vasp计算
VASP计算-力学常数1

VASP 计算----------力学常数摘要本文主要介绍了用VASP 对弹性模量、剪切模量、体积模量以及泊松比等力学常数计算,首先介绍了计算所需的相关基础知识,然后详细的阐述了理论的推导过程和对结果的处理方法,并介绍了VASP 所需文件和生成的文件,最后提供了计算的一个例子和其程序流程图。
目录一、 基础知识 .................................................................................................................... 1 二、 VASP 计算时解析推导 .............................................................................................. 3 三、 VASP 计算 .................................................................................................................. 9 四、 有待继续研究的地方 .............................................................................................. 10 五、 参考文献 .................................................................................................................. 10 六、 附录(一)程序流程图 .......................................................................................... 11 七、附录(二)------一个例子,TaN (12)一、 基础知识[1][2]这部分主要介绍了进行VASP 计算时所需要的概念的解释,其主要部分来自弹性力学,详细的介绍可阅读参考文献。
vasp计算参数设置

软件主要功能:采用周期性边界条件(或超原胞模型)处理原子、分子、团簇、纳米线(或管)、薄膜、晶体、准晶和无定性材料,以及表面体系和固体l 计算材料的结构参数(键长、键角、晶格常数、原子位置等)和构型l 计算材料的状态方程和力学性质(体弹性模量和弹性常数)l 计算材料的电子结构(能级、电荷密度分布、能带、电子态密度和ELF)l 计算材料的光学性质l 计算材料的磁学性质l 计算材料的晶格动力学性质(声子谱等)l 表面体系的模拟(重构、表面态和STM模拟)l 从头分子动力学模拟l 计算材料的激发态(GW准粒子修正)计算主要的四个参数文件:INCAR ,POSCAR,POTCAR ,KPOINTS,下面简要介绍,详细权威的请参照手册INCAR文件:该文件控制VASP进行何种性质的计算,并设置了计算方法中一些重要的参数,这些参数主要包括以下几类:l 对所计算的体系进行注释:SYSTEMl 定义如何输入或构造初始的电荷密度和波函数:ISTART,ICHARG,INIWA Vl 定义电子的优化–平面波切断动能和缀加电荷时的切断值:ENCUT,ENAUG–电子部分优化的方法:ALGO,IALGO,LDIAG–电荷密度混合的方法:IMIX,AMIX,AMIN,BMIX,AMIX_MAG,BMIX_MAG,WC,INIMIX,MIXPRE,MAXMIX–自洽迭代步数和收敛标准:NELM,NELMIN,NELMDL,EDIFFl 定义离子或原子的优化–原子位置优化的方法、移动的步长和步数:IBRION,NFREE,POTIM,NSW–分子动力学相关参数:SMASS,TEBEG,TEEND,POMASS,NBLOCK,KBLOCK,PSTRESS–离子弛豫收敛标准:EDIFFGl 定义态密度积分的方法和参数–smearing方法和参数:ISMEAR,SIGMA–计算态密度时能量范围和点数:EMIN,EMAX,NEDOS–计算分波态密度的参数:RWIGS,LORBITl 其它–计算精度控制:PREC–磁性计算:ISPIN,MAGMOM,NUPDOWN–交换关联函数:GGA,VOSKOWN–计算ELF和总的局域势:LELF,LVTOT–结构优化参数:ISIF–等等。
VASP几个计算实例

用VASP计算H原子的能量氢原子的能量为。
在这一节中,我们用VASP计算H原子的能量。
对于原子计算,我们可以采用如下的INCAR文件PREC=ACCURATENELMDL = 5 make five delays till charge mixingISMEAR = 0; SIGMA=0.05 use smearing method采用如下的KPOINTS文件。
由于增加K点的数目只能改进描述原子间的相互作用,而在单原子计算中并不需要。
所以我们只需要一个K点。
Monkhorst Pack 0 Monkhorst Pack1 1 10 0 0采用如下的POSCAR文件atom 115.00000 .00000 .00000.00000 15.00000 .00000.00000 .00000 15.000001cart0 0 0采用标准的H的POTCAR得到结果如下:k-point 1 : 0.0000 0.0000 0.0000band No. band energies occupation1 -6.3145 1.000002 -0.0527 0.000003 0.4829 0.000004 0.4829 0.00000我们可以看到,电子的能级不为。
Free energy of the ion-electron system (eV)---------------------------------------------------alpha Z PSCENC = 0.00060791Ewald energy TEWEN = -1.36188267-1/2 Hartree DENC = -6.27429270-V(xc)+E(xc) XCENC = 1.90099128PAW double counting = 0.00000000 0.00000000entropy T*S EENTRO = -0.02820948eigenvalues EBANDS = -6.31447362atomic energy EATOM = 12.04670449---------------------------------------------------free energy TOTEN = -0.03055478 eVenergy without entropy = -0.00234530 energy(sigma->0) = -0.01645004我们可以看到也不等于。
vasp计算
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vasp计算3, Xming用gnuplot是gnu文件里面要加pause -14,INCAR 字符太长,vasp_lib里面要改drdatab.F文件,255改大,重新编译5 声子谱:phononp –d –dim=”3 3 1”6 vasp编译gama版本的:在第二个CPP加上-DwNGZhalf就行。
7 ISMEAR=-5,电荷密度和DOS之类的电子结构和总能准,但是算力不准,所以对于算声子谱,最好不用-5。
对于金属,声子谱一般用DFPT会更准。
对于半导体和绝缘体,不能用ISEMAR>0的,只能是-5或者0.对于金属,ISMEAR=1,sigma=0.28 DFPT不能用NPAR phonopy -d --dim="2 2 2" -c POSCAR-unitcellmv SPOSCAR POSCAR静态计算:IBRION=8,IALGO=38对于金属ISMEAR=1,sigma=0.2phonopy --fc vasprun.xmlband.conf里面要添加:FORCE_CONSTANTS = READphonopy -p -c POSCAR-unitcell band.conf一般来说,对于金属,或者窄能隙半导体,如果用位移法,则需要很大的胞才能算准,但是用DFPT则可以小包算准。
对于金属,PBE 可能更好点。
9, 如果体系较大,EDIFF达到停止计算,很可能是K点取太多,内存不够。
10, bandplot --gnuplot band.yaml >> phon.dat,用origin做声子谱11,画CBM和VBM的partial charge,读入静态的WA VECAR,进行处理,此时要设置INCAR,LPARD = .TRUE. 开关IBAND = 480 481 VBM CBMNBMOD = 1 默认KPUSE = 1 第几个K点LSEPB = .TRUE. vasp查LSEPK = .TRUE.12,算极化:铁电相和顺电相都要算,每一个相算三次。
VASP计算弹性常数

VASP计算弹性常数VASP (Vienna Ab-initio Simulation Package) 是一种常用的第一性原理计算软件包,用于计算物质电子结构和能带结构。
除了电子结构计算,VASP还可以用于计算材料的弹性常数。
在本文中,我们将讨论如何使用VASP计算材料的弹性常数,并了解计算结果的解释。
弹性常数是描述材料变形行为的物理量。
材料在受力作用下产生变形,而弹性常数则定量描述了材料对应力的响应。
弹性常数包括弹性模量、剪切模量、泊松比等。
通过计算这些弹性常数,我们可以了解材料的机械性能和应力应变行为。
首先,我们需要确定计算材料的晶体结构。
这包括晶胞参数、原子位置和晶胞对称性。
在VASP中,我们使用POSCAR文件来描述晶体结构的具体细节。
POSCAR文件包括晶体的晶胞参数、原子种类和位置等信息。
其次,我们需要生成一系列的应变状态。
常见的应变状态包括体积应变、晶格常数应变和剪切应变。
在VASP中,我们可以使用ISIF标志来控制应变类型。
例如,ISIF=3可以用于计算体积应变,ISIF=2可以用于计算剪切应变。
然后,我们需要进行一系列的弛豫计算。
在每个应变状态下,我们需要优化结构以达到最低的总能量。
这可以通过设置IBRION=2和ISIF=3来实现。
这些计算将给出最优的应变状态下的应力张量。
最后,我们可以使用应力和应变的关系来计算材料的弹性常数。
对于单晶材料,弹性常数可以通过应力张量的分量和应变张量的分量之间的线性关系来得到。
C_ij = (stress_i - stress_0_i) / strain_j其中,C_ij是第i个应力分量(i = 1,2,...,6)和第j个应变分量(j = 1,2,...,6)之间的弹性常数,stress_i是在第i个应变分量下计算得到的应力,stress_0_i是在未应变状态下计算得到的应力,strain_j是第j个应变分量。
使用以上计算方法,我们可以得到材料的弹性常数。
vasp 计算知识

vasp 输入文件中的ISMEAR参数指的是波函数占据数目,但是这个到底是什么意思?可以浅显一点讲吗
就是说电子在费米面附近占据数从0突变到1,这是个deta函数,为了计算方便,用一个平滑点的函数在费米面附近代替这个deta函数,这样计算就不容易振荡,易于收敛。ismear就是可以采用这种方法:将SIGMA在不同大小的kmesh下进行静态计算测试,对每一个SIGMA值求“entropy T*S”值,可以得出一系列(一般取两条)不同kmesh下SIGMA与“entropy T*S”对应的曲线,将这些曲线比较,取不同kmesh曲线的“entropy T*S”差值最小的点对应的SIGMA值即可。具体参数设置可以参看侯柱峰编写的《VASP软件包使用入门指南》中“§5.7节ISMEAR和SIGMA”。
SIGMA的值是展宽,决定了电子的占有数,当它取不同值时,对金属体系的费米能处的电子占有数变化很大。一般地对于半导体和绝缘体来说SIGMA=0.05就够小了,金属的默认取值0.2。如果计算的体系是金属,在静态计算物理量时,则用ISMEAR=-5,这时不必设置SIGMA(此时SIGMA的取值对结果没有影响)。如果对体系进行驰豫,先用ISMAR=1或2(金属体系)或0(半导体或绝缘体)优化出SIGMA,得到优化的结构后,再进行静态计算(ISMEAER=0用的比较多,手册上的说法不管什么计算取ISMEAR=0然后找一个合适的SIGMA就可以)。另外,SIGMA的值依赖于kmesh的大小,当kmesh发生改变时SIGMA的值也需要重新优化取值。
最好是每做一个计算,都要先做一个SIGMA的检测以选取合适的SIGMA值,不过在有了可靠的经验以后就不用每次都做了。绝缘体SIGMA可以取得小一点,金属的不要取的太小否则不容易收敛。在收敛速度可以接受的情况下可以适当减小SIGMA。
如何用vasp计算铁磁,反铁磁,顺磁
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如何用vasp计算铁磁,反铁磁,顺磁如何用V ASP计算铁磁、反铁磁和顺磁顺磁,意味进行non-spin polarized的计算,也就是ISPIN=1。
铁磁,意味进行spin-polarized的计算,ISPIN=2,而且每个磁性原子的初始磁矩设置为一样的值,也就是磁性原子的MAGMOM设置为一样的值。
对非磁性原子也可以设置成一样的非零值(与磁性原子的一样)或零,最后收敛的结果,非磁性原子的local磁矩很小,快接近0,很小的情况,很可能意味着真的是非磁性原子也会被极化而出现很小的local磁矩。
反铁磁,也意味着要进行spin-polarized的计算,ISPIN=2,这是需采用反铁磁的磁胞来进行计算,意味着此时计算所采用的晶胞不再是铁磁计算时的最小原胞。
比如对铁晶体的铁磁状态,你可以采用bcc的原胞来计算,但是在进行反铁磁的Fe计算,这是你需要采用sc 的结构来计算,计算的晶胞中包括两个原子,你要设置一个原子的MAGMOM为正的,另一个原子的MAGMOM设置为负,但是它们的绝对值一样。
因此在进行反铁磁的计算时,应该确定好反铁磁的磁胞,以及磁序,要判断哪种磁序和磁胞是最可能的反铁磁状态,那只能是先做好各种可能的排列组合,然后分别计算这些可能组合的情况,最后比较它们的总能,总能最低的就是可能的磁序。
同样也可以与它们同铁磁或顺磁的进行比较。
了解到该材料究竟是铁磁的、还是顺磁或反铁磁的。
亚铁磁,也意味要进行spin-polarized的计算,ISPIN=2,与反铁磁的计算类似,不同的是原子正负磁矩的绝对值不是样大。
非共线的磁性,那需采用专门的non-collinear的来进行计算,除了要设置ISPIN,MAGMOM的设置还需要指定每个原子在x,y,z方向上的大小。
这种情况会复杂一些。
举个例子来说,对于Mn-Cu(001)c(2x2)这种体系,原胞里面有2个Mn原子,那么你直接让两个Mn原子的MAGMOM的绝对值一样,符号相反就可以了,再加上ISPIN=2。
VASP计算DOS和能带

VASP计算DOS和能带个人总结一:VASP计算DOS和能带1.计算DOS①POSCAR②POTCAR③KPOINTS(建议以Gamma为中心取点,通常K×a≈45即可)④INCAR(越简洁越好)第一步:结构优化SYSTEM=**ISTART=0ENCUT=500(最好对其进行测试)EDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01NSW=100ISIF=2IBRION=2【优化后计算DOS可以一步完成,也可以分为两步来完成,主要是计算量涉及到计算时间的差别】第二步:静态自洽(此时可稍微降低K点数,用第一步优化得到的CONTCAR作为POSCAR进行计算)SYSTEM=**ISTART=0PREC=AccurateEDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01ENCUT=500ISMEAR=-5LCHARG=.TRUE.注意:此时得到的E-feimi是准确的,需要记下(grep ‘E-fermi’OUTCAR)第三步:非自洽计算(采用高密度K点)SYSTEM=**ISTART=1ICHARG=11LMAXMIX=2/4/6(VASP官网原话:If ICHARG is set to 11 or 12, it is strongly recommened to set LMAXMIX to twice the maximum l-quantum number in the pseudpotentials. Thus for s and p elements LMAXMIX should be set to 2, for d elements LMAXMIX should be set to 4, and for f elements LMAXMIX should be set to 6)PREC=AccurateEDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01ENCUT=500(截断能最好与上一步保持一致)ISMEAR=-5LORBIT=10/11(推荐11,可以得到能级分裂的数据)优化后计算DOS一步完成:(采用高密度K点)SYSTEM=**ISTART=1PREC=AccurateEDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01ENCUT=500ISMEAR=-5LORBIT=10/112.计算能带①POSCAR②POTCAR③KPOINTS:使用Line-mode格式,给出高对称性K点之间的分割点数,分割越密,路径积分就越准确。
如何用VASP计算晶格常数

如何用VASP计算晶格常数VASP是一款常用的第一性原理计算软件,可用于计算各种物理和化学性质,包括晶格常数。
本文将通过详细的步骤指导如何使用VASP计算晶格常数。
1.准备工作:在使用VASP计算晶格常数之前,需要准备以下文件:-INCAR文件:包含所有计算参数的输入文件。
- POSCAR文件:包含体系的原子坐标和晶格常数的输入文件。
可以使用外部软件生成,例如Materials Studio、VESTA等。
-POTCAR文件:包含原子势能信息的文件。
-KPOINTS文件:用于定义k点网格,用于计算能带结构。
可以使用自动生成工具进行生成。
2.设置INCAR文件:打开INCAR文件,设置以下参数:-ENCUT:截断能。
一种势能截断参数,对计算结果影响较大。
可通过多次计算逐渐增大其值,直到结果收敛为止。
- ISMEAR:用于定义电子占据数的方法。
常用的选项有Gaussian和Methfessel-Paxton。
- SIGMA:在使用ISMEAR选项为Gaussian时,用于定义宽度的参数。
一般选择小于0.2 eV。
- PREC:定义计算的精度级别。
常用的设置有Low、Normal和High。
-NSW:定义离子进行多少步的迭代。
-ISTART和ICHARG:对于初始的计算,将其设置为0。
-EDIFF:收敛判据。
设置一个合适的值,使得计算结果收敛。
3.设置POSCAR文件:打开POSCAR文件,设置晶体的结构参数。
可以手动输入原子的坐标,或者复制其他软件生成的文件内容。
4.设置POTCAR文件:在VASP的安装目录中,找到POTCAR文件夹,并将需要使用的原子势能文件复制到当前工作目录中。
注意保持POTCAR文件的顺序和POSCAR文件中原子的顺序一致。
5.设置KPOINTS文件:打开KPOINTS文件,在其中设置k点的信息。
k点的密度对计算结果的精度有一定影响,可以根据具体需求进行调整。
在这里,我们将只计算晶格常数,因此可以选择较低的k点密度。
VASP计算方法

V ASP计算方法总结1 静态计算计算方法:IBRION = -1NSW = 02 结构优化计算方法:①只进行离子弛豫IBRION = 2ISIF = 2②块体晶格参数优化IBRION = 2ISIF = 3③二维材料晶格参数优化3 表面能计算方法:1) 块体晶体晶格参数优化;静态计算;得能量Eb 2) 优化的块体切slab ;静态计算;得Es1 3) 将slab 模型离子弛豫;静态计算;得Es24) γ = (Es1 – N *(Eb / n ))/ 2A + (Es2 – Es1)/ A 计算步骤:4 功函数计算方法:1) 块体晶格参数优化;切slab 模型;离子弛豫 2) 修改INCAR (LVHAR = .TRUE.);静态计算 3) W = Ve - EF表面能1strustatic2slab 3optislabstatic计算步骤:5 吸附能计算方法:1) 块体和二维材料(D)晶格参数优化 2) 块体切slab ;构建slab 吸附模型3) slab 吸附模型去slab ;二维材料离子弛豫;静态计算 4) slab 吸附模型去二维材料;slab 离子弛豫;静态计算 5) slab 吸附模型离子弛豫;静态计算 6) E abs = E metal-D – E metal – E D 计算步骤:表面能1strustatic2slab3optislabstaticworkfunction吸附能1strustatic 2slab static 3slabDstatic6 差分电荷密度计算方法: 1) 完成吸附能计算2) Slab 吸附模型静态计算时得ρab3) Slab 吸附模型CONTCAR 去slab ;二维材料静态计算得ρa 4) Slab 吸附模型CONTCAR 去二维材料;slab 静态计算得ρb 5) △ρ = ρab – ρa – ρb 计算步骤:7 DOS计算方法: 1) 模型优化完成2) 自洽计算得到CHGCAR (DOS 文件夹下) ISMEAR = -5 LCHARG = .TRUE.吸附能1strustatic 2slabstatic3slabD staticDchargeslabcharge小密度k点(总k点>4)3)非自洽计算得到vasprun.xml(PDOS文件夹下)ISMEAR = -5ISTART = 1ICHARG = 11LORBIT = 11NEDOS = 1000大密度k点计算步骤:DOS PDOS8 能带计算计算方法:1)模型优化完成2)自洽计算得到CHGCAR(同上)ISMEAR = -5LCHARG = .TRUE.小密度k点(总k点>4)3)非自洽计算得到vasprun.xml(BAND文件下)a)INCARISMEAR ≠-5ISTART = 1ICHARG = 11LORBIT = 11NEDOS = 1000大密度k点NBANDS可适当增大b)KPOINTS写syml文件(用pand.x时,E-fermi得重写);gk.x一下计算步骤:DOS PDOS BAND。
VASP计算方法
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VASP计算方法VASP是维也纳第一原理模拟计算软件的缩写。
它是一种基于密度泛函理论的材料模拟计算方法,广泛应用于化学、物理、材料科学等领域。
VASP使用基于平面波展开(plane wave basis)的赝势(pseudopotentials)方法来描述材料中的电子结构。
其核心思想是将电子波函数以平面波的形式展开,并采用赝势来模拟电子的相互作用。
这种方法能够高效地计算含有数百个原子的系统的电子结构和相关性质。
在VASP中,首先需要确定材料的晶体结构。
用户可以通过输入晶体结构的空间群信息和原子坐标来定义体系的几何信息,还可以指定晶胞的尺寸和形状。
然后,通过选择适当的波函数和赝势,可以定义计算模型并进行模拟计算。
VASP计算可以分为一系列的步骤,包括结构优化、静态能量计算、力学性质计算等。
首先,通过结构优化,可以找到体系的最稳定结构和原子位置。
随后,通过静态能量计算,可以计算材料的能带结构和密度态。
在静态计算的基础上,还可以计算材料的力学性质,如弹性常数、声子谱等。
此外,VASP还可以进行分子动力学模拟和绝对零度的自由能计算。
在VASP计算中,还需要设置一些计算参数来优化计算性能和结果的准确性。
例如,可以通过设置波函数的能量截断来控制展开平面波的数目,提高计算效率。
还可以选择适当的赝势来模拟材料中的电子相互作用。
此外,还可以通过设置自旋极化和计算参数等,扩展VASP的应用范围和处理领域。
除了常规计算方法外,VASP还提供了一些高级计算功能,如HSE06方法和GW近似方法等。
这些方法可以进一步提高计算结果的准确性和可靠性。
总之,VASP是一种强大而灵活的第一原理模拟计算方法,可用于研究和预测各种材料的性质和行为。
通过调整计算参数和采用适当的计算模型,可以在各种材料科学领域中开展深入的研究,并帮助解决实际问题。
vasp计算弹性常数
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vasp计算弹性常数
VASP计算弹性常数
1、什么是VASP计算弹性常数
VASP是Vienna Ab initio Simulation Package(维也纳基础仿真软件包)的缩写,它是一种针对第一性原理计算的电子结构和性质的软件套件。
它在计算与物理、化学能量和结构有关的量时具有非常强大的能力,可以计算出材料的结构构型、热力学性质以及电学和光学性质等。
VASP也可以用来计算某个材料的力学性质,从而推断其弹性常数。
2、VASP计算弹性常数的原理
了解VASP计算弹性常数的原理,我们先需要了解Hooke定律。
Hooke定律定义了弹性体(指正交于拉伸方向的任意方向上发生同样变形的材料)应力和应变之间的关系,即:拉伸轴上拉伸应力可以由材料弹性常数通过应变除法表示。
为了计算材料的弹性常数,利用VASP软件可以通过模拟调节其立体结构的应力和应变,从而推断出材料的弹性常数。
它首先会对所模拟的晶体进行平衡计算,根据平衡晶体的初始位置和能量,将其一点点推向应变,然后根据新推向位置和能量,重新计算势函数,最后弹性常数就可以根据VASP软件计算出来。
3、VASP计算弹性常数的常用方法
4、VASP计算弹性常数的应用
VASP计算弹性常数有很多强大而精准的应用,相当多的材料比如金属、合金、多晶体以及纤维、木材和塑料等都可以通过VASP软件来计算它们的弹性常数,从而快速准确地预测出它们在拉伸、压缩、弯曲等应力下的反应情况。
此外,有了VASP的计算结果,我们也可以进一步提取出动态弹性常数,从而更好地了解材料的形变行为及表面粗糙度、能金学性质以及其他有关的研究。
vasp 态密度计算流程
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POTCAR:赝势文件。
VASP表面计算步骤小结

VASP表面计算步骤小结(侯博士)一、概述vasp用“slab”模型来模拟表面体系结构。
vasp计算表面的大概步骤是:材料体性质的计算;表面模型的构造;表面结构的优化;表面性质的计算。
二、分步介绍1、材料体性质计算:本步是为了确定表面计算时所需的一些重要参数:ENCUT、SIGMA(smearing 方法为ISMEAR=1 或0时;而通常表面体系结构优化时选择这种smearing方法)、晶格参数。
<一>在计算前,要明确:何种PP;ENCUT;KPOINTS ;SIGMA;PREC;EX-CO,这其实是准备proper input files。
a. 何种PP选择的PP能使计算得到的单个原子能量值在1meV~10meV之间。
[参见P 21]所求得的单原子能量(对称性破缺时)可用来提高结合能的精度。
b. ENCUT [ 参见P 14 ]选择的ENCUT应使得总能变化在0.001eV左右为宜。
注意:试探值最小为POTCAR中的ENMAX(多个时,取最大的),递增间隔50;另外,在进行变体积的结构优化时,最好保证ENCUT=1.3ENMAX,以得到合理精度。
c. PREC [参见P 16]控制计算精度的最重要参数,决定了(未指定时)ENCUT、FFT网格、ROPT取值。
一般计算取NORMAL;当要提高Stress tensor计算精度时,HIGH 或ACCURATE,并手动设置ENCUT。
d. EDIFF & EDIFFG [参见P16]EDIFF 判断电子结构部分自恰迭代时自恰与否,一般取默认值=1E-4;EDIFFG 控制离子部分驰豫e. ISTART & ICHARGE [参见P 16]ISTART = 1, ICHARG = 11:能带结构、电子态密度计算时;ISTART =0, ICHARG = 2:其余计算ISTART = 1,ICHARG = 1(其他所有不改变):断点后续算设置f. GGA & VOSKOWN [参见P 16]GGA=91: Perdew -Wang 91;GGA=PE: Perdew-Burke-ErnzerhofVOSKOWN=1( GGA=91时);VOSKOWN=默认(其余情况)g. ISIF [参见P 16]控制结构参数之优化。
VASP计算实例
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VASP计算实例VASP(Vienna Ab initio Simulation Package)是一种常用的第一性原理计算软件包,用于模拟和计算材料的结构和性质。
它基于密度泛函理论(DFT)和平面波基组,具有高精度和高效率的特点。
下面是一个关于VASP计算的示例:为了演示VASP的使用,我们将以氧化铁(Fe2O3)为例进行计算。
氧化铁是一种重要的功能材料,应用广泛,如磁性材料、电子器件、催化剂等领域。
1.准备输入文件:首先,我们需要准备输入文件。
VASP的输入文件主要包括两个部分:结构文件(POSCAR)和参数文件(INCAR)。
POSCAR文件描述了体系的晶体结构,包括晶格常数、原子种类及坐标等信息。
INCAR文件则包含了VASP计算的各种参数设置,如计算方法、收敛条件、化学势等。
2.设置INCAR文件:我们需要根据需求设置INCAR文件的参数。
例如,选择泛函理论的类型(LDA或GGA)、平面波能量截断(ENCUT)、收敛判据(EDIFF)等。
此外,还需要注意设置计算类型(静态计算、构型优化、分子动力学模拟等)及相关参数。
3.运行VASP:在设置完输入文件后,我们可以启动VASP进行计算。
一般情况下,我们可以在命令行界面输入"vasp"命令启动VASP。
此时,VASP将读取输入文件,并开始进行计算。
4.结果分析:计算完成后,可以通过VASP的输出文件来分析计算结果。
VASP的输出文件主要包括:能量、晶格常数、原子坐标、能带结构、态密度等信息。
我们可以通过这些信息来理解和分析材料的结构和性质。
除了以上基本计算流程,VASP还提供了许多功能和选项,可用于更复杂的计算和分析。
例如,通过设置不同的计算类型和参数,可以进行构型优化、声子计算、电子结构计算、弛豫过程模拟等。
此外,VASP还支持并行计算和计算集群的使用,以提高计算效率。
总结:VASP是一个功能强大且广泛应用的第一性原理计算软件包。
VASP计算DOS和能带
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个人总结一:VASP计算DOS和能带1.计算DOS①POSCAR②POTCAR③KPOINTS(建议以Gamma为中心取点,通常K×a≈45即可)④INCAR(越简洁越好)第一步:结构优化SYSTEM=**ISTART=0ENCUT=500(最好对其进行测试)EDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01NSW=100ISIF=2IBRION=2【优化后计算DOS可以一步完成,也可以分为两步来完成,主要是计算量涉及到计算时间的差别】第二步:静态自洽(此时可稍微降低K点数,用第一步优化得到的CONTCAR作为POSCAR进行计算)SYSTEM=**ISTART=0PREC=AccurateEDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01ENCUT=500ISMEAR=-5LCHARG=.TRUE.注意:此时得到的E-feimi是准确的,需要记下(grep ‘E-fermi’OUTCAR)第三步:非自洽计算(采用高密度K点)SYSTEM=**ISTART=1ICHARG=11LMAXMIX=2/4/6(VASP官网原话:If ICHARG is set to 11 or 12, it is strongly recommened to set LMAXMIX to twice the maximum l-quantum number in the pseudpotentials. Thus for s and p elements LMAXMIX should be set to 2, for d elements LMAXMIX should be set to 4, and for f elements LMAXMIX should be set to 6)PREC=AccurateEDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01ENCUT=500(截断能最好与上一步保持一致)ISMEAR=-5LORBIT=10/11(推荐11,可以得到能级分裂的数据)优化后计算DOS一步完成:(采用高密度K点)SYSTEM=**ISTART=1PREC=AccurateEDIFF=1E-5EDIFFG=-0.01ENCUT=500ISMEAR=-5LORBIT=10/112.计算能带①POSCAR②POTCAR③KPOINTS:使用Line-mode格式,给出高对称性K点之间的分割点数,分割越密,路径积分就越准确。
VASP几个计算实例
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VASP几个计算实例VASP(Vienna Ab initio Simulation Package)是一种用于电子结构计算的软件包,广泛应用于固体物理、材料科学、化学等领域。
下面将介绍几个使用VASP进行计算的实例。
1.晶体结构优化晶体结构优化是材料科学中的常见任务,其目的是通过调整晶格参数和原子位置来寻找能量最低的晶体结构。
VASP可以用于计算晶体的总能量和力。
在VASP中,可以使用数值优化算法,如共轭梯度法或拟牛顿法,迭代调整晶格参数和原子位置,直到找到最低能量的结构。
2.原子表面吸附原子在固体表面上的吸附可以影响材料的性质和反应活性。
使用VASP,可以计算原子在表面上的位置和附着能,以研究吸附的稳定性和反应特性。
通过优化原子的位置,可以获得吸附位点和吸附能垒,这对于设计催化剂和研究表面反应机理非常重要。
3.力场参数优化力场是描述分子和固体中原子之间相互作用的经验势能函数。
使用VASP,可以通过计算分子或固体的电子结构和力学性质来优化力场参数。
对于有机分子,可以通过比较实验数据和计算结果来优化分子力场参数,以获得更准确的分子模拟结果。
4.分子动力学模拟分子动力学模拟是研究分子在一段时间内随时间演化情况的常用方法。
VASP能够提供分子动力学模拟所需的能量和力信息。
通过将VASP与分子动力学软件(如LAMMPS)结合使用,可以模拟大分子体系的运动和相变行为,从而对材料性能进行预测。
5.带隙计算带隙是半导体和绝缘体中的重要性质,它决定了电子的导电性和能量带的结构。
使用VASP,可以计算材料的能带结构和态密度,并通过计算能量差来确定材料的带隙。
这对于设计新型材料和理解电子输运性质具有重要意义。
总之,VASP是一款强大的计算工具,可以应用于多个领域的电子结构计算和材料模拟。
以上介绍的实例只是VASP的一小部分应用,它可以为科学家们提供关键的研究工具,推动材料科学和化学等领域的发展。
VASP计算实例
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VASP计算实例VASP计算实例⽬录⼀、氢⽓分⼦H2键长的计算 31. 基本⽂件 32. 赝势类型的选择 33. 截断能ENCUT参数的选择 44. KPOINTS参数选择 55. 对晶格常数进⾏优化 6⼆、 Si晶体晶格常数计算 81. 赝势类型选择 82. 截断能(ENCUT)参数的选定 93. KPOINTS参数的选定 114. SIGMA参数的选定 125. 晶格常数计算结果 13三、 Si元素单原⼦能量计算 141. 由内聚能倒推单原⼦能量 142. 基本⽂件 153. 单原⼦能量计算 15四、 Si的VASP⼒学常数计算 161. 计算所需⽂件 162. 计算与数据处理 173. 计算所⽤到的公式: 18五、 SI晶体的电⼦结构 191. 采⽤VASP计算能带的步骤 192. 电荷分布计算结果 20能带计算和结果 213. 态密度计算和结果 21六、 Si晶体介电函数和光学性质的计算 221. 计算步骤 222. ⽤到的⽂件 233. 计算结果 26七、 VASP的声⼦谱计算 291. 计算步骤 292. 基本⽂件 303. 声⼦谱、声⼦态密度计算和结果 334. 热学性质计算和结果 34键长计算 351. 计算步骤 352. 基本⽂件 35⼀、氢⽓分⼦H2键长的计算1. 基本⽂件准备基本⽂件INCAR、POTCAR、POSCAR、KPOINT以及脚本⽂件encut、k、optimize2. 赝势类型的选择输⼊⽂件如下其中参数要靠经验初选INCAR:System = F2ISTART = 0ICHARG = 2NELMDL = 5 ISMEAR = 0SIGMA = 0.1PREC = Accurate KPOINTS:Automatic meshM1 1 10 0 0 POSCAR:O115.0 0.00 0.00 0.00 14.0 0.00 0.00 0.00 13.0 1D0.00 0.00 0.00分别选⽤五个贋势⽂件进⾏计算。
VASP计算-力学常数1

VASP 计算----------力学常数摘要本文主要介绍了用VASP 对弹性模量、剪切模量、体积模量以及泊松比等力学常数计算,首先介绍了计算所需的相关基础知识,然后详细的阐述了理论的推导过程和对结果的处理方法,并介绍了VASP 所需文件和生成的文件,最后提供了计算的一个例子和其程序流程图。
目录一、 基础知识 .................................................................................................................... 1 二、 VASP 计算时解析推导 .............................................................................................. 3 三、 VASP 计算 .................................................................................................................. 9 四、 有待继续研究的地方 .............................................................................................. 10 五、 参考文献 .................................................................................................................. 10 六、 附录(一)程序流程图 .......................................................................................... 11 七、附录(二)------一个例子,TaN (12)一、 基础知识[1][2]这部分主要介绍了进行VASP 计算时所需要的概念的解释,其主要部分来自弹性力学,详细的介绍可阅读参考文献。
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LPARD = .TRUE.开关
IBAND = 480 481 VBM CBM
NBMOD = 1默认
KPUSE = 1第几个K点
LSEPB = .TRUE. vasp查
LSEPK = .TRUE.
20,计算磁性的体系,设置
IALGO=38
LREAL=F
LPLANE=.TRUE.
GGA_COMPAT = F
LMAXMIX=4
LDAU = .TRUE.
LDAUTYPE = 1
LDAUL = 2 -1
LDAUU = 4 0
LDAUJ = 1 0
LORBIT=11
算得更准
19如果要用wannier算磁性体系。Spin要分开,这是应该用vasp+wannier+soc的版本跑,同时INCAR设置成spin=2的模式,但是LSORBIT不开。跑完会出来up和down,再分别对他们局域化。
phonopy-p-c POSCAR-unitcell band.conf
一般来说,对于金属,或者窄能隙半导体,如果用位移法,则需要很大的胞才能算准,但是用DFPT则可以小包算准。对于金属,PBE可能更好点。
9,如果体系较大,EDIFF达到停止计算,很可能是K点取太多,内存不够。
10, bandplot --gnuplot band.yaml >> phon.dat,用origin做声子谱
16,计算真空能级,功函数。在INCAR里面加入LVTOT= T,然后把LOCPOT复制为PARCHG,第一列写成原子名字,第二个原子名字去掉。运行post_VASP,选7即可得到结果。(如果不收敛,可以加大真空层厚度试试)
17,vasp加电场,
EFIELD=1(沿着坐标轴的负方向,一般金属加0.1V/A才有效果)
8 DFPT不能用NPARphonopy -d --dim="2 2 2" -c POSCAR-unitcell
mv O=38对于金属ISMEAR=1,sigma=0.2
phonopy --fc vasprun.xml
band.conf里面要添加:FORCE_CONSTANTS = READ
12,算极化:铁电相和顺电相都要算,每一个相算三次。首先要静态自洽,接着读取上一步的CHGCAR.三个方向各算一次。
13, Vdos是可以不分x,y.z的。给出每个原子的贡献。
14,计算真空能级,在静态计算INCAR中加入LVTOT=T,如果结构是三维的,要将POSCAR沿着C方向截出一个10A的真空层。相应的把KPOINTS里面C方向的K点设置为1.跑完之后用小程序进行处理,画出C方向的平均电势图,读出真空能级即可。真空能级是最高点。例子计算,/home/users/xggong/luowei/work/paper-p/p4o4-vacc/p4o4-2/pre小浪潮
3, Xming用gnuplot是gnu文件里面要加pause -1
4,INCAR字符太长,vasp_lib里面要改drdatab.F文件,255改大,重新编译
5声子谱:phononp –d –dim=”3 3 1”
6 vasp编译gama版本的:在第二个CPP加上-DwNGZhalf就行。
7 ISMEAR=-5,电荷密度和DOS之类的电子结构和总能准,但是算力不准,所以对于算声子谱,最好不用-5。对于金属,声子谱一般用DFPT会更准。对于半导体和绝缘体,不能用ISEMAR>0的,只能是-5或者0.对于金属,ISMEAR=1,sigma=0.2
LDIPOL = .TRUE.
IDIPOL = 1(x方向加)
DIPOL= 0.5 0 0(结构的中心)
18计算沿z方向的电荷密度的变化,跟真空能级方法一样,只是把CHGCAR复制为LOCTOT,然后vi LOCTOT,去掉最后的一些不需要的东西。然后运行post_VASP,选7即可得到结果。
19 xshell画声子谱,要用xmanager.而不是xming