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两边浓度相差很多,若p区的受主杂质浓度较大,为p+n结。
氧化、光刻、扩散等工艺。
其杂质分布由扩散过程及杂质补偿决定。
缓变结
在这种结中,杂质浓度从p(n)区到n(p)区是逐渐变化的,通常称为缓变结。空间电荷区
单独的n型或者p型半导体是电中性的(平衡状态)。当两块半导体结合形成之间存在着载流子浓度梯度,导致了空穴从p区到n区,电子从
一般室温附近,对于绝大部分势垒区,其中杂质虽然都已电离,但载流子浓度比起数载流子浓度小很多,好像已经耗尽了。所以通常也称势垒区为
很小,可以忽略,空间电荷密度就等于电离杂质浓度。
结电流电压特性
1.在非平衡载流子存在的区域内,必须用电子的准费米能级Efn
与正向偏压相似,位置不同。
结模型及其电流电压方程
假设条件
小注入条件
突变耗尽层条件
通过耗尽层的电子和空穴电流为常量
1.突变结的势垒宽度与势垒区上的总电压的平方根成正比。
谷值电流与电压