辉光放电(Glowdischarge)

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辉光放电

辉光放电

辉光放电(Glow discharge)辉光放电是放电等离子体中最常见的一种放电形式,应用也最广泛。

比如,一般的气体激光器(He-Ne 激光器、CO2激光器等)、常用光源(荧光灯)、空心阴极光谱灯等。

同时辉光放电也是放电形式中放电最稳定的放电形式,所以有必要对辉光放电进行较为详细的讨论。

§6.1 辉光放电的产生及典型条件最简单的辉光放电的结构如图6.1(a)。

调节电源电压E或限流电阻R,就会得到如图6.1(b)的V-A特性曲线。

管电压U调节到等于着火电压U b时,放电管内就会从非自持放电过渡到自持放电,此时,放电电流I会继续增大,管压降U下降,进入辉光放电区。

放电管发出明亮的辉光,其颜色由放电气体决定。

限流电阻R应比较大,以保证放电稳定在辉光放电区。

如果限流电阻R很小,放电很容易进入弧光放电区。

辉光放电的特点:比较高的放电管电压U(几百~几千V),小的电流I(mA量级);弧光放电的特点:很低的放电电压U(几十V),大电流放电I(A量级甚至更大)。

辉光放电的典型条件:①放电间隙中的电场分布比较均匀,至少没有很大的不均匀性;例如He-Ne激光器的放电管内电场近似均匀。

②放电管内气体压强不是很高,要求满足(Pd)Ubmin<Pd<200Kpa cm(巴邢曲线的右支),d---放电管内电极间距,(Pd)Ubmin--巴邢曲线最低点U bmin对应的Pd值。

一般P=4Pa~14Kpa时,可出现正常辉光放电,而Pd>200Kpa cm时,非自持放电通常会过渡到火花放电或丝状放电;③放电回路中的电源电压和限流电阻准许放电管的放电电流工作在mA量级,且电源电压应高于着火电压U b,否则不能起辉。

§6.2 辉光放电的组成区域和基本特征对于一对平行平板放电电极,典型的辉光放电外貌如图6.2(a)。

从阿斯顿暗区到负辉区称为阴极位降区或阴极区。

下面对各放电区一一进行介绍。

1、阿斯顿暗区(Aston Dark Space):它是仅靠阴极的一层很薄的暗区,是有Aston首先在H2、He、Ne放电中观察到的放电暗区,所以称为阿斯顿暗区。

辉光发电质谱仪工作原理

辉光发电质谱仪工作原理

辉光发电质谱仪工作原理辉光发电质谱仪(Glow Discharge Mass Spectrometer,GDMS)是一种利用辉光放电技术结合质谱分析方法的仪器。

它主要用于金属、合金和陶瓷等材料的成分分析,具有高灵敏度、高分辨率和广泛的元素适应性等优点。

本文将详细介绍辉光发电质谱仪的工作原理。

一、辉光放电过程辉光放电是指在气体环境中,两个电极间形成正电压差时,气体分子碰撞产生的电离电子被电场加速并与原子或分子碰撞,发生电子输送和能量转移的过程。

具体步骤如下:1. 点火阶段:通过施加高频高压电场,使电极间的气体发生电离,产生电子和正离子。

这些电子和离子在电场的作用下形成电弧,并逐渐形成辉光放电。

2. 积聚阶段:在辉光放电过程中,电子与气体分子碰撞形成正离子,在电场的作用下,正离子聚集在阴极表面,形成电场与雷诺型层。

3. 钝化层形成阶段:电子在阴极表面发生能量转移,产生高能电子轰击和多次散射的效应,使原子或分子从材料表面打出,并在表面形成一层钝化层。

4. 圣戴运输阶段:钝化层上的原子或分子在电场的作用下运输到阳极,形成离子束,并被导入质谱分析部分。

二、辉光发电质谱仪结构辉光发电质谱仪主要由以下几部分组成:1. 离子源:包括放电室和阳极收集器。

放电室内安装有高频高压电源,用于产生辉光放电。

阳极收集器负责接收放电室中产生的离子束。

2. 质谱分析部分:主要由质谱仪和探测器组成。

质谱仪根据离子的质量-电荷比(m/z)进行分离和检测,可以获取样品中不同元素的信息。

探测器用于记录和放大分析信号。

3. 控制系统:包括电源控制和数据采集系统。

电源控制可以对放电条件进行调节和监控,保证辉光发电的稳定性。

数据采集系统用于记录和处理质谱分析得到的结果。

三、辉光发电质谱仪的工作原理如下:1. 放电条件设置:根据待测样品的性质和测试要求,合理设置放电条件,包括放电电流、放电时间和气体环境等。

2. 辉光放电:施加高频高压电场,使气体发生辉光放电。

ATC4-教材辉光放电原子发射光谱分析技术考核跟培训大纲下

ATC4-教材辉光放电原子发射光谱分析技术考核跟培训大纲下

全国分析检测人员能力培训委员会ATC004 辉光放电原子发射光谱分析技术考核与培训大纲第1版文件编号:ATC004/A:2010-1发布日期:2010年8月1 总则1.1 目标熟悉辉光放电原子发射光谱(Glow Discharge-Optical Emission Spectrum,Glow Discharge-OES)分析技术基本概念及基础理论知识;了解Glow Discharge-OES仪的组成结构及工作原理;具备Glow Discharge-OES仪的实际操作能力;掌握Glow Discharge-OES分析技术在相关领域的应用。

1.2 适用范围本大纲适用于对金属和无机非金属固体样品以及表面处理样品进行成分及深度轮廓分析的辉光放电原子发射光谱分析技术的考核与培训。

适用仪器包括激发源为直流源或射频源,检测器为光电倍增管或CCD的各类辉光放电原子发射光谱仪。

1.3 应具备的基础知识和技能1.3.1 通用基础具备分析化学的基础知识, 光谱相关的基础知识。

1.3.2 分析测试基本操作具备分析化学实验的基本操作能力,具备实验室一般仪器和设备的操作能力。

1.3.3 数据处理基础知识具备数据统计处理和误差理论的基础知识。

2 技术要求2.1 ATC 004-1 Glow Discharge-OES技术基础2.1.1 术语及概念掌握Glow Discharge-OES分析技术基本概念和相关的技术用语。

(1) 光谱及原子发射光谱;(2) 辉光放电;(3) 直流辉光放电、射频辉光放电和脉冲辉光放电;(4) 基态和激发态;(5) 原子线和离子线;(6) 分析线和内标线(参比线);(7) 分析线强度、内标线强度及相对强度;(8) 阳极和阴极;(9) 罗兰圆;(10) 入射狭缝、出射狭缝;(11) 光栅及焦距;(12) 光电倍增管和CCD检测器;(13) 谱线和谱线级次;(14) 色散率和分辨率;(15) 光谱干扰;(16) 光路校准;(17) 分析基体、分析程序和校准曲线;(18) 标准化;(19) 标准样品、标准化样品及类型标准化样品(20) 成分分析(21) 深度轮廓分析、表面分析和界面分析;(22) 溅射率;(23) 溅射率校正;(24) 溅射深度;(25) 溅射坑轮廓;(26) 表面处理层厚度;(27) 涂镀量。

甲醇溶液辉光放电等离子体电解

甲醇溶液辉光放电等离子体电解

1
甲醇溶液 GDE 所用装置如图 1 所示 , 为 H 型 双圆柱形玻璃反应器, 双圆柱形管内带夹套, 夹套 两 圆柱 形 夹套管
实验部分
2 实验结果及讨论
当 电极 周围形成 稳 定的气体 鞘层 , 提 高两 极电
压, 气体鞘层被击穿形成辉光放电等离子体. 硫酸为 辅助电解质时, 辉光等离子体发出蓝色的辉光, 以氢 氧化钠 和 四硼酸钠 为 辅助电解质 时 , 辉光等离子体 显黄色的辉光. 2.1 GDE 产物 2.1.1 硫酸辅助电解质甲醇溶液阳极 GDE 产物 在溶液电导率为 3.43 mS · cm-1,两极电压 为 600 V 的条件下 , 阳 极 周围 的气体 鞘层中形成 稳 定的辉 光放电等离子体 . 溶液和气体 之 间 的 界面 处 于 一 个 激烈的湍动状态. 溶液中主要的产物有水、 二甲氧基 甲烷、甲醛、 1,3,5鄄三噁烷、 1,1鄄二 甲氧 基乙烷和 1,3鄄 二噁烷. 阳极气体中主要有氢气, 一氧化碳, 甲烷, 乙 烷和丙烷 . 当 电压足够 高时 还有少量的 二 氧化碳和 二 甲 醚 , 见 表 1. 气 相中 甲醛 浓 度为 6.85 伊10 -5(molar
2007活性物种在普通的热化学反应中不易得到但在等离子体中可源源不断地产生12辉光放电电解glowdischargeelectrolysisgde是一种非常规的电解方电解过程中首先在放电电极周围由电流焦耳热引起溶剂蒸发层形成气体鞘层两极电压升高到一定程度时放电电极周围气体鞘层被击穿产生辉光放电等离子体gde的一个显著特点是在放电电极一侧的化学产量超出法拉第定律规定产量得到常规电解不会得到的产物45gde被认为是一种非常有前景的技术在电解加工有机物合成氢气制造和废水处理等方面显示出独特的优点甲醇是一种广为关注的小分子有机物被认为是良好的储氢材料1314甲醇溶液gde制氢显示出与常规甲醇电催化氧化完全不同的特性具有单位体积能耗低和氢气含量高等优点1516研究甲醇溶液gde引发的等离子体反应探究甲醇分子在辉光放电等离子体电解过程中的等离子体化学反应特性可为甲醇溶液gde制取富氢气体过程的控制和优化提供理论指导为反应器的设计提供科学依据时对辉光放电等离子体化学的基础研究和应用研究也具有重要意义

什么是辉光放电

什么是辉光放电

什么是辉光放电?(What is a glow discharge and what is it?)A glow discharge is a kind of plasma. It is an ionized gas consisting of equal concentrations of positive and negative charges and a large number of neutral species.In the simplest case, it is formed by applying a potential difference (of a few 100 V to a few kV) between two electrodes that are inserted in a cell (or that form the walls of the cell). The cell is filled with a gas (an inert gas or a reactive gas) at a pressure ranging from a few mTorr to atmospheric pressure. Due to the potential difference, electrons that are emitted from the cathode by the omnipresent cosmic radiation, are accelerated away from the cathode, and give rise to collisions with the gas atoms or molecules (excitation, ionizatio n, dissociation, …). The excitation collisions give rise to excited species, which can decay to lower levels by the emission of light. This process is responsible for the characteristic name of the “glow”discharge. The ionisation collisions create ion‐electron pairs. The ions are accelerated toward the cathode, where they release secondary electrons. These electrons are accelerated away from the cathode and can give rise to more ionization collisions. In its simplest way, the combination of secondary electron emission at the cathode and ionization in the gas, gives rise to a self‐sustained plasma.Due to the various collision processes in the plasma, a large number of different plasma species can be present: electrons, atoms, molecules, several kinds of radicals, several kinds of (positive and negative) ions, excited species, etc. These different species can all be in interaction with each other, making the glow discharge plasma a complicated gas mixture. The aim of our work is to obtain a better insight in the complex processes occurring in glow discharges and related plasmas, and we try to do that by numerical simulations. Different variants to glow discharge plasmasThe glow discharge described above can be called the “basic version”. In this direct current (dc) glow discharge, a continuous potential difference is applied between cathode and anode, giving rise to a constant current. However, this set‐up gives problems when one of the electrodes is non ‐conducting, as is the case in some applications (see below). Indeed, due to the constant current, the electrodes will be charged up, leading to burn‐out of the glow discharge. This problem is overcome by applying an alternating voltage between the two electrodes, as in the capacitively coupled radio‐frequency (cc rf) glow discharge. Indeed, the charge accumulated during one half of the cycle, will be neutralized by the opposite charge accumulated during the next halfcycle. Beside a time‐dependent rf voltage, an alternating voltage can also be applied in a lower frequency range, giving rise to an alternating current (ac) glow discharge. This can be considered as a consecution of short discharges, in which the two electrodes alternatingly play the role of cathode and anode. An important type of ac glow discharge, operating at atmospheric pressure, is the dielectric barrier discharge (DBD), where the electrodes are typically covered by a dielectric barrier. A variation to the ac discharge is the pulsed glow discharge, which also consists of short glow discharges (with lengths typically in the milli‐or microsecond range), followed by an afterglow, which is generally characterized by a longer time‐period. The advantage is that high peak electrical powers can be reached for a low average power, resulting in high peak efficiencies for various applications. In addition to applying an electric field (or potential difference), a magnetic field can also be applied to a glow discharge. The most well‐known discharge type with crossed magnetic and electric fields is the magnetron discharge. The electrons circulate in helices around the magnetic field lines and give rise to more ionisation. Hence, magnetrondischarges are typically operated at lower pressures and higher currents than conventional glow discharges. Recently, some new discharge types have been developed, which are also characterized by low pressure and high plasma densities, and which have their main application in the semiconductor industry and for materials technology. The major difference with the conventional glow discharge is that the electrical power is not applied through a potential difference between two electrodes, but through a dielectric window. The two most important “high‐density sources”, are the inductively coupled discharge, where the rf power is inductively coupled to the plasma, and the electron cyclotron resonance reactor, where microwave power and a magnetic field are applied. Microwave power can also be applied in so‐called microwave induced plasmas. V arious discharge types can be classified under this name, among others the resonance cavity plasmas, free expanding plasma torches and surface wave discharges. In fact, the list of discharge plasmas related to glow discharges is longer than this. But because they are at this moment beyond the research interest of our group, we will not go into detail here. More information can be found in: A. Bogaerts, E. Neyts, R. Gijbels and J.J.A.M. van der Mullen, Gas discharge plasmas and their applications, Spectrochimica Acta B, 57, 609‐658 (2002). Applications of glow discharges and related plasmas Glow discharges and related plasmas are used in a large number of application fields. The most important application is probably in the microelectronics industry and in materials technology, for surface treatment, etching of surfaces (e.g., for the fabrication of integrated circuits), deposition of thin protective coatings, plasma polymerisation, plasma modification of polymers and other surfaces. The exciting and light emitting character of discharge plasmas is also used for several interesting applications, such as in the light industry (e.g., fluorescence lamps, neon advertisements), as gas lasers, and as flat plasma display panels for the new generation of flat, large area television screens. Because a lot of chemical reactions take place in the plasma, several types of discharges (mainly atmospheric pressure glow discharges and dielectric barrier discharges) find also increasing interest for environmental applications (e.g., the destruction of volatile organic compounds) and biomedical applications (e.g., the sterilisation of materials).Finally, an application of glow discharges that is of special interest to our group is its use in analytical chemistry, for the spectrochemical trace analysis of (mainly solid) materials.。

辉光放电、弧光放电解释

辉光放电、弧光放电解释

弧光放电arc discharge高温热发射持续弧光放电呈现弧状白光并产生高温的气体放电现象。

无论在稀薄气体、金属蒸气或大气中,当电源功率较大,能提供足够大的电流(几安到几十安),使气体击穿,发出强烈光辉,产生高温(几千到上万度),这种气体自持放电的形式就是弧光放电。

通常产生弧光放电的方法是使两电极接触后随即分开,因短路发热,使阴极表面温度陡增,产生热电子发射。

热电子发射使碰撞电离及阴极的二次电子发射急剧增加,从而使两极间的气体具有良好的导电性。

弧光放电的特征是电压不高,电流增大的两极间电压反而下降,有强烈光辉。

还有一种弧光放电叫做冷阴极弧光放电,阴极由低熔点材料(如汞)做成。

阴极表面蒸发出的蒸气被电离,在阴极表面附近堆积成空间正电荷层,此电荷层与阴极间极为狭窄区域内形成的强电场引起场致发射,使电流剧增,产生电弧。

弧光放电应用广泛。

可用作强光光源,在光谱分析中用作激发元素光谱的光源,在工业上用于冶炼、焊接和高熔点金属的切割,在医学上用作紫外线源(汞弧灯),等等。

但是大电流电路开关断开时产生的弧火极其有害,应采取灭弧措施。

辉光放电glow discharge低压气体中显示辉光的气体放电(空气中的电子大概在1000对/cm3,由于高压放电现象在低气压状态下会产生辉光现象)现象。

在置有板状电极的玻璃管内充入低压(约几毫米汞柱)气体或蒸气,当两极间电压较高(约1000伏)时,稀薄气体中的残余正离子在电场中加速,有足够的动能轰击阴极,产生二次电子,经簇射过程产生更多的带电粒子,使气体导电。

辉光放电的特征是电流强度较小(约几毫安),温度不高,故电管内有特殊的亮区和暗区,呈现瑰丽的发光现象。

辉光放电时,在放电管两极电场的作用下,电子和正离子分别向阳极、阴极运动,并堆积在两极附近形成空间电荷区。

因正离子的漂移速度远小于电子,故正离子空间电荷区的电荷密度比电子空间电荷区大得多,使得整个极间电压几乎全部集中在阴极附近的狭窄区域内。

辉光放电

辉光放电

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简单的辉光放电示意图辉光放电时,在放电管两极电场的作用下,电子和正离子分别向阳极、阴极运动,并 堆积在两极附近形成空间电荷区。因正离子的漂移速度远小于电子,故正离子空间电荷区的电荷密度比电子空间 电荷区大得多,使得整个极间电压几乎全部集中在阴极附近的狭窄区域内。这是辉光放电的显著特征,而且在正 常辉光放电时,两极间电压不随电流变化。
物理原理
辉光放电是种低气压放电(Low pressure discharge)现象,工作压力一般都低于10 mbar,其基本构造是在 封闭的容器内放置两个平行的电极板,利用产生的电子将中性原子或分子激发,而被激发的粒子由激发态降回基态 时会以光的形式释放出能量。
Hale Waihona Puke 放电阶段辉光放电有亚正常辉光和反常辉光两个过渡阶段,放电的整个通道由不同亮度的区间组成,即由阴极表面开 始,依次为:①阿斯通暗区;②阴极光层;③阴极暗区(克鲁克斯暗区);④负辉光区;⑤法拉第暗区;⑥正柱区; ⑦阳极暗区;⑧阳极光层。其中以负辉光区、法拉第暗区和正柱区为主体。这些光区是空间电离过程及电荷分布所 造成的结果,与气体类别、气体压力、电极材料等因素有关,这些都可以从放电理论上作出解释。辉光放电时, 在两个电极附近聚集了较多的异号空间电荷,因而形成明显的电位降落,分别称为阴极压降和阳极压降。阴极压 降又是电极间电位降落的主要成分,在正常辉光放电时,两极间的电压不随电流变化,即具有稳压的特性。
1933年德国Von Engel首次报道了研究结果,利用冷却的裸电极在大气压氢气和空气中实现了辉光放电,但 它很容易过渡到电弧,并且必须在低气压下点燃,即离不开真空系统。1988年,Kanazawa等人报道了在大气压下 使用氦气获得了稳定的APGD的研究成果,并通过实验总结出了产生APGD要满足的三个条件:(1)激励源频率需 在1kHz以上;(2)需要双介质DBD;(3)必须使用氦气气体。此后,日本的Okazaki、法国的Massines和美国 的Roth研究小组分别采用DBD的方法,用不同频率的电源和介质,在一些气体和气体混合物中宣称实现了大气压 下“APGD”。1992年,Roth小组在5mm氦气间隙实现了APGD,并声称在几个毫米的空气间隙中也实现了APGD,主 要的实验条件为湿度低于15%、气体流速50l/min、频率为3kHz的电源并且和负载阻抗匹配。他们认为“离子捕获” 是实现APGD的关键。Roth等人用离子捕获原理解释APGD,即当所用工作电压频率高到半个周期内可在极板之间捕 获正离子,又不高到使电子也被捕获时,将在气体间隙中留下空间电荷,它们影响下半个周期放电,使所需放电 场强明显降低,有利于产生均匀的APGD。他们在实验室的一台气体放电等离子体实验装置中实现了Ar、He和空气 的“APGD”。1993年Okazaki小组利用金属丝(丝直径0.035mm,325目)电极为PET膜(介质)、频率为50Hz的 电源,在1.

Glow Discharge Atomic Emission Spectrometry - Analytical 辉光放电原子发射光谱分析

Glow Discharge Atomic Emission Spectrometry - Analytical 辉光放电原子发射光谱分析
• The GD lamp provides a low pressure argon environment between these electrodes.
• A discharge forms in this gaseous environment when a high voltage is applied across the electrodes. (This discharge glows providing glow discharge with it’s name.)
• Conductive and non-conductive • Wide range of depths
– Nanometer to micrometer
QDP Applications
• Simple dual systems
– Zinc coatings
• Galvanizing
– Metal platings
ILAP Conference, Vail CO, October 2008
GD-AES Applications
Bulk Analysis
Depth Profiling
Weight %
Cr
Ni
Fe
Px5 N
Cr
Depth (Micrometers)
Bulk Applications
Glow discharge can be utilized in all bulk matrices
• However, unlike most other emission sources it is also a sputtering source and it thus removes material form the sample in a uniform layer-bylayer manner.

辉光放电质谱应用和定量分析

辉光放电质谱应用和定量分析

2012年2月February2012岩 矿 测 试ROCKANDMINERALANALYSISVol.31,No.147~56收稿日期:2011-10-24;接受日期:2011-10-29基金项目:中国计量科学研究院基础科研项目(AKY1031)作者简介:徐常昆,硕士研究生,核燃料循环与材料专业。

E mail:changkunxu@gmail.com。

通讯作者:周涛,博士,副研究员,从事化学计量与无机质谱研究工作。

E mail:zhoutao@nim.ac.cn。

文章编号:02545357(2012)01004710辉光放电质谱应用和定量分析徐常昆1,周 涛2 ,赵永刚1(1.中国原子能科学研究院,北京 102413;2.中国计量科学研究院,北京 100013)摘要:辉光放电质谱(GDMS)是利用辉光放电源作为离子源的一种无机质谱方法。

GDMS采用固体进样,样品准备过程简单、分析速度快、基体效应小、线性范围宽,是痕量分析的一种重要分析手段,在国外已经成为高纯金属和半导体分析的行业标准方法。

GDMS可以进行深度分析,选择合适的放电条件,可以在样品表面获得平底坑,深度分辨率可以满足对微米量级的层状样品进行测量。

目前商业化的GDMS都是直流放电源,这些仪器需要用第二阴极法或混合法才能对非导电材料进行测量,从而限制了GDMS在非导体材料分析方面的应用。

GDMS放电源和单接收方式并不能满足同位素丰度精确测量的要求,在精确度要求不高的情况下,GDMS在固体样品同位素丰度的快速测量方面还是有一定的应用价值。

文章总结了近几年国内外GDMS在各领域的应用进展和定量分析技术发展方向。

GDMS已经成为一种高纯导电材料分析的重要方法;在深度分析、非导电材料分析、固体同位素丰度快速测量中有一定的应用前景。

在定量测量方面,由于受到基体、测量条件等影响因素较多,缺乏合适的基体匹配的标准物质用于校正,GDMS主要停留在定性和半定量分析阶段。

直流辉光放电与射频辉光放电

直流辉光放电与射频辉光放电
A - B The background ionization stage
During the background ionization stage of the process the electric field applied along the axis of the discharge tube sweeps out the ions and electrons created by ionization from background radiation. Background radiation from cosmic rays, radioactive minerals, or other sources, produces a constant and measurable degree of ionization in air at atmospheric pressure. The ions and electrons migrate to the electrodes in the applied electric field producing a weak electric current. Increasing voltage sweeps out an increasing fraction of these ions and electrons.
The regime between A and E on the voltage-current characteristic is termed a dark discharge because, except for corona discharges and the breakdown itself, the discharge remains invisible to the eye.

辉光放电质谱-精品课件2

辉光放电质谱-精品课件2

2014-10-21
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分析参数的选择与分析过程
• 预溅射 – 采用比分析过程更强的放电条件,使样品表面尽可能 多地被溅射剥离,从而获得内部具有代表性的样品平 均含量。
2014-10-21
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分析参数的选择与分析过程
• 质谱分析过程 – 选定分析元素 – 选定扫描参数 (扫描点数、步长、积分时间) – 以分析元素对应的磁场强度为中心,以设定的扫描参 数按质量数扫描,对测得的每一点的离子电流(即峰 高)按设定的时间进行积分,即得到质谱峰的大小。 – 谱峰的识别
2014-10-21
3
4.4 分析特点和性能比较
• 1.固体样品直接分析
– Bulk Analysis
• 2.分析元素范围广
• 3.低检测限
• 4.不同元素的响应性差异小
• 5.线性动态范围宽
• 6.基体效应小
• 7.可深度分析
2014-10-21
4
分析元素范围广
2014-10-21
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深度分析
Ix I Matrix
Cx
Ix / Ax I / A Matrix Matrix
I x AMatrix IMatrix Ax
半定量分析公式(二):
半定量分析:不考虑样品中不同元素的灵敏度 ,近似认为被测元素与基体元素的离子束强度 比值 IBR (ion beam ratio )等于浓度比
采用数值固定的“典型”相对灵敏度因子 RSFx(typical)
2014-10-21
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分析参数选择与分析过程谱峰识别
Ar38++
F19
2014-10-21
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分析参数选择与分析过程谱峰识别

辉光放电原理

辉光放电原理

辉光放电原理辉光放电原理(GlowDischargePrinciples)是研究带电流体的物理现象的科学理论,它涉及到带电粒子与电场的相互作用,在化学反应中也起着重要的作用。

辉光放电原理是电场加速、激发离子、电子与光分子的相互作用,其中所产生的电场强度与分子的激发状态有关。

它是研究充满带电粒子的电流体的基本原理,在物理、化学、材料科学等诸多科学领域中都具有重要的意义。

辉光放电作用于带电电解质(electrolyte),可以分为大气压式和低气压式两大类。

大气压式辉光放电通常发生在大气中和气体中,由放电空间中的电场加速离子冲击作用以及激发离子和电子释放光引起,这种辉光放电形式被称为大气压辉光等离子体(Atmospheric-pressure glows discharges)。

低气压辉光放电是由放电空间中的电场加速离子施加能量,使离子产生振荡以及激发离子和电子释放光,这种辉光放电形式被称为低气压辉光等离子体(Low-pressure glows discharges)。

辉光放电作用于不同含量的带电物质会产生不同的物理和化学现象,最经典的就是实验历史悠久的石蜡放电,它可以产生持久的蓝色辉光,随后辉光会逐渐变暗。

而辉光放电的化学现象则涉及到带电中离子的行为,如离子的聚集、离子的吸收以及它们产生的带电层的形成等,还有由其引起的共和体的形成,还可以诱发和改变多种物质的物理和化学性质。

辉光放电在实际应用中十分广泛,如石油加工和能源转换中的表面处理以及对固体表面电性和化学性质的改变,尤其在航空航天、医学、材料科学以及化学工程等领域中辉光放电的应用越来越普遍,它已经成为了一种重要的工业技术,用于许多不同的应用。

在现代工业中,辉光放电技术被广泛应用于各种表面处理,可以调整材料的表面电性和化学性质,改变表面的耐腐蚀能力、润湿性和力学性质等,从而延长材料的使用寿命。

同时,辉光放电也可以在空气中激发出振荡的离子和电子,从而可以利用它们产生的光改变大气环境,促进氧化反应和吸收环境中的有害物质等。

溅镀的原理

溅镀的原理

溅镀的原理 :
主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。

溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。

新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加, 提高溅镀速率。

一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。

一般来说,利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点:(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体,可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。

(6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。

(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜,同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜。

(9)靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。

(10)靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。

第六章、辉光放电(Glow discharge)

第六章、辉光放电(Glow discharge)

第六章、辉光放电(Glow discharge)辉光放电是放电等离子体中最常见的一种放电形式,应用也最广泛。

比如,一般的气体激光器(He-Ne 激光器、CO2激光器等)、常用光源(荧光灯)、空心阴极光谱灯等。

同时辉光放电也是放电形式中放电最稳定的放电形式,所以有必要对辉光放电进行较为详细的讨论。

§6.1 辉光放电的产生及典型条件最简单的辉光放电的结构如图6.1(a)。

调节电源电压E或限流电阻R,就会得到如图6.1(b)的V-A特性曲线。

管电压U调节到等于着火电压U b时,放电管内就会从非自持放电过渡到自持放电,此时,放电电流I会继续增大,管压降U下降,进入辉光放电区。

放电管发出明亮的辉光,其颜色由放电气体决定。

限流电阻R应比较大,以保证放电稳定在辉光放电区。

如果限流电阻R很小,放电很容易进入弧光放电区。

辉光放电的特点:比较高的放电管电压U(几百~几千V),小的电流I(mA量级);弧光放电的特点:很低的放电电压U(几十V),大电流放电I(A量级甚至更大)。

辉光放电的典型条件:①放电间隙中的电场分布比较均匀,至少没有很大的不均匀性;例如He-Ne激光器的放电管内电场近似均匀。

②放电管内气体压强不是很高,要求满足(Pd)Ubmin<Pd<200Kpa cm(巴邢曲线的右支),d---放电管内电极间距,(Pd)Ubmin--巴邢曲线最低点U bmin对应的Pd值。

一般P=4Pa~14Kpa时,可出现正常辉光放电,而Pd>200Kpa cm时,非自持放电通常会过渡到火花放电或丝状放电;③放电回路中的电源电压和限流电阻准许放电管的放电电流工作在mA量级,且电源电压应高于着火电压U b,否则不能起辉。

§6.2 辉光放电的组成区域和基本特征对于一对平行平板放电电极,典型的辉光放电外貌如图6.2(a)。

从阿斯顿暗区到负辉区称为阴极位降区或阴极区。

下面对各放电区一一进行介绍。

1、阿斯顿暗区(Aston Dark Space):它是仅靠阴极的一层很薄的暗区,是有Aston首先在H2、He、Ne放电中观察到的放电暗区,所以称为阿斯顿暗区。

辉光放电_精品文档

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时大部分已经因碰撞损失了能量, 而阴极暗区中电离的低速电子也 进入该区,形成负空间电荷区。 电子速度的减慢加大了激发与复 合的几率,使发光特别强。
直流辉光放电>放电区的结构和分布>Faraday暗区
与负辉区相比,该区电子和 离子密度较小,电场很弱,激发 和复合的几率都比较小。
电流密度
直流辉光放电>放电区的结构和分布>正柱区
Va = 1000 V, Vb = 1200 V,
C‘
t = T/2 时,Va 跳变为 +1000 V, 由于 C 上存有 –200 V电压(下正上负),
Vb = 1200 V。
射频辉光放电>射频电极的自偏压(产生过程四)
T/2 < t < T
Vb +100 V,
eee C‘
T/2 < t < T 区间, 电子迅速中和C
直流辉光放电>放电区的结构和分布>阴极区
电流密度
阳极暗区
阴极区由Aston暗区, 阴极辉区和阴极暗区(或 称克罗克斯暗区)三部分 组成。极间电压大部分加 在这里,电子被加速与气 体原子碰撞,使原子激发 或电离。
直流辉光放电>放电区的结构和分布>负辉区
电流密度
负辉区是电极间发光最强的 区域,阴极出发的电子到达这里
ionization rates and thereby higher plasma densities
*徐学基等,气体放电物理,复旦大学出版社。
射频辉光放电>交流放电的一般规律
电压频率与放电行为的关系
100 ~ 104 Hz 每个半周期都经历一次击穿、维持和熄火的过程,放电不连续,相当于正负电 极交替的直流放电

辉光放电质谱测试方法

辉光放电质谱测试方法

业务蓝图(Business blueprint)什么是业务蓝图业务蓝图是指改进后的企业流程模型。

业务蓝图的概述业务蓝图是国际ERP界通用的一种企业建模方法。

业务蓝图用一种企业可以理解的方式来说明复杂的过程,它是一种清晰而又简单的描述方法,只用少量不同的符号,以集合的方式进行组织,定义了什么人必须在什么时候,采用什么方法去做什么事情,这种描述方法使得非专业人员也可以理解复杂的业务过程。

业务蓝图的内容企业业务蓝图由以下三部分组成。

第一,现行业务流程直接在系统中通过标准流程实行;第二,现行业务改善或修正,即用行业规程(可以是顾问方提供的插件,系统标准流程)来替代企业现行的业务流程;也可以是企业优化过后的流程。

第三,客户化定制策略。

可以通过二次开发来实现,也可以通过变通来实现企业的业务要求。

特别情况下,可以考虑集成第三方有关产品来实现客户特定的功能。

业务蓝图阶段的主要任务由实施顾问对企业进行ERP理论及标准产品培训;在顾问的指导下,进行经典规程学习、研究:在顾问的指导下,进行现行业务流程整理;根据业务流程整理的结果,分别对现行业务流程与系统流程对应的结果进行记录根据现行业务流程对应的结果,制定企业新系统、业务蓝图草案。

业务蓝图实现阶段的主要任务业务蓝图实现阶段主要的工作任务是以仿真方式运行ERP系统,确认业务蓝图。

并在此基础之上建立起新系统业务规程、上线准备方案、单元上线方案、最终用户培训方案、定义客户化方案等,建立起企业整体应用的系统框架。

(1)准备业务仿真系统的静态数据和业务数据;(2)仿真运行关键业务流程;(3)确定基于系统的业务蓝图;(4)制定客户化方案;(5)制定系统数据准备方案、系统上线方案。

业务蓝图设计业务蓝图设计是通过对公司业务现状的调研分析,梳理出业务未来的信息流、物流和业务流的处理模型。

业务蓝图阶段是ERP实施过程中关键的环节,蓝图定义的过程就是企业将自身业务流程转化为新系统业务流程的过程。

不同放电方式比较

不同放电方式比较

射频(Radio Frequency - RF)是指在一定频率波段,其定义比较模糊。广义的 射频指从声波波段到光波波段之间的所有电磁波,频率为10KHz-300GHz。也有 定义RF频段为300KHz~30GHz。在无线通信领域,由于有基带,中频,射频, 微波的划分,射频通常指几百MHz到几个GHz之间的信号。所以可以说 13.56MHz这个频率属于射频波段,但是射频波段不是单指这一个频率。
放电就会出现在间隙中,这种放电的外观特征远看貌似低气压下的辉光放电,发出
接近兰色的光。近看,则由大量呈现细丝状的细微快脉冲放电构成。只要电极间 的气隙均匀,则放电是均匀、漫散和稳定的。这些微放电是由大量快脉冲电流细丝
组成,而每个电流细丝在放电空间和时间上都是无规则分布的,放电通道基本为圆
柱状,其半径约为0.1~0.3mm,放电持续时间极短,约为10~100ns,但电流密度却 可高达0.1~1kA/cm2,每个电流细丝就是一个微放电,在介质表面上扩散成表面放 电,并呈现为明亮的斑点。这些宏观特征会随着电极间所加的功率、频率和介质的 不同而有所改变。如用双介质并施加足够的功率时,电晕放电会表现出“无丝状”、 均匀的兰色放电,看上去像辉光放电但却不是辉光放电。这种宏观效应可通过透明 电极或电极间的气隙直接在实验中观察到。当然,不同的气体环境其放电的颜色 是不同的。
的电子雪崩。因此,在放电开始前间隙中必须存在大量的种子电子,而长寿命的亚稳态 及其彭宁电离可以提供这些种子电子。根据10ns暴光的ICCD拍摄的放电图像,Radu小组 发现,在大气压惰性气体He、Ne、Ar、Krypton的DBD间隙中,可以实现辉光放电。除了 辉光放电和丝状放电之外,还存在介于前两者之间的第三种放电模式--柱状放电。
介质阻挡放电(Dielectric Barrier Discharge, DBD) 介质阻挡放电(DBD)是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电又称介质阻 挡电晕放电或无声放电。介质阻挡放电能够在高气压和很宽的频率范围内工作,通常 的工作气压为104~106。电源频率可从50Hz至1MHz。电极结构的设计形式多种多样。 在两个放电电极之间充满某种工作气体,并将其中一个或两个电极用绝缘介质覆盖,也 可以将介质直接悬挂在放电空间或采用颗粒状的介质填充其中,当两电极间施加足够 高的交流电压时,电极间的气体会被击穿而产生放电,即产生了介质阻挡放电。在实 际应用中,管线式的电极结构被广泛的应用于各种化学反应器中,而平板式电极结构

gdms 辉光放电质谱法

gdms 辉光放电质谱法

gdms 辉光放电质谱法
GDMS(Glow Discharge Mass Spectrometry)是一种用于元素分析的高灵敏度质谱技术。

它使用辉光放电(Glow Discharge)产生离子,并通过质谱仪测量这些离子的质荷比。

这种技术通常用于固体样品的表面元素分析,例如金属、合金、涂层等。

下面是GDMS辉光放电质谱法的一些关键特点和步骤:
1.辉光放电:GDMS使用电流通过气体(通常是氩气)产生辉光
放电。

这会导致样品表面的离子化,形成等离子体。

2.离子产生:辉光放电产生的等离子体中包含了样品表面的离子。

这些离子被加速并注入到质谱仪中。

3.质谱仪测量:质谱仪测量离子的质荷比,并生成质谱图。

根据
不同元素的质荷比,可以确定样品中的元素组成。

4.高灵敏度:GDMS具有很高的灵敏度,可以检测到低至ppm
(百万分之一)或ppb(十亿分之一)水平的元素含量。

这使
其在分析痕量元素时非常有用。

5.广泛适用性:GDMS可以用于分析各种类型的样品,包括金属、
合金、陶瓷、涂层等。

它在材料科学、地球科学、金属学和其
他领域中得到广泛应用。

6.非破坏性:辉光放电质谱是一种非破坏性技术,因为分析是在
样品表面进行的,而不需要样品的破坏性处理。

7.定量和定性分析:GDMS不仅可用于定性分析,确定样品中存
在的元素,还可用于定量分析,计算元素的含量。

这种分析技术在科研、质量控制和材料评估等领域中都有重要的应用。

辉光放电光谱仪 锂电

辉光放电光谱仪 锂电

辉光放电光谱仪锂电辉光放电光谱仪(Glow Discharge Optical Emission Spectrometer,简称GDOES)是一种用于材料科学领域的分析仪器,主要用于浓度分析和表面分析。

在锂电领域,辉光放电光谱仪也有着广泛的应用。

以下是关于辉光放电光谱仪在锂电领域的介绍。

锂离子电池(Li-ion Battery)是一种以锂合金金属氧化物为正极材料、石墨为负极材料、使用非水电解质的电池。

锂离子电池的工作原理是基于锂离子在石墨阳极的碳层或阴极的晶体结构之间的反复嵌入/脱嵌循环。

电极的成分和层厚等对锂离子电池的性能和应用有着重要的影响,准确分析测定这些参数对研发者和使用者都有着重要的意义。

通常,锂离子电池的性能和安全性受到广泛关注。

辉光放电光谱仪作为一种高效、快速的分析工具,可以用于锂离子电池的正负极材料、电解液等成分的分析,以及电池循环过程中的元素浓度变化监测,从而为电池性能优化和安全性评估提供有力的支持。

辉光放电光谱仪在锂电领域的应用主要包括以下几个方面:1. 正负极材料分析:辉光放电光谱仪可以用于分析锂离子电池正负极材料的元素组成和层厚。

例如,通过分析正极材料中的锂、钴、镍等元素含量,可以评估材料的电化学性能和循环稳定性;分析负极材料中的碳、硅等元素含量,可以了解负极材料的储锂能力和循环性能。

2. 电解液分析:辉光放电光谱仪可以用于分析锂离子电池电解液中的溶剂和锂盐成分,以及循环过程中电解液成分的变化。

通过分析电解液中的氟、磷等元素含量,可以评估电解液的稳定性和导电性能,从而优化电池的性能。

3. 电池循环过程中的元素浓度变化监测:辉光放电光谱仪可以实时监测锂离子电池在充放电过程中的元素浓度变化,了解电池性能的衰减和安全性问题。

例如,通过监测电池循环过程中锂、钴等元素含量的变化,可以评估电池的循环寿命和容量衰减情况;监测电池中的有害元素含量,可以评估电池的安全性能。

4. 电池失效分析:辉光放电光谱仪可以用于分析失效锂离子电池的成分和结构,为电池失效原因的诊断提供依据。

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第六章、辉光放电(Glow discharge)辉光放电是放电等离子体中最常见的一种放电形式,应用也最广泛。

比如,一般的气体激光器(He-Ne 激光器、CO2激光器等)、常用光源(荧光灯)、空心阴极光谱灯等。

同时辉光放电也是放电形式中放电最稳定的放电形式,所以有必要对辉光放电进行较为详细的讨论。

§6.1 辉光放电的产生及典型条件最简单的辉光放电的结构如图6.1(a)。

调节电源电压E或限流电阻R,就会得到如图6.1(b)的V-A特性曲线。

管电压U调节到等于着火电压U b时,放电管内就会从非自持放电过渡到自持放电,此时,放电电流I会继续增大,管压降U下降,进入辉光放电区。

放电管发出明亮的辉光,其颜色由放电气体决定。

限流电阻R应比较大,以保证放电稳定在辉光放电区。

如果限流电阻R很小,放电很容易进入弧光放电区。

辉光放电的特点:比较高的放电管电压U(几百~几千V),小的电流I(mA量级);弧光放电的特点:很低的放电电压U(几十V),大电流放电I(A量级甚至更大)。

辉光放电的典型条件:①放电间隙中的电场分布比较均匀,至少没有很大的不均匀性;例如He-Ne激光器的放电管内电场近似均匀。

②放电管内气体压强不是很高,要求满足(Pd)Ubmin<Pd<200Kpa cm(巴邢曲线的右支),d---放电管内电极间距,(Pd)Ubmin--巴邢曲线最低点U bmin对应的Pd值。

一般P=4Pa~14Kpa时,可出现正常辉光放电,而Pd>200Kpa cm时,非自持放电通常会过渡到火花放电或丝状放电;③放电回路中的电源电压和限流电阻准许放电管的放电电流工作在mA量级,且电源电压应高于着火电压U b,否则不能起辉。

§6.2 辉光放电的组成区域和基本特征对于一对平行平板放电电极,典型的辉光放电外貌如图6.2(a)。

从阿斯顿暗区到负辉区称为阴极位降区或阴极区。

下面对各放电区一一进行介绍。

1、阿斯顿暗区(Aston Dark Space):它是仅靠阴极的一层很薄的暗区,是有Aston首先在H2、He、Ne放电中观察到的放电暗区,所以称为阿斯顿暗区。

阿斯顿暗区的厚度与气体压强P成反比(正常辉光放电的Pd n值为常数)。

为什么是暗区呢?我们知道,发光是自发辐射现象。

电子从阴极出来,进入电场很强的区域被电场加速,但在阴极附近,电子速度很低,电子能量低于气体的最低激发态的激发能,还不能产生碰撞激发,所以该区域没有辐射发光存在,故为暗区。

有人已从实验上证明了阴极到阴极光层的电位差相当于激发电位(5~10V),样品气体的最低激发电位不同,阿斯顿暗区的厚度也不同,激发电位↑,阿斯顿暗区厚度↑。

2、阴极光层(Cathode Layer):仅靠阿斯顿暗区是一层很薄、很弱的发光层。

当放电气体压强P很大时,阿斯顿暗区与阴极发光层几乎分不清楚。

在阴极发光层区,由阿斯顿暗区过来的电子能量已经达到气体粒子的激发电位所对应的激发能(在He气体中测量此处的电子能量正好等于He的第一激发态的激发能),所以该区域气体会发出微弱的荧光,呈现为发光较弱的发光层。

3、阴极暗区(Cathode Dark Space):紧靠阴极光层是一发光极弱的阴极暗区,阴极暗区与阴极发光层没有明显的界限。

前面讲过,进入阴极发光层的电子能量刚好达到第一激发电位,碰撞激发效率比较高,而进入阴极暗区的电子,由于电场的继续加速,电子能量超过激发函数最大值对应的电子越来越多(1.5~2倍激发能),所以碰撞激发几率降低,导致发光减弱,特别是被明亮的负辉区衬托,成为阴极暗区。

在阴极暗区,电子能量已超过第一电离能,所以在这个区域内产生大量的碰撞电离,雪崩放电就集中在这一区域内。

由于阿斯顿暗区到阴极暗区的区间,是放电管内电场强度最强的区域,所以此区域内电子运动是以定向运动为主。

4、负辉区(Negative Glow):在辉光放电中,负辉区是发光最强的区域。

因为负辉区亮度大,所以看起来与阴极暗区有明显界限。

电子经过前面各区域的加速,进入负辉区的电子基本上可分成两大类:第一类是快电子,这部分电子从阴极附近产生后,一直被电场加速到负辉区,这部分电子占一小部分;第二类是慢电子,这部分电子从阴极发射出来,虽然经过电场加速,经历了多次非弹性碰撞,电子能量小于电离能,但可以大于或接近激发能,这部分电子占大部分,这些电子在负辉区产生许多碰撞激发,所以会有明亮的辉光。

该区域的电场强度E~0,所以快电子少,慢电子多,由于电子的速度相对比较小,空间复合的几率会有所增大。

由阿斯顿暗区到负辉区是辉光放电不可缺少的区域,主要的管压降(70~400V)就集中在该区域内,所以被称为阴极位降区或阴极区。

5、法拉第暗区(Faraday Dark Space):穿过负辉区,就是法拉第暗区。

一般法拉第暗区比上述各区域都厚。

大部分电子在负辉区经历了多次非弹性碰撞,损失了很多能量,且负辉区E~0,电子无加速过程,所以从负辉区进入法拉第暗区的电子能量比较低,不足以产生激发和电离,所以不发光,形成一个暗区。

从电场分布可以看出,进入法拉第暗区后,电场强度又开始E>0,但比较弱,电子又被加速,这样慢电子通过法拉第暗区加速成快电子,进入正柱区。

由阿斯顿暗区---法拉第暗区五个区域组成的放电部分称为阴极部分。

6、正柱区(Positive Column):又称为正光柱(细放电管内充满光柱)。

在低气压情况下,正柱区为均匀的光柱;当气压较高时,会出现明暗相间的层状光柱(辉纹),条件不同,辉纹状态不同。

有时辉纹还会在放电管内滚动。

正柱区内,电场E沿管轴方向分布是均匀的,即电场强度E近似为一常数值。

因此在正柱区内空间电荷等于0,即在正柱区的任何位置电子密度与正离子密度都相等,对外不呈电性,所以又称为等离子体区。

由于正离子迁移速率很小,所以放电电流主要是电子流,正离子的作用主要是抵消电子的空间电荷效应。

从电场强度上看,正柱区的场强比阴极位降区场强小几个量级,所以正柱区的电子运动主要是乱向运动,电子的能量分布符合Boltzman-Maxwell热分布。

7、阳极区(Anode Space):位于正柱区与阳极之间的区域为阳极区。

有时可以观察到阳极暗区(Anode Dark Space)和阳极表面处的阳极辉光(Anode Glow)。

对于阳极区,放电电流较大时,在靠近正柱区一端,电子被阳极吸引,而正离子被阳极排斥,⇒使得阳极区产生负的空间电荷⇒电场强度↑,电位↑↑,⇒阳极位降。

这样从正柱区出来的电子在阳极暗区加速,在阳极前产生碰撞激发和电离,⇒阳极表面形成一层发光层----阳极辉光层。

总结:从外观上看:各发光区中,以负辉区最亮,正柱区居中,阳极光层最弱;电场分布:阴极位降区最强,正柱区为稳定场强区,该区域轴向场强为均匀分布;电位降分布:放电管的压降主要集中在阴极位降区;空间电荷:正柱区内电子密度与正离子密度处处相等,对外不呈电性,故称为等离子体;电子雪崩:从阴极发射出来的初始电子,仅在阴极区引起电子雪崩;电离增长在阴极暗区最强。

因此阴极位降区是辉光放电中最重要,也是必不可少的部分,且在这一区域应满足自持放电条件。

二、辉光放电的基本特征①辉光放电在电极间的光强分布是明、暗相间的有规律分布;②管压降U明显低于着火电压U b。

正常辉光放电的管压降不随放电电流的变化而改变;③阴极电子的发射主要是γ过程,即正离子、亚稳态原子、光子和高速运动的中性粒子打到阴极上产生次电子发射;④阴极位降区是维持辉光放电必不可少的区域,具有大约70~400V的阴极位降(大小与气体种类、阴极材料有关)。

在这一区域产生电子雪崩放电,满足维持自持放电条件,净余空间电荷为正电荷;这与罗果夫斯基的空间电荷分布假设很相近。

⑤辉光放电的电流密度大约为2μ。

A~cm/mA在辉光放电中,必不可少的是阴极位降区,而应用主要是正柱区,现就阴极位降区和正柱区进行详细讨论。

§6.3 辉光放电的阴极位降区一、阴极位降区的实验规律1、辉光放电的阴极位降Uc正常辉光放电开始时,放电电流很小,辉光放电仅发生在阴极表面的一小部分,在阴极表面只有星星点点的阴极亮斑出现;随着放电电流的增大,阴极放电面积与放电电流呈正比增大,阴极表面的放电斑点开始增大,直至充满整个阴极表面;在正常辉光放电条件下,阴极电流密度c j 保持常数n j ,阴极位降c U 也保持常数n U ;当阴极放电充满整个阴极表面后,再增大放电电流(↑c j ),阴极位降c U 才随之增大(反常辉光放电区)。

在正常辉光放电中,阴极位降c U 保持不变,为一常数n U ,U n 值大小与气体的电离电位、阴极材料的γ系数有关。

常用阴极材料及气体的辉光放电的正常阴极位降见表6-1。

表6-1常用阴极材料及气体的辉光放电的正常阴极位降可见正常辉光放电的阴极位降n U 与阴极材料、气体种类相关。

2、阴极位降区厚度n d 与气压P 的关系当放电的其它条件均保持不变,正常辉光放电的阴极位降区厚度n d 随放电气体压强P 成反比变化,且保持n d P ⋅为常数,n d P ⋅大小与阴极材料、气体种类有关。

Al 、Fe 两种阴极材料正常辉光放电的n d P ⋅值见表6-2。

表6-2 Al 、Fe 两种阴极材料正常辉光放电的n d P ⋅值(cm Pa ⋅)3、正常辉光放电的阴极电流密度n j当放电气体气压P 改变时,正常辉光放电的阴极电流密度n j 随气压P 的平方成反比变化,即t cons P j n tan /2=。

实验发现仅Ne 气t cons P j n tan /5.1=。

4、正常辉光放电各区域的发光颜色放电气体不同,各发光区域的颜色不同,常用气体辉光放电各区域颜色见表6-3。

表6-3常用气体辉光放电各区域颜色对上述实验进行必要的数学分析,发现阴极位降c U 是阴极电流密度c j 函数,既有)(c c j f U =,且与气压P 、阴极位降区厚度c d 有关。

下面就阴极位降与阴极电流密度之间的关系进行分析。

(对应V-A 特性曲线) 二、 阴极位降c U 与阴极电流密度c j 关系的理论推导 1、理论上的假设为了建立阴极位降c U 、阴极电流密度c j 及阴极位降区厚度c d 之间的关系,必须确定带电粒子运动速度与电场强度的关系、电离几率与速度之间的关系、空间电荷密度与电场的关系,再加上维持辉光放电的稳定性条件及阴极表面的边界条件(γ过程),从而推导出阴极位降c U 与阴极电流密度c j 的关系。

为此做如下假设(这些假设是以实验结果为依据的): ① 阴极位降区内带电粒子的产生与消失的假定:假定在阴极位降区内,电子的碰撞电离系数α仅决定于所在位置处的电场强度E (实际上,当电子在多个自由程内E 为常数时,α与E 才是单值函数)有关,关系式为:)/exp(PE BA P-=α(6-3-1) 在此忽略了正离子的碰撞电离作用(0=β,因为正离子动能很小,碰撞电离几率很小),正离子轰击阴极的次电子发射系数γ为常数。

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