三氯氢硅生产性质
三氯氢硅的性质、应用及生产概述

沫塔( 材质P C因底盘腐蚀及热变形渗酸等因素, V)
需报废更新 , 在停车更新前设备验收阶段发现按原
图纸加工完成的设备与运行设备存在较大的结构差 异, 具体表述如下。 () 1原塔设备法兰联接螺栓 为 M 2 x 1m 9 m 0
m 数量 3 条 , m, 2 更新的设备法兰联接螺栓为 M1 2 m x m 数量 1 条。 m 0 9 m, 6 () 2原设备及更新设备泡沫塔板与塔节法兰的 联接形式如图 1 所示。
改为8 5 , 二m m
经过上述变更改造后, 该设备如期安装使用, 经 跟踪观察各工艺数据正常, 制酸浓度无异常波动, 遂 认为此设备的改造、 利用较为圆满。
( 乡树脂厂 付明亮, 勇, 新) 河南省新 高 郭
( 上接第3 8页) 贮罐液位在一半以下时, 合格酸中 和, 但当贮罐内不合格酸多或游离氯过高不易中和 时, 将部分酸通过该旁路打至酸池, 再人合格酸。 () 2为严把质量关, 我公司的质检科实行双保险 制, 不仅盐酸工序每 4 作一次样, h 在电解的送酸终 点每班定时取样分析, 发现不合格样及时通知电解
化。b新设备上、 () 下塔节法兰联接螺栓为 1 条, 6 无 设计依据, 考虑设备本身材质应力强度及结构因素,
将不足以产生足够的预紧力, 保证有效密封及安全 运行。 据此认定新设备无法满足工艺要求, 不能安装 使用。 后又进行水压试验, 证实无法保证密封。 为确 保检修按时完成, 决定对该设备进行改造。 因工期所
中国氛碱
20 年第 1 期 02 2
变频器控制在锅炉改造中的应用
我厂蒸汽由2 0 . P) 台2 t 9 a的沸腾式锅炉 ( M 3 后因只产蒸 产生( 开 1 。 1 备)当时设计为热电联产, 汽 , 造成许多设备选型不当, 能耗增大 , 且负荷波动
SiHCl3理化
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三氯氢硅1、三氯氢硅又称三氯硅烷、硅氯仿2、分子式为SiHCl3用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅烷偶联剂中最基本的单体,也是生产半导体硅、单晶硅的原料,随着有机硅烷偶联剂工业的发展而出现供不应求,生产量越来越大。
3、三氯氢硅的理化特性及生产原理三氯氢硅是采用硅粉与氯化氢气体在流化床反应器中生成。
它是无色液体,易挥发,易潮解,在空气中发生反应产生白烟,遇水分解,溶于苯、醚等有机溶剂。
属一级遇湿易燃物品,易燃易爆,遇水反应产生氯化氢气体;它与氧化剂发生强烈反应,遇明火、高热时发生燃烧或爆炸。
4、其物理特性如下:比重:1.35;相对气体密度:4.7;沸点:31.8℃;饱和蒸气压(14.5℃)53.33Kpa;闪点:-13.9℃(开杯);自燃温度:175℃;爆炸下限:6.9%;爆炸上限:70%;溶解性:溶于苯、醚等有机溶剂;具有急性毒性。
5、三氯氢硅生产的火灾危险性分析三氯氢硅生产的原料都是不燃物质,但是其生产过程中的产物大都是易燃易爆物质,如氢气、三氯氢硅、氯气等。
1、电解食盐水的火灾危险性(1)电解时有强大的电流通过,如果电气的绝缘不良极易产生电火花,电解车间经常有氢气泄漏,遇到电火花或其它明火会发生燃烧或爆炸。
(2)如氢气与氯气相混,达到爆炸极限范围,遇光也会发生爆炸。
2、三氯氢硅合成的火灾危险性SiHCl3的合成是在280℃~300℃的温度下进行的,已经超过了SiHCl3的自燃温度175℃,在合成过程中如果SiHCl3发生泄漏,或者空气进入反应器,极易引起燃烧、爆炸或中毒事故。
并且SiHCl3有毒、遇水燃烧,给火灾扑救带来一定的困难。
3、三氯氢硅贮罐的火灾危险性SiHCl3的贮罐如果发生泄漏,其危险性远远大于工艺管道泄漏的危险性,因为其贮量大,一旦发生泄漏,如果不及时堵漏,影响会不断扩大。
贮罐区因为冷却用水的需要,经常有水存在,泄漏的SiHCl3遇水发生反应,产生有毒的HCl,向四周扩散,给抢险救援工作带来困难。
三氯氢硅1
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三氯氢硅目录(1)产品名称,物化性质,技术标准及作用;(2)原料名称及质量标准;(3)生产基本原理及反应式;(4)生产工艺流程叙述;(5)岗位操作法及控制:a.岗位操作范围;b.开车前准备;c.开停车操作;d.各岗位控制要点;(6)某些不正常现象及消除方法;(7)安全生产要点;(8 )生产过程中的三废排放和处理;(一)产品名称,物化性质,技术标准及作用(1)产品名称:三氯氢硅SiHCl3(2) 物理性质:常温下纯净的三氯氢硅是无色、透明、挥发性、可燃液体,有较四氯化硅更强的刺鼻气味。
分子式:SiHCl3,分子量:135.4 ,液体密度:1.318kg/l (常温状态),气体密度:6.5g/l(标准状态),1atm下沸点:31.5℃,1atm下熔点:-128℃(3)化学性质:易水解、潮解、在空气中强烈发烟,生成HCl 和H2,HCl遇水立即转化为盐酸,盐酸具有很强的腐蚀性;H2易燃易爆。
更易挥发、更易气化、更沸点低;易着火、易爆炸、着火点28℃、着火温度220℃,燃烧时产生氯化氢和氢气;其蒸汽具有弱毒性,与无水醋酸和二氯乙烯毒性程度相同。
(二)原料名称及质量标准1.氯化氢(Hcl):氯化氢含量92%∽94%,氯气不过量;2.硅粉:冶晶级多晶硅(95%∽99%),块密度约2.0×103kg/m3,硬度为7,其颗粒大小为80∽120目。
(三)生产基本原理及反应式1. 基本原理:80∽120目的硅粉与干燥的92%∽94%的氯化氢在催化剂(催化剂用量si:cucl2=100(0.4∽1))作用下,在280∽320℃、小于0.05Mpa条件下生成三氯氢硅。
合成SiHCl3必须先将硅粉预热到250℃以上。
不过,该反应是放热反应,只要启动后就不再需要补充热能,而是带走热量。
2. 主要反应Si+3HCl→SiHCl3+H2+Q当温度不再上述制控制范围内,怎发生下列副反应:A.温度大于350℃时:Si + 4HCl → SiCl4 + 2H2+ QB.温度小于280℃时:Si + 4HCl → SiH2Cl2+ 2H2+ QC.硅粉与HCl反应过程中,硅粉中的少量杂质Ca、Fe、Al、Zn、Ti、P、B等主要生成CaCl2、FeCl3、AlCl3、ZnCl2、TiCl4、PCl3、BCl3化合物,这些物质大部分以固相在除尘时分离出去,仅少量随SiHCl3的混合气(液滴)进入冷凝器被溶解在料液中,这部分ppm级含量的杂质需通过精馏分离(四)生产工艺流程叙述三氯氢硅合成工艺简图硅粉加料系统是由三个串联的料仓〔一个干燥仓一个硅粉料仓一个计量仓组成〕和一台硅粉自动加料机组成。
三氯氢硅合成
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目前,国内外应用最广,最主要的制备超纯硅的方法,是以三氯氢硅为原料,(即改良西门子法)。
故三氯氢硅的合成在半导体材料硅的生产中引起了广泛注意,并取得不少成果。
三氯氢硅和四氯化硅的结构、化学性质相似。
因此,它们的制备方法基本相似,只是前者用氯化氢气体代替氯气进行反应,在方法、设备、工艺操作等方面有共同之处,本章只介绍其特性。
三氯氢硅的制备方法很多,如:1)用卤硅烷和过量的氢或氯化氢的混合物通过Al,Zn,或Mg的表面。
2)以氯化铝作催化剂,用氯化氢气体氯化SiH4。
3)在高温下用氢气部分还原SiCl4。
4)用干燥氯化氢气体氯化粗硅或硅合金。
前三种方法产率低、过程繁、产品沾污机会多、实用价值很小。
因此,工厂和试验室多采用第4种方法制备三氯氢硅。
第一节三氯氢硅的性质三氯氢硅(SiHCl3)又称三氯硅烷或硅氯仿。
三氯氢硅是无色透明、在空气中强烈发烟的液体。
极易挥发、易水解、易燃易爆、易溶于有机溶剂。
有强腐蚀性、有毒,对人体呼吸系统有强烈的刺激作用。
其物理化学性质见表表3-1 三氯氢硅的物理化学性质名称数值名称数值分子量 135.45 氢含量% 0.74液体密度(31.5℃)1.318 闪点℃ 28蒸气密度(31.5℃)0.0055 在空气中的自燃点℃ 175溶点℃ -128 偶极距德拜 0.85沸点℃ 31.5 蒸发潜热kcal/mol 6.36氯含量% 78.53 比热 kcal/kg.℃ 0.23(l)0.132(g)三氯氢硅在空气中的爆炸极限% 1.2~90.5附:四氯化硅的性质四氯化硅(SiCl4)是无色透明、无极性、易挥发、有强烈刺激性的液体。
水解后生成二氧化硅和氯化氢。
可与苯、乙醚、氯仿及挥发油混合;与醇反应生成硅酸酯。
因其易水解,并生成氯化氢,故它具有强腐蚀性。
表3-2 四氯化硅的性质名称数值名称数值分子量 169.2 蒸发热 kcal/mol 6.96液体密度(在25℃)t/m³ 1.49 生成热 kcal/mol -153.0蒸气密度kg/m³ 6.3 标准生成自由能kcal/mol 136.9熔点℃ -70 临界温度℃ 206沸点℃ 57.6第二节三氯氢硅合成反应原理三氯氢硅合成反应是一个放热反应,所以应将反应热及时导出,保持炉内反应温度相对稳定,以提高产品质量和收率。
三氯氢硅简介范文
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三氯氢硅简介范文三氯氢硅(化学式:SiHCl3,英文名:Trichlorosilane),又称为氯硅烷,是一种常用的有机硅化合物。
它是由硅和氯气反应生成的,是一种无色挥发性液体,具有刺激性气味。
三氯氢硅是许多其他有机硅化合物的重要原料,广泛应用于化学、电子、光伏等领域。
下面将对三氯氢硅的性质、制备方法、应用以及安全性进行详细介绍。
一、性质:1.外观:三氯氢硅是无色的液体,具有刺激性气味。
2. 密度:三氯氢硅的密度为1.486 g/cm³。
3.熔点:三氯氢硅的熔点为-126.5℃。
4.沸点:三氯氢硅的沸点为31.8℃。
5.溶解性:三氯氢硅可溶于有机溶剂,如苯、甲苯等。
6.不稳定性:三氯氢硅在阳光或高温下易分解。
二、制备方法:1.氯化硅法:将硅与氯气反应生成三氯氢硅。
2.氢化还原法:将二氯硅烷和氢气反应生成三氯氢硅。
3.氯气氢化法:将氯气和氢气在硅表面上反应生成三氯氢硅。
三、应用:1.化学领域:三氯氢硅是合成其他有机硅化合物的重要原料。
它可以与酮、醛等化合物反应生成对硅代醇,并进一步反应生成其他有机硅化合物,如硅氧烷、硅烷等。
这些有机硅化合物广泛应用于涂料、密封剂、油墨、润滑剂等领域。
2.电子领域:三氯氢硅用于制备硅材料,如硅晶片、太阳能电池等。
它可以通过热分解或化学气相沉积的方法制备高纯度的硅材料,用于电子器件的制造。
3.光伏领域:三氯氢硅是光伏电池的重要原料。
它可以通过化学气相沉积的方法在硅基底上制备多层薄膜光伏电池。
这种电池可以将太阳能转化为电能,用于供电或储存能量。
4.其他领域:三氯氢硅还用于杀真菌剂、固化剂、阻燃剂等的制备。
它可以作为辅助材料用于改性塑料、橡胶等的生产。
四、安全性:1.毒性:三氯氢硅具有一定的毒性,可能对呼吸系统、眼睛和皮肤造成刺激和损伤。
使用时应避免吸入、接触皮肤和眼睛。
2.燃爆性:三氯氢硅是易燃液体,与空气中的氧气形成爆炸性混合物。
在储存和运输过程中,应注意防止火源。
三氯氢硅SiHCl3
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三氯氢硅SiHCl3
硅氯仿、硅仿、三氯硅烷;
2.用途
单晶硅原料、硅液、硅油、硅酮化合物制造、电子气。
3.制法
(1)在高温下Si和HCl反应。
(2)用氢还原四氯化硅。
4.理化性质
分子量:135.43
沸点(101.325kPa):31.8℃;
液体密度(0℃):1350kg/m3;
爆炸下限:9.8%;
三氯硅烷在常温常压下为具有刺激性恶
臭易流动易挥发的无色透明液体。
在空气中极易燃烧,在-18℃以下也有着火的危险,遇明火则强烈燃烧,燃烧时发出红色火焰和白色烟,生成SiO2、HCl和Cl2:SiHCl3+O2→SiO2+HCl+Cl2;三氯硅烷的蒸气能与空气形成浓度范围很宽的爆
炸性混合气,受热时引起猛烈的爆炸。
它的
遇潮气时发烟,与水激烈反
应:2SiHCl3+3H2O—→
(HSiO)2O+6HCl;
在碱液中分解放出氢
气:SiHCl3+3NaOH+H2O—→Si (OH)4+3NaCl+H2;
三氯硅烷的蒸气和液体都能对眼睛和皮肤引起灼伤,吸入后刺激呼吸道粘膜引起各种症状(参见四氯化硅)。
6.安全防护
远离火种、热源,避光,库温不宜超过25℃。
可用氨水探漏。
火灾时可用二氧化碳、干石粉、干砂,禁止用水及泡沫。
废气可用水或碱液吸收。
三氯硅烷有水分时腐蚀性极强。
可用铁、镍、铜镍合金、镍钢、低合金钢,不能用铝、铝合金。
可以用聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯聚合体、氟橡胶、聚氯乙烯、聚乙烯、玻璃等。
三氯氢硅资料
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第三讲三氯氢硅资料第三讲三氯氢硅合成目录3.1,原料工业硅粉简介3.2,三氯氢硅的主要性质3.2.1,与水反应3.2.2,热分解3.2.3,与有机物反应3.3,三氯氢硅合成3.3.1,反应原理3.3.2,反应过程温度控制3.3.3,杂质发生反应3.3.4,三氯氢硅合成炉的发展与改进3.4,沸腾床(流化床)技术3.4.1,沸腾床的形成及流体力学原理3.4.2,沸腾床的传热3.4.3,沸腾床的结构及工艺技术要求3.4.4,沸腾床的设计3.5,影响三氯氢硅合成效率的几个重要因素3.5.1,反应温度3.5.2,氧与水份的影响3.5.3,游离氯的控制3.5.4,硅粉粒度3.5.5,硅粉料层高度与HCL流量3.6,三氯氢硅合成工艺简介3.6.1,硅粉加料系统3.6.2,三氯氢硅工艺控制3.7,干法除尘和湿法除尘工艺简介3.8,尾气回收工艺简介3.9,湿法除尘釜液回收工艺简介3.10,硅粉回收工艺简介附图3-1,三氯氢硅合成工艺流程图三氯氢硅合成系统包括:1,硅粉加料装置,2,三氯氢硅合成炉,3,旋风干法除尘,4,过滤装置,5,STC湿法除尘,6,合成气分离回收(CDI)等工序。
硅粉加料装置完成向合成炉连续定量地供应硅粉;三氯氢硅合成炉是生产三氯氢硅的关键设备;旋风干法除尘、过滤装置与STC湿法除尘是回收硅粉和除去合成气的硅尘,CDI是将合成气进行分离回收,它们都是不可或缺的设备。
合成三氯氢硅的原料是硅粉与HCL气体。
3.1. 原料工业硅简介工业硅的外观为深灰色与生铁颜色接近,也称硅铁。
工业硅的块密度约2.0×103kg/m3,硬度为7,纯度一般为95%~99%,其中的主要杂质为Fe、Al、Ca。
工业硅的制备一般采用冶炼法,在冶炼炉中用还原剂将SiO2还原成单质硅(冶金硅)。
通常用的还原剂有碳、镁、铝等。
用镁或铝还原SiO2,如果还原剂的纯度较高得到的单质硅纯度可达3~4个“9”。
不过,由于纯度较高的镁、铝价格高,会增加工业硅的生产成本,因此,目前国内的生产厂家都采用在电炉中用焦炭还原SiO2来制取单质硅(冶金硅),即把碳电极插入由焦炭(或木炭)和石英石组成的炉料中,温度控制在1600℃~1800℃还原出硅,反应式如下:石英砂(硅石)与炭在电弧炉里还原成硅 (MG-Si)反应是在电弧炉(见图二)里的相邻电极之间发生的,该处温度超过2000℃,释放出来的SiO 和 CO流到上部较冷区域(小于1500℃),形成所必要的SiC。
三氯氢硅生产性质
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一.氯气1氯气的理化性质(1)物理性质:氯气在常温常压下为黄绿色有刺激性气味的有毒气体。
密度为3.21,是空气的2.45倍。
易溶于碱溶液、二硫化碳和四氯化碳,难溶于饱和食盐水。
在常温下,氯气被加压到0.6~0.8MPa或在常压下冷却到-35~40℃时就能液化为黄绿色透明液体。
液氯的密度为1.47,熔点-102℃,沸点-34.6℃。
(2)化学性质:氯气的化学性质很活泼,是一种活泼的非金属。
1、氢是无色、无嗅的可燃气体。
它是已知最轻的气体。
其沸点为一252.76℃。
2、化学性质???在环境温度下,虽然氢相对而言不是十分活泼,但在高温下,它可以和几乎所有别的元素发生反应。
通常.氢和氧在高温下的反应异常激烈升高温度,氢可以还原金属氧化物。
三.氯化氢1氯化氢的理化性质(1)物理性质:氯化氢在常温常压下为具有刺激性臭味的无色有毒气体。
盐酸为氯化氢的水溶液,是无色或微黄色的液体。
空气中不燃烧,热稳定,到约1500℃才分解。
与氟激烈反应,与许多金属反应生成氯化物和氢,与氨激烈反应生成氯化铵白烟,与乙烯混合形成爆炸性气体。
氯化氢与水不反应但易溶于水,空气中常以盐酸烟雾的形式存在。
浓盐酸因氯化氢蒸气而在空气中发烟。
易溶于乙醇和醚,也能溶于其它多种有机物。
(2)化学性质:氯气的化学性质很活泼,是一种活泼的非金属。
2氯化氢的用途电池、药品、染料、化肥、玻璃加工、金属清洗、有机合成、腐蚀照像、陶器制造、食品处理、无机氯化物制造、橡胶、催化剂、电子气、标准气、外延、扩散、氧化、蚀刻、化学气相淀积、发光二极管。
3氯化氢的制法伤。
????????并速求医诊治。
相对分子量:28.0855密度:2.33熔点(℃)1410沸点(℃)2355性状:有无定形和晶体两种同素异形体,灰色或黑色。
溶解情况:不溶于水、硝酸和盐酸,溶于氢氟酸和碱液。
2用途用于制合金、有机硅化合物和四氯化硅等,是一种极重要的半导体材料。
3其他原子序数14,原子量28.0855。
三氯氢硅生产工艺
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三氯氢硅生产工艺
三氯氢硅(简称TCS)是一种无机化学品,主要用于半导体、光电子、电子化学等领域。
下面是三氯氢硅的生产工艺简介。
三氯氢硅的生产主要采用化学反应法,通常从硅源和氯源出发,经过多步反应得到三氯氢硅。
首先,将高纯度的石英砂(SiO2)与异氰酸酯(比如甲基异
氰酸酯)在氯化亚砜存在下反应,生成含有异氰酸酯基团的氯硅酮。
反应条件一般为高温高压,例如180-200℃,3-5 MPa。
反应方程式如下:
SiO2 + 2 ROCN + SO2Cl2 → Si(OCN)2Cl2 + SO2 + 2 HCl
接下来,将得到的氯硅酮与硅源(比如高纯度的多晶硅或硅锭)反应,生成TCS和其他副产物。
该反应需要在惰性气体(如
氩气)保护下进行,反应条件一般是中高温(例如800-1200℃)下,产物需要通过真空蒸馏进行分离纯化。
反应方程式如下:
Si(OCN)2Cl2 + 2 Si → 2 SiCl4 + Si(OCN)4
最后,通过进一步的处理和纯化,得到高纯度的三氯氢硅。
处理方法可以包括蒸馏、结晶、过滤等。
经过这些步骤,可以得到符合要求的三氯氢硅产品。
需要注意的是,三氯氢硅在生产和储存过程中,由于其高度腐蚀性,需要特殊的防腐措施。
生产厂商必须配备防腐材料和设备,进行严格的操作控制和安全管理,以确保生产过程的安全
性。
以上是三氯氢硅的生产工艺的简要介绍。
具体的生产工艺可能还包括一些中间反应和纯化步骤,以上只是一个概述。
三氯氢硅的工艺

三氯氢硅的工艺三氯氢硅的生产大多采用沸腾氯化法,主要包括氯化氢合成、三氯氢硅合成、三氯氢硅精制等工序。
氯气和氢气在氯化氢合成炉内通过燃烧反应生成氯化氢,氯化氢气体经空冷、水冷、深冷和酸雾捕集脱水后进人氯化氢缓冲罐,然后送三氯氢硅合成炉。
硅粉经过干燥后加入到三氯氢硅合成炉,与氯化氢在300℃左右的高温下反应,生成三氯氢硅和四氯化硅。
生成的粗三氯氢硅气体经过旋风分离和除尘过滤后,进入列管冷凝器进行水冷和深冷,不凝气通过液封送入尾气洗涤塔,处理后达标排放,冷凝液蒸馏塔分离提纯,通常采用二塔连续提纯,一塔塔顶排低沸物,二塔塔底排高沸物四氯化硅,同时塔顶出三氯氢硅产品。
第一节氯化氢合成工艺1.1氯化氢的性质氯化氢是无色有刺激性气体,熔点为-114.2℃,沸点为85℃,比热容为812.24J\kg℃,临界温度为51.28℃,临界压力为8266kPa。
干燥的氯化氢气体不具有酸的性质,化学性质不活泼,只有在高温下才发生反应。
氯化氢极易溶于水。
在标准情况下1体积水可溶解500体积氯化氢,溶于水后即得盐酸。
由于三氯氢硅生产主要需要氯化氢气体,所以本文对盐酸性质不做深入研究。
1.2 氯化氢合成条件氯化氢的合成是在特制的合成炉中进行的。
未了确保产品中不含有游离氯,氢气要较氯气过量15%~20%。
实际生产的炉中火焰温度在200℃左右。
由于反应是一个放热反应,为了不使反应温度过高,工业生产通过控制氯气和氢气的流量和在壁炉外夹套间通冷却水的办法控制氯化氢出炉温度小于350℃。
在生产中为确保安全生产,要求氢气纯度不小于98%和含氧不大于0.4%;氯气纯度不小于65%和含氢不大于3%。
1.3 氯化氢合成工艺氯化氢合成方程式:Cl2+H2→2HCl氯气经涡轮流量计计量氯气(氯气含量97%,压力为0.5MPa)含量进入氯气缓冲罐。
氢气经涡轮流量计计量氢气(含量98%,压力为0.09MPa)含量经分水罐脱水与循环氢经涡轮流量计进入氢气缓冲。
三氯氢硅SiHCl3

三氯氢硅SiHCl3制法(1)在高温下Si和HCl反应。
(2)用氢还原四氯化硅(采用含铝化合物的催化剂)。
4.理化性质分子量: 135.43熔点(101.325kPa):-134℃;沸点(101.325kPa):31.8℃;液体密度(0℃):1350kg/m3;相对密度(气体,空气=1): 4.7;蒸气压(-16.4℃):13.3kPa;(14.5℃):53.3kPa;燃点:-27.8℃;自燃点:104.4℃;闪点:-14℃;爆炸极限:6.9~70%;毒性级别:3;易燃性级别:4;易爆性级别:2三氯硅烷在常温常压下为具有刺激性恶臭易流动易挥发的无色透明液体。
在空气中极易燃烧,在-18℃以下也有着火的危险,遇明火则强烈燃烧,燃烧时发出红色火焰和白色烟,生成SiO2、HCl和Cl2:SiHCl3+O2→SiO2+HCl+Cl2;三氯硅烷的蒸气能与空气形成浓度范围很宽的爆炸性混合气,受热时引起猛烈的爆炸。
它的热稳定性比二氯硅烷好,在900℃时分解产生氯化物有毒烟雾(HCl),还生成Cl2和Si。
遇潮气时发烟,与水激烈反应:2SiHCl3+3H2O—→ (HSiO)2O+6HCl;在碱液中分解放出氢气:SiHCl3+3NaOH+H2O—→Si (OH)4+3NaCl+H2;与氧化性物质接触时产生爆炸性反应。
与乙炔、烃等碳氢化合物反应产生有机氯硅烷:SiHCl3+CH≡CH一→CH2CHSiCl3 、SiHCl3+CH2=CH2—→CH3CH2SiCl3在氢化铝锂、氢化硼锂存在条件下,SiHCl3可被还原为硅烷。
容器中的液态SiHCl3当容器受到强烈撞击时会着火。
可溶解于苯、醚等。
无水状态下三氯硅烷对铁和不锈钢不腐蚀,但是在有水分存在时腐蚀大部分金属。
5.毒性小鼠-吸入LC50:1.5~2mg/L最高容许浓度:1mg/m3三氯硅烷的蒸气和液体都能对眼睛和皮肤引起灼伤,吸入后刺激呼吸道粘膜引起各种症状(参见四氯化硅)。
三氯氢硅及合成工艺
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三氯氢硅及合成一、三氯氢硅的基本性质三氯氢硅在常温常压下为具有刺激性恶臭、易流动、易挥发的无色透明液体。
分子量:135.43,熔点(101.325kPa):-134℃;沸点(101.325kPa):31.8℃;液体密度(0℃):1350kg/m3;相对密度(气体,空气=1):4.7;蒸气压(-16.4℃):13.3kPa;(14.5℃):53.3kPa;燃点:-27.8℃;自燃点:104.4℃;闪点:-14℃;爆炸极限:6.9~70%;在空气中极易燃烧,在-18℃以下也有着火的危险,遇明火则强烈燃烧,三氯氢硅燃烧时发出红色火焰和白色烟;三氯氢硅的蒸气能与空气形成浓度范围很宽的爆炸性混合气,受热时引起猛烈的爆炸。
它的热稳定性比二氯硅烷好,三氯氢硅在900℃时分解产生氯化物有毒烟雾;遇潮气时发烟,与水激烈反应;在碱液中分解放出氢气;三氯氢硅与氧化性物质接触时产生爆炸性反应。
与乙炔、烃等碳氢化合物反应产生有机氯硅烷;在氢化铝锂、氢化硼锂存在条件下,三氯氢硅可被还原为硅烷。
容器中的液态三氯氢硅当容器受到强烈撞击时会着火。
可溶解于苯、醚等。
无水状态下三氯硅烷对铁和不锈钢不腐蚀,但是在有水分存在时腐蚀大部分金属。
二、三氯氢硅的用途用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅偶联剂中最基本的单体,同时也是制备多晶硅的主要原料。
将三氯硅烷与氯乙烯或氯丙烯进行合成反应,再经精馏提纯,得到乙烯基或丙烯基系列硅烷偶联剂产品。
硅烷偶联剂几乎可以与任何一种材料交联,包括热固性材料、热塑性材料、密封剂、橡胶、亲水性聚合物以及无机材料等,在太阳能电池、玻璃纤维、增强树脂、精密陶瓷纤维和光纤保护膜等方面扮演着重要的角色,并在这些行业中发挥着不可或缺的重要作用。
三、三氯氢硅生产工艺1、主要化学反应方程式为:Si + 3HCl = SiHCl3 + H2Si + 4HCl = SiHCl4 + 2H22、生产装置主要由氯化氢干燥、三氯氢硅合成、三氯氢硅提纯和分离工序组成。
三氯氢硅
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三氯氢硅—多晶硅产业链产品性质:三氯氢硅又称三氯硅烷、硅氯仿;分子式为SiHCl3。
多晶硅:当熔融的单质硅凝固时,硅原子以金刚石品格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则形成多晶硅。
多晶硅按纯度分类可以分为冶金级(金属硅)、太阳能级、电子级。
应用领域:三氯氢硅不仅是制造硅烷偶联剂和其它有机硅产品的重要中间体,还是制造多晶硅的主要原料。
硅烷偶联剂是一种重要的、高科技含量、高附加值的有机硅复合材料,通过硅烷偶联剂可使非交联树脂实现交联固化或改性,因此在玻璃纤维、铸造、轮胎橡胶等行业得到了日益广泛的应用。
生产三氯氢硅的主要副产品四氯化硅也是制造有机硅的主要原料,它的制成品有硅酸酯、有机硅油、高温绝缘漆、有机硅树脂、硅橡胶和耐热垫衬材料等。
高纯的四氯化硅还是制造高纯二氧化硅、无机硅化合物、石英纤维以及光导纤维的重要原料。
多晶硅产品的主要用途:(1)可做成太阳能电池,将辐射能转变为电能;(2)高纯的晶体硅是重要的半导体材料;(3)金属陶瓷、宇宙航行的重要材料;(4)光导纤维通信,最新的现代通信手段;(5)性能优异的硅有机化合物。
生产方法:三氯氢硅的生产大多采用沸腾氯化法,主要包括氯化氢合成、三氯氢硅合成、三氯氢硅精制等工序。
氯气和氢气在氯化氢合成炉内通过燃烧反应生成氯化氢,工艺与电石法聚氯乙烯生成中的氯化氢合成基本一样,氯化氢气体经空冷、水冷、深冷和酸雾捕集脱水后进人氯化氢缓冲罐,送三氯氢硅合成炉。
硅粉经过干燥后,加入到三氯氢硅合成炉,与氯化氢在300℃左右的高温下反应,生成三氯氢硅和四氯化硅。
生成的粗三氯氢硅气体经过旋风分离和除尘过滤后,进入列管冷凝器进行水冷和深冷,不凝气通过液封送人尾气洗涤塔,处理后达标排放,冷凝液蒸馏塔分离提纯,通常采用二塔连续提纯,一塔塔顶排低沸物,二塔塔底排高沸物四氯化硅,同时塔顶出三氯氢硅产品。
消耗定额:生产状况:从我国市场情况看,生产方面,近两年有十几个多晶硅大项目宣布动工或投产。
三氯氢硅——精选推荐
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三氯氢硅三氯氢硅1.别名·英⽂名2.⽤途多晶硅、单晶硅原料、外延成长、硅液、硅油、化学⽓相淀积、硅酮化合物制造、电⼦⽓。
3.制法(1)在⾼温下Si和HCl反应。
(2)⽤氢还原四氯化硅(采⽤含铝化合物的催化剂)。
(3)⽤氢、硅粉、四氯化硅反应。
理化性质分⼦量:135.43熔点(101.325kPa):-134℃;沸点(101.325kPa):31.8℃;液体密度(0℃):1350kg/m3;相对密度(⽓体,空⽓=1):4.7;蒸⽓压(-16.4℃):13.3kPa;(14.5℃):53.3kPa;燃点:-27.8℃;⾃燃点:104.4℃;闪点:-14℃;爆炸极限:6.9~70%;毒性级别:3;易燃性级别:4;易爆性级别:化学性质三氯硅烷在常温常压下为具有刺激性恶臭易流动易挥发的⽆⾊透明液体。
在空⽓中极易燃烧,在-18℃以下也有着⽕的危险,遇明⽕则强烈燃烧,燃烧时发出红⾊⽕焰和⽩⾊烟,⽣成SiO2、HCl和Cl2:SiHCl3+O2→SiO2+HCl+Cl2;三氯硅烷的蒸⽓能与空⽓形成浓度范围很宽的爆炸性混合⽓,受热时引起猛烈的爆炸。
它的热稳定性⽐⼆氯硅烷好,在900℃时分解产⽣氯化物有毒烟雾(HCl),还⽣成Cl2和Si。
遇潮⽓时发烟,与⽔激烈反应:2SiHCl3+3H2O—→ (HSiO)2O+6HCl;在碱液中分解放出氢⽓:SiHCl3+3NaOH+H2O—→Si (OH)4+3NaCl+H2;与氧化性物质接触时产⽣爆炸性反应。
与⼄炔、烃等碳氢化合物反应产⽣有机氯硅烷:SiHCl3+CH≡CH⼀→CH2CHSiCl3 、SiHCl3+CH2=CH2—→CH3C H2SiCl3 在氢化铝锂、氢化硼锂存在条件下,SiHCl3可被还原为硅烷。
容器中的液态SiHCl3当容器受到强烈撞击时会着⽕。
可溶解于苯、醚等。
⽆⽔状态下三氯硅烷对铁和不锈钢不腐蚀,但是在有⽔分存在时腐蚀⼤部分⾦属。
在⾼温条件下,三氯氢硅能被氢⽓还原⽣成硅SiHCl3 +H2==⾼温=Si +3HCl 毒性及急救措施⼩⿏-吸⼊LC50:1.5~2mg/L最⾼容许浓度:3mg/m3⽪肤接触:⽴即脱去被污染的⾐着,⽤流动清⽔彻底冲洗⾄少15分钟,就医。
三氯氢硅提纯工艺综述
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三氯氢硅提纯工艺综述摘要三氯氢硅是多晶硅生产的一种基础原料,有效的控制精制三氯氢硅的质量,是提高多晶硅产品质量的关键。
而影响精制三氯氢硅质量的因素又是方方面面的,因此深挖影响精制三氯氢硅质量的因素,规范生产操作及加强过程的管控,并在技术上不断创新、突破,是保证精制三氯氢硅质量,进一步保证多晶硅质量的必经之路。
本文结合改良西门子法生产多晶硅的实际工艺情况,介绍了三氯氢硅提纯的各种工艺方法,重点对三氯氢硅精馏提纯法作了详细介绍,并阐述了精馏提纯三氯氢硅过程中应注意的问题。
关键词三氯氢硅;提纯;精馏精制三氯氢硅在还原炉内与氢气发生化学气相沉积反应生成多晶硅。
可见,在整个改良西门子法生产工艺流程中,精馏提纯工艺是实现提高多晶硅产品质量的关键。
如何能够连续稳定的生产合格的精三氯氢硅产品,仍是国内大部分多晶硅企业的难点和方向。
由于三氯氢硅和四氯化硅沸点相差25℃,并且不形成共沸物,比较容易去除,关键是氯硅烷混合液中含有微量的金属杂质、硼磷化合物及含碳杂质等较难去除,如不去除将会带进多晶硅产品中降低多晶硅质量。
1 概述1.1 改良西门子法简介改良西门子法是一种化学方法,又称闭环式三氯氢硅氢还原法,是在传统西门子工艺的基础上增加了尾气回收和四氯化硅氢化工艺,实现了原材料的循环利用,具备节能降耗、生产成本低、对环境无污染等明显优势,是“综合素质”最优的多晶硅生产工艺,短时间内被其他工艺替代的可能性很小。
1.2 三氯氢硅的性质三氯氢硅又名三氯硅烷或硅仿,英文名Trichlorosilane 或Silicochloroform,工业上一般采用硅氯氢化(工业硅粉与HCl气体在高温合成炉内合成SiHCl3)法和四氯化硅氢还原(SiCl4与Si和H2在Cu作催化剂条件下反应生成SiHCl3)法制取,两种方法涉及的反应式(1)和(2)。
纯净的SiHCl3常温下为无色透明液体,沸点为31.8℃,闪点为-13.9℃,在空氣中的爆炸极限为6.9%~70%,属易燃易爆物品[1]。
TCS合成培训PPT
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氢含量 % 闪点℃ 在空气中的自燃点 ℃ 蒸发潜热 kcal/mol 比热 kcal/kg.℃
6.9~70
1.2 四氯化硅的性质
• 四氯化硅(SiCl4)是无色透明、无 极性、易挥发、有强烈刺激性的液体。水 解后生成二氧化硅和氯化氢。可与苯、乙 醚、氯仿及挥发油混合;与醇反应生成硅 酸酯。因其易水解,并生成氯化氢,故它 具有强腐蚀性。
7
8
9
图3-5反应温度随硅粉料层高度(用反应时间表示)和HCL线速度的变化 (反应条件:硅粉20-40Kg)
由图3-5可见,随料层高度降低,炉内剩余硅粉量到 8~9公斤以后,合成炉中、下部温差增大,随后温度急 剧下降。
产品中TCS含量(%)
80 70 60
Q-10线速度0.345m/s Q-8线速度0.284m/s Q-6线速度0.215m/s
H
QSi DSi * F
硅粉料层高度及氯化氢流量对三氯氢硅合成的影响
硅粉静止料层高度按下式计算:
QSi H DSi * F
式中:H-硅粉静止料层高度,m Dsi-硅粉堆积密度,kg/m³ Q —硅粉的重量, kg F―沸腾床合成炉截面积,㎡
Si
例如: 向合成炉( Φ 150×5600)中加入20kg硅粉,并用不同的氯化氢流量在固 定温度下,进行到物料反应完为止,考察一下硅粉料层高度及氯化氢流量变化的影 响:本例所用硅粉堆积密度1.2~1.3t/m³ ,沸腾床面积0.01766㎡,每公斤硅粉的静 止料层高度值为0.045m。
• 三氯氢硅合成反应是一个放热反应,所以 应将反应热及时导出,保持炉内反应温度 相对稳定,以提高产品质量和收率。 • 化学反应(主反应):
280℃~300℃ SiHCl3 H 2 50.0kcal/mol Si 3HCl
三氯氢硅特性
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三氯氢硅1、三氯氢硅又称三氯硅烷、硅氯仿2、分子式为SiHCl3用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅烷偶联剂中最基本的单体,也是生产半导体硅、单晶硅的原料,随着有机硅烷偶联剂工业的发展而出现供不应求,生产量越来越大。
3、三氯氢硅的理化特性及生产原理三氯氢硅是采用硅粉与氯化氢气体在流化床反应器中生成。
它是无色液体,易挥发,易潮解,在空气中发生反应产生白烟,遇水分解,溶于苯、醚等有机溶剂。
属一级遇湿易燃物品,易燃易爆,遇水反应产生氯化氢气体;它与氧化剂发生强烈反应,遇明火、高热时发生燃烧或爆炸。
4、其物理特性如下:比重:1.35;相对气体密度:4.7;沸点:31.8℃;饱和蒸气压(14.5℃)53.33Kpa;闪点:-13.9℃(开杯);自燃温度:175℃;爆炸下限:6.9%;爆炸上限:70%;溶解性:溶于苯、醚等有机溶剂;具有急性毒性。
5、三氯氢硅生产的火灾危险性分析三氯氢硅生产的原料都是不燃物质,但是其生产过程中的产物大都是易燃易爆物质,如氢气、三氯氢硅、氯气等。
1、电解食盐水的火灾危险性(1)电解时有强大的电流通过,如果电气的绝缘不良极易产生电火花,电解车间经常有氢气泄漏,遇到电火花或其它明火会发生燃烧或爆炸。
(2)如氢气与氯气相混,达到爆炸极限范围,遇光也会发生爆炸。
2、三氯氢硅合成的火灾危险性SiHCl3的合成是在280℃~300℃的温度下进行的,已经超过了SiHCl3的自燃温度175℃,在合成过程中如果SiHCl3发生泄漏,或者空气进入反应器,极易引起燃烧、爆炸或中毒事故。
并且SiHCl3有毒、遇水燃烧,给火灾扑救带来一定的困难。
3、三氯氢硅贮罐的火灾危险性SiHCl3的贮罐如果发生泄漏,其危险性远远大于工艺管道泄漏的危险性,因为其贮量大,一旦发生泄漏,如果不及时堵漏,影响会不断扩大。
贮罐区因为冷却用水的需要,经常有水存在,泄漏的SiHCl3遇水发生反应,产生有毒的HCl,向四周扩散,给抢险救援工作带来困难。
1合成中的物料及三氯氢硅的性质
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多晶硅,灰色金属光泽。
密度2.32~2.34。
熔点1410℃。
沸点2355℃。
溶于氢氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝酸和盐酸。
硬度介于锗和石英之间,室温下质脆,切割时易碎裂。
加热至800℃以上即有延性,1300℃时显出明显变形。
常温下不活泼,高温下与氧、氮、硫等反应。
高温熔融状态下,具有较大的化学活泼性,能与几乎任何材料作用。
具有半导体性质,是极为重要的优良半导体材料,但微量的杂质即可大大影响其导电性。
电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。
由干燥硅粉与干燥氯化氢气体在一定条件下氯化,再经冷凝、精馏、还原而得。
多晶硅可作拉制单晶硅的原料,多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。
例如,在力学性质、光学性质和热学性质的各向异性方面,远不如单晶硅明显;在电学性质方面,多晶硅晶体的导电性也远不如单晶硅显著,甚至于几乎没有导电性。
在化学活性方面,两者的差异极小。
多晶硅和单晶硅可从外观上加以区别,但真正的鉴别须通过分析测定晶体的晶面方向、导电类型和电阻率等。
多晶硅是生产单晶硅的直接原料,是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料。
被称为“微电子大厦的基石”。
合成中的物料及三氯氢硅的性质一、工业硅(粗硅)工业硅的制备方法很多,通常是用还原剂将SiO2还原成单质硅,还原剂有碳、镁、铝等。
用镁或铝还原的SiO2如果还原剂的纯度较高的话,那么所得的硅可达3~4个“9”。
在一般的工业生产中常常采用在电炉中用焦炭还原SiO2来制取单质硅,即把碳电极插入焦炭(或木炭)和石英组成的炉料中,温度为1600℃~1800℃还原出硅和CO,反应如下:SiO2+2C→(1600℃~1800℃)Si+CO在产品中存在杂质有Fe、C、B、P等,其中以铁含量为最多,因此又称工业硅为硅铁。
用此法还原制得的硅铁,纯度约为95~99%可以直接用来氯化制备卤化物,但是为了提高生产纯度需要进一步提纯用酸浸法。
三氯氢硅化合价

三氯氢硅化合价三氯氢硅是一种无机化合物,其化学式为HCl3Si。
它是由硅和氯气在高温下反应而成的。
三氯氢硅在化学上具有多种用途,包括用作硅橡胶和硅油的原料,以及在制造半导体和电子器件中使用。
本文将介绍三氯氢硅的化学性质、物理性质、用途和安全性等方面的知识。
一、化学性质三氯氢硅是一种无色、易挥发的液体,具有刺激性气味。
它是一种强酸性物质,可以和水反应,生成硅酸和盐酸。
在空气中,三氯氢硅会逐渐水解,生成氯化氢和硅酸。
三氯氢硅还可以和多种有机物反应,生成氯硅烷,这是一类重要的有机硅化合物。
二、物理性质三氯氢硅的分子式为HCl3Si,分子量为135.41。
它的沸点为31.8℃,密度为1.46 g/cm。
三氯氢硅在常温下是一种易挥发的液体,可以溶于多种有机溶剂,如乙醇、甲苯等。
它的蒸汽密度比空气重,容易聚集在低处形成易燃的气体混合物。
三、用途三氯氢硅是一种重要的化工原料,广泛应用于硅橡胶、硅油、半导体和电子器件等领域。
在硅橡胶和硅油的生产中,三氯氢硅是最常用的原料之一。
硅橡胶是一种高弹性、高耐热的材料,广泛应用于汽车、建筑和医疗设备等领域。
硅油是一种具有润滑、隔热、防腐等多种性能的油类,被广泛应用于工业和医疗领域。
在半导体和电子器件的制造中,三氯氢硅被用作制造硅片的原料。
硅片是半导体器件的基础材料,具有重要的应用价值。
三氯氢硅可以通过化学气相沉积(CVD)技术制备高纯度的硅片,这种方法具有高效、可控性好等优点。
四、安全性三氯氢硅是一种强酸性物质,具有刺激性气味,对人体有一定的危害。
它的蒸汽密度比空气重,容易聚集在低处形成易燃的气体混合物,具有一定的爆炸危险。
因此,在使用三氯氢硅时应注意安全措施,如佩戴防护眼镜、呼吸器等装备,保持通风良好等。
总之,三氯氢硅是一种重要的无机化合物,具有多种用途,包括硅橡胶、硅油、半导体和电子器件等领域。
在使用时应注意安全措施,防止对人体和环境造成损害。
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三氯氢硅生产性质Company Document number : WTUT-WT88Y-W8BBGB-BWYTT-19998—・氯气1氯气的理化性质(1)物理性质:氯气在常温常压下为黄绿色有刺激性气味的有毒气体。
密度为,是空气的倍。
易溶于碱溶液、二硫化碳和四氯化碳,难溶于饱和食盐水。
在常温下,氯气被加压到~或在常压下冷却到-3H4crc时就能液化为黄绿色透明液体。
液氯的密度为,熔点-i02r.沸点(2)化学性质:氯气的化学性质很活泼,是一种活泼的非金属。
2液氯的用途用于农药、塑料、增塑剂、合成橡胶、合成纤维、消毒漂白、炼镁和稀有金属等行业。
3氯气泄漏爆炸的危害液氯为第二类危险化学品,人体吸入浓度为m3的氯气时,就会死亡。
氯气爆炸的危害包括两部分:爆炸本身造成的危害及泄漏的氯气造成的二次危害。
4化学性爆炸氯气中含有XC13. H2,在一定浓度、条件下可引起爆炸;氯气与有机物、氨及金属粉末反应易引起爆炸。
0腐蚀氯气微溶于水,在温度°C时溶解度为理,部分氯与水反应生成HC1和HC10,故湿氯具有强氧化性。
当氯中含水量小于%时,碳钢的腐蚀速率小于6 亦即干燥氯对碳钢基本上不腐蚀。
当氯中含水量大于%时,不仅会腐蚀碳钢,而且还会腐蚀不锈钢,氯会破坏不锈钢表面的钝化膜而产生孔蚀或应力腐蚀破裂。
在一定范围内,随着氯气含水量增大,对碳钢、不锈钢的腐蚀速率也随着增大。
液氯产品含有~%的水量,会对金属贮槽产生腐蚀,长期使用能引起局部器壁变薄、强度下降,可导致贮槽开裂发生液氯蒸气爆炸。
—■鑫气1、氢是无色、无嗅的可燃气体。
它是已知最轻的气体。
其沸点为一c。
2、化学性质在环境温度下,虽然氢相对而言不是十分活泼,但在高温下,它可以和几乎所有别的元素发生反应。
通常•氢和氧在高温下的反应异常激烈升高温度,氢可以还原金属氧化物。
三・氯化氢1氯化氢的理化性质(1)物理性质:氯化氢在常温常压下为具有刺激性臭味的无色有毒气体。
盐酸为氯化氢的水溶液,是无色或微黄色的液体。
空气中不燃烧,热稳定,到约 1500C。
才分解。
与氟激烈反应,与许多金属反应生成氯化物和氢,与氨激烈反应生成氯化钱白烟,与乙烯混合形成爆炸性气体。
氯化氢与水不反应但易溶于水,空气中常以盐酸烟雾的形式存在。
浓盐酸因氯化氢蒸气而在空气中发烟。
易溶于乙醇和醯,也能溶于其它多种有机物。
(2)化学性质:氯气的化学性质很活泼,是一种活泼的非金属。
2氯化氢的用途电池、药品、染料、化肥、玻璃加工、金属清洗、有机合成、腐蚀照像、陶器制造、食品处理、无机氯化物制造、橡胶、催化剂、电子气、标准气、外延、扩散、氧化、蚀刻、化学气相淀积、发光二极管。
3氯化氢的制法(1)食盐电解。
NaCl+H20__NaOH-HCl(2)氢气和氯气直接合成。
(3)在加热的情况下浓硫酸与食盐反应。
2NdCl+H2SO——2HCl+Na2SO4 4氯化氢的毒性氯化氢局部作用引起的症状有结膜炎、角膜坏死、损伤皮肤和粘膜,导致具有剧烈疼痛感的烧伤。
吸入后引起鼻炎、鼻中隔穿孔、牙糜烂、喉炎、支气管炎、肺炎、导致头痛和心悸、有窒息感。
咽下时,刺激口腔、喉、食管及胃,引起流涎、恶心、呕吐、肠穿孔、寒战及发热、不安、休克、肾炎。
长期接触低浓度氯化氢可使皮肤干燥并变土色,也可引起咳嗽、头痛、失眠、呼吸困难、心悸亢进、胃剧痛等情况。
而慢性中毒者的最明显症状是牙齿表面变得粗糙、特别是门牙产生斑点。
吸人氯化氢的患者应立即转移至通风良好的无污染区安置休息并保持温暖舒适,并速求医诊治。
眼部受刺激时马上用水充分冲洗后就医诊治。
皮肤受刺激时速用水冲洗,再用肥皂洗净后涂氧化镁甘油软膏,或者用大量水冲洗后用5%碳酸氢钠水溶液洗涤中和,然后再用净水冲洗。
四.硅1硅粉的理化性质相对分子量:密度:熔点(7) 1410沸点(G) 2355性状:有无定形和晶体两种同素异形体,灰色或黑色。
溶解情况:不溶于水、硝酸和盐酸,溶于氢氟酸和碱液。
2用途用于制合金、有机硅化合物和四氯化硅等,是一种极重要的半导体材料。
3其他原子序数14,原子量。
化合价+4。
氧化物离解能(Do) : (eV)元素电离能(Ei) : (eV)主要吸收线及其主要参数:五・三氯氢硅1三氯氢硅的理化性质及生产原理三氯氢硅又称三氯硅烷、硅氯仿(英文名称:trichlorosilane或silicochlorofonn),分子式为SiHCI3,用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅烷偶联剂中最基本的单体,也是生产半导体硅、单晶硅的原料,随着有机硅烷偶联剂工业的发展而出现供不应求,生产量越来越大。
三氯氢硅是采用硅粉与氯化氢气体在流化床反应器中生成。
它是无色液体,易挥发,易潮解,在空气中发生反应产生白烟,遇水分解,溶于苯、W 等有机溶剂。
厲一级遇湿易燃物品,易燃易爆,遇水反应产生氯化氢气体;它与氧化剂发生强烈反应,遇明火、高热时发生燃烧或爆炸。
其物理特性如下:比重:I . 35 ;相对气体密度:4 • 7 ;沸点:31 • 8C。
;饱和蒸气压(14 . 5C。
)53 . 33Kpa ;闪点;-13 . 9C。
(开杯);自燃温度:175C。
;爆炸下限:6 , 9% ;爆炸上限:70% ;溶解性:溶于苯、醸等有机溶剂;具有急性番性。
2三氯氢硅生产的火灾危险性分析三氯氢硅生产的原料都是不燃物质,但是其生产过程中的产物大都是易燃易爆物质,如氢气.三氯氢硅、氯气等。
A.电解食盐水的火灾危险性(1)电解时有强大的电流通过,如果电气的绝缘不良极易产生电火花,电解车间经常有氢气泄漏,遇到电火花或其它明火会发生燃烧或爆炸。
(2)如氢气与氯气相混,达到爆炸极限范围,遇光也会发生爆炸。
B.三氯氢硅合成的火灾危险性SiHCb的合成约535七温度下进行的,已经超过了 SiHCb的自燃温度 175C。
,在合成过程中如果SiHCls发生泄滴,或者空气进入反应器,极易引起燃烧、爆炸或中毒事故。
并且SiHCls有毎、遇水燃烧,给火灾扑救带来一定的困难。
冷氢化主反应:3SiC14+Si+2H2i4SiHC13・Q (反应温度约535 压力约)副反应:Si + 4HClf SiC14 + 2H2+Q (反应温度大于450 ^C)C.三氯氢硅贮罐的火灾危险性SiHCb的贮罐如果发生泄漏,其危险性远远大于工艺管道泄漏的危险性, 因为其贮量大,一旦发生泄漏,如果不及时堵漏,影响会不断扩大。
贮罐区因为冷却用水的需要,经常有水存在,泄漏的SiHCls遇水发生反应,产生有希的HCX向四周扩散,给抢险救援工作带来困难。
3防火防爆对策在三氯氢硅生产的各个工序中,为防止火灾.中毒,要严格执行各项消防安全制度,严格控制工艺指标,严格操作规程。
加强对设备管道的维护保养, 严防跑.is 滴.漏。
具体预防措施如下:Is火源管理。
在生产中进行检修时使用的工具应该是不产生火花的工具, 严禁用铁器敲打设备或管道,工作人员应穿棉制品工作服。
生产和贮罐区禁止明火,生产中动火要严格执行有关安全管理制度。
2.防止跑.is滴、漏。
生产过程中产生的大都是易燃易爆有毒物质,生产设备、工艺管道和贮罐如果发生泄漏极易酿成火灾、爆炸和中毒事故。
因此,日常工作中要做好安全检查,不留死角,设备要定期检修,发现问题及时采取补救措施,修复存在跑、is滴、漏的部位。
4、防火防泄漏措施。
三氯氢硅的沸点较低,需在低温下储存,三氯氢硅的贮罐设置低温保护装置和降温措施。
由于三氯氢硅有潜在的燃烧爆炸危险,所以它的贮罐应与生产装置要有一定的防火间距,并且要设防火堤,降温水的排放管道经过防火堤处要设闸阀。
贮罐应设静电接地装置和避雷装置。
贮罐内的气相要与氮气系统相连进行保护,贮罐的气相与外部连通的平衡管(放空管)应与尾气回收系统相连,不能直接排空,并应设止回阀和阻火器。
贮罐区应设一个备用罐,紧魚情况下应将泄漏的贮罐内的物料转移至备用罐,防止大量泄漏。
4泄漏处理和火灾扑救生产和储存中如果发生三氯氢硅泄漏,应根据泄漏量的大小划出一定的警戒范围,禁止无关人员和车辆进入警戒区,切断警戒区内的所有火源,迅速撤离泄漏污染区内的人员至安全地带。
如果是贮罐发生泄漏,又不能及时排除泄漏,就应该将发生泄漏的贮罐内的三氯氢硅用氮气压入备用罐内。
如果是生产中的设备和管道发生泄漏,应立即停止生产,并迅速关闭有关阀门切断物料输送。
泄漏地带有水源时,应用干砂土围成隔离带,将泄漏的三氯氢硅与水隔离开来。
抢险人员进入危险区域时应佩戴自给式呼吸器或防$面具。
应先查明泄漏部位的泄漏状况。
由于贮存三氯氢硅的容器为常压容器,应针对不同的泄漏部位采取不同的堵漏措施,切断泄漏源,用砂土、水泥吸收残留液。
三氯氢硅泄漏后发生燃烧时,应采用干砂、二氧化碳、干粉、水泥灭火, 禁止直接用水和泡沬扑救。
六・四氯化硅SiC141四氯化硅的理化性质及生产原理四氯化硅、氯化硅;Silicontetrachloride^ Tetrachlorosilane .四氯化硅在常温常压下为具有窒息性刺激臭的无色透明有毒液体。
能放出有毒蒸气。
热稳定。
空气中不燃烧,大于400C。
时能与空气中的氧反应生成Si02。
在潮湿空气中水解时生成蒸气的固态粒子(XSiO2YH2O).可发烟。
遇水激烈反应生成硅酸和盐酸。
同许多金属氧化物反应生成氯化物,与氨作用生成四氨基硅并产生烟雾。
与格利雅试剂反应生成有机氯硅烷。
与醇类反应生成硅酸酯。
具有腐蚀性,能腐蚀铝和黄铜。
能与苯、三氯甲烷混溶,能溶于氯仿、讎等有机溶剂。
用途:有机合成、制造烟幕、战场上用刺激性毒气、单晶硅原料、光导纤维、外延、蚀刻、化学气相淀积。
理化性质:分子量: 熔点:-70C。
沸点:59C°2毒性在四氯化硅的烟雾中含有其水解产物盐酸。
所以四氯化硅的莓作用主要表现在其强烈的刺激性和腐蚀性。
它会刺激并腐蚀皮肤、眼睛及呼吸道粘膜,可引起流泪、咳嗽、结膜炎、上呼吸道炎症,气管、支气管及肺的炎症。
能腐蚀破坏细胞。
3安全防护:液体可用玻璃瓶盛装,但必须外加箱皮保护,轻装轻卸严防碰损。
雨天不宜运输。
容器要存放在阴凉干燥通风良好之处,要防潮,远离火种与热源,要与食品添加剂、碱类物品隔开。
泄漏时,在地面洒上苏打石灰后用大量水冲洗,洗水经稀释后排入废水系统。
也可直接用水或苛性钾等碱性溶液冲洗。
灭火时可用干砂、干石粉,不可用水。
可以使用碳钢、低合金钢、不锈钢、镖、镖钢、铜镖合金,不能用铝、铝合金和黄铜。
可以使用聚四氟乙烯、聚乙烯、聚三氟氯化乙烯聚合体、玻璃,不能用尼龙。
1•一氯硅烷在常温常压下为具有刺激性窒息气味和腐蚀性的无色有«气体。
空气中易燃,44°C以上能自燃,燃烧氧化后生成氯化氢和氧化硅。
加热至WO°C以上时会自行分解而生成氯化氢、氯、氢和不定性硅。