流子的瞬态输运过程
半导体器件物理-载流子输运现象
载流子漂移
电阻率的测量
最常用的方法为四探针法,如图,其中探针间的距离相等,一个从恒定电
流源来的小电流 I,流经靠外侧的两个探针,而对于内侧的两个探针 间,测量其电压值V。就一个薄的半导体样品而言,若其厚度为W, 且W远小于样品直径d,其电阻率为
V W CF ( cm). I
其 中 CF 表 示 校 正 因 数 (correction factor).校正 因数视 d/s 比例而定,其 中s为探针的间距。当 d/s>20,校正因数趋近于 4.54.
载流子漂移
电导率(conductivity)与电阻率(resistivity): 电导率与电阻率互为倒数,均是描述半导体导电性能的基 本物理量。电导率越大,导电性能越好。 半导体的电导率由以下公式计算:
q n n p p
1 . q(nn p p ) 1
p , Dp
20 10 5
1018 1019
1020
100
扩散系数/(cm 2 s -1 )
电子及空穴的迁移率皆随 着杂质浓度的增加而减少, 并于最后在高浓度下达到一 个最小值;
p , Dp
10
15
2 1
10
16
10
17
10000
GaAs
200
扩散系数/(cm 2 s -1 )
迁移率在低杂质浓度下达 到一最大值,这与晶格散射 所造成的限制相符合;
2000
50 Si
迁移率/[cm2 (V S ) 1 ]
10 5
200 100 50 10 20
14
迁移率/[cm2 (V S )
100
50
电子的迁移率大于空穴的 迁移率,而较大的电子迁移 率主要是由于电子较小的有 效质量所引起的。
纳秒激光辐照下HgCdTe光伏探测器的瞬态响应特性退化
摘 要 :为研 究光伏探测 器瞬 态响应特性在短脉 冲激光作 用下 的变化规律 ,以一种 室温下零偏压 工作的 HgCdTe光 电二极 管为 实验对 象,测量 了该 器件对脉 冲宽度约 16ns的不 同强度响应波段 内激光的响应信 号波形 。在探测 器的对数线性响应 区内,随着入射激光 能量 密度从 约 7.2 nJ/cm 增 大到 75 txJ/cmz,响应波 形 的宽度逐渐增大 ,半 高宽约 由 55ns增大到 235 ns,底 宽约 由 170ns增大到 380as。脉冲响应波形的展 宽 意味 着器件的瞬态响应特性发 生了退化。通过 分析 强注入条件 下光 电二极 管准 中性 区光 生栽流子 扩散过 程 ,以及结 电场与结电容 变化对过剩栽流子输运过程 的影响 ,对上述光伏探 测器瞬态响应特性退化 的特征 进 行 了机 理 解释 。 关 键词 :激光辐照效应 ; 光伏探 测器 ; 瞬态响应 ; 脉 冲信号展 宽 ; HgCdTe 中 图 分 类 号 :TN215;TN249 文 献 标 志 码 :A DOI:l0.3788/IRLA201847.0106001
(State Key Labormo ̄ of Laser Interaction with M atter,No ̄hwest Institute of Nuclear Technology,Xi an 710024,China)
Abstract:In order to investigate the transient response characteristics of photovoltaic detectors irradiated by short—pulse laser,the response waveform s of a HgCdTe photodiode to laser pulses with 16 ns duration and different laser intensities were m easured。 The photodiode worked with room tem perature and zero bias,and t h e laser wavelength was in th e response spectrum of the photodiode.In the detector S linearly logar it h mic response zone,th e signal waveform broadened gradually with the incident laser energy density from 7.2 nJ/cm。to 75 IxJ/cm .The ful1 width at half m aximum of signal w aveform rose to 235 ns from 55 as,at the sam e tim e t he bottom width rose to 380 ns from 170 ns.The pulse response broadening of the detector im plied degradation of its transient response characteristics.The m echanism of the response degradation w as explained via analysis on the diffusion process of photocarriers in the quasineutral region
32载流子的瞬态输讲义运过程
Bolzmann输运方程求解方法
近似解析法
微分方程法 麦克斯韦分布函数法 移位麦克斯韦分布函数法
数值计算法
迭代法 蒙特卡罗算法
平衡方程法
移位麦克斯韦分布函数法
移位麦克斯韦分布函数是用移位麦克斯韦分布函数来描 述载流子在动量空间的瞬态分布,也称为量子动力学方法.
该方法较适合于高载流子浓度的情况,这时载流于间散 射将是主要的弛豫机构,能量和动量弛豫都可以通过载流子 间的散射来进行,这时载流子由电场所获得的动量在传递给 晶格之前将先在载流子之间进行分配,所有载流子都将有一 个共同的动量或一致的漂移速度vd。载流子作为整体可看成 为—个相对独立的系统,它从电场获得一定的漂移速度,而在 载流子系统内部则遵从麦克斯韦分布,但该分布将在速度空间 移位一个共同的Vd,因此,称为移位麦克斯分布函数.
降低工作温度和掺杂浓度, 将有利于提高过冲速度.
三、 关于计算方法的说明
半导体中载流子的输运性质一般可用Bolzmann输运方程来描述
f t v f r q k f k d k [f( k ) w ( k ,k ) f( k ) w ( k ,k )
v 1 E k
Bolzmann输运方程三个假设: 1. 可以采用有效质量和能带模型; 2. 碰撞过程在空间和时间上都是短暂瞬时的 3. 散射与电场无关
可以说,速度过冲效应是动量很大、而能量(或电于温 度)较低的非热电子在强电场作用下的—种瞬态输运过程中 的现象。在半导体器件中.电了从低电场区进入高电场区的 开始瞬间,也会有这种瞬态现象。
不仅电子从低电场区进入高电场区时有一瞬态过 程.而且当电子从高电场区进入低电场区时也同样存在 有一瞬态过程—速度下冲效应.即漂移速度低于相应定 态值的现象。
半导体物理学题库总结
一.填空题1.能带中载流子的有效质量反比于能量函数关于波矢的_________,引入有效质量的意义在于其反应了晶体资料的_________的作用。
(二阶导数,内部势场)2.半导体导带中的电子浓度取决于导带的_________ (即量子态按能量怎样散布)和_________(即电子在不一样能量的量子态上怎样散布)。
(状态密度,费米散布函数), 费米能级较高的半导体界面一侧带________电,达到热均衡后3.两种不一样半导体接触后二者的费米能级________。
(正,相等)4.半导体硅的价带极大值位于空间第一布里渊区的中央,其导带极小值位于________方向上距布里渊区界限约0.85 倍处,所以属于_________半导体。
( [100] ,间接带隙)5.空隙原子和空位成对出现的点缺点称为_________;形成原子空位而无空隙原子的点缺陷称为 ________。
(弗仑克耳缺点,肖特基缺点)6.在必定温度下,与费米能级持平的量子态上的电子占有概率为_________,高于费米能级 2kT 能级处的占有概率为 _________。
( 1/2, 1/1+exp(2) )7.从能带角度来看,锗、硅属于_________半导体,而砷化稼属于_________半导体,后者有益于光子的汲取和发射。
(间接带隙,直接带隙)8.往常把听从 _________的电子系统称为非简并性系统,听从_________的电子系统称为简并性系统。
(玻尔兹曼散布,费米散布)9. 关于同一种半导体资料其电子浓度和空穴浓度的乘积与_________相关,而关于不一样的半导体资料其浓度积在必定的温度下将取决于_________的大小。
(温度,禁带宽度)10. 半导体的晶格构造式多种多样的,常有的Ge 和 Si 资料,其原子均经过共价键四周体相互联合,属于 ________构造;与 Ge 和 Si 晶格构造近似,两种不一样元素形成的化合物半导体经过共价键四周体还能够形成_________和纤锌矿等两种晶格构造。
输运现象
§3 - 1
黏性现象的宏观规律
当系统各部分的宏观物理性质如流速、 当系统各部分的宏观物理性质如流速、温 度或密度不均匀时,系统就处于非平衡态。 度或密度不均匀时,系统就处于非平衡态。在 不受外界干预时, 不受外界干预时,系统总要从非平衡态自发地 向平衡态过渡,这种过渡为输运过程。 向平衡态过渡,这种过渡为输运过程。 层流与 一、层流与牛顿黏性定律 在流动过程中, 在流动过程中,相邻质点的轨迹彼此稍 有差别,不同流体质点的轨迹不相互混杂, 有差别,不同流体质点的轨迹不相互混杂, 这样的流动为层流 层流发生在流速较小时. 层流。 这样的流动为层流。层流发生在流速较小时
du fdt = −η ⋅ ⋅ dt ⋅ A dz
dA
u0 B df´ u=u(z) df C
du dp = −η ⋅ ⋅ dt ⋅ A dz
u=0
x
dp du = −η ⋅ ⋅ dtA dz
⇒
dp du JP = = −η ⋅ dtA dz
(3.3)
旋转黏度计
例3.1 夹层内的空气对B 筒施予黏 夹层内的空气对B 性力。A 筒保持一恒定的转速,B 筒相 性力。 筒保持一恒定的转速,
u=0
x
对于面积为 dA 的相邻流体层来说,作用在上一层流 的相邻流体层来说, 体的阻力 df´必等于作用于下一层流体 df 的加速力。 的加速力。
牛顿黏性(viscosity)定律: 牛顿黏性(viscosity)定律:
z
在相邻两层流体中, 在相邻两层流体中,相 对速度较大的流体总是受到 阻力, 阻力,即速度较大一层流体 受到的黏性力的方向总与流 动速度方向相反, 动速度方向相反,故
*例3.3: 两容器的体积为V,用长为L ,截面积为 3.3: 两容器的体积为V 用长为L
瞬态输送特性试验操作流程
瞬态输送特性试验操作流程Transient transport characteristics test operation process is a crucial procedure to evaluate the performance of various systems or devices in terms of how quickly they respond to changes in inputs.瞬态输送特性试验操作流程是评估各种系统或设备在输入变化时反应速度的关键步骤。
通过这一操作流程,我们可以了解系统在变化条件下的响应能力,以便进一步优化设计和提高性能。
One of the key steps in conducting transient transport characteristics tests is to first establish the test objectives and criteria. This involves clearly defining what aspects of the system or device performance need to be evaluated, as well as setting specific criteria for success or failure.进行瞬态输送特性测试的关键步骤之一是首先确定测试目标和标准。
这涉及清楚地定义需要评估的系统或设备性能的各个方面,以及设定成功或失败的具体标准。
Once the test objectives and criteria are established, the next step isto set up the test equipment and instrumentation. This includes ensuring that all necessary sensors, data acquisition systems, and other devices are properly calibrated and ready for use.确定测试目标和标准后,下一步是设置测试设备和仪器。
气液两相流管道中的瞬态流动及清管操作模型
TACITE瞬态清管模型模拟清管器的运动。
1 简化的瞬态模型及清管模型[1]
1.1简化的瞬态模型 对于气体,将应用近似的稳态假设。气体的连
程为掣+旦掣:o。 续性方程为mg一融Q。一fDgV。A。;液体的连续性方
◇分层流 在分层流中,具有局部平衡假设的两相流动量
方程为:
分层流的液体动量方程1_dP+C.1y。I v,l—
(塞)平均=~(警+p。gsinO)等一禹川+
r圭靠Ps(Vsr+Vlf)lysr+V-r I+p,gsin口丁If
此处注意Vtt的正方向是上游方向。剪切系数可表 示为C=厂S/2A,段塞流的雷诺数小于2 000,摩 擦因子为64/Re。在分层流中,根据Cohen和
*本文受到国家科技重大专项项目“煤层气田地面集输工艺及监测技术”(编号:2009ZX05039)的资助。
流的预测便显得十分重要。
2.5 TACITE清管模型[31 TACITE编码中清管模型对清管过程中的质
量守恒充分考虑了管线泄漏影响,并对清管器前部
堆积液体量进行预测;清管过程中的力平衡考虑了
清管器两侧压力损失和使清管速度降低的壁面阻力 的影响。可设定发球位置和接收位置、清管器的长
度和质量,以及壁面摩擦因子。
Pl oz
Yt
Ci卫L(V。一V1)lVg—Vl I+gsinO一0
pty
分层流的气体动量方程丢五dP+禹E+ 兰(V。一V1)}y。一Vl I+gsinO亍0
◇环状流 该区域与分层流相似,当气体没有湿润管壁时
(C。一o),分层流的方程对于环状流同样有效。 ◇泡状流或雾状流 对于这两个区域,假设在气相和液相之间没有
关键词 瞬态流动瞬态模拟清管 段塞流两相流
DOI:10.3969/j.issn.1002—641X.2010.10.013
半导体物理与器件-第五章 载流子输运现象
考虑非均匀掺杂半导体,假设没有外加电场,半导体处于热 平衡状态,则电子电流和空穴电流分别等于零。可写为:
Jn
0
enn Ex
eDn
dn dx
(5.41)
设半导体满足准中性条件,即n≈Nd(x),则有:
Jn
0
eNd
x nEx
eDn
dNd x
dx
(5.42)
将式 5.40代 入上式:
0
eNd
x n
kT e
1
Nd x
dNd x
dx
eDn
dNd x
dx
(5.43) 爱因斯
Dn kT (5.44a) Dp kT (5.44b)
n e
p e
Dn Dp kT
坦关系
(5.45)
n p e
25
5.3杂质的浓度梯度
典型迁移率及扩散系数
注意: (1)迁移率和扩散系数均是温度的函数; (2)室温下,扩散系为迁移率的1/40。
移电流密度为
Jdrf d 单位:C/cm2s或A/cm2
空穴形成的漂移电流密度 JP drf epdp (5.2)
e单位电荷电量;p:空穴的数量;vdp 为空穴的平均漂移速度。
4
5.1载流子的漂移运动 漂移电流密度
弱电场条件下,平均漂移速度与电场强度成正比,有
dp pE (5.4) μp称为空穴迁移率。单位cm2/Vs
迁移率与电场大小什么关系?
10
5.1载流子的漂移运动 迁移率
载流子的散射:
声子散射和电离杂质散射
当温度高于绝对零度时,半导体中的原子由于具有一定的热 能而在其晶格位置上做无规则热振动,破坏了势函数,导致载 流子电子、空穴、与振动的晶格原子发生相互作用。这种晶格 散射称为声子散射。
8-6输运过程
kT 2 2 πd p
在标准状态下,多数气体平均自由程 ~10-8m, 只有氢气约为10-7m。一般d~10-10m,故 d。 可求得 Z ~109/秒。 每秒钟一个分子竟发生几十亿次碰撞!
5
6
7
8
9
10
11
二、黏性 在流体中作相对运动的两层流体之间的接触面 上,将产生一对阻碍两层流体相对运动的、大小 相等而方向相反的黏力作用,其大小为
因为气体定向流动的速率沿 z方向递增,所以实际 上dp是沿z轴的负方向由上侧气层通过S面输运到 下气层的定向运动动量,应该写为 1 d p nmv (u2 u1 ) S d t 6 在S面上、下两侧气层中将要交换的分子,在穿 越 S 面以前最后一次碰撞的位置上定向运动速率 分别为u2 和 u1 , 这些分子是处于 S面以上并与 S面相距一个 平均自由程的地方,即处于 z0 处,所以
z z0
ΔS T2 >T1
T2
dQ
T=T(z)
O x
T1
y
17
设想在z=z0处有一界面S,实验指出dt 时间内 通过S 沿z 轴方向传递的热量为:
叫做导热系数
dT dQ St dz z0
气体内的热传导过程是分子热运动平均动能 输运的宏观表现。 1 根据分子运动论可导出 vc
u2 >u1 u2 ΔS u1 y f
黏性现象是气体分子定向运动动量输运 的宏观表现。
13
先讨论在dt时间内两气层通过S面交换的分子 数,再讨论分子穿越 S所输运的定向运动动量。
右图中在接触面 S上侧 的气层中,在d t 时间内能 够穿越 S面到达下侧气层 的分子数为 1 dN ( n) S v d t 6 1 nv Sd t 6 分子的交换引起定向运动动量的迁移。 上、 下气层通过接触面 S 所迁移的定向运动动量的大 1 小为 d p (mu2 mu1 ) dN nmv (u2 u1 ) S d t 14 6
输运过程与粘性
输运过程的宏观表征:当系统各部分的宏观物理性质如流速、温度或密度不均匀时,系统就处于非平衡态,在不受外界干预时,系统总要从非平衡态自发地向平衡态过渡,这种过渡为输运过程。
动量输运:常压下气体的黏性就是由流速不同的流体层之间的定向动量的迁移产生的。
因此,气体的黏性现象是由于气体内大量分子无规则运动输运定向动量的结果。
而流体的粘性是由分子间的内聚力所产生的。
质量输运:自扩散与互扩散:当物质中粒子数密度不均匀时,由于分子的热运动使粒子从数密度高的地方迁移到数密度低的地方的现象为扩散。
互扩散是发生在混合气体中,自扩散是互扩散的一种特例。
它是一种使发生互扩散的两种气体分子的差异尽量变小,使它们相互扩散的速率趋于相等的互扩散过程。
气体扩散(diffusion)的微观机理扩散是在存在同种粒子的粒子数密度空间不均匀的情况下,由于分子热运动所产生的宏观粒子迁移或质量迁移。
它与流体由于空间压强不均匀所产生的流体流动不同,后者是由成团粒子整体定向运动产生。
扩散也向相反方向进行,因为在较高密度层的分子数较多,向较低密度层迁移的分子数就较相反方向多,从而表现为质量从高浓度流向了低浓度部分。
能量输运:热传导:当气体分子各处温度不同时,由于分子无规则运动和分子间碰撞,使热量由高温处向低温处输运。
热传导的微观机理热传导是由于分子热运动强弱程度(温度)不同所产生的能量传递。
在空间交换分子对的同时交换了具有不同热运动平均能量的分子,因而发生能量的迁移。
固体和液体中分子的热运动形式为振动。
温度高处分子振动幅度大,一个分子的振动导致整个分子的振动。
热运动能量就借助于相互联接的分子频繁的振动逐层地传递开去。
对流传热是指借助流动来达到传热的过程。
在对流发生时也伴随有热量的传递。
对流传热有自然对流和强迫对流之分。
自然对流中驱动流体流动的是重力。
当流体内部存在温度梯度,出现密度梯度时,较高温处流体的密度一般小于较低处流体的密度。
若密度由小到大对应的空间位置是由低到高,则受重力作用流体会发生流动强迫对流是非重力驱动下传输热量的过程。
第3章 载流子输运现象03
半导体器件物理
Semiconductor Physics and Devices
第3章 载流子输运现象
半导体器件物理
3.3 产生与复合过程
在热平衡下, 在热平衡下,pn=ni2。 如果有超量载流子导入半导体中, 称此状态为非 如果有超量载流子导入半导体中 , pn>ni2 , 称此状态为 非 平衡状态。 平衡状态。
EC
EV
载流子浓度由于高掺杂或大注入以至非常高时 载流子浓度由于高掺杂或大注入以至非常高 时 , 俄歇复合 就变得十分重要。 就变得十分重要。
第3章 载流子输运现象
11
半导体器件物理
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第3章 载流子输运现象
12
Gth = Rth = β nn 0 pn 0
其中, 为比例常数 下标0表示平衡 为比例常数, 其中 , β为比例常数 , 下标 表示平衡 分别表示热平衡下n型半 量 , nn0 及 pn0 分别表示热平衡下 型半 导体中的电子及空穴浓度。 导体中的电子及空穴浓度。
第3章 载流子输运现象 Gth Rth
第3章 载流子输运现象 EC
Gth
Rth EV
(a) 热平衡时
3
半导体器件物理
热平衡下的产生与复合规律
热平衡下,产生速率G 等于复合率R 热平衡下,产生速率 th等于复合率 th,所以载流子浓度维持 常数, 常数,且pn=ni2。 直接带隙半导体,导带底与价带顶位于同一动量线上, 直接带隙半导体,导带底与价带顶位于同一动量线上,进行 复合时无需额外动量,直接复合率R应正比于导带中的电子 复合时无需额外动量 , 直接复合率 应正比于导带中的电子 数目及价带中的空穴数目。 数目及价带中的空穴数目。 因此,对一热平衡状态的 型半导体 型半导体, 因此,对一热平衡状态的n型半导体,可得
半导体器件物理与工艺 第3章
3.4.3 海恩-肖克莱实验
半导体物理中经典实验之一,是证明少数载流子的 漂移及扩散。得到无施加电场下及施加电场下的载流 子分布。
3.5 热电子发射过程:假如载流子拥有足够的能量, 他们可能被发射至真空能级。金半—欧姆接触
3.6 隧穿过程:两个半导体样品距离为d,且势垒高 qV0=电子亲和力qx,假如距离足够小,即使电子能量 远小于势垒高,在左边半导体中电子也可能会跨过势 垒输运,并移至右边。这个过程与量子隧穿现象有关。 隧道二极管。
使用光电导方法来测量载流子寿命:
pn(t)=pn0+τpGLexp(-t/τp)
3.3.2 间接复合
非平衡载流子通过复合中心的复合
U=(pn-pn0)/ τp
3.3.3 表面复合——在半导体的表面 发生的复合过程 3.3.4 俄歇复合
n型
P型
3.4 连续性方程式
连续性方程式:考虑当 漂移、扩散及复合同时 发生时的总和效应 电子的连续性方程: 空穴的连续性方程: 稳态连续性方程:
第3章 载流子输运现象
3.1 载流子漂移
3.2
3.3
载流子扩散
产生与复合过程
3.4
3.5
连续性方程式
热电子发射过程
3.6
3.7
隧穿过程
强电场效应本章节 主题Fra bibliotek
电流密度方程式以及其中所含的漂移与扩散成 分 连续性方程式及其中所含的产生与复合成分 其他的输运现象,包括热电子发射,隧穿,转 移电子效应及冲击离子化 测量重要半导体参数的方法,如电阻率,迁移 率,多数载流子浓度及少数载流子寿命
Dp
d p
2
dx
2
3-2载流子的瞬态输运过程
载流子的速度过冲(下冲)过程
一、速度过冲过程概念
*速度与电场的关系
1. 在低电场时, 欧姆定律成立。V 与E成正比
2. 在高电场时, 欧姆定律不成立。(V = 107 )
*速度过冲
瞬态速度超过定态值的现象称为速度过冲.
过冲原因分析:
在电场E的作用下:导带电子受到的电场力为
F qE
在F的作用下:导带电子获得的加速度为
二、 速度过冲效应在器件中的影响
蒙特卡罗算法得到的速度过冲效应曲线
1. GaAs要经过1PS秒左右,电子速度才稳定到与电场相应的定态值.
2. GaAs电子速度可以过冲到其定态稳定值数倍以上.
3. Si过冲的速度和达到定态值前所经历的时间小得多。
1. GaAs要漂移过0.5μm左右,电子速度才稳定到与电场相应的定态值.
可以说,速度过冲效应是动量很大、而能量(或电于温 度)较低的非热电子在强电场作用下的—种瞬态输运过程中 的现象。在半导体器件中.电了从低电场区进入高电场区的 开始瞬间,也会有这种瞬态现象。 不仅电子从低电场区进入高电场区时有一瞬态过 程.而且当电子从高电场区进入低电场区时也同样存在 有一瞬态过程—速度下冲效应.即漂移速度低于相应定 态值的现象。
时,电子“温度”升高而成为热电子,电子与格波 的散射频繁,使驰豫时间减短.
于是有
( ) e m m 1
设为指数衰减,即,
( t ) /m m 1 1 m 0 m 1
q q ( ) t / t / ( t ) / m 1 m 0 m 1 m m m 1 m 1 v E ( 1 e ) E ( 1 e ) e d * * m m
§4-8输运过程
D---扩散系数
太原理工大学物理系
气体扩散现象的微观本质是气体分子数密度 的定向迁移,而这种迁移是通过气体分子无规热 运动来实现的. 四、三种迁移系数 内摩擦因数 热导率
1 3
v
C V, m M
1 3
v
1
扩散系数
D
3 太原理工大学物理系
z
dQ dT dz dSdt
T2 (<T1)
A
z0 o
dQ
dS T1
T=T(z)
B
x
太原理工大学物理系
气体热传导现象的微观本质是分子热运动 能量的定向迁移,而这种迁移是通过气体分子无 规热运动来实现的.
三、扩散现象 自然界气体的扩散现象是常见的现象, 容 器中不同气体间的互相渗透称为互扩散;同种气 体因分子数密度不同, 温度不同或各层间存在 相对运动所产生的扩散现象称为自扩散 .
§4-8 输运过程 气体的非平衡状态:系统各部分物理性质不均匀 如:气体内各部分的温度或压强不相等 各气体层之间有相对运动等 在不受外界干预时,系统从非平衡态自发向平衡 态过渡,称为输运过程。 输运过程讨论:非平衡态问题及其过渡 输运过程有三种:内摩擦、热传导和扩散。 太原理工大学物理系
一、内摩擦现象和定向动量的输运 气体中各层间有相对运动时,各层气体流动 速度不同,气体层间存在粘滞力的相互作用.
v
பைடு நூலகம்
气体层间的粘滞力
df du dz dS
z
u0
df
A
u=u(z)
u 0
为内摩擦因数
z0 dS o
df '
x
粒子在流体流动中的输运行为研究
粒子在流体流动中的输运行为研究1. 引言在自然界和工程应用中,流体流动是一个非常普遍的现象。
当涉及到粒子在流体中的输运行为时,理解和研究这些过程对于许多领域都具有重要意义,如环境科学、生物医学、材料科学等。
本文将探讨粒子在流体流动中的输运行为,并介绍相关的研究进展和方法。
2. 粒子在流体中的输运机制粒子在流体中的输运是指粒子在流体流动中的运动和分布过程。
粒子输运的机制主要包括扩散、沉积、沉降、对流等。
扩散是粒子在流体中由于热运动的作用而发生的无规则运动,其速度和方向受到流体的性质和粒子的大小等因素的影响。
沉积是指粒子在流体中靠近固体表面并附着的过程,沉降是指粒子由于重力或其他外力的作用而下沉的过程。
对流则是指粒子随着流体的运动而输运的过程。
3. 粒子输运的数学模型为了研究粒子在流体流动中的输运行为,研究者通常采用数学模型来描述和预测这些过程。
其中,最常用的数学模型是扩散方程和对流扩散方程。
扩散方程描述了扩散过程,可以用来计算粒子的浓度分布;而对流扩散方程则考虑了流体流动的影响,可以更精确地描述粒子的输运行为。
4. 粒子输运的实验方法除了数学模型外,实验方法也是研究粒子输运行为的重要手段。
常用的实验方法包括流体力学实验、流体动力学实验和颗粒追踪实验等。
流体力学实验主要通过测量流体的流速和压力等参数来研究粒子的输运行为。
流体动力学实验则通过观察和测量流体流动的特性来研究粒子的输运机制。
颗粒追踪实验利用颗粒示踪技术来追踪和观察粒子在流体中的运动轨迹,从而推断其输运行为。
5. 粒子输运的应用粒子在流体流动中的输运行为在许多领域都具有重要的应用价值。
在环境科学中,研究粒子的输运行为可以帮助我们了解大气和水体中的污染物的扩散和迁移规律,从而指导环境保护和污染治理措施的制定。
在生物医学领域,研究粒子的输运行为有助于理解药物在人体内的分布和代谢过程,从而提高药物的治疗效果。
在材料科学中,研究粒子的输运行为可以优化材料的制备和性能,从而改善其在能源、电子等领域的应用。
第9章 紊流输运
将紊流输运和分子输运类比
u 'c ' E x C x C v 'c ' E y x C ' ' w c Ez x
紊流扩散系数
E x , E y , E z 各向同性时相等
比分子扩散系数大几个量级
C C C C C C C u v w Ex Ey Ez t x y z x x y y z z
泰勒(Taylor)提出用拉格朗日法研究单个流体质点紊 动扩散,奠定了扩散理论的基础。 扩散系数的估计 的基本理论是: 物质浓度延展宽 度的沿程变化与 扩散系数成正比。 (来源于物质浓 度的高斯分布特 征)
2 Dt 1 2 D /t 2
2
对河口海岸问题扩散方程, 与t的关系遵循着8/7幂的规 律,弥散系数依时间4/3幂而增加,非恒量。 对于复杂问题(波浪作用下的紊动扩散系数),需要进行试 验,一般采用染色、LIF(罗丹明示踪剂)等方法。目前还没 有精度较高的实验方法。
Dc 10.4 15.7 hU *
实际中扩散系数非各向同性,分纵向、横向和垂向
1. 垂向上时均速度很小,不考虑垂向离散,扩散占主要。
2. 横向上,对于河流很难分离出扩散和离散。
3. 纵向上,对于河流和河口是研究最成熟的,有很多经 验公式。 对于海岸,垂向上可使用紊流模型封闭,水平上采用各向 同性假设,采用和流体动量扩散一样的系数。
2反复进行因子的组合得到带入控制方程该解为一维控制方程的特定的解的形式只有扩散对流各向同性扩散pecletnumber用p或pe表示是一个无量纲数值用来表示对流与扩散的相对比例
第九章 紊流输运
( Turbulent transport)
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2. 时间一定,定态漂移速度,随电场的增高而增大.
3. 与定态速度在强电场时将趋于一共同的饱和值矛盾
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4
vd
qmE(1et/m)
m*
经过足够长时间 t >>τ,达到稳态以后,电子的速度达到最大值:
vdmax
qm
m*
E
电子在单位电场作用下的定向运动速度,电子迁移率为
n
q m
m*
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半导体中载流子的动量弛豫时间一般不同于能量弛豫时 间.这是由于在同一温度下,动量弛豫和能量弛豫可以通过不 同的散射机构来进行,例如对高掺杂半导体。在较低温度下, 动量弛豫主要是通过电离杂质散射进行,但能量弛豫只能通过 各种声子散射进行。又如在声学声子散射决定动量弛豫的温度 范围内.光学声子散射却可以决定着能量弛豫过程,因为光学 声子有较大的能量,在能量弛豫中较为有效。
5
弛豫时间:
m
m*n
q
例: E25kV/cm ,n103cm 2/VS,于是, m41014S, vdma x 2.5107Cm /s
在强电场下,当漂移速度达到 2.5107Cm /s
时,电子“温度”升高而成为热电子,电子与格波 的散射频繁,使驰豫时间减短.
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6
设为指数衰减,即,
m m 1 (m 0m 1 )e (t m 1 )/m 1
v 1 E k
Bolzmann输运方程三个假设:
1. 可以采用有效质量和能带模型;
2. 碰撞过程在空间和时间上都是短暂瞬时的
3. 散射与电场无关
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15
Байду номын сангаас
Bolzmann输运方程求解方法
近似解析法
微分方程法 麦克斯韦分布函数法 移位麦克斯韦分布函数法
数值计算法
迭代法 蒙特卡罗算法
平衡方程法
FqE
在F的作用下:导带电子获得的加速度为
dvd dt
qE m*
把电子由于附加势的作用而引起的状态改变称为受缺 陷、杂质和晶格振动的散射。
因散射等引起的速度变化为 v d
载流子的运动方程
m
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dvd qEm*vd
dt m* m 3
解微分方程得
vd
qmE(1et/m)
m*
结论:1. 场强一定,时间与速度成正比
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8
可以说,速度过冲效应是动量很大、而能量(或电于温 度)较低的非热电子在强电场作用下的—种瞬态输运过程中 的现象。在半导体器件中.电了从低电场区进入高电场区的 开始瞬间,也会有这种瞬态现象。
不仅电子从低电场区进入高电场区时有一瞬态过 程.而且当电子从高电场区进入低电场区时也同样存在 有一瞬态过程—速度下冲效应.即漂移速度低于相应定 态值的现象。
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在抛物线能带情况下其形式为:
f(k)ex p 2 2 (m k[* k k0 e)T 2]ex m p *(2 [k eT d)2]
在非抛物线能带情况下其形式为:
f(k)expE [dk]
kT e
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总体蒙特卡罗算法
用蒙特卡罗法来分析载流子的输运时,是考虑一个载流子在 外电场作用下的不断加速和碰撞,在两次碰撞之间的加速过程遵 从经典运动规律,而碰撞认为是一种随机事件,加速运动过程的长 短、散射过程的类别和散射所引起的能量的变化,这些都由一 个伪随机数发生器所给出的一些随机数来确定。
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移位麦克斯韦分布函数法
移位麦克斯韦分布函数是用移位麦克斯韦分布函数来描 述载流子在动量空间的瞬态分布,也称为量子动力学方法.
该方法较适合于高载流子浓度的情况,这时载流于间散 射将是主要的弛豫机构,能量和动量弛豫都可以通过载流子 间的散射来进行,这时载流子由电场所获得的动量在传递给 晶格之前将先在载流子之间进行分配,所有载流子都将有一 个共同的动量或一致的漂移速度vd。载流子作为整体可看成 为—个相对独立的系统,它从电场获得一定的漂移速度,而在 载流子系统内部则遵从麦克斯韦分布,但该分布将在速度空间 移位一个共同的Vd,因此,称为移位麦克斯韦分布函数.
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速度过冲与工作温度和材 料的掺杂浓度有关
降低工作温度和掺杂浓度, 将有利于提高过冲速度.
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三、 关于计算方法的说明
半导体中载流子的输运性质一般可用Bolzmann输运方程来描述
f t v f r q k f k d k [f( k ) w ( k ,k ) f( k ) w ( k ,k )
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速度过冲与器件的几何尺 寸有关
图为不同材料的小尺寸器 件
1. 亚微米尺寸的GaAs和InP器件中, 速度过冲效应是明显的.
2. 对Si器件, 尺寸小至0.1μm也几乎不出现速度过冲效应.
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GaAs-MESFET沟道中电 子速度的分布
栅极下有明显的速度过冲效应.
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二、 速度过冲效应在器件中的影响
蒙特卡罗算法得到的速度过冲效应曲线
1. GaAs要经过1PS秒左右,电子速度才稳定到与电场相应的定态值.
2. GaAs电子速度可以过冲到其定态稳定值数倍以上.
3. Si过冲的速度和达到定态值前所经历的时间小得多。
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1. GaAs要漂移过0.5μm左右,电子速度才稳定到与电场相应的定态值. 2. GaAs电子速度可以过冲到其定态稳定值数倍以上. 3. Si过冲的速度和达到定态值前所漂移过的距离小得多。
于是有
v d q m m * 1 E ( 1 e t/ m ) q (m m 0 *m 1 ) E ( 1 e t/ m ) e ( t m 1 ) / m 1
当t >>τm时, vd趋于 定态值,(与E无关)
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产生速度过冲这种瞬态效应的实质,可以认为是由于在 强电场下电子的动量驰豫时间τm很短所造成的。因为τm很短 即意味着当电子进入高电场区时.其波矢将立刻增大,亦立 刻获得定向的漂移速度;这时若电子的能量升高较慢(即能量 弛豫时间τE较长), 尚来不及被“加热”,则电子的平均热运 动速度仍将停留在与晶格温度相适应的较低数值上.从而电 子的平均自由时间τ较长.迁移卒μ较高,漂移速度Vd很高, 可以超过定态值,即速度过冲。所以,发生速度过冲的条件 应当是:(1)电场很强;(2) τm<< τE
3.5 载流子的速度过冲(下冲)过程
一、速度过冲过程概念
*速度与电场的关系
1. 在低电场时, 欧姆定律成立。V 与E成正比 2. 在高电场时, 欧姆定律不成立。(V = 107 )
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1
*速度过冲
瞬态速度超过定态值的现象称为速度过冲.
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2
过冲原因分析: 在电场E的作用下:导带电子受到的电场力为