透射电镜粉末样品制备方法
透射电镜生物样本制备流程及注意事项
透射电镜生物样本制备流程及注意事项透射电镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种使用电子束而不是光束进行成像的显微镜。
它可以提供高分辨率的图像，因此被广泛应用于生物样本的观察和研究。
然而，由于其特殊的工作原理和生物样本的复杂性，透射电镜生物样本的制备过程需要注意一些关键的步骤和细节。
下面将逐步介绍透射电镜生物样本制备流程及注意事项。
一、样品固定1.选择合适的固定剂：固定剂的选择应根据所研究的样本类型和要观察的细胞结构而定。
常用的固定剂包括戊二醛（glutaraldehyde）、乙酰化亚胺（acrolein）、纤维蛋白素（formaldehyde）等。
2.采取合适的固定时间和固定温度：固定时间和温度应根据固定剂的要求和样本的特性进行优化。
通常情况下，固定时间为数小时至数天，温度在4℃至25℃之间。
3.注意透射电镜样品的固定深度：样品应保持较小的厚度以便透射电子束的穿透。
二、样品剖解1.剖解细胞膜：通常采用超声波振荡或冷冻断裂等方法来剖解细胞膜。
超声波振荡可用于含有细胞膜的细胞或组织，而冷冻断裂则适用于脆弱细胞和膜脂体系。
2.剖解细胞核：利用离心裂解法可以将细胞核分离出来。
离心裂解可分为机械法和渗透法两种，机械法利用高速离心的作用将细胞核分离，而渗透法则是通过渗透剂将细胞核溶胀并破碎。
三、样品固化1.脱水：样品在固定后需要进行脱水处理，以便在后续的步骤中更好地渗透和浸透。
常用的脱水剂有乙醇、丙酮和乙醚等，脱水过程往往需要进行多次重复。
2.浸透：在脱水后，样品需要在树脂中进行浸透，使其固化为坚硬的样品。
通常采用环氧树脂或比较稳定的丙烯酸树脂来进行浸透。
这一步骤通常需要较长时间，如数小时甚至数天。
3.树脂填充：浸透后的样品需要在模具中进行树脂填充，并在适当的温度下进行固化。
树脂填充的过程需要注意排除气泡和避免过度填充。
四、样品切片1.选择合适的切割工具和方法：样品通常使用切片机和切片刀进行切割。
透射电镜的样品制备技术
平整的废包埋块压在其上,于60 ℃聚合硬化.将 粘有包埋块的玻片置于90 ℃热板上加温10s,取
下包埋块修块,超薄切片及电子染色.
构不清
超薄切片质量好坏指标
• 样品结构保存良好,结构细腻,无丢失. • 切片厚薄均匀,厚度在60-90nm之间.表面无
皱折、刀痕、震颤等缺陷. • 样品反差良好,无染色沉淀. • 支持膜厚度适中,观察时不产生漂移和破裂.
六.电子染色
• 利用重金属盐类选择性地与生物样品中不同 结构成分相结合,来提高结构成分散射电子的 能力,从而增加图像反差的染色,又称为正染
Fig. 4. Colloidal gold nanoparticles 20 nm. 1: anti-TTX Mab labelled colloidal gold nanoparticles showing the protein halo around the labelled nanoparticles, 2: unlabelled colloidal gold nanoparticles.
• 多用于解剖关系比较复杂、质地柔软或对 缺氧比较敏感的组织.以保证器官的血液供 给,避免缺血造成的组织损伤或自溶.
• 操作步骤 在动物麻醉后保持血液供应的条件下,
边解剖边在取材的部位局部滴加固定液,直 至组织达到适当的硬度为宜.
灌流固定法
• 指通过血液循环途径,将固定液灌注 到组织器官内,进行固定后再取材的方法. 常用于对缺氧敏感,死后变化快的组织器 官,如中枢神经系统、心脏、胃肠道、视 网膜和肾脏等.也可用于所取组织的种类 较多以及解剖关系比较复杂、难以渗透 的组织器官.
细菌透射电镜样品制备方法
细菌透射电镜样品制备方法
细菌透射电镜样品制备可参考以下步骤：
1. 将适量无菌水加入生长良好的细菌斜面内，用吸管轻轻拨动菌体制成菌悬液。
2. 用无菌滤纸过滤菌悬液，并调整滤液中的细胞浓度为10^8-10^9个/毫升。
3. 取等量的上述菌悬液与等量的2％的磷钨酸钠水溶液混合，制成混合菌悬液。
4. 用无菌毛细吸管吸取混合菌悬液滴在铜网膜上。
5. 经3-5分钟后，用滤纸吸去余水，待样品干燥后，置低倍光学显微镜下检查，挑选膜完整、菌体分布均匀的铜网。
细菌透射电镜样品制备的方法还有很多，具体步骤可能因细菌的种类和实验需求而有所不同。
透射电镜样品制备步骤
透射电镜样品制备步骤透射电镜是一种重要的材料表征技术，它利用电子的波动性和微粒性来观察材料的结构和性质。
为了能够使用透射电镜观察样品，首先需要对样品进行制备。
透射电镜样品制备步骤如下：1.选择合适的样品：透射电镜样品可以是固体、液体、薄膜或纳米颗粒等。
根据研究目的和样品性质选择合适的样品。
2.样品预处理：根据样品性质的不同，进行必要的预处理。
例如，对于固体样品，可以选择切割、抛光或电解抛光等方法来得到平滑的表面。
3.样品固定：将样品固定到透射电镜样品架上。
不同的样品有不同的固定方法。
例如，对于固体样品，可以使用导电胶将其固定在样品架上。
4.薄层制备：对于厚度过大的样品，需要将其制备成透明的薄层以便透射电镜观察。
常用的方法有机械研磨、电子束刻蚀或离子束刻蚀等。
5.样品清洁：将样品放入超声波清洗机中进行清洗，以去除可能附着在样品表面的杂质或污染物。
6.特殊处理：如果需要对样品进行特殊处理，例如加热、冷冻处理或受到特定环境气氛的影响等，根据需要进行相应的处理。
7.样品干燥：将样品放入真空或氮气环境中，以确保样品干燥。
避免样品受到水汽的污染。
8.获得薄片：使用切片机将固态样品切割成适当厚度的薄片。
为了获得高质量的薄片，可以选择特殊的切片工具和技术，例如离子束切片或低速钻磨切片。
9.薄片形状整理：使用不同的研磨和抛光方法，将薄片的形状和表面进行调整，以确保样品的平滑度和一致性。
10.网格制备：将薄片粘贴在透射电镜网格上。
网格可以增强样品的稳定性和保护，同时提供用于定位和标识的标记。
11.后续处理：根据研究目的和透射电镜分析的要求，可以对样品进行进一步处理。
例如，可以进行染色、脱膜、溅射或腐蚀等处理。
以上是透射电镜样品制备的一般步骤。
不同样品和研究目的可能会有所不同。
因此，根据具体的研究需求和样品特点，制备过程可以做相应的调整和优化。
透射电镜的样品制备方法详解
透射电镜的样品制备透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术，它对能否得到好的ＴＥＭ像或衍射谱是至关重要的．投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的，这要求制备出对电子束＂透明＂的样品，并要求保持高的分辨率和不失真．电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压，样品的厚度以及物质的原子序数．一般来说，加速电压愈高，原子序数愈低，电子束可穿透的样品厚度就愈大．对于１００～２００ＫＶ的透射电镜，要求样品的厚度为５０～１００ｎｍ，做透射电镜高分辨率，样品厚度要求约１５ｎｍ（越薄越好）．透射电镜样品可分为：粉末样品，薄膜样品，金属试样的表面复型．不同的样品有不同的制备手段，下面分别介绍各种样品的制备．（１）粉末样品因为透射电镜样品的厚度一般要求在１００ｎｍ以下，如果样品厚于１００ｎｍ，则先要用研钵把样品的尺寸磨到１００ｎｍ以下，然后将粉末样品溶解在无水乙醇中，用超声分散的方法将样品尽量分散，然后用支持网捞起即可．（２）薄膜样品绝大多数的ＴＥＭ样品是薄膜样品，薄膜样品可做静态观察，如金相组织；析出相形态；分布，结构及与基体取向关系，错位类型，分布，密度等；也可以做动态原位观察，如相变，形变，位错运动及其相互作用．制备薄膜样品分四个步骤：ａ将样品切成薄片（厚度１００～２００微米），对韧性材料（如金属），用线锯将样品割成小于２００微米的薄片；对脆性材料（如Ｓｉ，ＧａＡｓ，ＮａＣｌ，ＭｇＯ）可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割，或用超薄切片法直接切割．ｂ切割成φ３ｍｍ的圆片用超声钻或ｐｕｎｃｈｅｒ将φ３ｍｍ薄圆片从材料薄片上切下来．ｃ预减薄使用凹坑减薄仪可将薄圆片磨至１０μｍ厚．用研磨机磨（或使用砂纸），可磨至几十μｍ．ｄ终减薄对于导电的样品如金属，采用电解抛光减薄，这方法速度快，没有机械损伤，但可能改变样品表面的电子状态，使用的化学试剂可能对身体有害．对非导电的样品如陶瓷，采用离子减薄，用离子轰击样品表面，使样品材料溅射出来，以达到减薄的目的．离子减薄要调整电压，角度，选用适合的参数，选得好，减薄速度快．离子减薄会产生热，使样品温度升至１００～３００度，故最好用液氮冷却样品．样品冷却对不耐高温的材料是非常重要的，否则材料会发生相变，样品冷却还可以减少污染和表面损伤．离子减薄是一种普适的减薄方法，可用于陶瓷，复合物，半导体，合金，界面样品，甚至纤维和粉末样品也可以离子减薄（把他们用树脂拌合后，装入φ３ｍｍ金属管，切片后，再离子减薄）．也可以聚集离子术（ＦＩＢ）对指定区域做离子减薄，但ＦＩＢ很贵．对于软的生物和高分子样品，可用超薄切片方法将样品切成小于１００ｎｍ的薄膜．这种技术的特点是样品不会改变，缺点是会引进形变．（３）金属试样的表面复型即把准备观察的试样的表面形貌（表面显微组织浮凸）用适宜的非晶薄膜复制下来，然后对这个复制膜（叫做复型）进行透射电镜观察与分析．复型适用于金相组织，断口形貌，形变条纹，磨损表面，第二相形态及分布，萃取和结构分析等．制备复型的材料本身必须是＂无结构＂的，即要求复型材料在高倍成像时也不显示其本身的任何结构细节，这样就不致干扰被复制表面的形貌观察和分析．常用的复型材料有塑料，真空蒸发沉积炭膜（均为非晶态物质）．常用的复型有：ａ塑料一级复型，分辨率为１０～２０ｎｍ；ｂ炭一级复型，分辨率２ｎｍ，ｃ塑料－炭二级复型，分辨率１０～２０ｎｍ；ｄ萃取复型，可以把要分析的粒子从基体中提取出来，这种分析时不会受到基体的干扰．除萃取复型外，其余复型只不过是试样表面的一个复制品，只能提供有关表面形貌的信息，而不能提供内部组成相，晶体结构，微区化学成分等本质信息，因而用复型做电子显微分析有很大的局限性，目前，除萃取复型外，其他复型用的很少．。
第四讲-TEM样品制备
电解双喷法
1．冷却设备；2．泵、电解蔽 ；3．喷嘴 4．试样 5．样品 架； 6．光导纤维管
二、块体脆性样品制备流程
二级复型照片
回火组织中析出的颗粒状碳化物
解理断口上的河流花样
30CrMnSi钢回火组织
低碳钢冷脆断口
3、萃取复型
既复制试样表面的形貌，同时又把 第二相粒子粘附下来并基本上保持原来的分布状态 不仅可观察基体的形貌，直接观察第二相的形态和分布状 态，还可通过电子衍射来确定其物相。因此，萃取复型兼有 复型试样与薄膜试样的优点。
2.3 透射电镜分辨本领和放大倍数的测定
•点分辨本领的测定： 将铂、铂铱合金或铂钯 合金，用真空蒸发的方式可 以得到粒度为0.5～1nm、间 距为0.2～1nm的粒子，将其 均匀分布在火棉胶（或碳） 支持膜上，在高放大倍数下 拍摄成像。为了保证测定的 可靠性，至少在相同条件下 拍摄两张底片，然后经光学 放大（5倍左右），从照片上 找出粒子最小间距， 除以总 的放大倍数，即可得相应的 点分辨本领。
一、直接样品的制备 1．粉末样品的制备
步骤一、超声波分散
避免颗粒团聚，造成厚度增加
步骤二、将分散悬浮液滴于铜网或微姗网
步骤三、烘干分散液
烘烤时间约20分钟
2．块状样品的制备
块状材料是通过减薄的方法（需要先进行机械或化学 方法的预减薄）制备成对电子束透明的薄膜样品。减薄的 方法有超薄切片、电解双喷和离子减薄等。
晶格分辨本领的测定 利用外延生长方法所制定向单晶薄膜为标样，拍摄晶格像。 晶 体 铜酞青 铂酞青 亚氯铂 酸钾 衍射面 (001) (001) (001) (100) 晶面间距 (nm) 1.26 1.194 0.413 0.699 钯 晶 体 金 衍射面 (200) (220) (111) (200) (400) 测定晶格分辨本领常用晶体 晶面间距 (nm) 0.204 0.144 0.224 0.194 0.097
透射电镜样品制备与观察实验指导手册
兰州理工大学学生实验指导书学院材料科学与工程学院实验室实验中心课程名称材料分析、测试方法实验类型综合性实验名称透射电镜样品制备与观察指导教师陈经民透射电镜样品制备与观察实验指导书1、实验原理及其目的1.1、透射电镜的组成与原理透射电镜是研究材料的重要仪器之一.透射电镜通过加速高压发射电子,并使电子束透射试样后,与试样内部原子发生相互作用,从而改变其能量及运动方向.由于不同结构具有不同的相互作用,因而,就可以根据透射电子图象所获得的信息,来了解试样内部的晶体结构.由于试样结构和相互作用的复杂性,因此透射电镜所获得的图象也很复杂.它不象表面形貌那样直观、易懂.因此,如何对一张电子图象获得的信息作出正确的解释和判断,不但很重要,也很困难,必须根据相应的理论才能对透射电子象作出正确的解释.透射电镜的组成与原理1.2、透射电镜样品的制备原理及方法将材料的粉末经研磨、过滤等方法,将粉末颗粒的粒径控制在50nm以下,然后取少量粉末放入装有无水乙醇根据材料不同,也可选用甲苯、丙酮等溶液的小试管中,再放入超声波振荡器中震荡10分钟左右,使粉末颗粒充分悬浮在溶液中.最后将溶液滴到铜网或微栅上观测倍数在20万倍以下时,用铜网；观测倍数在20万倍以上时,用微栅,即可放入透射电镜中观测.首先用金刚石圆锯或线切割机将块体材料切割成厚度为0.5mm以下、面积为2平方cm 以上的薄片,再用砂纸将其厚度打磨到0.1mm以下.然后用样品冲片器将薄片冲成直径为3mm的小圆片,再用凹坑仪在小圆片的中心位置凹一个小坑,以备用.导电材料可通过双喷电解的方法,对样品进行电解腐蚀,最终减薄样品.电解抛光减薄是制备金属薄膜最常用的方法之一.双喷射电解减薄器是其中主要的一种装置.其特点是：1.采用同轴光导控制,在金属薄片抛光减薄穿孔时能接收到光信号,穿孔后立即报警.2.电解液喷射循环泵的驱动马达与电解槽分隔开,马达不能被电解液污染.3.自压式液氮冷却系统,快速冷却电解液.非导电材料可通过离子减薄的方法,对样品进行离子轰击,最终减薄样品.通过本次实验,学生应该基本了解透射电镜样品的制备方法与透射电镜的工作原理. 2、实验内容2.1、透射电镜样品的制备首先用金刚石圆锯或线切割机将块体材料切割成厚度为0.5mm以下、面积为2平方cm 以上的薄片,再用砂纸将其厚度打磨到0.1mm以下.然后用样品冲片器将薄片冲成直径为3mm的小圆片,再用凹坑仪在小圆片的中心位置凹一个小坑,以备用.1、首先用电火花切割机或低速金刚石锯切割厚度0.3-0.5mm的金属试样.2、通过手工研磨将金属试样研磨成厚度～0.05mm的金属薄片.3、用冲片器将金属薄片冲成3mm的小圆片.如果有精密凹坑研磨仪,最好先用凹坑仪在小园片中心研磨一个凹坑,然后再进行电解减薄.4、仔细地把需要减薄的金属薄片嵌入样品夹白金电极凹槽中,用镊子夹住双斜面块放入样品夹推下斜面压杆使小圆片与白金电极保持良好的接触.灵敏度“SENSITIVITY”旋钮沿顺时针方向旋转到底0,合上总电源“POWER”开关,调节喷射泵“PUMP”旋钮,使双喷嘴射出的相向电解液柱相接触,在两个喷嘴之间形成一个直径数毫米的小水盘.5、样品夹插到电解槽中,电解抛光电源的阳极红色夹子接到样品夹侧面的接线柱上.6、灵敏度“SENSITIVITY”旋钮调节到中心位置或逆时针方向旋转到底O,该位置穿孔报警灵敏度最高.7、合上电解抛光电源“POLISH”开关,顺时针方向旋转抛光电源“DCPOWER”旋钮,把电解抛光电压和电流调到所需要的数值.8最佳的电解液浓度,温度以及抛光电压和电流值确定后,抛光可继续进行至穿孔报警声响.一旦金属薄片抛光减薄出现穿孔,光导控制系统会断续地自动切断电解抛光电源和磁力泵电源,而且会发出报警声.此时应立即关闭总电源“POWER”,迅速取出样品夹,放到无水酒精中浸洗,然后取出双斜面压块,用镊子夹住金属小园片放到清洁的无水酒精中浸洗.1、启动水循环设备依次按POWER、COOL、PUMP按钮.2、启动离子减薄仪①、依次按总电源POWER、机械泵R-PUMP、扩散泵D-PUMP键.②、扩散泵加热40分钟后,拉出预真空阀杆到死点位置.③、当真空表指针接近100uA时,推回预真空阀杆到死点位置.④、将高真空碟阀扳手扳至<开启>位置,将气流阀扳平.⑤、当真空指示接近25uA时,按下高压按钮,打开两个氩气阀门.⑥、通过调节电压和气流旋钮,将高压控制在6kV左右,将电流控制在接近0.2uA.3、停机①、将两个高压调到0,按灭高压按钮；②、将真空碟阀扳手扳到<关闭>位置,将气流阀扳下；③、按灭扩散泵键D-PUMP,等待45分钟后,按灭机械泵R-PUMP键,关闭总电源,关闭水循环.4、更换样品①、依次操作第二项中①～②步.②、按住预真空阀杆,再按住放气键VENTING,直至彻底放气.③、取下样品台及样品.2.2透射电镜样品的观察目前我校材料学院所拥有一台日本电子生产的JEM-2010型高分辨透射电镜,最高加速电压可达到200KV,最大放大倍数：150万倍,灯丝：LaB6和W灯丝,晶格分辨率：0.14nm,点分辨率：0.23nm.主要附件：美国Gatan公司透射电镜CCD电子图像系统,型号：MultiScanCamera,Model794,分辨率1024ⅹ1024；英国牛津仪器公司INCAEnergyTEMX射线能谱仪简称：EDS.该设备可对各种有机、无机、纳米材料进行微观形态结构研究,高分辨透射象观察、选区电子衍射、及EDS元素分析.通过CCD电子图像系统,可直接采集透射电镜的电子图像并转化为数字图像,在计算机上进行存储,图像处理和U盘、光盘输出,省去了拍摄冲洗电镜底片的麻烦,大大提高了工作效率.2.2.1透射电镜开机1、检查真空：主机压力表在x10-5Pa量程档,指针应在中间偏左位置.2、打开CCD开关,启动计算机,扳上<LENS>开关,高压指示灯亮后,按亮HT按钮,等该按钮绿灯闪烁完毕后,方可开始加高压.在键盘上键入：LOADHT<回车>RUN<回车>然后,根据提示,分段输入起始电压、终止电压、步长、用时：20→100KV,步长：10,用时：5min,等待5min；100→160KV,步长：10,用时：10min,等待5min；160→180KV,步长：10,用时：15min,等待5min；180→200KV,步长：10,用时：20min,等待5min.3、插入、观察样品及CCD拍照：先检查样品的偏移和倾斜是否为0,然后拉出试样台,更换样品后,插入试样台进行预抽真空,等待绿灯亮后过5min,完全插入试样台,再过2min 后才可加灯丝电流必要时,可在冷井中充入液氮.选择合适的聚光镜光阑,打开灯丝,观察样品.通过BRIGHTNESS旋钮将CurrDems:显示调整到10以下,按下上键,抬起荧光屏、运行拍照软件,调整焦距和亮度,然后拍照.4、样品观察完毕后,将放大倍数设定在40K,束流聚焦在观察屏中心,关闭灯丝电流,复位试样台至“0”,盖上观察窗盖.1、先退下高压至20KV200→20KV,步长：－10,用时：2min,然后按灭HT按钮.2、移出物镜光阑和选区光阑.3、扳下LENS开关.。
透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法透射电镜（Transmission Electron Microscopy，简称TEM）是一种高分辨率的显微镜，能够观察到原子尺度的物质结构。
在进行透射电镜观察前，样品的制备是至关重要的一步。
本文将介绍透射电镜样品制备的方法，希望能够帮助大家更好地进行样品制备工作。
首先，样品的制备要求样品具有一定的薄度。
因此，在进行透射电镜观察前，通常需要将样品切割成极薄的切片。
对于生物样品，可以采用超薄切片机进行切割；对于金属、陶瓷等样品，可以采用离子蚀刻或机械打磨的方法制备薄片。
在进行切割或打磨时，需要保持样品表面的平整和光洁，以确保透射电镜观察时获得清晰的图像。
其次，样品的制备还需要考虑到样品的固定和染色。
对于生物样品，固定和染色是非常重要的步骤。
固定可以保持样品的形态和结构不变，而染色则可以使样品在透射电镜下更易于观察。
常用的固定剂包括乙醛、戊二醛等，而染色剂则根据需要选择不同的染色方法。
另外，样品的制备还需要考虑到样品的支撑。
在进行透射电镜观察时，样品通常需要支撑在一种载体上，以便于放置在透射电镜的样品台上。
常用的载体包括碳膜、网格和硅片等。
在选择载体时，需要考虑到载体的透明性、机械强度和热稳定性等因素。
最后，样品的制备还需要考虑到真空条件。
透射电镜通常在高真空环境下进行观察，因此样品制备时需要保证样品的干燥和密封。
特别是对于生物样品，需要进行脱水和干燥处理，以避免在真空环境下产生气泡或水蒸汽，影响透射电镜观察效果。
总之，透射电镜样品制备是透射电镜观察工作中至关重要的一步。
在进行样品制备时，需要考虑到样品的薄度、固定和染色、支撑和真空条件等因素，以确保最终获得清晰、准确的透射电镜图像。
希望本文介绍的方法能够对大家进行透射电镜样品制备工作有所帮助。
透射电镜样品制备方法及优缺点
透射电镜样品制备方法及优缺点
透射电镜样品制备主要分为两步，即液体/固体样品处理和超薄切片制备。
1、液体/固体样品处理
第一种方法是基于普通电镜样品制备的双步处理法，即第一步用电子束处理样品表面，使其导电，再经过透射电子束进行处理。
在这种方法下，样品表面层只有几百到几千纳米厚，因此，只有比较薄的样品才能够得到满意的结果。
另一种方法是采用高真空下的固态电子涂覆，即将样品表面涂覆上薄层特殊金属。
例
如可以用铱、金、铂或其它金属的熔合物作为涂层，以获得特殊的涂层电导能力，从而保
证样品的电子图像分辨率和可视深度。
2、超薄切片制备
超薄切片制备分为超声切片和非超声切片两类。
超声切片通常是采用高能量超声波振
荡使容易被劈开的液体/固体样品形成自发非规则薄片，有时还可以加入一定量的碎薄片，从而使超声对样品的透射变的更容易，提高了结果的准确性。
非超声切片制备则采用比较稳定的技术来实现，如钻石刀片切割、钝型刀制备和原子
力显微镜焦点束来制备，具有薄层切片准确厚度的特点，且可以满足多层次数据获取。
优点：
1、透射电镜样品制备要求低，可以在常规实验室条件下完成，便于实验和分析；
2、采用精确远离样品表面的电子束，使放大比例高，且能够获得更高的分辨率和更
深的可视深度；
3、三维结构复杂的物质可以藉由采用不同的金属包覆来进行分析；
1、制备过程繁琐复杂，容易出现样品分析结果不精确的情况；
2、物质表面多层次结构信息分析难度大，可能会影响分析结果准确性；
3、结构深度较大时，获取信息较困难，分析效果受到影响。
纳米材料透射电镜样品制备方法
纳米材料透射电镜样品制备方法
制备纳米材料透射电镜样品是一项复杂的过程，需要精密的操
作和合适的设备。
以下是一种常见的制备方法：
1. 样品准备，首先，需要选择合适的纳米材料，例如金属纳米
颗粒或纳米结构的半导体材料。
然后，将样品分散在适当的溶剂中，如乙醇或丙酮，以获得均匀的分散液。
2. 标本制备，将分散的纳米材料溶液滴在碳膜覆盖的透射电镜
网格上。
通过自然干燥或者较低温度的热处理，使样品均匀地分布
在网格上，并且避免聚集和团聚。
3. 真空干燥，将样品置于真空中进行干燥，以去除溶剂和任何
可能的残留物，确保样品的纯净度和稳定性。
4. 透射电镜观察，将制备好的样品放入透射电镜中进行观察。
在观察之前，通常需要使用离子束或者溅射技术制备悬臂梁样品，
以确保样品的薄度和透明度。
此外，还有一些其他的制备方法，如冷冻切片法、离子磨薄法
等，可以根据具体的样品特性和研究需求选择合适的方法。
在制备过程中，需要注意样品的稳定性和纯净度，避免杂质的引入和样品的变形。
同时，也需要根据透射电镜的要求，调整样品的厚度和形貌，以获得清晰的观察结果。
总的来说，纳米材料透射电镜样品的制备是一个细致而关键的步骤，对于后续的观察和分析具有重要意义。
高分辨透射电镜(HRTEM)粉末样品制备方法
高分辨透射电镜（HRTEM）粉末样品制备方法电子显微镜（Transmission electron microscope，缩写TEM），简称透射电镜，是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射。
散射角的大小与样品的密度、厚度相关，因此可以形成明暗不同的影像。
通常，透射电子显微镜的分辨率为0.1～0.2nm，放大倍数为几万～百万倍，用于观察超微结构，即小于0.2微米、光学显微镜下无法看清的结构，又称“亚显微结构”。
在实际操作TEM之前，要求所测试样必须满足一定的条件，针对不同类型的试样有不同的制取方法。
样品要求：1．粉末样品基本要求（1）单颗粉末尺寸最好小于1μm；（2）无磁性；（3）以无机成分为主，否则会造成电镜严重的污染，高压跳掉，甚至击坏高压枪；2．块状样品基本要求（1）需要电解减薄或离子减薄，获得几十纳米的薄区才能观察；（2）如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等机械方法制成粉末来观察；（3）无磁性；（4）块状样品制备复杂、耗时长、工序多、需要由经验的老师指导或制备；样品的制备好坏直接影响到后面电镜的观察和分析。
所以块状样品制备之前，最好与TEM的老师进行沟通和请教，或交由老师制备。
送样品前的准备工作1．目的要明确：（1）做什么内容（如确定纳米棒的生长方向，特定观察分析某个晶面的缺陷，相结构分析，主相与第二相的取向关系，界面晶格匹配等等）；（2）希望能解决什么问题；2．样品通过X-Ray粉末衍射（XRD）测试、并确定结构后，再决定是否做HRTEM；这样即可节省时间，又能在XRD的基础上获得更多的微观结构信息。
3．做HRTEM前，请带上XRD数据及其他实验结果，与HRTEM老师进行必要的沟通，以判断能否达到目的；同时HRTEM老师还会根据您的其他实验数据，向您提供好的建议，这样不但能满足您的要求，甚至使测试内容做得更深，提高论文的档次。
3．粉末样品的制备1．选择高质量的微栅网（直径3mm），这是关系到能否拍摄出高质量高分辨电镜照片的第一步；（注：高质量的微栅网目前本实验室还不能制备，是外购的，价格20元/只；普通碳膜铜网免费提供使用。
透射电镜的制样方法
形貌的细节特征。 • 常用的复型材料是对电子束透明的薄膜——非晶碳膜、各种塑料薄膜和氧化物薄
膜）。
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三、间接样品(复型)的制备
• 在电镜中易起变化的样品和难以制成薄膜的试样采用此方法. • 表面显微组织浮雕的复型膜，只能进行形貌观察和研究，不能研究试样的成分
分布和内部结构。
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复型的种类
• 按复型的制备方法，复型主要分为：
•
一级复型
•
二级复型
•
萃取复型（半直接样品）
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电解双喷 1 。 电 解 双 喷 时 ， 一 般 要 进 行 冷 却 ， 常 用 液 氮 加 酒 精 的 方 法 来 冷 却 ， 尤 其 是 钢 铁 材 料 ， 必 须 冷 却 ， 而 且
最好用液氮。 2。电解双喷时，要调好电流和电压的值，只有电流和电压的值处于电解抛光的平台时，才能制造出好
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粉末（纤维）样品的断面
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2. 晶体薄膜样品
• 块状材料多采用此方法。 • 通过减薄制成对电子束透明的薄膜样品。 • 薄膜样品制备方法要求： ①薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同，且制备过程中不引起材料组织的变
化。 ② 薄，相对电子束而言必须有足够的“透明度”，且避免薄膜内不同层次图像的
重叠，干扰分析。 ③ 具有一定的强度。
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晶体薄膜法
• 薄膜样品制备步骤： ① 切取：切取薄块（厚度<0.5mm） ② 预减薄：用机械研磨、 Dimpling、化学抛光等减薄成“薄片”（0.1mm） ③ 终减薄：用电解抛光、离子轰击减薄成“薄膜”（<500nm）（视材料而
透射电镜样品制备
透射电镜样品制备引言透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope, 简称TEM)是一种非常强大的高分辨率成像技术，可以用于观察材料的结构和组织，以及研究纳米级别的材料特性。
在使用TEM进行实验之前，必须制备一种称为透射电镜样品的特殊样品。
透射电镜样品制备的关键是制备出足够薄的样品，以便电子可以通过样品而不会被散射或吸收。
本文将介绍透射电镜样品制备的常用方法和步骤。
方法1. 切割样品透射电镜样品通常需要从大块的材料或器件中切割出来。
首先，选择合适的切割工具，如金刚石刀片或钨丝刀，以确保能够切割出薄片。
然后，将待切割的材料固定在切割台上，并将其固定好。
使用切割工具沿着所需的方向切割材料，控制切割角度和速度，制备出较薄的样品。
2. 技术腐蚀技术腐蚀是一种常用的透射电镜样品制备方法，可以在保持样品形状和结构的情况下，去除样品表面的杂质。
首先，将样品放置在腐蚀液中，如酸性或碱性溶液中。
然后，根据所需的腐蚀速率和选择的溶液，控制腐蚀时间，使材料的表面逐渐溶解。
腐蚀完成后，取出样品并用纯水冲洗，最后用热空气干燥。
3. 离心旋涂法离心旋涂法是一种常用的制备透射电镜样品的方法，适用于制备薄膜和纤维样品。
首先，将待制备的样品溶液或悬浮液滴在旋涂机的旋盘中心。
然后，启动旋涂机，使旋盘高速旋转。
在旋涂过程中，液体会在旋盘边缘形成薄膜或纤维，而溶剂则会挥发掉。
当样品完全干燥后，取出样品即可。
4. 离子磨蚀离子磨蚀是一种制备透射电镜样品的高级方法。
它可以控制样品的厚度和形状，并在其表面形成平坦的区域。
首先，将样品放置在磨蚀仪中，并选择合适的离子束参数。
然后，启动磨蚀仪，使离子束磨蚀样品表面。
通过控制磨蚀时间和离子束能量，可以获得所需的样品厚度和表面平整度。
结论透射电镜样品制备是进行TEM实验的关键步骤之一。
通过选择合适的方法和技术，可以制备出足够薄的样品，以便电子能够透射而不被散射或吸收。
透射电镜常规样品制备流程
透射电镜常规样品制备流程
透射电镜是电子显微镜技术中最重要的一种技术，普通晶体样品的常
规样品制备流程如下：
1、样品的准备：将样品、水、石蜡、助融剂(如NaCl)、磷酸盐、石墨、甲醛和电子源材料(碳粉)准备好备用，并配合温度控制装置使用。
2、样品处理：将样品用接近样品发热点的温度处理，一般为200?C，把样品放入室温保温的石蜡，再将该石蜡分别放入不同的温度槽，如助融
剂的温度可以高于样品放置温度。
3、镀膜：将样品放置在硝酸银或碳材料的固体膜下，镀膜时，将碳
气体经过电子枪加热，形成形状与原子相同的表面。
4、结晶：首先需要将样品放置在一定温度和压力下，进行结晶，再
将研磨剂如磷酸盐、石墨和水添加到样品中，使样品迅速结晶，并在腔内
升温至合适温度，加快结晶过程。
5、夹具的清洗：在滴定液中加入抗蚀剂，夹具进行清洗，确保样品
无几何不良影响。
6、取晶体：用软金属夹具取出晶体，放在清洗过的滴定液中浸泡，
以使样品重新渗透，然后将样品放入滴定液腔中，进行滴定，使样品表面
无污染物。
7、安装样品：用金刚石夹具将样品安装在金刚石台子上，并将其固定，以保证样品的准确安装。
tem透射电镜的样品制备方法
tem透射电镜的样品制备方法TEM（透射电子显微镜）是一种高分辨率的显微镜，可以观察到物质的微观结构和原子级的细节。
TEM样品的制备是获取高质量TEM图像的关键步骤之一、下面将介绍一些常用的TEM样品制备方法。
1.机械切片法:通过将所研究物质切片成非常薄的片，以便电子束能够透过样品。
这种方法适用于硬材料或质地坚硬的样品。
首先，使用机械工具（如剪刀）或精密切割仪来制备尺寸较小的薄片。
随后，使用刮刀等工具，将薄片轻轻地转移到透明的TEM样品网格上。
最后，用气吹干净样品，并使用显微镜检查成果。
2.离心沉淀法:使用这种方法，可以制备到具有较大颗粒的样品。
首先，将所研究的材料分散在适当的溶剂中，并用超声波处理来消除聚集物。
然后，使用离心机将样品离心，使颗粒沉淀在薄网格上。
最后，将样品干燥，并用透明胶带密封以保持样品稳定。
3.冻脱水法:这种方法适用于液态或可溶性样品。
首先，将样品溶解在适当的溶剂中，然后将溶液滴到一片透明的TEM样品网格上。
接下来，将样品迅速冷冻，使其形成冻结状态，并使用真空甚至液氮将水从样品中去除。
最后，将样品干燥，并用透明胶带密封以保持样品稳定。
4.薄膜制备法:对于一些材料，可以通过溅射、蒸镀、离子束制备等方法制备薄膜样品。
这种方法适用于需要研究材料的表面结构和形貌的情况。
通过这些技术，可以在TEM样品网格上制备出具有亚纳米尺寸的薄膜。
无论使用哪种方法，请确保样品制备过程中防止氧化或其他污染物的入侵，以保持样品的原始状态。
此外，制备过程中的轻柔操作以及对透明度的注意，也是获得高质量TEM样品的关键。
最后，使用TEM显微镜观察样品前，确保样品在真空或干燥的环境中，以避免图像的模糊或扭曲。
透射电镜样品制备流程及注意事项
透射电镜样品制备流程及注意事项下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成，希望大家下载以后，能够帮助大家解决实际的问题。
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透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种利用电子束穿透样品而观察样品结构的高分辨率显微镜。
为了获得高质量的透射电子显微镜图像，样品制备是非常重要的一步。
下面将介绍几种常见的透射电镜样品制备方法。
1.薄片制备法：薄片制备法是最常用的透射电镜样品制备方法之一、首先，将待观察的材料切割成薄片，通常使用切片机或者离心切片机进行切割。
然后，将薄片放置在网格上，并用显微镊夹持住。
接下来，使用离心机将网格和薄片一起离心，以去除多余的液体。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
2.离解法：离解法适用于那些不易制备成薄片的样品。
首先，将待观察的样品制备成溶液或者悬浮液。
然后，将溶液滴在碳膜覆盖的网格上。
接下来，使用离心机将网格和溶液一起离心，使溶液在网格上均匀分布。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
3.冻结法：冻结法适用于那些需要观察生物样品或者水溶液的样品。
首先，将待观察的样品制备成溶液或者悬浮液。
然后，在液氮中冷冻样品，使其迅速冻结成冰。
接下来，使用离心机将冰冻样品离心，以去除多余的液体。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
4.脂溶法：脂溶法适用于那些不溶于水的样品。
首先，将待观察的样品制备成脂溶液。
然后，将脂溶液滴在碳膜覆盖的网格上。
接下来，使用离心机将网格和脂溶液一起离心，使脂溶液在网格上均匀分布。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
除了以上几种常见的透射电镜样品制备方法，还有一些特殊的方法，如原位制备法、离子切割法等。
这些方法可以根据实际需求选择使用。
总结起来，透射电镜样品制备是透射电子显微镜观察样品结构的关键步骤。
合适的样品制备方法可以保证获得高质量的透射电镜图像。
不同的样品制备方法适用于不同类型的样品，研究人员可以根据实际情况选择合适的方法进行样品制备。
材料分析方法-15 透射电镜样品的制备
常用方法：胶粉混合法和支持膜分散粉末法 常用支持膜的材料见下表
Grid
Figure 1. Top: Overhead view of a grid, showing the mesh. Bottom: Side view of a carbon coated grid showing the relative
注意：磨制过程中，要平稳，用力不要过大，注意冷却。
研磨薄片用的支座
三脚抛光器
②化学减薄 将切好的试片放入配制好的化学试剂中，使其表面
腐蚀而减薄。
优点： • 表面无机械硬化层 • 速度快 • 厚度可控制在20-50 μm，有利于终减薄
（3） 终减薄
①电解减薄
目前使用最广、效率最高、操作最简便的方法是双喷电解抛光 法。
等离子体激发--主要发生在金属中。当入射电子通过电子云时，金属中自由
电子基体发生振动，这种振动在10-15s内就消失了，且该振动局限在纳米范围 内，这就是等离子体激发（Plasma excitation）。等离子体激发是入射电子引 起的，因此入射电子要损失能量，这种能量损失随材料的不同而不同。利用 测量特征能量损失谱进行分析，就是能量分析显微术。若选择有特征能量的 电子成像，就是能量损失电子显微术。
薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同，在制备过 程中，组织结构不变化；
❖ 样品相对于电子束必须有足够的透明度；
薄膜样品应有一定强度和刚度，在制备、夹持和操作 过程中不会引起变形和损坏；
在样品制备过程中不允许表面产生氧化和腐蚀。
平面样品制备的工艺过程
（1）切（取）薄片样品
从实物或大块试样上切割厚度一般厚 约200-300 μm的薄片，切割方法一般 分两类 。
透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法透射电镜（Transmission Electron Microscope，TEM）是一种能够观察物质内部微观结构的高分辨率显微镜，广泛应用于材料科学、生物学、纳米技术等领域。
而透射电镜样品的制备质量直接影响到后续的观察结果。
因此，制备高质量的透射电镜样品至关重要。
下面将介绍一些常用的透射电镜样品制备方法。
首先，对于生物样品的制备，常用的方法是冷冻切片技术。
这种方法能够保持生物样品的原始结构，避免了传统化学固定和脱水过程中可能引起的伪形态。
在冷冻切片过程中，样品被快速冷冻，并在低温下切割成极薄的切片，然后通过透射电镜观察。
这种方法适用于观察生物细胞、组织等样品。
其次，对于材料样品的制备，常用的方法是机械切割和离子蚀刻。
机械切割是指利用超薄切片机或离心切片机将材料切割成极薄的切片，然后通过透射电镜观察。
而离子蚀刻则是利用离子束对材料进行加工，形成极薄的样品。
这两种方法适用于观察金属、陶瓷、半导体等材料样品。
另外，对于纳米材料的制备，常用的方法是原位制备技术。
这种方法通过在透射电镜下直接在样品表面进行原位制备，如原位成膜、原位合成等，可以观察到纳米材料的生长过程和结构特征。
这种方法适用于观察纳米颗粒、纳米线、纳米片等样品。
总的来说，透射电镜样品的制备方法多种多样，选择合适的制备方法需要根据具体样品的性质和要求来确定。
在制备过程中，需要注意样品的预处理、切割、薄化等步骤，确保样品的质量和结构完整。
通过精心制备的透射电镜样品，可以获得清晰、准确的观察结果，为后续的科研工作提供可靠的数据支持。
在透射电镜样品制备过程中，还需要注意操作规范、安全防护等问题，确保实验过程安全可靠。
同时，不同样品的制备方法可能存在差异，需要根据具体情况进行调整和改进。
希望本文介绍的透射电镜样品制备方法能够为相关科研工作者提供一些参考和帮助，促进透射电镜技术的应用和发展。
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一、样品要求
1．粉末样品基本要求
（1）单颗粉末尺寸最好小于1μm；
（2）无磁性；
（3）以无机成分为主，否则会造成电镜严重的污染，高压跳掉，甚至击坏高压枪；
2．块状样品基本要求
（1）需要电解减薄或离子减薄，获得几十纳米的薄区才能观察；
（2）如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等机械方法制成粉末来观察；
（3）无磁性；
（4）块状样品制备复杂、耗时长、工序多、需要由经验的老师指导或制备；样品的制备好坏直接影响到后面电镜的观察和分析。
所以块状样品制备之前，最好与TEM的老师进行沟通和请教，或交由老师制备。
二、送样品前的准备工作
1．目的要明确：（1）做什么内容（如确定纳米棒的生长方向，特定观察分析某个晶面的缺陷，相结构分析，主相与第二相的取向关系，界面晶格匹配等等）；（2）希望能解决什么问题；
2．样品通过X-Ray粉末衍射（XRD）测试、并确定结构后，再决定是否做HRTEM；这样即可节省时间，又能在XRD 的基础上获得更多的微观结构信息。
3．做HRTEM前，请带上XRD数据及其他实验结果，与HRTEM老师进行必要的沟通，以判断能否达到目的；同时HRTEM老师还会根据您的其他实验数据，向您提供好的建议，这样不但能满足您的要求，甚至使测试内容做得更深，提高论文的档次。
三、粉末样品的制备
1．选择高质量的微栅网（直径3mm），这是关系到能否拍摄出高质量高分辨电镜照片的第一步；（注：高质量的微栅网目前本实验室还不能制备，是外购的，价格20元/只；普通碳膜铜网免费提供使用。
）
2．用镊子小心取出微栅网，将膜面朝上（在灯光下观察显示有光泽的面，即膜面），轻轻平放在白色滤纸上；
3．取适量的粉末和乙醇分别加入小烧杯，进行超声振荡10~30min，过3~5 min 后，用玻璃毛细管吸取粉末和乙醇的均匀混合液，然后滴2~3滴该混合液体到微
栅网上（如粉末是黑色，则当微栅网周围的白色滤纸表面变得微黑，此时便适中。
滴得太多，则粉末分散不开，不利于观察，同时粉末掉入电镜的几率大增，严重影响电镜的使用寿命；滴得太少，则对电镜观察不利，难以找到实验所要求粉末颗粒。
建议由老师制备或在老师指导下制备。
）
4．等15 min以上，以便乙醇尽量挥发完毕；否则将样品装上样品台插入电镜，将影响电镜的真空。
四、块状样品制备
1．电解减薄方法
用于金属和合金试样的制备。
（1）块状样切成约0.3mm厚的均匀薄片；（2）用金刚砂纸机械研磨到约120~150μm 厚；（3）抛光研磨到约100μm厚；（4）冲成Ф3mm 的圆片；（5）选择合适的电解液和双喷电解仪的工作条件，将Ф3mm 的圆片中心减薄出小孔；（6）迅速取出减薄试样放入无水乙醇中漂洗干净。
注意事项：
（1）电解减薄所用的电解液有很强的腐蚀性，需要注意人员安全，及对设备的清洗；
（2）电解减薄完的试样需要轻取、轻拿、轻放和轻装，否则容易破碎，导致前功尽弃；
2. 离子减薄方法
用于陶瓷、半导体、以及多层膜截面等材料试样的制备。
块状样制备（1）块状样切成约0.3mm厚的均匀薄片；（2）均匀薄片用石蜡粘贴于超声波切割机样品座上的载玻片上；（3）用超声波切割机冲成Ф3mm 的圆片；（4）用金刚砂纸机械研磨到约100μm厚；（5）用磨坑仪在圆片中央部位磨成一个凹坑，凹坑深度约50~70μm，凹坑目的主要是为了减少后序离子减薄过程时间，以提高最终减薄效率；（6）将洁净的、已凹坑的Ф3mm 圆片小心放入离子减薄仪中，根据试样材料的特性，选择合适的离子减薄参数进行减薄；通常，一般陶瓷样品离子减薄时间需2~3天；整个过程约5天。
注意事项：
（1）凹坑过程试样需要精确的对中，先粗磨后细磨抛光，磨轮负载要适中，否则试样易破碎；
（2）凹坑完毕后，对凹坑仪的磨轮和转轴要清洗干净；
（3）凹坑完毕的试样需放在丙酮中浸泡、清洗和凉干；
（4）进行离子减薄的试样在装上样品台和从样品台取下这二过程，需要非常的小心和细致的动作，因为此时Ф3mm 薄片试样的中心已非常薄，用力不均或过大，很容易导致试样破碎。
（5）需要很好的耐心，欲速则不达。