进入预浸缸。

3、预浸缸
预浸缸在制程中没有特别的作用﹐只是维持活化缸的酸度以及使铜面在新鲜状态(无氧化物)下﹐进入活化缸。

4、活化缸
活化的作用是在铜面析出一层钯﹐作为化学镍起始反应之催化晶核。

其形成过程则为Pd。

表面处理之化学镍金制程讲解

表面处理之化学镍金制程讲解

8L/min
30-60sec
20ml/m2
30-60sec
8L/min 以UPC-M(10%)
控制速率为69u″/min
1L/5m2 1L/5m2 0.8L/5m2
按要求厚度而 定
100g金盐 /100m2
30-60sec 30-60sec
60sec
.
8L/min 5L/min 不需
一次/日 一次/3日 一次/日 UPC-1(5%)配制
控 制------操作及控制参数表
温度 35±5℃
室温 45±5℃ 27±2℃
室温 室温 室温 室温
27±2℃ 室温 室温 室温
81±3℃
87±5℃ 室温 室温
45±5℃
时间 1-3min 60-90sec 60sec
1-2min
30-60sec 30-60sec 30-60sec 30-60sec
.
制 程 控 制------配槽用量
槽名
项目
配槽浓度
添加次序
备注
除油
DI.H2O
1
2
DI.H2O
80%
1
微蚀
SPS
பைடு நூலகம்
100g/L
2
AR.H2SO4
2-3%
3
酸洗
DI.H2O
90%
1
AR.H2SO4
10%
2
预浸
DI.H2O
1
2
活化
DI.H2O
1
2
DI.H2O
1
化镍槽
2
3
DI.H2O
1
化金槽
2
KAu(CN)2
不需 不需 不需

PCB化学镀镍金工艺介绍

PCB化学镀镍金工艺介绍

PCB化学镀镍金工艺介绍PCB化学镀镍金工艺是一种常用的金属化学镀工艺,用于在印刷电路板(PCB)表面镀覆一层金属防护层,以提高电路板的导电性、耐腐蚀性和焊接性能。

本文将介绍PCB化学镀镍金工艺的基本原理、工艺步骤和优缺点。

基本原理:PCB化学镀镍金工艺是利用电化学原理,在PCB表面镀覆一层金属镍,然后再在镍层上镀覆一层金属金。

电化学镀镍过程中,利用电解液中的镍离子在PCB表面还原成金属镍,形成一层均匀的金属薄膜。

而电化学镀金过程类似,利用电解液中的金离子在镍层上还原成金属金,形成一层优质的金属薄膜。

这样,PCB表面就得到了一层耐腐蚀、导电性好的金属保护层,提高了PCB的性能和可靠性。

工艺步骤:1.清洗:将PCB放入碱性清洗液中,去除表面的油污和污垢,保证良好的粘接性。

2.除锡:在酸性溶液中进行脱锡处理,去除PCB表面的焊锡层,以免对后续工艺产生干扰。

3.洗涤:将PCB放入清水中进行冲洗,去除脱锡液。

4.化学镀镍:将清洗后的PCB放入镀镍槽中,通过电解作用,在PCB表面上镀覆一层金属镍。

镀镍工艺中的关键是电解液的配方和调节,以确保镀层的均匀性和质量。

5.洗涤:将镀镍后的PCB放入清水中进行冲洗,去除残留的电解液。

6.电镀:将镀镍后的PCB放入金镀槽中,通过电解作用,在镀镍层上镀覆一层金属金。

和镀镍工艺一样,金镀工艺中的关键是电解液的配方和调节,以确保金属镀层的均匀性和质量。

7.洗涤:将金镀后的PCB放入清水中进行冲洗,去除残留的电解液。

8.烘干:将洗涤后的PCB放入烘干箱中进行烘干,去除水分,使PCB表面干燥。

优缺点:1.镀层均匀:化学镀镍金工艺能够在PCB表面形成一层均匀的镍层和金属金层,不仅提高了密着性,还提高了导电性能。

2.镀层良好的硬度:化学镀镍金镀层具有一定的硬度,提高PCB的耐磨、耐刮性能。

3.阻焊性好:镀金层在PCB表面形成一层阻焊层,提高了PCB的焊接性能和可靠性。

4.节省成本:与其他金属化工艺相比,化学镀镍金工艺更加节省成本,适用于大批量生产。

化学镍金的材料性能及其在机械制造领域的应用

化学镍金的材料性能及其在机械制造领域的应用

化学镍金的材料性能及其在机械制造领域的应用摘要:在现代工程和制造领域中,材料科学和表面处理技术的不断发展推动了新材料的涌现以及传统材料性能的提升。

化学镍金作为一种重要的表面处理材料,因其卓越的性能和广泛的应用领域而备受关注。

化学镍金是一种将镍金属沉积在基材表面的材料,具有优异的物理、化学和机械性质,适用于多种工程应用。

本文旨在深入研究化学镍金材料的制备方法、材料性质以及其在机械制造领域的应用。

首先,我们将介绍化学镍金的制备方法,包括化学沉积法和电化学沉积法,解释它们的原理和过程。

然后,我们将深入探讨化学镍金的材料性质,包括其物理性质、化学性质和机械性质,以展示其多功能性和适用性。

总之,本文将提供有关化学镍金的全面信息,旨在为相关领域的研究人员和工程师提供有价值的知识和指导,以促进材料科学和制造技术的进步。

关键词:化学镍金;制备方法;材料性能;机械制造;应用1.化学镍金的制备方法1.1 化学沉积法的原理和过程化学镀镍金工艺的原理包括一系列关键步骤,从铜表面的处理到金镍复合镀层的最终形成。

首先,铜表面经过处理,通常在其上使用离子钯作为催化剂,以启动后续的反应。

处理好的铜表面随后被浸入一种特定的化学溶液中,这个溶液一般包含着镍离子的化合物。

这个步骤标志着化学镀镍金工艺的开始。

接下来的步骤涉及氧化还原反应,通过使用还原剂,如次磷酸钠或胺基硼烷,将溶液中的镍离子还原为镍单质并沉积在铜表面上,形成一定厚度的镍层。

这个步骤对于最终镀层的质量至关重要,因为它决定了镀层的厚度和均匀性。

随后,镀有镍的基材被浸入含有金离子的溶液中,触发了置换反应,金离子逐渐取代了部分镍,从而形成金层。

这一步骤的目的是实现所需的金外观。

置换反应的进行取决于金和基体金属(如镍)之间的电位差,这使得金从镀液中沉积到镍镀层上。

同时,基体金属会逐渐溶解,这是整个复杂过程的一部分。

一旦基体金属表面完全被金层覆盖,置换反应停止,我们最终获得了所需的金镍镀层。

化学镍金工艺探讨

化学镍金工艺探讨

一、工艺简介沉金工艺之目的的是在印制线路表面上沉积颜色稳定,光亮度好,镀层平整,可焊性良好的镍金镀层。

基本可分为四个阶段:前处理(除油,微蚀,活化、后浸),沉镍,沉金,后处理(废金水洗,DI水洗,烘干)。

二、前处理沉金前处理一般有以下几个步骤:除油(30%AD-482),微蚀(60g/InaPS,2%H2SO4),活化(10%Act-354-2),后浸(1%H2S04)。

以除去铜面氧化物,并在铜面沉钯,以作沉镍活化中心。

其中某个环节处理不好,将会影响随后的沉镍和沉金,并导致批量性的报废。

生产过程中,各种药水必须定期分析和补加,控制在要求范围内。

较重要的比如:微蚀速率应控制在“25U—40U”,活化药水铜含量大于800PPM时必须开新缸,药水缸的清洁保养对联PCB的品质影响也较大,除油缸,微蚀缸,后浸缸应每周换缸,各水洗缸也应每周清洗。

三、沉镍沉镍药水的主要成分为Ni2+(5.1-5.8g/1)和还原剂次磷酸钠(25-30g/1)以及稳定剂,由于化学镍对药水成分范围要求比较严格,在生产过程中必须每班分析化验两次,并依生产板的裸铜面积或经验补加Ni2还原剂,补加料时,应遵循少量,分散多次补料的原则,以防止局部镀液反应剧烈,导致镀液加速老化,PH值,镀液温度对镍厚影响比较大,镍药水温度抄袭控制在85℃-90℃。

PH在5.3-5.7,镍缸不生产时,应将镍缸温度降低至70℃左右,以减缓镀液老化,化学镍镀液对杂质比较敏感,很多化学成分对化学镍有害,可分为以下几类:抑制剂:包括Pb.Sn..Hg.Ti.Bi(低熔点的重金属),有机杂质包括S2,硝酸及阴离子润湿剂。

所有这些物质都会降低活性,导致化学镀速度降低并漏镀,严惩时,会导致化学镀镍工艺完全停止。

有机杂质:包括:除以上所提到的有机的稳定剂以外,还有塑料剂以及来自于设备和焊锡的杂质。

尽管可通过连续镀清除一部分杂质,但不能完全清除。

不稳定剂:包括Pd和少量的铜,这两种成分造在化学镍不稳定,使镀层粗糙,而且过多地镀在槽壁及加热器上。

PCB化学镀镍金工艺介绍

PCB化学镀镍金工艺介绍

PCB(英文Printed Circuie Board印制线路板的简称)化学镍/金工艺是PCB表面涂覆可焊性涂层的一种。

其工艺是在PCB阻焊膜工艺后在裸露铜的表面上化学镀镍,然后化学镀金。

由于化学镍/金工艺的镍/金层分散性好镀层厚度均匀一致化学稳定性较高,有良好的焊接及多次焊接性、有良好的打线性能、且能兼容各种助焊剂。

该工艺既能满足日益复杂的PCB装配焊接与各种打线的要求。

同时更利于有效的保护导线的侧边缘与局部修复作用。

一、化学镀镍PCB化学镀镍溶液的工艺配方很多,采用次磷酸二氢钠为还原剂的镀液比较普遍。

其实采用化学镀镍的方法,得不到纯镍镀层,而是二元以上的镍基合金。

应用最多的是以镍为基,含有一定量的磷、硼、或氮的二元合金。

PCB较适合于采用以次磷酸二氢钠为还原剂的酸性镀液(得到镀层含磷量3-14%)。

PCB酸性化学镀镍的PH值一般在4-6内,与碱性镀液比其稳定性高,易于维护,沉积速率高。

但其操作温度高。

典型工艺如下:硫酸镍(NiSO4.7HO2) 21克/升次磷酸钠(NaH2PO2.H2O) 18-26克/升丙酸 2毫升/升乳酸 30毫升/升稳定剂 0-1毫升/升PH 4-6温度 80-90℃1、镀液中各成份的作用及操作条件影响:1.1、镍盐---硫酸镍,他的作用是提供还原为金属镍所需的Ni2+离子。

适当提高镍盐的浓度可以提高沉积速度,但是镍盐浓度不能过高,实践结果表明,当镍盐浓度增加到一定数值时,沉积速度趋于稳定,这时PH 过高和络合剂含量不足时,还会生成氢氧化镍或亚磷酸镍沉淀,影响镀液的稳定性。

其镍离子在8-12g/L,这时沉积速率最高,且镀层中磷含量也比较稳定。

1.2、还原剂---次磷酸钠为还原剂,提供NI2+离子还原为金属镍所需的电子。

浓度提高,沉积速度加快,但比例浓度过高稳定性下降。

次磷酸钠在镀液中的作用主要是使 Ni2+离子还原为金属镍,但也有部分H2PO2离子被还原为磷。

控制不同的镀液组分及操作条件,可得到不同的含磷量(0-14%)的化学镍。

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化学镍金工艺探讨惠州合正电子科技有限公司杨建
化学镍金镀层集可焊接、可接触导通,可打线、可散热等功能于一身,是PCB板面单一处理却具有多用途的湿制程。

目前尚无其它的工艺可与之抗衡。

但该制程不好做已时日已久,问题常常出现且不易重工,问题的解决须从源头开始。

对此,本人将工作过程中遇到的品质问题同业界前辈探讨一下。

首先从化学镍金的反应机理入手。

一、化镍
镍盐:以硫酸镍为主,也有氯化镍、乙酸镍
还原剂:次磷酸二氢钠,NaH2PO2
反应机理:
说明:①次磷酸二氢钠的次磷酸根离子水解并氧化成磷酸根,同时放出两个活性氢原子吸附在铜底钯面上。

②镍离子在活化钯面上迅速还原镀出镍金属。

③小部分次磷酸根在催化氢的刺激下,产生磷原子并沉积在镍层中。

④部分次磷酸根在催化环境下,自己也会氧化并生成氢气从镍面上向外冒出。

二、化金
当PCB板面镀好镍层放入金槽后,其镍面即受到槽液的攻击而溶出镍离子,所抛出的两个电子被金氰离子获得而在镍面上沉积出金层。

反应机理:
Ni→Ni2+2e
Au(CN)2-+e→Au+2CN-
由此可知,一个镍原子溶解可获得两个金原子的沉积,又因金层上有许多疏瓦,故表面虽已盖满了金层,但仍可让疏孔的镍面溶解而继续镀出金层,只是速度越来越慢而已。

其次,化学镍金各流程的管控。

一、前处理。

1.刷磨:使用高目数的尼龙刷(1000-1200目)对板面进行轻刷(刷磨电流2.0±0.2A)除去访垢和氧化物.在刷磨后接板时必须戴干净的手套避免接触成型线内的待镀区,以免后续做板出来后板面上有花斑。

2.去脂:去徐油脂及有机物,只能采用非离子型遥介面活性剂,仅具润湿效果而已,不能用太强的板子型活性剂,以防止防焊漆表面或基材上带有静电而上镍或损伤水性碱液显影的防焊漆而溶出碳份污染槽液。

3.微蚀:通常只咬铜30-40µm即可,如果发现有星点露铜现名象,很可能为湿膜制程之显影不洁或显影后水洗不净造成。

此时可适当延长微蚀时间以便除之。

4.酸洗:去除微蚀生成的铜盐。

5.预活化:采用氯化钯作为活化剂时,其预活化可以盐酸配槽,去除前面槽,去除前面槽液的污染,保护活化槽。

6.活化:用的活化剂为离子型的氯化钯(也有硫酸钯,硫酸钌等铂族贵金属)。

浓度最好控制在30ppm-60ppm。

有段时间,我司生产的某多层板总是有焊垫色差现象,且两面(S面、C面)总是对称出现,测量镍层只有30µm左右,而旁边焊垫镍层有120µm以上,且做其它料号很正常,此异常曾困扰生产许久,后经供应商分析是多层板的内外层存在电位差(此现象经微蚀后更
为突出)阻止镍的附着,后提高钯浓度至60ppm不良率大幅下降色差且不明显,可允收。

7.水洗:在各药水槽之间均须有强力搅拌和循环的纯水洗,避免使用而水洗造成板面污染。

二、化学镍槽的管理
组成及管控:槽液的配方一般为供应商的机密,主要成份有:镍盐,还原剂,和多种有机添加剂。

PH:(4.6-5.2)调整时可用柠檬本或铵水调整,注意:用铵水调整时须缓慢加入且少量多次进行。

温度:80℃以上,以保证镍槽反应的顺利进行。

磷含量:(6-8%)含量低,其抗蚀性,焊锡性都会变差,且镍层表面易钝化,含量高,会影响镍层的质量,增大镍层的内应力,使金镍之间的结合力变差。

Ni2+:(4.6-5.2g)含量低,影响沉积速率,含量高,槽液稳定性差,活性太强易板出。

有面添加剂:添加剂主要有络合剂(使Ni2+生成络合物,避免生成氢氧化物或亚磷酸盐沉淀);加速剂,安定剂。

由于槽液中加有加速剂(多为乳酸),故槽液泛却停用后易发霉。

因此,在产量不大或长时间性不用时,每隔3-4天就升温做假镀(夏天尤为重要)。

以维持其品质及活性。

槽液析出:在配槽前须用50%的硝酸浸泡8小时发上,使槽壁生成钝化膜防止镍附着,生产时在槽四角的假镀杆要外加0.9V左右的直流电压,以抑制镍镀上槽壁,硝槽时,附属设备(过滤机、管道)也要硝化干净。

心可能的防止槽液析出。

槽液的活性需要十分的稳定,最好采用自动添加系统使槽液各项成份稳定。

这样槽液析出就会变慢。

寿命就会延长,但是为了保证焊锡性的可靠,其槽液寿命只能用4-5MTO就须换槽。

三、化学金槽的管理
成份:金盐为氰化亚金钾,含金量63.8%.PH:5.1-6.1
化学金采用电位置换反应的原理进行的.能在镍面上镀上1-3µm的金层,在开始反应的一两分钟内沉积速度很快,至后来只能透过金层的疏孔让镍溶出,而继续推动金层的沉积.因以镍的不断溶出,金槽内的镍含量不断增加,一旦超过0.5y/L以上时,不但外观不佳且附着力也不行.故金槽的寿命只能维持3-4MTO。

根据长时间的工作经验行出以下干规律,供同行参考。

换两次镍槽换一次活化槽。

换两次镍槽换一次活化槽
换两次活化槽换一次金槽
换两次金槽换一次脱脂槽
四、后处理:
PCB镀完金后要尽快清洗,最好是热水洗,以保证无水放印,满足客户的外观要求,同时心力避免在酸性环境下存放,避免金面发红,最好是垫纸转走。

最后,上游制程品质隐患的影响。

对化学镍金制程本身没有大的问题出现,主要是防焊白化,是点露铜。

而这两项都是湿膜制程品质隐患而引起。

1.焊自化。

防焊油墨的品质破坏是决定因素,但一般的油墨只要控制好工艺参数,也可将严重程度减至最小。

我司发前化金板用TARUM TT-9G油墨,该油墨品质十分过硬,在镍槽镀50mm都未见防焊白化。

但是改用太阳4000-GF5型油墨,防焊白化有20mil,做试验发现不印文字去做板,白化程度为15mil,判断是有了文字烤板的缘故,因此将湿膜后烤参数由150℃45min改为150℃40min;文字烤板参板由150℃20min(单面文字)改为140℃15min,做板后防焊白化只有8mil左右,可允收。

说明非化金板适用油墨在做板时,烤板的时间不宜过长,避
免油墨烘烤过度老化,化金时防焊老化。

2.星点露铜:这是最让人头痛的问题,产生的原因主要是湿膜显影及显影后的水洗烤板时的放板密度(方便有机溶剂、油烟散发)通风状况及烤箱内的清洁程度。

发现此种情况,严重的退洗,轻微的采取刷磨两次,延长微蚀时间解决,最有效的方法是从湿膜制程改善。

常见问题的原因及解决方法。

1.色差:
原因:
①镍槽被污染或使用寿命已到,槽液有机物累积过多。

②金槽内的镍离子过多
③活化槽钯浓度不足。

解决:
①换镍槽,杜决污染源。

②分析金槽镍含量,超过0.5g/L换槽。

③适当提高钯浓度。

2.镀层粗糙
原因:
①镍槽活性太强。

②过滤不够,板子振动频率幅度不够。

③前处理不良。

解决:
①适当降低温度、浓度和PH值。

②加强过滤,最好用5µm的滤芯边疆过滤。

同时加强板子的振动频率和幅度,便于赶走板面上附着的氢气。

③加强前处理,同时检查铜面是否粗糙,杜决来料不良。

3.露铜:
原因:
①反面沾异物
②湿膜显影不净和水洗不净
③钯附着力不够
④活化后水洗过长
⑤镍槽药水管控失衡。

解决:
①加重刷磨(追踪异物来源)
②湿膜制程检讨心改善
③控制去脂槽的Cu2+含量(小于7g/L)
④缩短水洗时间(15SEC)
⑤严格按比例添加,同时根据化验结果结果调整
4.金脱皮:
原因:
①镍层含磷星高
②镍层钝化
解决:
①用AA分析磷含量,适当降低还原剂添加幅度,若不行则换槽。

②避免镍层在空气中暴露时间过长。

5.镍、铜结合力差(镍/铜分层)
原因:
①铜面不洁
②前处理失效
解决:
①加强前处理
②分析前处理各槽药液中Cu+含量,如有超标既换之。

(去脂槽Cu2+<7g/L,微蚀槽Cu2+<15g/L。

酸洗槽Cu2+<0.3g/L)
结束语
化学镍金制程的品质控制不是一件容易的事,尤其是潜在的品质隐患(如:焊锡性)只有刮客户上我后才能发现,不过只要严格的按标准作业,问题发生的机率就会减少。

本人此次将该制程的一些经验写出来是为得到业界前辈的指导,提高自己的能力,如有不足之处请多指教。

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