2016《材料现代分析测试方法》习题

合集下载

材料现代测试分析方法期末考试卷与答案

材料现代测试分析方法期末考试卷与答案

江西省理工大学材料分析测试题(可供参考)一、名词解释(共有20分,每小题2分.)1.辐射的发射:指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象.2.俄歇电子:X射线或电子束激发固体中原子内层电子使原子电离,此时原子(实际是离子)处于激发态,将发生较外层电子向空位跃迁以降低原子能量的过程,此过程发射的电子.3.背散射电子:入射电子与固体作用后又离开固体的电子.4.溅射:入射离子轰击固体时,当表面原子获得足够的动量和能量背离表面运动时,就引起表面粒子(原子、离子、原子团等)的发射,这种现象称为溅射.5.物相鉴定:指确定材料(样品)由哪些相组成.6.电子透镜:能使电子束聚焦的装置.7.质厚衬度:样品上的不同微区无论是质量还是厚度的差别,均可引起相应区域透射电子强度的改变,从而在图像上形成亮暗不同的区域,这一现象称为质厚衬度.8.蓝移:当有机化合物的结构发生变化时,其吸收带的最大吸收峰波长或位置(最大)向短波方向移动,这种现象称为蓝移(或紫移,或“向蓝”).9.伸缩振动:键长变化而键角不变的振动,可分为对称伸缩振动和反对称伸缩振动.10.差热分析:指在程序控制温度条件下,测量样品与参比物的温度差随温度或时间变化的函数关系的技术.二、填空题(共20分,每小题2分.)1.电磁波谱可分为三个部分,即长波部分、中间部分和短波部分,其中中间部分包括(红外线)、(可见光)和(紫外线),统称为光学光谱.2.光谱分析方法是基于电磁辐射与材料相互作用产生的特征光谱波长与强度进行材料分析的方法.光谱按强度对波长的分布(曲线)特点(或按胶片记录的光谱表观形态)可分为(连续)光谱、(带状)光谱和(线状)光谱3类.3.分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产生的散射.分子散射包括(瑞利散射)与(拉曼散射)两种.4.X射线照射固体物质(样品),可能发生的相互作用主要有二次电子、背散射电子、特征X射线、俄歇电子、吸收电子、透射电子5.多晶体(粉晶)X射线衍射分析的基本方法为(照相法)和(X射线衍射仪法).6.依据入射电子的能量大小,电子衍射可分为(高能)电子衍射和(低能)电子衍射.依据电子束是否穿透样品,电子衍射可分为(投射式)电子衍射与(反射式)电子衍射.7.衍射产生的充分必要条件是((衍射矢量方程或其它等效形式)加F2≠0).8.透射电镜的样品可分为(直接)样品和(间接)样品.9.单晶电子衍射花样标定的主要方法有(尝试核算法)和(标准花样对照法).10.扫描隧道显微镜、透射电镜、X射线光电子能谱、差热分析的英文字母缩写分别是( stm )、(tem)、(xps)、( DTA ).11. X 射线衍射方法有劳厄法、转晶法、粉晶法和衍射仪法 .12. 扫描仪的工作方式有连续扫描和步进扫描两种.13. 在 X 射线衍射物相分析中,粉末衍射卡组是由粉末衍射标准联合委员会编制,称为JCPDS卡片,又称为 PDF 卡片.14. 电磁透镜的像差有球差、色差、轴上像散和畸变 .15. 透射电子显微镜的结构分为光学成像系统、真空系统和电气系统.16. 影响差热曲线的因素有升温速度、粒度和颗粒形状、装填密度和压力和气氛 .三、判断题,表述对的在括号里打“√”,错的打“×”(共10分,每小题1分)1.干涉指数是对晶面空间方位与晶面间距的标识.晶面间距为d110/2的晶面其干涉指数为(220).(√)2.倒易矢量r HKL的基本性质为:r HKL垂直于正点阵中相应的(HKL)晶面,其长度r HKL等于(HKL)之晶面间距d HKL的2倍.(×)倒数3.分子的转动光谱是带状光谱.(×)线状光谱4.二次电子像的分辨率比背散射电子像的分辨率低.(×)高5.一束X射线照射一个原子列(一维晶体),只有镜面反射方向上才有可能产生衍射.(×)6.俄歇电子能谱不能分析固体表面的H和He.(√)7.低能电子衍射(LEED)不适合分析绝缘固体样品的表面结构.(√)8.d-d跃迁受配位体场强度大小的影响很大,而f-f跃迁受配位体场强度大小的影响很小.(√)9.红外辐射与物质相互作用产生红外吸收光谱必须有分子极化率的变化.(×)10.样品粒度和气氛对差热曲线没有影响.(×)四、单项选择题(共10分,每小题1分.)1.原子吸收光谱是(A).A、线状光谱B、带状光谱C、连续光谱2.下列方法中,( A )可用于测定方解石的点阵常数.A、X射线衍射线分析B、红外光谱C、原子吸收光谱 D 紫外光谱子能谱3.合金钢薄膜中极小弥散颗粒(直径远小于1m)的物相鉴定,可以选择(D ).A、X射线衍射线分析B、紫外可见吸收光谱C、差热分析D、多功能透射电镜4.几种高聚物组成之混合物的定性分析与定量分析,可以选择(A ).A、红外光谱B、俄歇电子能谱C、扫描电镜D、扫描隧道显微镜5.下列( B)晶面不属于[100]晶带.A、(001)B、(100)C、(010)D、(001)6.某半导体的表面能带结构测定,可以选择(D ).A、红外光谱B、透射电镜C、X射线光电子能谱 D 紫外光电子能谱7.要分析钢中碳化物成分和基体中碳含量,一般应选用(A )电子探针仪,A、波谱仪型B、能谱仪型8.要测定聚合物的熔点,可以选择( C ).A、红外光谱B、紫外可见光谱C、差热分析D、X射线衍射9.下列分析方法中,(A )不能分析水泥原料的化学组成.A、红外光谱B、X射线荧光光谱C、等离子体发射光谱D、原子吸收光谱10.要分析陶瓷原料的矿物组成,优先选择( C ).A、原子吸收光谱B、原子荧光光谱C、X射线衍射D、透射电镜11.成分和价键分析手段包括 b(a)WDS、能谱仪(EDS)和 XRD (b)WDS、EDS 和 XPS(c)TEM、WDS 和 XPS (d)XRD、FTIR 和 Raman12.分子结构分析手段包括 a(a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR 和 WDS(c)SEM、TEM 和 STEM(扫描透射电镜)(d) XRD、FTIR 和 Raman13.表面形貌分析的手段包括 d(a)X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM) (b) SEM 和透射电镜(TEM)(c) 波谱仪(WDS)和 X 射线光电子谱仪(XPS) (d) 扫描隧道显微镜(STM)和SEM14.透射电镜的两种主要功能: b(a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构(c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键五、简答题(共40分,每小题8分)答题要点:1.简述分子能级跃迁的类型,比较紫外可见光谱与红外光谱的特点.答:分子能级跃迁的类型主要有分子电子能级的跃迁、振动能级的跃迁和转动能级的跃迁.紫外可见光谱是基于分子外层电子能级的跃迁而产生的吸收光谱,由于电子能级间隔比较大,在产生电子能级跃迁的同时,伴随着振动和转动能级的跃迁,因此它是带状光谱,吸收谱带(峰)宽缓.而红外光谱是基于分子振动和转动能级跃迁产生的吸收光谱.一般的中红外光谱是振-转光谱,是带状光谱,而纯的转动光谱处于远红外区,是线状光谱.2.简述布拉格方程及其意义.答:晶面指数表示的布拉格方程为2d hkl sin=n,式中d为(hkl)晶面间距,n为任意整数,称反射级数,为掠射角或布拉格角,为X射线的波长.干涉指数表示的布拉格方程为2d HKL sin=.其意义在于布拉格方程表达了反射线空间方位()与反射晶面面间距(d)及入射线方位()和波长()的相互关系,是X射线衍射产生的必要条件,是晶体结构分析的基本方程.3.为什么说扫描电镜的分辨率和信号的种类有关试将各种信号的分辨率高低作一比较.答:扫描电镜的分辨率和信号的种类有关,这是因为不同信号的性质和来源不同,作用的深度和范围不同.主要信号图像分辨率的高低顺为:扫描透射电子像(与扫描电子束斑直径相当)二次电子像(几nm,与扫描电子束斑直径相当)>背散射电子像(50-200nm)>吸收电流像特征X射图像(100nm-1000nm).4.要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,选择什么仪器简述具体的分析方法.答:要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,应选用配置有波谱仪或能谱仪的扫描电镜.具体的操作分析方法是:先扫描不同放大倍数的二次电子像,观察断口的微观形貌特征,选择并圈定断口上的粒状夹杂物,然后用波谱仪或能谱仪定点分析其化学成分(确定元素的种类和含量).5.简述影响红外吸收谱带的主要因素.答:红外吸收光谱峰位影响因素是多方面的.一个特定的基团或化学键只有在和周围环境完全没有力学或电学偶合的情况下,它的键力常数k值才固定不变.一切能引起k值改变的因素都会影响峰位变化.归纳起来有:诱导效应、共轭效应、键应力的影响、氢键的影响、偶合效应、物态变化的影响等.6.透射电镜主要由几大系统构成各系统之间关系如何答:四大系统:电子光学系统,真空系统,供电控制系统,附加仪器系统.其中电子光学系统是其核心.其他系统为辅助系统.7.透射电镜中有哪些主要光阑分别安装在什么位置其作用如何答:主要有三种光阑:①聚光镜光阑.在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方.作用:限制照明孔径角.②物镜光阑.安装在物镜后焦面.作用: 提高像衬度;减小孔径角,从而减小像差;进行暗场成像.③选区光阑:放在物镜的像平面位置.作用: 对样品进行微区衍射分析.8.什么是消光距离影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件是什么答:消光距离:由于透射波和衍射波强烈的动力学相互作用结果,使I0和Ig在晶体深度方向上发生周期性的振荡,此振荡的深度周期叫消光距离.影响因素:晶胞体积,结构因子,Bragg角,电子波长.。

2016《材料现代分析测试方法》复习题

2016《材料现代分析测试方法》复习题

2016《材料现代分析测试方法》复习题第一篇:2016《材料现代分析测试方法》复习题《近代材料测试方法》复习题1.材料微观结构和成分分析可以分为哪几个层次?分别可以用什么方法分析?答:化学成分分析、晶体结构分析和显微结构分析化学成分分析——常规方法(平均成分):湿化学法、光谱分析法——先进方法(种类、浓度、价态、分布):X射线荧光光谱、电子探针、光电子能谱、俄歇电子能谱晶体结构分析:X射线衍射、电子衍射显微结构分析:光学显微镜、透射电子显微镜、扫面电子显微镜、扫面隧道显微镜、原子力显微镜、场离子显微镜2. X射线与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用?答:除贯穿部分的光束外,射线能量损失在与物质作用过程之中,基本上可以归为两大类:一部分可能变成次级或更高次的X射线,即所谓荧光X射线,同时,激发出光电子或俄歇电子。

另一部分消耗在X射线的散射之中,包括相干散射和非相干散射。

此外,它还能变成热量逸出。

(1)现象/现象:散射X射线(想干、非相干)、荧光X射线、透射X射线、俄歇效应、光电子、热能(2)①光电效应:当入射X射线光子能量等于某一阈值,可击出原子内层电子,产生光电效应。

应用:光电效应产生光电子,是X射线光电子能谱分析的技术基础。

光电效应使原子产生空位后的退激发过程产生俄歇电子或X射线荧光辐射是 X射线激发俄歇能谱分析和X射线荧光分析方法的技术基础。

②二次特征辐射(X射线荧光辐射):当高能X射线光子击出被照射物质原子的内层电子后,较外层电子填其空位而产生了次生特征X射线(称二次特征辐射)。

应用:X射线被物质散射时,产生两种现象:相干散射和非相干散射。

相干散射是X射线衍射分析方法的基础。

3.电子与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用?答:当电子束入射到固体样品时,入射电子和样品物质将发生强烈的相互作用,发生弹性散射和非弹性散射。

材料现代分析方法试题库完整

材料现代分析方法试题库完整

材料现代分析方法试题库一、填空1、第一个发现X射线的科学家是,第一个进行X射线衍射实验的科学家是。

2、X射线的本质是,其波长为。

3、X射线本质上是一种______________,它既具有_____________性,又具有____________性,X射线衍射分析是利用了它的__ ____________。

4、特征X射线的波长与和无关。

而与有关。

5、X射线一方面具有波动性,表现为具有一定的,另一方面又具有粒子性,体现为具有一定的,二者之间的关系为。

6、莫塞来定律反映了材料产生的与其的关系。

7、从X射线管射出的X射线谱通常包括和。

8、当高速的电子束轰击金属靶会产生两类X射线,它们是_____________和_____________,其中在X射线粉末衍射中采用的是____ _______ 。

9、特征X射线是由元素原子中___________引起的,因此各元素都有特定的___________和___________电压,特征谱与原子序数之间服从_____ ______定律。

10、同一元素的入Kα1、入Kα2、入Kβ的相对大小依次为___________;能量从小到大的顺序是_______________。

(注:用不等式标出)11、X射线通过物质时,部分X射线将改变它们前进的方向,即发生散射现象。

X射线的散射包括两种:和。

12、hu+kv+lw=0关系式称为______________ ,若晶面(hkl)和晶向[uvw]满足该关系式,表明__________________________________ 。

15、倒易点阵是由晶体点阵按照式中,为倒易点阵基矢,为正点阵基矢的对应关系建立的空间点阵。

在这个倒易点阵中,倒易矢量的坐标表达式为,其基本性质为。

14、X射线在晶体中产生衍射时,其衍射方向与晶体结构、入射线波长和入射线方位间的关系可用_ _____ ______、____ ___________、________________和____________________四种方法来表达。

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案一、选择题(每题2分,共20分)1. 下列哪一项不是材料现代测试分析方法?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 光学显微镜(OM)C. 质谱仪(MS)D. 能谱仪(EDS)2. 在材料现代测试分析中,哪种技术可以用于测量材料的晶体结构?A. X射线衍射(XRD)B. 原子力显微镜(AFM)C. 扫描隧道显微镜(STM)D. 透射电子显微镜(TEM)3. 下列哪种测试方法主要用于分析材料的表面形貌?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 透射电子显微镜(TEM)C. 原子力显微镜(AFM)D. 光学显微镜(OM)4. 在材料现代测试分析中,哪种技术可以用于测量材料的磁性?A. 振动样品磁强计(VSM)B. 核磁共振(NMR)C. 红外光谱(IR)D. 紫外可见光谱(UV-Vis)5. 下列哪种测试方法可以同时提供材料表面形貌和成分信息?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 原子力显微镜(AFM)C. 能谱仪(EDS)D. 质谱仪(MS)二、填空题(每题2分,共20分)1. 扫描电子显微镜(SEM)是一种利用_____________来扫描样品表面,并通过_____________来获取样品信息的测试方法。

2. 透射电子显微镜(TEM)是一种利用_____________穿过样品,并通过_____________来观察样品内部结构的测试方法。

3. 原子力显微镜(AFM)是一种利用_____________与样品表面相互作用,并通过_____________来获取表面形貌和力学性质的测试方法。

4. 能谱仪(EDS)是一种利用_____________与样品相互作用,并通过_____________来分析样品成分的测试方法。

5. 振动样品磁强计(VSM)是一种利用_____________来测量样品磁性的测试方法。

三、简答题(每题10分,共30分)1. 请简要介绍扫描电子显微镜(SEM)的工作原理及其在材料测试中的应用。

材料现代分析方法习题及答案优选全文

材料现代分析方法习题及答案优选全文

下载温馨提示:该文档是学者精心编制而成, 希望能够帮助大家解决实际的问题。

文档下载后可定制随意修改, 请根据实际需要进行相应的调整和使用, 谢谢!并且, 我们为大家提供各种各样类型的实用资料, 如教育随笔、日记赏析、句子摘抄、古诗大全、经典美文、话题作文、工作总结、词语解析、文案摘录、其他资料等等, 如想了解不同资料格式和写法, 敬请关注!下列哪些晶面属于[11]晶带?(1)、(1)、(231)、(211)、(101)、(01)、(13), (0), (12), (12), (01), (212), 为什么?答:(0)(1)、(211)、(12)、(01)、(01)晶面属于[11]晶带, 因为它们符合晶带定律:hu+kv+lw=0。

产生X射线需具备什么条件?答:实验证实:在高真空中, 凡高速运动的电子碰到任何障碍物时, 均能产生X射线, 对于其他带电的基本粒子也有类似现象发生。

电子式X射线管中产生X射线的条件可归纳为:1, 以某种方式得到一定量的自由电子;2, 在高真空中, 在高压电场的作用下迫使这些电子作定向高速运动;3, 在电子运动路径上设障碍物以急剧改变电子的运动速度。

分析下列荧光辐射产生的可能性, 为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。

答: 根据经典原子模型, 原子内的电子分布在一系列量子化的壳层上, 在稳定状态下, 每个壳层有一定数量的电子, 他们有一定的能量。

最内层能量最低, 向外能量依次增加。

根据能量关系, M、K层之间的能量差大于L、K成之间的能量差, K、L层之间的能量差大于M、L层能量差。

由于释放的特征谱线的能量等于壳层间的能量差, 所以Kß的能量大于Ka的能量, Ka能量大于La的能量。

(1)因此在不考虑能量损失的情况下:(2)CuKa能激发CuKa荧光辐射;(能量相同)(3)CuKß能激发CuKa荧光辐射;(Kß>Ka)(4)CuKa能激发CuLa荧光辐射;(Ka>la)F的物理意义。

材料现代分析方法练习题及答案(XRD,EBSD,TEM,SEM,表面分析)

材料现代分析方法练习题及答案(XRD,EBSD,TEM,SEM,表面分析)

8. 什么是弱束暗场像?与中心暗场像有何不同?试用Ewald图解说明。

答:弱束暗场像是通过入射束倾斜,使偏离布拉格条件较远的一个衍射束通过物镜光阑,透射束和其他衍射束都被挡掉,利用透过物镜光阑的强度较弱的衍射束成像。

与中心暗场像不同的是,中心暗场像是在双光束的条件下用的成像条件成像,即除直射束外只有一个强的衍射束,而弱束暗场像是在双光阑条件下的g/3g的成像条件成像,采用很大的偏离参量s。

中心暗场像的成像衍射束严格满足布拉格条件,衍射强度较强,而弱束暗场像利用偏离布拉格条件较远的衍射束成像,衍射束强度很弱。

采用弱束暗场像,完整区域的衍射束强度极弱,而在缺陷附近的极小区域内发生较强的反射,形成高分辨率的缺陷图像。

图:PPT透射电子显微技术1页10. 透射电子显微成像中,层错、反相畴界、畴界、孪晶界、晶界等衍衬像有何异同?用什么办法及根据什么特征才能将它们区分开来?答:由于层错区域衍射波振幅一般与无层错区域衍射波振幅不同,则层错区和与相邻区域形成了不同的衬度,相应地出现均匀的亮线和暗线,由于层错两侧的区域晶体结构和位相相同,故所有亮线和暗线的衬度分别相同。

层错衍衬像表现为平行于层错面迹线的明暗相间的等间距条纹。

孪晶界和晶界两侧的晶体由于位向不同,或者还由于点阵类型不同,一边的晶体处于双光束条件时,另一边的衍射条件不可能是完全相同的,也可能是处于无强衍射的情况,就相当于出现等厚条纹,所以他们的衍衬像都是间距不等的明暗相间的条纹,不同的是孪晶界是一条直线,而晶界不是直线。

反相畴界的衍衬像是曲折的带状条纹将晶粒分隔成许多形状不规则的小区域。

层错条纹平行线直线间距相等反相畴界非平行线非直线间距不等孪晶界条纹平行线直线间距不等晶界条纹平行线非直线间距不等11.什么是透射电子显微像中的质厚衬度、衍射衬度和相位衬度。

形成衍射衬度像和相位衬度像时,物镜在聚焦方面有何不同?为什么?答:质厚衬度:入射电子透过非晶样品时,由于样品不同微区间存在原子序数或厚度的差异,导致透过不同区域落在像平面上的电子数不同,对应各个区域的图像的明暗不同,形成的衬度。

《材料现代分析方法》练习与答案

《材料现代分析方法》练习与答案

第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是( B )A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;2.M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称( B )A.Kα;B. Kβ;C.Kγ;D. Lα。

3.当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选(C)A.Cu;B. Fe;C.Ni;D. Mo。

4.当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称( A )A.短波限λ0;B.激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生(D )(多选题)A.光电子;B.二次荧光;C.俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1.随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。

()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。

()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

( ) 5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

( )三、填空题1.当X射线管电压超过临界电压就可以产生连续X射线和特征X 射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生俄歇电子、透射X射线、散射X射线、荧光X射线、光电子、热、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是波长极短的电磁波也是光子束,具有波粒二象性性。

5.短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。

习题1. X 射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuK αX 射线激发Cu Kα荧光辐射;(2)用CuK βX射线激发CuK α荧光辐射;(3)用CuK αX 射线激发Cu Lα荧光辐射。

3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4. X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5. 产生X 射线需具备什么条件?6. Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7. 计算当管电压为50 kv 时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。

现代化材料分析测试方法期末试题及解答

现代化材料分析测试方法期末试题及解答

现代化材料分析测试方法期末试题及解答试卷分析本试卷主要考察了现代化材料分析测试方法的基本概念、原理、技术及其应用。

试题涵盖了各种测试方法的特点、优缺点、适用范围以及相关设备的操作和维护等内容。

试题部分一、选择题(每题2分,共20分)1. 下列哪一项不属于材料分析测试方法的分类?A. 物理方法B. 化学方法C. 力学方法D. 生物学方法2. 扫描电子显微镜(SEM)的分辨率通常高于透射电子显微镜(TEM)。

其主要原因是?A. 加速电压更高B. 样品制备更简单C. 电磁透镜的放大倍数更大D. 信号采集方式更优越3. 在能谱分析中,能量色散谱(EDS)与波谱分析(WDS)的主要区别是什么?A. 能量分辨率不同B. 信号采集方式不同C. 检测元素种类不同D. 谱图形态不同4. 以下哪种测试方法可以同时获得材料的微观形貌和成分信息?A. X射线衍射B. 光学显微镜C. 扫描电子显微镜D. 原子力显微镜5. 某同学在使用X射线光电子能谱(XPS)进行分析时,发现获取的信号强度较低。

可能的原因是?A. 样品制备不充分B. 仪器灵敏度不够C. 加速电压设置不当D. 样品与仪器接触不良二、简答题(每题5分,共25分)6. 请简述透射电子显微镜(TEM)的工作原理及其在材料分析中的应用。

7. 什么是拉曼光谱?请列举其在材料分析中的应用。

8. 请简述原子力显微镜(AFM)的工作原理及其在材料分析中的优势。

三、论述题(每题10分,共30分)9. 论述能谱分析(EDS)在材料分析中的应用范围及其局限性。

10. 结合实际情况,论述现代化材料分析测试方法在科研和工业领域的应用前景。

答案部分一、选择题答案1. D2. D3. A4. C5. B二、简答题答案6. 透射电子显微镜(TEM)的工作原理是利用电子束透过样品,样品对电子束产生散射和吸收,形成衍射图样和吸收图像。

在材料分析中,TEM可以用于观察材料的微观结构、晶体学分析、相变研究等方面。

材料现代分析试方法复习题

材料现代分析试方法复习题

《材料现代分析测试方法》习题及思考题一、名词术语波数、原子基态、原子激发、激发态、激发电位、电子跃迁(能级跃迁)、辐射跃迁、无辐射跃迁,分子振动、伸缩振动、变形振动(变角振动或弯曲振动)、干涉指数、倒易点阵、瑞利散射、拉曼散射、反斯托克斯线、斯托克斯线、 X射线相干散射(弹性散射、经典散射或汤姆逊散射)、X射线非相干散射(非弹性散射、康普顿-吴有训效应、康普顿散射、量子散射)、光电效应、光电子能谱、紫外可见吸收光谱(电子光谱)、红外吸收光谱、红外活性与红外非活性、弛豫、K系特征辐射、L系特征辐射、Kα射线、Kβ、短波限、吸收限、线吸收系数、质量吸收系数、散射角(2θ)、二次电子、俄歇电子、连续X射线、特征X射线、点阵消光、结构消光、衍射花样的指数化、连续扫描法、步进扫描法、生色团、助色团、反助色团、蓝移、红移、电荷转移光谱、运动自由度、振动自由度、倍频峰(或称泛音峰)、组频峰、振动耦合、特征振动频率、特征振动吸收带、内振动、外振动(晶格振动)、热分析、热重法、差热分析、差示扫描量热法、微商热重(DTG)曲线、参比物(或基准物、中性体)、程序控制温度、(热分析曲线)外推始点、核磁共振。

二、填空1.原子中电子受激向高能级跃迁或由高能级向低能级跃迁均称为( )跃迁或( )跃迁。

2.电子由高能级向低能级的跃迁可分为两种方式:跃迁过程中多余的能量即跃迁前后能量差以电磁辐射的方式放出,称之为( )跃迁;若多余的能量转化为热能等形式,则称之为( )跃迁。

3.多原子分子振动可分为( )振动与( )振动两类。

4.伸缩振动可分为( )和( )。

变形振动可分为( )和( )。

5.干涉指数是对晶面( )与晶面( )的标识。

6.晶面间距分别为d110/2,d110/3的晶面,其干涉指数分别为( )和( ).7. 倒易矢量r*HKL的基本性质为:r*HKL垂直于正点阵中相应的(HKL)晶面,其长度|r*HKL|等于(HKL)之晶面间距dHKL的( )。

材料现代分析方法试卷(1)

材料现代分析方法试卷(1)

一、名词解释题数值孔径:由物体与物镜间媒介的折射率n与物镜孔径角的一半的正弦值的乘积。

干涉面:面间距为dHKL的晶面并不一定是晶体中的原子面,而是为了简化布拉格方程所引入的反射面,我们把这样的反射面称为干涉面。

干涉指数:干涉面的面指数称为干涉指数,是对空间方位与晶面间距的标识。

景深:当像平面固定时(象距不变)不变时,能维持物象清晰的范围内,允许物平面(样品)沿透镜主轴移动的最大距离。

焦长:固定样品条件下(物镜不变),像平面沿主轴移动时仍能保持物象清晰的距离范围。

差热分析:是指在程序控温下,测量样品和参比物的温度差与温度关系的一种热分析方法。

质谱:质谱(又叫质谱法)是一种与光谱并列的谱学方法,是离子数量(强度)对质荷比的分布,以质谱图或质谱表的形式表达。

晶带:晶体中,与某一晶相【uvw】平行的所有晶面(hkl)属于同一晶带,称为【uvw】晶带。

倒易点阵:倒易点阵是由晶体点阵按照一定的对应关系建立的空间点阵,此对应关系可称为倒易变换。

透镜分辨率:用物理学方法(如光学仪器)能分清两个密切相邻物体的程度。

衍射衬度:若样品上不同区域的衍射条件不同,图像上相应区域的亮度将有所不同,这样就在图像上便形成了衍射衬度。

差示扫描量热法:在程序控制温度下,测量输入给样品和参比物的功率差与温度关系的一种热分析方法。

埃利斑:由于衍射效应的作用,电光源在像平面上得到的并不是一个点,而是一个中心最亮,而周围带有明暗相间的同心圆环的圆斑Kα射线:把K层电子所激发的过程称为K系激发,电子跃迁所引起的辐射称为K系辐射。

跨越一级用α表示,即Kα射线。

质厚衬度:非晶样品透射电子显微图像衬度是由于样品不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的,即质量厚度衬。

填空题1)光学光学系统包括(目镜)、( 物镜)、光源及(聚光器)。

2)通常有三种抛光的方法,即( 机械抛光)、(电解抛光)、(化学抛光)。

3)通常透射电镜由(成像系统)、电源系统、(记录系统)、循环冷却系统和(真空系统)组成(照明系统)4)材料性能主要决定于其(化学成分)、(物相组成)、(宏观及微观结构)。

材料现代分析方法试题5(参考答案)

材料现代分析方法试题5(参考答案)

材料现代分析⽅法试题5(参考答案)材料现代分析⽅法试题10(参考答案)⼀、基本概念题(共10题,每题5分)1.“⼀束X射线照射⼀个原⼦列(⼀维晶体),只有镜⾯反射⽅向上才有可能产⽣衍射线”,此种说法是否正确?答:不正确,因为⼀束X射线照射⼀个原⼦列上,原⼦列上每个原⼦受迫都会形成新的X射线源向四周发射与⼊射光波长⼀致的新的X射线,只要符合光的⼲涉三个条件(光程差是波长的整数倍),不同点光源间发出的X射线都可产⽣⼲涉和衍射。

镜⾯反射,其光程差为零,是特殊情况。

2.什么叫⼲涉⾯?当波长为λ的X射线照射到晶体上发⽣衍射,相邻两个(hkl)晶⾯的波程差是多少?相邻两个(HKL)晶⾯的波程差是多少?答:晶⾯间距为d’/n、⼲涉指数为nh、 nk、 nl的假想晶⾯称为⼲涉⾯。

当波长为λ的X射线照射到晶体上发⽣衍射,相邻两个(hkl)晶⾯的波程差是nλ,相邻两个(HKL)晶⾯的波程差是λ。

3.谢乐公式B=kλ/tcosθ中的B、λ、t、θ分别表⽰什么? 该公式⽤于粒径⼤⼩测定时应注意哪些问题?答:B为半⾼宽或峰的积分宽度,λ为⼊射X射线波长,t为粒径⼤⼩,θ为表⽰选⽤X射线位置①这是运⽤X射线来测定晶粒⼤⼩的⼀个基本公式。

B为衍射峰的宽,t表⽰晶粒的⼤⼩。

可见当晶粒变⼩时,衍射峰产⽣宽化。

⼀般当晶粒⼩于10-4cm 时,它的衍射峰就开始宽化。

因此式适合于测定晶粒<10-5cm ,即100纳⽶以下晶粒的粒径。

因此,它是⽬前测定纳⽶材料颗粒⼤⼩的主要⽅法。

虽然精度不很⾼,但⽬前还没有其它好的⽅法测定纳⽶级粒⼦的⼤⼩。

②⼀般情况下我们的样品可能不是细⼩的粉末,但实际上理想的晶体是不存在的,即使是较⼤的晶体,它经常也具有镶嵌结构在,即是由⼀些⼤⼩约在10-4cm,取向稍有差别的镶嵌晶块组成。

它们也会导到X射线衍射峰的宽化。

4.试述极图与反极图的区别?答:极图是多晶体中某{hkl}晶⾯族的倒易⽮量(或晶⾯法线)在空间分布的极射⾚⾯投影图。

材料现代分析方法练习题及答案

材料现代分析方法练习题及答案

材料现代分析方法练习题及答案材料现代分析方法1在电镜中,电子束的波长主要取决于什么?答:取决于电子运动的速度和质量2什么是电磁透镜?电子在电磁透镜中如何运动?与光在光学系统中的运动有何不同?答:运用磁场对运动电荷有力的作用这一特点使使电子束聚焦的装置称为电磁透镜。

近轴圆锥螺旋运动。

不同点:光学系统中光是沿直线运动的,在电磁透镜中电子束作近轴圆锥螺旋运动。

3电磁透镜具有哪几种像差?是怎样产生的,是否可以消除?如何来消除和减少像差?答:有球差、像散、色差。

球差:是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的。

像散:像散是由于电磁透镜的周向磁场非旋转对称引起不同方向上的聚焦能力出现差别。

色差:色差是由入射电子的波长或能量的非单一性造成的。

球差可以消除,用小孔径成像时,可使其明显减小;像散只能减弱,可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿;色差也只能减弱,稳定加速电压和透镜电流可减小色差。

4什么是电磁透镜的分辨本领?主要取决于什么?为什么电磁透镜要采用小孔径角成像?答:分辨本领是指成像物体(试样)上能分辨出来的两个物点间的最小距离;电磁透镜的分辨率主要由衍射效应和像差来决定;用小孔径成像原因是可以使球差明显减小。

5说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么?如何提高电磁透镜的分辨率?答:关键因素是用来分析的光源的波长,对于光学显微镜光源是光束,对于电磁透镜是电子束;减小电磁透镜的电子光束的波长可提高分辨率。

6试比较光学显微镜成像和透射电子微镜成像的异同点,答:相同点:都要用到光源,都需要装置使光源聚焦成像。

异同点:光学显微镜的光源是可见光,聚焦用的是玻璃透镜,而透射电子显微镜的分别是电子束和电磁透镜。

光学显微镜分辨本领低,放大倍数小,景深小,焦长短,投射显微镜分辨本领高,放大倍数大,景深大,焦长长。

7为什么透射电镜的样品要求非常薄,而扫描电镜无此要求?答:因为用透射电镜分析时,电子光束要透过样品在底片上形成衍射图案,样品过厚则无法得到衍射图案,对于扫描电镜,对样品无此要求是因为用扫描电镜时是通过分析电子束与固体样品作用时产生的信号来研究物质,所以对样品不要求非常薄。

材料现代分析方法试题及答案1

材料现代分析方法试题及答案1

《现代材料分析方法》期末试卷1一、单项选择题(每题 2 分,共10 分)1.成分和价键分析手段包括【b 】(a)WDS、能谱仪(EDS)和XRD (b)WDS、EDS 和XPS(c)TEM、WDS 和XPS (d)XRD、FTIR 和Raman2.分子结构分析手段包括【 a 】(a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR 和WDS(c)SEM、TEM 和STEM(扫描透射电镜)(d)XRD、FTIR 和Raman3.表面形貌分析的手段包括【 d 】(a)X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)(b) SEM 和透射电镜(TEM)(c) 波谱仪(WDS)和X 射线光电子谱仪(XPS)(d) 扫描隧道显微镜(STM)和SEM4.透射电镜的两种主要功能:【b 】(a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构(c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键5.下列谱图所代表的化合物中含有的基团包括:【 c 】(a)–C-H、–OH 和–NH2 (b) –C-H、和–NH2,(c) –C-H、和-C=C- (d) –C-H、和CO二、判断题(正确的打√,错误的打×,每题2 分,共10 分)1.透射电镜图像的衬度与样品成分无关。

(×)2.扫描电镜的二次电子像的分辨率比背散射电子像更高。

(√)3.透镜的数值孔径与折射率有关。

(√)4.放大倍数是判断显微镜性能的根本指标。

(×)5.在样品台转动的工作模式下,X射线衍射仪探头转动的角速度是样品转动角速度的二倍。

(√)三、简答题(每题 5 分,共25 分)1. 扫描电镜的分辨率和哪些因素有关?为什么?和所用的信号种类和束斑尺寸有关,因为不同信号的扩展效应不同,例如二次电子产生的区域比背散射电子小。

束斑尺寸越小,产生信号的区域也小,分辨率就高。

2.原子力显微镜的利用的是哪两种力,又是如何探测形貌的?范德华力和毛细力。

(85页Word版)材料现代分析方法试题(1-10)有答案

(85页Word版)材料现代分析方法试题(1-10)有答案

材料现代分析方法试题1材料学院材料科学与工程专业年级班级材料现代分析方法课程 200—200学年第学期()卷期末考试题( 120分钟)考生姓名学号考试时间主考教师:阅卷教师:一、基本概念题(共10题,每题5分)1.X射线的本质是什么?是谁首先发现了X射线,谁揭示了X射线的本质?2.下列哪些晶面属于[ 11]晶带?(1)、(1)、(231)、(211)、(101)、(01)、(1 3),(0),(1 2),(1 2),(0 1),(212),为什么?3.多重性因子的物理意义是什么?某立方晶系晶体,其{100}的多重性因子是多少?如该晶体转变为四方晶系,这个晶面族的多重性因子会发生什么变化?为什么?4.在一块冷轧钢板中可能存在哪几种内应力?它们的衍射谱有什么特点?5.透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何?6.透射电镜中有哪些主要光阑? 分别安装在什么位置? 其作用如何?7.什么是消光距离? 影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件是什么? 8.倒易点阵与正点阵之间关系如何? 画出fcc 和bcc 晶体的倒易点阵,并标出基本矢量a*, b*, c*。

9.红外测试样品需尽可能把游离水驱除干净。

含游离水样品的红外谱图中在哪两个波数范围会出现吸收峰?10.一种化合物含有两个基团与各含一个基团的两种化合物的混合物,其红外谱图有大的差别吗?为什么?一种化合物含有两个基团与各含一个基团的两种化合物的混合物,其红外谱图有大的差别吗?为什么?二、综合及分析题(共5题,每题10分)1.决定X射线强度的关系式是,试说明式中各参数的物理意义?2.比较物相定量分析的外标法、内标法、K 值法、直接比较法和全谱拟合法的优缺点?3.请导出电子衍射的基本公式,解释其物理意义,并阐述倒易点阵与电子衍射图之间有何对应关系? 解释为何对称入射(B//[uvw])时,即只有倒易点阵原点在爱瓦尔德球面上,也能得到除中心斑点以外的一系列衍射斑点?4.单晶电子衍射花样的标定有哪几种方法?图1 是某低碳钢基体铁素体相的电子衍射花样,请以尝试—校核法为例,说明进行该电子衍射花样标定的过程与步骤。

材料的现代分析方法 测试题及答案

材料的现代分析方法 测试题及答案
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
2
答:⑴ 当χ射线通过物质时,物质原子的电子在电磁场的作用下将产生受迫振动,受迫 振 动产生交变电磁场, 其频率与入射线的频率相同, 这种由于散射线与入射线的波 长和频率一 致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件,故称为相干散射。 ⑵ 当χ射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后,可以得到波长比入射χ射线长的χ 射 线,且波长随散射方向不同而改变,这种散射现象称为非相干散射。 ⑶ 一个具有足够能量的χ射线光子从原子内部打出一个 K 电子,当外层电子来填充 K 空位 时,将向外辐射 K 系χ射线,这种由χ 射线光子激发原子所发生的辐射过程, 称荧光辐射。 或二次荧光。 ⑷ 指χ射线通过物质时光子的能量大于或等于使物质原子激发的能量, 如入射光子的能 量 必须等于或大于将 K 电子从无穷远移至 K 层时所作的功 W, 称此时的光子波长 λ称为 K 系的 吸收限。 ⑸ 当原子中 K 层的一个电子被打出后,它就处于 K 激发状态,其能量为 Ek 。如果 一个 L 层 电子来填充这个空位,电离就变成了 L 电离, K 其能由 Ek 变成 El ,此 时将释 Ek-El 的能量, 可能产生荧光χ射线,也可能给予 L 层的电子,使其脱离原子 产生二次电离。 即 K 层的一个 空位被 L 层的两个空位所替代, 这种现象称俄歇效应。 29.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中? 答:波动性 主要表现为以一定的频率和波长在空间传播,反映了物质运动的连续性;微粒性 主要表现 为以光子形式辐射和吸收时具有一定的质量, 能量和动量, 反映了物质运动的分立性。 30.计算当管电压为 50 kv 时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱 的波限和光子的最大动能。 解: 已知条件:U=50kv -31 电子静止质量:m0=9.1×10 kg 8 光速:c=2.998×10 m/s -19 电 子电量:e=1.602×10 C -34 普朗克常数:h=6.626×10 J.s 电子从阴极飞出到达靶的过程中所 获得的总动能为 -19 -18 E=eU=1.602×10 C×50kv=8.01×10 kJ 2 由于 E=1/2m0v0 所以电子 与靶碰撞时的速度为 1/2 6 v0=(2E/m0) =4.2×10 m/s 所发射连续谱的短波限 λ0 的大小仅取 决于加速电压 λ0(?)=12400/v(伏) =0.248? 辐射出来的光子的最大动能为 -15 E0 =h?0 =hc/λ0=1.99×10 J 31.为什么会出现吸收限?K 吸收限为什么只有一个而 L 吸收限有三个?当激发 K 系荧光Ⅹ 射线时,能否伴生 L 系?当 L 系激发时能否伴生 K 系? 答:一束 X 射线通 过物体后,其强度将被衰减,它是被散射和吸收的结果。并且吸收是造成 强度衰减的主要 原因。 物质对 X 射线的吸收, 是指 X 射线通过物质对光子的能量变成了其他 形成的能 量。X 射线通过物质时产生的光电效应和俄歇效应,使入射 X 射线强度被衰减,是 物质 对 X 射线的真吸收过程。 光电效应是指物质在光子的作用下发出电子的物理过程。 因为 L 层有三个亚层,每个亚层的能量不同,所以有三个吸收限,而 K 只是一层,所以 只有一 个吸收限。 激发 K 系光电效应时, 入射光子的能量要等于或大于将 K 电子从 K 层移 到无穷远时所做 的功 Wk。从 X 射线被物质吸收的角度称入 K 为吸收限。当激发 K 系 荧光 X 射线时,能伴生 L 系, 因为 L 系跃迁到 K 系自身产生空位,可使外层电子迁入, 而 L 系激发时不能伴生 K 系。 32.物相定量分析的原理是什么?试述用 K 值法进行物相定量分析的过程。 答:根 据 X 射线衍射强度公式,某一物相的相对含量的增加,其衍射线的强度亦随之增加, 所 以通过衍射线强度的数值可以确定对应物相的相对含量。 由于各个物相对 X 射线的吸收 影 响不同,X 射线衍射强度与该物相的相对含量之间不成线性比例关系,必须加以修正。 这是内标法的一种,是事先在待测样品中加入纯元素,然后测出定标曲线的斜率即 K 值。 当要进行这类待测材料衍射分析时,已知 K 值和标准物相质量分数ωs ,只要测出 a 相 强 度 Ia 与标准物相的强度 Is 的比值 Ia/Is 就可以求出 a 相的质量分数ωa。

现代材料分析方法试题及答案2.

现代材料分析方法试题及答案2.

《现代材料分析方法》期末试卷1一、单项选择题(每题 2 分,共10 分)1.成分和价键分析手段包括【b 】(a)WDS、能谱仪(EDS)和XRD (b)WDS、EDS 和XPS(c)TEM、WDS 和XPS (d)XRD、FTIR 和Raman2.分子结构分析手段包括【 a 】(a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR 和WDS(c)SEM、TEM 和STEM(扫描透射电镜)(d)XRD、FTIR 和Raman3.表面形貌分析的手段包括【 d 】(a)X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)(b) SEM 和透射电镜(TEM)(c) 波谱仪(WDS)和X 射线光电子谱仪(XPS)(d) 扫描隧道显微镜(STM)和SEM4.透射电镜的两种主要功能:【b 】(a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构(c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键5.下列谱图所代表的化合物中含有的基团包括:【 c 】(a)–C-H、–OH 和–NH2 (b) –C-H、和–NH2,(c) –C-H、和-C=C- (d) –C-H、和CO二、判断题(正确的打√,错误的打×,每题2 分,共10 分)1.透射电镜图像的衬度与样品成分无关。

(×)2.扫描电镜的二次电子像的分辨率比背散射电子像更高。

(√)3.透镜的数值孔径与折射率有关。

(√)4.放大倍数是判断显微镜性能的根本指标。

(×)5.在样品台转动的工作模式下,X射线衍射仪探头转动的角速度是样品转动角速度的二倍。

(√)三、简答题(每题 5 分,共25 分)1. 扫描电镜的分辨率和哪些因素有关?为什么?和所用的信号种类和束斑尺寸有关,因为不同信号的扩展效应不同,例如二次电子产生的区域比背散射电子小。

束斑尺寸越小,产生信号的区域也小,分辨率就高。

2.原子力显微镜的利用的是哪两种力,又是如何探测形貌的?范德华力和毛细力。

《材料现代分析方法》练习与答案修改.

《材料现代分析方法》练习与答案修改.

一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X 射线学分支是( B )A.X 射线透射学;B.X 射线衍射学;C.X 射线光谱学;2. M 层电子回迁到K 层后,多余的能量放出的特征X 射线称( B )A. K α;B. K β;C. K γ;D. L α。

三、填空题1. 当X 射线管电压超过临界电压就可以产生 连续 X 射线和 特征 X 射线。

2. X 射线与物质相互作用可以产生 俄歇电子 、 透射X 射线 、 散射X射线 、 荧光X 射线 、 光电子、 热 、 、 。

3. X 射线的本质既是 波长极短的电磁波 也是 光子束 ,具有 波粒二象性 性。

5. 短波长的X 射线称 ,常用于 ;长波长的X 射线称,常用于 。

一、选择题1.有一倒易矢量为*+*+*=*c b a g 22,与它对应的正空间晶面是( )。

A. (210);B. (220);C. (221);D. (110);。

2.有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm ,用铁靶K α(λK α=0.194nm )照射该晶体能产生( )衍射线。

A. 三条; B .四条; C. 五条;D. 六条。

3.一束X 射线照射到晶体上能否产生衍射取决于( )。

A .是否满足布拉格条件;B .是否衍射强度I ≠0;C .A+B ;D .晶体形状。

4.面心立方晶体(111)晶面族的多重性因素是( )。

A .4;B .8;C .6;D .12。

二、填空题1. 倒易矢量的方向是对应正空间晶面的 ;倒易矢量的长度等于对应 。

2. 只要倒易阵点落在厄瓦尔德球面上,就表示该 满足 条件,能产生 。

3. 影响衍射强度的因素除结构因素、晶体形状外还有 , , , 。

4. 考虑所有因素后的衍射强度公式为 ,对于粉末多晶的相对强度为 。

5. 结构振幅用 表示,结构因素用 表示,结构因素=0时没有衍射我们称或 。

对于有序固溶体,原本消光的地方会出现 。

三、选择题1.最常用的X 射线衍射方法是( )。

材料现代分析方法试题3(参考答案)

材料现代分析方法试题3(参考答案)

材料现代分析方法试题6(参考答案)一、基本概念题(共10题,每题5分)1.试述获取衍射花样的三种基本方法及其用途?答:获取衍射花样的三种基本方法是劳埃法、旋转晶体法和粉末法。

劳埃法主要用于分析晶体的对称性和进行晶体定向;旋转晶体法主要用于研究晶体结构;粉末法主要用于物相分析。

2.试述布拉格公式2dHKLsinθ=λ中各参数的含义,以及该公式有哪些应用?答:d HKL表示HKL晶面的面网间距,θ角表示掠过角或布拉格角,即入射X射线或衍射线与面网间的夹角,λ表示入射X射线的波长。

该公式有二个方面用途:(1)已知晶体的d值。

通过测量θ,求特征X射线的λ,并通过λ判断产生特征X射线的元素。

这主要应用于X射线荧光光谱仪和电子探针中。

(2)已知入射X射线的波长,通过测量θ,求晶面间距。

并通过晶面间距,测定晶体结构或进行物相分析。

3.试述罗伦兹三种几何因子各表示什么?答:洛伦兹因数第一种几何因子是表示样品中参与衍射的晶粒大小对衍射强度的影响。

,第二种几何因子是表示样品中参与衍射的晶粒的数目对衍射强度的影响,第三种几何因子是表示样品中衍射线位置对衍射强度的影响。

4.在一块冷轧钢板中可能存在哪几种内应力?它们的衍射谱有什么特点?答:在一块冷轧钢板中可能存在三种内应力,它们是:第一类内应力是在物体较大范围内或许多晶粒范围内存在并保持平衡的应力。

称之为宏观应力。

它能使衍射线产生位移。

第二类应力是在一个或少数晶粒范围内存在并保持平衡的内应力。

它一般能使衍射峰宽化。

第三类应力是在若干原子范围存在并保持平衡的内应力。

它能使衍射线减弱。

5.设[uvw]是(hkl)的法线,用正、倒空间的变换矩阵写出它们之间的指数互换关系。

答:[uvw]=〔G〕[u*v*w*]其中[]⎥⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎢⎣⎡=333231232221131211A A A A A A A A A G ,()()⎩⎨⎧=≠=⋅j i j i a a j i 10* 6.给出简单立方、面心立方、体心立方以及密排六方晶体结构电子衍射发生消光的晶面指数规律。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

《近代材料测试方法》复习题1.材料微观结构和成分分析可以分为哪几个层次?分别可以用什么方法分析?答:化学成分分析、晶体结构分析和显微结构分析化学成分分析——常规方法(平均成分):湿化学法、光谱分析法——先进方法(种类、浓度、价态、分布):X射线荧光光谱、电子探针、光电子能谱、俄歇电子能谱晶体结构分析:X 射线衍射、电子衍射显微结构分析:光学显微镜、透射电子显微镜、扫面电子显微镜、扫面隧道显微镜、原子力显微镜、场离子显微镜2.X 射线与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用?答:除贯穿部分的光束外,射线能量损失在与物质作用过程之中,基本上可以归为两大类:一部分可能变成次级或更高次的 X 射线,即所谓荧光 X 射线,同时,激发出光电子或俄歇电子。

另一部分消耗在 X 射线的散射之中,包括相干散射和非相干散射。

此外,它还能变成热量逸出。

(1)现象/现象:散射X 射线(想干、非相干)、荧光X 射线、透射X 射线、俄歇效应、光电子、热能(2)①光电效应:当入射X 射线光子能量等于某一阈值,可击出原子内层电子,产生光电效应。

应用:光电效应产生光电子,是X 射线光电子能谱分析的技术基础。

光电效应使原子产生空位后的退激发过程产生俄歇电子或 X 射线荧光辐射是X 射线激发俄歇能谱分析和 X 射线荧光分析方法的技术基础。

②二次特征辐射(X射线荧光辐射):当高能X射线光子击出被照射物质原子的内层电子后,较外层电子填其空位而产生了次生特征X 射线(称二次特征辐射)。

应用:X 射线被物质散射时,产生两种现象:相干散射和非相干散射。

相干散射是X射线衍射分析方法的基础。

3.电子与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用?答:当电子束入射到固体样品时,入射电子和样品物质将发生强烈的相互作用,发生弹性散射和非弹性散射。

伴随着散射过程,相互作用的区域中将产生多种与样品性质有关的物理信息。

(1)现象/规律:二次电子、背散射电子、吸收电子、透射电子、俄歇电子、特征X 射线(2)获得不同的显微图像或有关试样化学成分和电子结构的谱学信息4.光电效应、荧光辐射、特征辐射、俄歇效应,荧光产率与俄歇电子产率。

特征X 射线产生机理。

光电效应:当入射X 射线光子能量等于某一阈值,可击出原子内层电子,产生光电效应。

荧光辐射:被打掉了内层电子的受激原子,将发生外层电子向内层跃迁的过程,同时辐射出波长严格一定的特征X 射线。

这种利用X 射线激发而产生的特征辐射为二次特征辐射,也称为荧光辐射。

特征辐射:俄歇效应:原子K 层电子被击出,L 层电子向K 层跃迁,其能量差被邻近电子或较外层电子所吸收,使之受激发而成为自由电子。

这种过程就是俄歇效应,这个自由电子就称为俄歇电子。

荧光产率:激发态分子中通过发射荧光而回到基态的分子占全部激发态分子的分数。

俄歇电子产率:5.拉曼光谱分析的基本原理及应用。

什么斯托克斯线和反斯托克斯线?什么是拉曼位移?(振动能级)原理:光照射到物质上发生弹性散射和非弹性散射. 弹性散射的散射光是与激发光波长相同的成分,非弹性散射的散射光有比激发光波长长的和短的成分, 统称为拉曼效应。

应用:拉曼光谱对研究物质的骨架特征特别有效。

红外和拉曼分析法结合,可更完整地研究分子的振动和转动能级,从而更可靠地鉴定分子结构。

可以进行半导体、陶瓷等无机材料的分析。

是合成高分子、生物大分子分析的重要手段。

在燃烧物和大气污染物分析等方面有重要应用。

有两种情况:(1)分子处于基态振动能级,与光子碰撞后,从光子中获取能量达到较高的能级。

若与此相应的跃迁能级有关的频率是ν1,那么分子从低能级跃到高能级从入射光中得到的能量为hν1,而散射光子的能量要降低到hν0-hν1,频率降低为ν0-ν1。

(2)分子处于振动的激发态上,并且在与光子相碰时可以把hν 1 的能量传给光子,形成一条能量为hν0+hν1和频率为ν0+ν1的谱线。

通常把低于入射光频的散射线ν0-ν1称为斯托克斯线。

高于入射光频的散射线ν0+ν1称为反斯托克斯线。

6.X 射线荧光光谱定性、定量分析的基本原理及应用(适用),什么是基本体吸收效应?如何消除?定性分析:在谱仪上配上计算机,可以直接给出试样内所有元素的名称。

1、确定某元素的存在,除要找到易识别的某一强线外,最好找出另一条强度高的线条,以免误认。

2、区分哪些射线是从试样内激发的,那哪射线是靶给出的,靶还可能有杂质,也会发出X 射线。

3、当X 射线照射到轻元素上时,由于康普顿效应,还会出现非相干散射。

可通过相应的实验将它们识别。

定量分析:如果没有影响射线强度的因素,试样内元素发出的荧光射线的强度与该元素在试样内的原子分数成正比。

但是实际上存在影响荧光X 射线强度的因素,这些因素叫做基体吸收效应和增强效应。

元素A 的荧光X 射线强度不但与元素A 的含量有关,还与试样内其他元素的种类和含量有关。

当A 元素的特征x 射线能量高于B 元素的吸收限(或相反)时,则A 元素的特征X 射线也可以激发B 元素,于是产生两种影响,其中A 元素的特征x 荧光照射量率削弱的为吸收效应。

吸收包括两部分:一次X 射线进入试样时所受的吸收和荧光X 射线从试样射出时所受的吸收。

实验校正法:外标法、内标法、散射线标准法,增量法数学校正法:经验系数法、基本参数法7.波谱仪与能谱仪的展谱原理及特点。

(特征X 射线检测)波谱仪:利用X 射线的波长不同来展谱。

1)能量分辨率高——突出的优点,分辨率为5eV2)峰背比高:这使WDS 所能检测的元素的最低浓度是EDS 的1/10,大约可检测100 ppm。

3)采集效率低,分析速度慢。

4)由于经晶体衍射后,X 射线强度损失很大,其检测效率低。

5)波谱仪难以在低束流和低激发强度下使用,因此其空间分辨率低且难与高分辨率的电镜(冷场场发射电镜等)配合使用。

能谱仪:利用X 射线的能量不同来展谱。

优点:1)分析速度快:同时接收和检测所有信号,在几分钟内分析所有元素。

2)灵敏度高:收集立体角大,不用聚焦,探头可靠近试样,不经衍射,强度没有损失。

可在低束流(10-11 A)条件下工作,有利于提高空间分辨率。

3)谱线重复性好:没有运动部件,稳定性好,没有聚焦要求,所以谱线峰值位置的重复性好且不存在失焦问题,适合于比较粗糙表面的分析。

缺点:1)能量分辨率低:在130 eV 左右,比WDS 的5eV 低得多,谱线的重叠现象严重。

2)峰背比低:探头直接对着样品,在强度提高的同时,背底也相应提高。

EDS 所能检测的元素的最低浓度是WDS 的十倍,最低大约是1000 ppm。

3)工作条件要求严格:探头必须保持在液氦冷却的低温状态,即使是在不工作时也不能中断,否则导致探头功能下降甚至失效。

8.XPS 的分析原理是什么?(什么效应)光电效应:在外界光的作用下,物体(主要指固体)中的原子吸收光子的能量,使其某一层的电子摆脱其所受的束缚,在物体中运动,直到这些电子到达表面。

如果能量足够、方向合适,便可离开物体的表面而逸出,成为光电子。

光电子动能为:Ec =hv- E B -(-w)9.XPS 的应用及特点,XPS 中的化学位移有什么用?分析表面化学元素的组成、化学态及其分布,特别是原子的价态、表面原子的电子密度、能级结构。

最大特点是可以获得丰富的化学信息,它对样品的损伤是最轻微的,定量也是最好的。

它的缺点是由于X 射线不易聚焦,因而照射面积大,不适于微区分析。

(1)可以分析除H 和He 以外的所有元素,可以直接得到电子能级结构的信息。

(2)它提供有关化学键方面的信息,即直接测量价层电子及内层电子轨道能级,而相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,互相干扰少,元素定性的标志性强。

(3)是一种无损分析。

(4)是一种高灵敏超微量表面分析技术。

分析所需试样约10-8g 即可,绝对灵敏度高达10-18g,样品分析深度约2 nm。

由于原子处于不同的化学环境里而引起的结合能位移称为化学位移。

化学位移的量值与价电子所处氧化态的程度和数目有关。

氧化态愈高,则化学位移愈大。

10.紫外光电子能谱原理及应用。

(激发什么电子?)紫外光电子能谱仪与X 射线光电子能谱仪非常相似,只需把激发源变换一下即可。

真空紫外光源只能激发样品中原子、分子的外层价电子或固体的价带电子。

测量固体表面价电子和价带分布、气体分子与固体表面的吸附、以及化合物的化学键、研究振动结构。

11.俄歇电子能谱分析的原理、应用及特点。

(俄歇电子与什么有关?)原理:俄歇效应。

俄歇电子的能量与参与俄歇过程的三个能级能量有关。

能量是特定的,与入射 X 射线波长无关,仅与产生俄歇效应的物质的元素种类有关。

应用:可以做物体表面的化学分析、表面吸附分析、断面的成分分析。

1)材料表面偏析、表面杂质分布、晶界元素分析;2)金属、半导体、复合材料等界面研究;3)薄膜、多层膜生长机理的研究;4)表面化学过程(如腐蚀、钝化、催化、晶间腐蚀、氢脆、氧化等)研究;5)集成电路掺杂的三维微区分析;6)固体表面吸附、清洁度、沾染物鉴定等。

特点:1)作为固体表面分析法,其信息深度取决于俄歇电子逸出深度(电子平均自由程)。

对于能量为 50eV-2keV 范围内的俄歇电子,逸出深度为 0.4-2nm,深度分辨率约为 l nm,,横向分辨率取决于入射束斑大小。

2)可分析除 H、He 以外的各种元素。

3)对于轻元素 C、O、N、S、P 等有较高的分析灵敏度。

4)可进行成分的深度剖析或薄膜及界面分析。

12.扫描隧道显微镜基本原理及特点、工作模式。

(量子隧道效应,如何扫描?恒高、恒电流工作模式,隧道谱应用)基本原理:尖锐金属探针在样品表面扫描,利用针尖-样品间纳米间隙的量子隧道效应引起隧道电流与间隙大小呈指数关系,获得原子级样品表面形貌特征图象。

量子隧道效应:当微观粒子的总能量小于势垒高度时,该粒子仍能穿越这一势垒。

金属探针安置在三个相互垂直的压电陶瓷(Px、Py、Pz)架上,当在压电陶瓷器件上施加一定电压时,由于压电陶瓷器件产生变形,便可驱动针尖在样品表面实现三维扫描;隧道谱应用:可对样品表面显微图像作逐点分析,以获得表面原子的电子结构(电子态)等信息。

在样品表面选一定点,并固定针尖与样品间的距离,连续改变偏压值从负几V~正几V,同时测量隧道电流,便可获得隧道电流随偏压的变化曲线,即扫描隧道谱。

特点:1)STM 结构简单。

2)其实验可在多种环境中进行:如大气、超高真空或液体(包括在绝缘液体和电解液中)。

3)工作温度范围较宽,可在mK 到1100K 范围内变化。

这是目前任何一种显微技术都不能同时做到的。

4)分辨率高,扫描隧道显微镜在水平和垂直分辨率可以分别达到0.1nm 和0.01nm。

相关文档
最新文档