常见物料存放最适宜的湿度

常见物料的存放

1.光学镜头

常见光学器件

现代社会，影像、激光、红外线等技术设备已广泛应用，这些设备都需要使用光学玻璃来实现功能。而现代的光学镜头为提高性能, 在镜头表面均敷有多层由高分子材料构成的膜。这一层合成材料为霉菌的生长繁殖提供了丰富的营养,霉菌在光学镜头表面分解膜的成份进行生长繁殖,菌丝体呈树枝状在镜头表面漫延, 使镜头透光和成像性能变差,直至菌丝体覆盖整个镜头。霉菌还能利用镜头玻璃体中的无机盐成份提供营养,因此菌丝体还向玻璃体内纵向侵蚀,渗透发展。光学镜头一般都由多个镜片构成,霉菌菌丝体不仅在镜片的表面生长,还通过镜片边沿漫延到镜片背面,使镜片两面长霉而无法清除。并且,霉菌通过漫延和弹射孢子的方式在多片镜片之间传染,使镜头失去使用价值而无法挽救，导致报废。霉菌在镜头表面繁殖初期,凭肉眼不易观察到。当能用肉眼看到时,一般已造成一定的损坏。发现得非常及时的,可用专用药水清洗镜头表面,迟一些的, 菌丝体已切入镜头玻璃体,即使清洗,所造成的切痕损坏已无法补救。对已侵入镜片背面的镜头, 虽也可拆开镜头进行清洗,但已造成的损失仍不可挽回,光学镜头出厂均经过精密调校。一般维修店因无技术条件,拆开后再装回的镜头性能将受影响。并且,清洗镜头费用昂贵,以照相机镜头为例,清洗费用有时高达镜头本身购置费用的30%。此外,如清洗不彻底,当时不易发现,今后还会复发。要保证光学镜头的安全，应将镜头存放在相对湿度在40%左右的环境中。

2.磁记录媒体材料

常见磁记录材料

磁记录材料作为现代社会的重要信息记录保存手段也得到了广泛的使用。磁记录材料均由高分子材料制成带基,其内含有的增塑剂、分散剂等，均适宜霉菌分解吸收,霉菌分解带基作为营养使带基受到侵蚀,潮湿还会使粘合剂水解，导致磁粉脱落，二者均会造成记录的数据信号丢失，因此磁记录材料均难以长期保存期。有时,一张磁盘或磁带突然不能读写, 往往就是长霉和受潮所致。此外脱落的磁粉和菌丝体还会堵塞计算机、录像机、录音机的磁头,使机器不能正常工作,甚至损坏磁头，霉菌还可通过磁头进行传染。

计算机硬盘，也是一种磁记录材料，硬盘会因受潮氧化等原因导致不能读取数据，因此硬盘的损坏率很高，并往往造成用户重大的损失。现在, 一般对磁记录材料记录的信息都采用定时重新拷贝的办法来预防受潮发霉对数据信号造成损失,但费时而又麻烦,并有局限。如加密磁盘无法复制; 录音录像带复制后会造成质量下降,多次复制后音像质量会十分低劣,以至不能满足要求。要保证磁记录材料的安全，应将磁记录材料存放在相对湿度在40%左右的环境中。空气中的二氧化硫、硫化氢、氮氧化物、一氧化碳、氯气、臭氧等工业废气也会对磁记录材料造成损坏。其中影响最大的是二氧化硫和硫化氢。目前,城市空气污染现象较普遍,为防止信息丢失,磁记录材料还应在净化空间中保存。对于需要进行十年以上长期保存的硬盘,则需按计算站场国家标准GB2887-89第4.10.3条媒体的存放条件和 4.12.2.1条腐蚀性气体环境分级的国家标准进行保存。

3.影像胶片

常见影像胶片

影像胶片除了传统的摄影胶片、Ｘ光胶片外，还在电子扫描、航空遥感、医药及工业诊断领域作为信息记录保存载体得到广泛应用。影像胶片由高分子材料片基和表面敷涂的有机感光材料构成, 适宜霉菌分解。特别是表面的感光药膜最易受霉菌侵袭。影像胶片乳胶层感光药膜还极易受潮发生水解,损坏胶片图像,长霉后,霉菌排泄的草酸类物质能侵蚀银影颗粒和染料影像。染料影像在高湿条件下亦会自行水解,高湿度也促使影片上残留化学药品破坏画面。空气中的有害气体如硫化物、过氧化物等,即使浓度很低,也会构成有害影响。过氧化物是引起银影像颗粒被氧化主要原因,使胶态银形成带色的沉积斑。其它如油漆挥发气和活性化合物都会损坏片基和影像。此外,有化学活性的尘埃还会使画面褪色或形成污斑。某些保存2-20年的缩微负片上出现了细微的色斑或污痕, 是由于银影像局部氧化,致使胶态银呈现红色或黄色斑点。这是由空气中的氧、水气和大气中的有害气体过氧化物、臭氧、二氧化硫、硫化氢和其它工业废气所导致。影像胶片在存放中,本身还会释放出一种名为乙酸的气体,在乙酸的腐蚀作用下,胶卷上的黄色首先开始变坏,然后是所有的颜色开始变色和剥落,最后底片本身也受到损坏。这个损坏过程称为"乙酸综合症"。因此,摄影胶片不仅需防潮,还需在净化环境中保存。低湿环境可以避免影像胶片长霉和减缓影像染料褪色, 但湿度过低或湿度频繁的周期变化,又会降低片基和乳剂层的附着性,出现胶片边缘剥落、曲卷、乳剂层龟裂等现象。而高温环境会使胶片色彩发灰,丧失层次。理想的影像胶片长期保存环境是相对湿度40%,温度1-8摄氏度,环境空气净化。摄影胶片保存国家标准:照片档案管理规范GB/T11821-896.1.1条保存底片的适宜温湿度为:温度13-15℃,相对湿度35-45%。6.1.2条保存照片的适宜温湿度为:温度14-24℃,相对湿度40-60%。6.4.3条库房内昼夜相对湿度变化不大于±5%。已加工电影安全胶片的贮存技术国家标准GB9049-886.1.1条中期贮存条件(至少保存10年)和6.1.2条长期贮存条件(永久性保存)标准为：

4.光记录电子信息载体

常见光盘

由于磁记录材料难以长期保存，因此将数据资料等刻录在CD-RW上备份保存就成为广泛采用的办法，号称“可以保存100年”。但实际情况是，光盘仍然难以长期保存：因为，光记录是通过在光盘表面刻录凹凸小坑的方式记录信号，再镀上一层铝膜来反射信号。而CD-RW是通过激光烧灼CD-RW上的化学材料，使其改变反光变来实现。有小坑和无小坑处或烧处和未烧处对光线的反射不同。而光盘机通过发射激光光束照射光盘产生的反光来读取数据。因此光盘能否正常读取，光盘反光面的亮度至关重要，要求很高。但是,光盘的表面塑料保护膜具有穿透微量水分的性质，在高湿环境下亮度就会因水分所产生的而氧化导致亮度降低，致使光盘不能读出或读错信号，造成不能正常播放使用而报废。尤其是CD-RW，本身反光率就比刻盘压模生产的光盘低，并更易氧化，保存期更短。此外霉菌亦可在光盘的塑料表面生长。因此为防氧化,将光盘存放于相对湿度40%的环境中，可保证安全。

5.电子元器件与整机

绝大部分电子产品都要求在干燥条件下作业和存放。据统计，全球每年有1/4以上的工业制造不良品与潮湿的危害有关。对于电子工业，潮湿的危害已经成为产品质量控制的主要因素之一。

（1），集成电路：潮湿对半导体产业的危害主要表现在潮湿能透过IC塑料封装和从引脚等缝隙侵入IC内部，产生IC吸湿现象。

在SMT过程的加热环节中，进入IC内部的潮气受热膨胀形成水蒸气，产生的压力导致IC树脂封装开裂，并使IC器件内部金属氧化，导致产品故障。此外，当器件在PCB板的焊接过程中，因水蒸气压力的释放，亦会导致虚焊。

根据IPC-M190J-STD-033标准，在高湿空气环境暴露后的SMD元件，必需将其放置在10%RH湿度以下的干燥箱中放置暴露时间的10倍时间，才能恢复元件的“车间寿命”，避免报废，保障安全。

（2）液晶器件：液晶显示屏等液晶器件的玻璃基板和偏光片、滤镜片在生产过程中虽然要进行清洗烘干，但待其降温后仍然会受潮气的影响，降低产品的合格率。因此在清洗烘干后应存放于40%RH以下的干燥环境中。

常见液晶产品

（3）其它电子器件如：电容器、陶瓷器件、接插件、开关件、焊锡、PCB、晶体、硅晶片、石英振荡器、SMT胶、电极材料粘合剂、电子浆料、高亮度器件等，均会受到潮湿的危害。各种需防潮的电子器件

（4）作业过程中的电子器件：封装中的半成品到下一工序之间；PCB封装前以及封装后到通电之间；拆封后但尚未使用完的IC、BGA、PCB等；等待锡炉焊接的器件；烘烤完毕待回温的器件；尚未包装的产成品等，均会受到潮湿的危害。