第四章_半导体的导电性(1)
半导体材料的导电性
空穴 (b) 偏压情况下
因此有:
Ei q
微电子电路基础
半导体材料的导电性 17
载流子漂移
在导带的电子移动至右边,而动能则相当于其于能带边缘 (如对电子而言为EC)的距离,当一个电子经历一次碰撞,它 将损失部分甚至所有的动能(损失的动能散至晶格中)而掉回 热平衡时的位置。在电子失去一些或全部动能后,它又将开始 向右移动且相同的过程将重复许多次,空穴的传导亦可想象为 类似的方式,不过两者方向相反。 E
q n n p p
所以,电阻率亦为
1
1 q (n n p p )
微电子电路基础
.
苏州科技学院电子与信息工程系
半导体材料的导电性 20
载流子漂移
一般来说,非本征半导体中,由于两种载流子浓度有好几 次方的差异,只有其中一种对漂移电流的贡献是显著的。 如对n型半导体而言,可简化为(因为n>>p)
qE dEc dx
I E N型 电子 V
由于导带底部EC 相当于电子 的电势能,对电势能梯度而 言,可用与EC 平行的本征费 米能级Ei的梯度来代替,即
E 1 dEc q dx 1 dEi q dx
qV
EC EF Ei EV
引入静电势,其负梯度等于 电场 ,即
E d dx
I N型 电子 V
在外加电场的影响下, 载流子的运输会产生电流, 称为漂移电流(drift current)
qV
EC EF Ei EV
空穴 (b) 偏压情况下
苏州科技学院电子与信息工程系
微电子电路基础
半导体材料的导电性 18
载流子漂移
华南理工半导体物理—第四章
E=0 2
1 6 3 随机热运动 4
5
当一个小电场E施加于半导体时,每一个电子会从电场上 受到一个-qE的作用力,且在各次碰撞之间,沿着电场的反向 被加速。因此,一个额外的速度成分将再加至热运动的电子上 ,此额外的速度成分称为漂移速度(drift velocity) 一个电子由于随机 的热运动及漂移成分两 者所造成的位移如图所 示。 值得注意的是,电 子的净位移与施加的电 场方向相反。
电离杂质散射 • 半导体中的电离杂质形成正、负电中心, 对载流子有吸引或排斥作用,从而引起载 流子散射。
电离杂质散射几率
Pi N iT
3
2
上式表明,随着温度的降低,散射几率 增大。因此,这种散射过程在低温下是 比较重要的。
Байду номын сангаас
晶格振动散射
半导体晶体中原子的振动是引起载流子 被散射的主要原因之一。
mn n 0.26 0.911030 kg 1000104 m2 / V s c q 1.6 1019 C
1.48 1013 s 0.148 ps.
又
1 3 3kT 2 mn vth kT vth 107 cm / s 2 2 mn
所以,平均自由程则为
漂移运动,迁移率与电导率
• 漂移运动:载流子在电场力作用下的定向运动, 定向运动的速度称为漂移速度
j E
vd n E
j nqvd
jn nqn E
n nqn
J jn j p (nqn nq p ) E
(nqn nq p )
载流子散射
j E
dI dV J E ds dl
半导体中电流的大小还可以从另一个角度 来理解。
第半导体物理课件 第四章
用,对电子产生散射作用。
• 横声学波要引起一定的切变,对具有多极值、旋转椭球等 能面的锗、硅来说,也将引起能带极值的变化。
光学波散射
• 离子性半导体中,长纵光学波有重要的散射作用。 • 每个原胞内正负离子振动位移相反,正负离子形成硫密 相间的区域,造成在一半个波长区域内带正电,另一半 个波长区域内带负电,将产生微区电场,引起载流子散 射。 长声学波振动,声子的速度很小,散射前后电子能量基本不 变,--弹性散射 光学波频率较高,声子能量较大,散射前后电子能 量有较大的改变,--非弹性散射。
迁移率和杂质与温度关系
杂质浓度较低,迁移率随温度升高迅速减小,晶格散射起主要作用; 杂质浓度高,迁移率下降趋势不显著,说明杂质散射机构的影响为主。当 杂质浓度很高时,低温范围内,随温度升高,电子迁移率缓慢上升,直到
很高温度(约550K左右)才稍有下降,这说明杂质散射起主要作用。晶格 振动散射与前者比影响不大,所以迁移率随温度升高而增大;温度继续升 高后,又以晶格振动散射为主,故迁移随温度下降。
② 计算中假设散射后的速度完全无规则,即散射后载流子向各个方向运动 的几率相等。这只适用于各向同性的散射.对纵声学波和纵光学波的散射确 实是各向同性的.但是电离杂质的散射则偏向于小角散射。所以精确计算还 应考虑散射的方向性。
下节较精确地计算半导体的电导率,为简单起见,仍限于讨论各向同性的 散射。
5 玻耳兹曼方程· 电导率的统计理论
• 各向同性晶体特点:
a、声学波散射: Ps∝T3/2 b、光学波散射:P o∝[exphv/k0T)]-1
2)电离杂质散射:即库仑散射
散射几率Pi∝NiT-3/2(Ni:为杂质浓度总和)。
3)其它散射机构
半导体的导电性
当前研究的不足与挑战
半导体导电性的调控机制尚不完全清楚,需要进一步深入研究。
一些高性能的半导体材料和器件仍然依赖进口,需要加强自主创新和知识产权保护。
半导体产业的发展面临着技术、环境、资金等多方面的挑战,需要积极应对。
发展智能制造和绿色制造,提高半导体产业的核心竞争力。
加强基础研究和应用研究,推动半导体材料和器件的创新发展。
实现半导体材料和器件的全链条自主可控,保障国家安全和产业安全。
未来发展的趋势与展望
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影响因素
迁移率与材料的晶体结构、杂质和温度等因素有关。
迁移率
载流子密度是衡量半导体材料中载流子数量的参数,定义为材料的电阻率与电阻率的乘积,即n=ρσ,其中ρ为电阻率。
定义
载流子密度与材料的纯度、晶体结构和掺杂等因素有关。
影响因素
载流子密度
03
半导体导电性的测量与实验技术
四探针电阻测量技术是一种非接触式测量方法,通过施加电流和测量电压来计算电阻率。
温度依赖Hall效应
通过测量不同温度下半导体内部的霍尔电压,研究温度对载流子浓度和迁移率的影响。
Hall效应测量
深能级瞬态谱技术
利用光脉冲激发半导体中的电子,并测量电子在各个时间点的分布情况,从而了解半导体中的缺陷、杂质等特性。
时间分辨深能级瞬态谱技术
通过使用超快激光脉冲,对半导体内部电子的动态行为进行高时间分辨率的测量,研究电子在半导体中的输运过程。
半导体导电性的基本概念
半导体导电主要通过自由电子和空穴两种载流子实现。
在半导体内部,自由电子和空穴的数量受温度、光照等因素影响。
当加电压时,自由电子和空穴的数量增加,从而导致电流增加。
08-第四章-半导体的导电性
en
vdx1 秒
平均自由时间
弛豫时间
系统从非平衡态恢复到平衡态 所需时间
* 的统计表示 t=0时,撤除电场,有N0个电子作定向运动 N(t)为t时刻还未遭到碰撞的电子数 P为单位时间内电子被碰撞的几率 在tt+dt时间内被碰撞的电子数可表示为:
N (t ) N (t dt) N (t ) Pdt dN (t ) PN (t )
n型半导体载流子浓度随温度的变化曲线ln(n)-1/T n型半导体载流子浓度随掺杂浓度ND的变化曲线 半导体费米能级随掺杂浓度ND - NA的变化曲线
N型半导体中的电子浓度随温度的变化关系
ln(n) 斜率:Eg/2k 斜率:ED/2k
1/T
n型半导体载流子浓度随掺杂浓度ND的变化曲线
p,n
n p
C N * 临界浓度 D 的估算
非简并 弱 简并
简并
强简并
-2kT
0
5kT
Ef-Ec
Ec
ND 3 EC ED KT N D dEf Ef ln 0 ln 2 2 2 N C dT 2NN D3
1 2 1 e t 2 r vd (0)t at * 2 m 2 e
在tt+dt时间内被碰撞的电子数为 PN (t )dt
这些电子定向位移之和为 rPN (t )dt
N0个电子定向位移之总和为 S 0 rPN (t )dt
S
0
1 e 2 e N 0 e 2 t PN exp( Pt ) dt N 0 0 * * * 2 me me P2 me
* 简并的温度范围 简并时的电中性方程:n N D
半导体的导电性
第四章半导体的导电性本章主要内容载流子在外加电场作用下的漂移运动半导体的迁移率、电导率和电阻率随温度和杂质浓度的变化规律迁移率的本质-----散射4.1 载流子的漂移运动迁移率1、欧姆定律对于金属,电流I = V(电压)/R(电阻)V-I关系是直线对于半导体,流过不同截面的电流强度不一定相同,“即电流分布不均匀,而欧姆定律不能说明材料内部各处电流的分布情况。
电流密度:通过垂直于电流方向的单位面积的电流J = ∆I/∆S单位:A/cm2或A/m2欧姆定律微分形式:上式把通过导体中某一点的电流密度和该处的电导率及电场强度直接联系了起来。
S故: 半导体导电= 电子导电J = Jn + Jp = (nqu平均自由程:载流子在连续两次散射间自由运动的平均路程平均自由时间:载流子通过平均自由程所需的平均时间τ电场:载流子加速---定向运动;散射:载流子运动方向改变---杂乱无章,各个方向;半导体的主要散射机构:离化杂质散射晶格散射中性杂质散射位错散射(P为散射几率)起因:常温下,浅施主带正电• 双曲线,电离杂质处于一个焦点 • 速度小,作用时间长,偏离角θ大,τ小 • 弹性散射,不改变入射电子能量,只改变运动方向 τ ∝ T3/2/NI 杂质浓度(2)、晶格散射 晶格原子在其平衡位置附近不断进行热振动,且各个 原子的振动不是孤立的。
分析表明:晶格中原子的振动都 是由若干不同的基本波动按波的叠加原理组合而成,这些 基本波动称为格波。
q代表格波波矢, q 的方向即波的传播方向晶格散射:载流子在运动过程中遭受振动的晶格原子的散射, 失去在电场中获得的能量,失去动量。
在能带具有单一极值的半导体中 起主要散射作用的是长波。
即波 长比原子间距大很多倍的格波。
电子热运动速度~105m/s 电子波波长约10-8m 根据动量守恒要求,声子波长 范围应在同一量级,即10-8m,而 晶体中原子间距为10-10m,因而 起主要散射作用的是长波。
半导体物理习题答案(1-3章)
第1章 半导体中的电子状态1. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量()c E k 和价带极大值附近能量()v E k 分别为2222100()()3c h k k h k E k m m -=+,22221003()6v h k h k E k m m =-0m 为电子惯性质量,112k a =, 0.314a =nm 。
试求:1) 禁带宽度;2) 导带底电子有效质量; 3) 价带顶电子有效质量;4) 价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
解:1) 禁带宽度g E ,根据22100()2()202c dE k h k k h k dk m m -=+=,可求出对应导带能量极小值min E 的k 值:min 134k k =, 由题目中()c E k 式可得:min 12min 3104()4c k k k h E E k k m ====; 根据20()60v dE k h k dk m =-=,可以看出,对应价带能量极大值max E 的k 值为:k max = 0;可得max 221max 00()6v k k h k E E k m ====,所以2221min max 2001248g h k h E E E m m a=-== 2) 导带底电子有效质量m n由于2222200022833c d E h h h dk m m m =+=,所以202238nc m h md E dk== 3) 价带顶电子有效质量vn m由于22206v d E h dk m =-,所以20226v nv m h m d E dk ==- 4) 准动量的改变量min max 133()48hh k h k k hk a∆=-==2. 晶格常数为0.25 nm 的一维晶格,当外加102 V/m 、107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:设电场强度为E ,电子受到的力f 为dkf hqE dt==(E 取绝对值),可得h dt dk qE =, 所以12012ta h h t dt dk qE qE a===⎰⎰,代入数据得: 34619106.62108.310()1.6102(2.510)t s E E----⨯⨯==⨯⨯⨯⨯⨯ 当E = 102 V/m 时,88.310t s -=⨯;当E = 107 V/m 时,138.310t s -=⨯。
半导体物理学刘恩科第七版第4章导电性
q和关系称为色散关系。
(3)格波的数量:相同q的格波的数量。 一个晶体原胞中有一个原子, 每一原子对应一个q, 对 应每一q有3个格波.
对锗、硅及III-V族化合物半导体,原胞中含有 2个原子,对应一个q有6个不同的格波。6个格 波的频率和振动方式完全不同。
未电离杂质散射(重掺杂时):
散射: 晶格散射+掺杂+温度
若存在多种散射机制,显然,τ将发生变化,即迁移 率将发生变化(被加速时间变化)。
散射几率:
P P1 P2 P3
P 1 1 1 1 1
1 2 3
除以q/mn*, 得到
1 1 1 1 ......
1 2 3
1、2、3表示只有一种散射机制存在时载流子的迁移率
离子晶体的两个正、负离子振动位移相反,形成疏密 相同的区域。正离子的疏(密)区和负离子的密(疏)区 重合,对载流子产生附加的散射势场。
离子晶体中光学波对载流子的散射几率:
3
P0
(hvl ) 2
1
(k0T ) 2
1 [ exp( hvl
k0T
)
] 1
f
1 ( hvl k0T
)
光学波频率较高,声子能量较大。电子和光学 声子发生作用时,电子吸收或发射一个声子, 能量也改变一个h。
★格波与电子作用中,长波起重要作用。
★长声学波中,纵波起重要作用。
长声学波中,纵波对散射起主要作用。通过原子 间距发生疏密变化,体变产生附加势场。
特点:能量变化低。
一般而言(非绝对),长声学波由于能量较小, 散射前后电子的能量基本不变,为弹性散射。 光学波能量较高,为非弹性散射。
11-第四章-半导体的导电性
2 2 e v RH p * H h 2 mh v
H
e
2v 2 v
2
v2
2
H
h
2v 2 v
2
v2
2
1 H RH en
e
H RH
2 2 x 1 2 2 H 0 BZ 1 H 2 2 2 2 x x ( BZ 1) H B 1 BZ Z vx J x envx 0 0 en
y方向开路
v y 0 代入(1)式 m* v vx x x
T2 +
+
T1
x
习题:第125页 4,6,11,16,18,19
F
x
f x e x ev y Bz f y e y evx Bz
m *v x
0 0
m *v y
B (0,0, Bz ) (1) ( x , y ,0) (2) v (vx , v y ,0)
y方向短路
vx e 2 v B x Z 从(2)式得 v y m* vx Bz vx Bz 代入(1)式 x
N型半导体
RH
2 2 v2 1 v 2 2 en v
P型半导体
RH
2 v e
2 2 v2 1 v 2 2 ep v
n nee ne
2 v e
m
* e
v
2
m
*
v
2
p pe h pe
2 v e * mh v2
半导体物理学[第四章半导体的导电性]课程复习
第四章半导体的导电性
4.1 理论概要与重点分析
由于半导体的电阻率能用四探针法很方便地测量,所以常用它作为半导体的重要性能参量。
(3)由上可见,分析半导体的导电性,应从载流子浓度和迁移率两方面入手。
而载流子浓度问题在第3章中做了系统的讨论,在这里应用时,应全面考虑。
而迁移率的问题是本章的重点。
迁移率是载流子在晶体中运动时不断遭受到各种散射因素的作用决定的。
半导体中的主要散射机构是电离杂质散射和晶格振动散射。
而晶格振动散射又以长纵声学波和光学波的散射为主。
散射作用的强弱用散射概率p(或平均自由时间τ=1/p)来衡量,它表示单位时间内一个载流子遭受到散射的次数。
经分析,几
种主要的散射机构单独决定的散射概率与杂质浓度N
和温度T有如下的关系:
i
(5)半导体在外加电磁场的作用下,电子的分布函数要发生变化,稳态时分布函数的变化满足玻尔兹曼方程。
(6)在强电场作用下,载流子的平均漂移速度不再与电场强度成正比。
随着电场强度的增加,漂移速度的增加比线性变得缓慢,最后达到一个饱和值。
很显然,这时的迁移率变得与电场有关,这一物理现象可用热载流子与光学波的晶格散射概念予以解释。
(7)由于GaAs的导带具有多能谷结构,而最低能谷和次低能谷间的能量间隔较小,当电场强度达到一定程度时,最低能谷中电子从电场中获得能量后,使其与次低能谷的能量相当。
即会发生谷间散射,低能谷中的电子向高能谷中转移,且随电场强度的进一步增加,转移的电子越多,高能谷中电子的有效质量远大于
低能谷的有效质量,因而在这个区域内会出现微分负电导现象。
半导体的导电性
通过升高温度,使半导体材料内部的缺陷和杂质激活,从而改变其导电性能。
退火工艺
将半导体材料加热到一定温度并保持一段时间,然后缓慢冷却。这种方法可以消 除材料内部的应力,并提高其导电性能。
外加电场与磁场的影响
外加电场
通过外加电场,可以改变半导体材料内部的载流子分布和运动状态,从而影响其导电性能。
测量方法
电导率的测量通常采用四 探针法,通过四个接触材 料表面的探针来直接测量 电流和电压。
应用
电导率的测量可用于研究 半导体材料的晶体结构、 缺陷和掺杂等微观性质。
电极化率的测量
概述
电极化率是衡量半导体材 料在电场作用下极化程度 的重要参数,它与材料的 介电常数密切相关。
测量方法
电极化率的测量通常采用 电容法,通过在材料两端 施加交变电场并测量电容 的变化来计算电极化率。
载流子的产生与复合
载流子的产生
半导体材料中的原子或分子受到外部能量的激发,会释放出电子和空穴。
载流子的复合
电子和空穴在运动过程中,可能会重新结合在一起,从而消失。这种过程称为 载流子的复合。
03
半导体材料的导电性测量与表征
电导率的测量
01
02
03
概述
电导率是衡量半导体材料 导电性能的重要参数,它 反映了材料中载流子的迁 移率。
日期:
半导体的导电性
汇报人:
目 录
• 半导体导电性概述 • 半导体材料的导电原理 • 半导体材料的导电性测量与表征 • 半导体材料的导电性调控 • 半导体导电性的应用
01
半导体导电性概述
半导体材料定义
• 半导体材料定义:半导体材料是一种在导电性能上处于绝缘体 和导体之间的材料,具有独特的电子和空穴导电性。它们通常 在一定的温度和光照条件下,能显著提高其导电性。
半导体物理分章答案第四章
可忽略
占主导
非本征区
本征区
低温区
0 K
4.6 强电场下的效应 热载流子 Effect at Large Field, Hot Carrier
学习重点:
强电场下欧姆定律发生偏离的原因
1、欧姆定率的偏离与强电场效应
N型锗样品电流与电场强度的关系
光学波散射:
正负离子的振动位移会产生附加势场,因此化合物半导体中光学波散射较强。例如:GaAs 对于元素半导体,只是在高温条件下才考虑光学波散射的作用。例如:Ge、Si 离子晶体中光学波对载流子的散射几率
4.3 迁移率与杂质浓度和温度的关系
当几种散射机构同时存在时
2
平均自由时间τ和散射几率P的关系
晶格振动表现为格波
1
N个原胞组成的晶体→格波波矢有N个。格波的总数等于原子自由度总数
2
一个格波波矢q 对应3(n-1)支光学波+3支声学波。
3
光学波=N (n-1)个纵波+2 N (n-1)个横波
4
声学波=N个纵波+2N个横波
5
晶格振动散射可理解为载流子与声子的碰撞,遵循两大守恒法则
6
准动量守恒
7
1、迁移率( Mobility ) 2、散射机制(Scattering mechanisms) 3、迁移率、电阻率与温度的关系
第四章 半导体的导电性 Electrical conduction of Semiconductors
202X
重点:
漂移运动 迁移率 电导率
学习重点:
202X
§4.1 载流子的漂移运动 迁移率 The drift motion of carrier, mobility
09-第四章-半导体的导电性
f f f t t d t C
稳态时 f 0
t
f f t d t C
撤除外场后,分布函数从非平 衡态过渡到平衡态所需时间
外场只有电场
f f0 f f t t C
平均热运动速率:vT
8k T 7 1 10 cm / s * me
平均漂移速率: vd e 1350 平均自由程: l vT 2 10 6 cm
半导体的电导率
e * me e * mh
J (nee pe h ) P型半导体 p>>n
Pl m
* 3/ 2 hh
* 3/ 2 lh
m
* 3/ 2 hh
m
P : Ph : Pl m
* 3/ 2 hd
:mБайду номын сангаас
:m
* 3/ 2 lh
J h ( Ph e h Pl el ) Pe hc
e h * mhh
e l * mlh
3/ 2
hc
e * mhc
载流子的热运动
E E’c gc(E)
速率分布函数
* me f (v ) 4 2k T 3/ 2 * 2 me v v exp 2k T 2
平均速率
Ec
平均动能
fe(E)gc(E) E fkT 3 8 vT E kT * fe(E) me 2
1 1 1 2 * * * mec 3 ml mt
ec
* m * 空穴电导有效质量 hc
空穴浓度 P =重空穴浓度 Ph +轻空穴浓度 Pl
半导体的导电性
4.1 载流子旳漂移运动和迁移率
1.欧姆定律
EV l
I V R
JI S
R l
S
J E
2、漂移速度和迁移速度
dQ nq d dsdt
J dQ / dtds
d 平均漂移速度
1
J n nq d
d E
μ为迁移率,单位电场下电子旳 平均漂移速度。单位cm2/V.s
nq
n型锗:
电场不不小于700V/cm,漂移速度与电场成正比, 迁移率与场强无关。
场强在700~5000V/cm之间,漂移速度增长缓慢, 迁移率随场强增长而降低。
场强不小于5000V/cm,漂移速度到达饱和。
原因:在强电场下载流子成为热载流子。即载流 子从电场中取得能量旳速率不小于其与晶格振动发射 声子失去能量旳速率,载流子热运动速度增长。
能量发生变化。假如载流子旳能量低于声子能量,
将不发射声子,只能出现吸收声子散射。
散射概率随温度旳变化主要决定于指数因子,当温 度较低是,指数因子迅速随温度下降而减小,散射 概率减小。在低温时光学波对散射不起作用。
如n型GaAs,光学波最高频率8.7x1012s-1,声子能 量0.036eV,相应温度417K。在T<<100K时,能 够以为光学波散射不起作用。
AB段 温度很低,本征激发可忽视,载流子主要由杂 质电离提供,它随温度升高而增长;散射主要由电离 杂质决定,迁移率也随温度升高而增大,所以,电阻 率随温度升高而下降.
BC段 杂质已全部电离,本征激发仍不明显,载流 子饱和,晶格振动散射为主,迁移率随温度升高而 降低,电阻率随温度升高而稍有增大.
C段 温度继续升高,本征激发不久增长,本征载流 子旳产生远超出迁移率旳减小对电阻率旳影响,这 时,本征激发成为矛盾旳主要方面,杂质半导体旳 电阻率经一种极大值之后将随温度旳升高而急剧地 下降,体现出同本征半导体相同旳特征.
半导体物理第四章习题答案
半导体物理第四章习题答案(总2页)--本页仅作为文档封面,使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--第四篇题解-半导体的导电性刘诺编4-1、对于重掺杂半导体和一般掺杂半导体,为何前者的迁移率随温度的变化趋势不同?试加以定性分析。
解:对于重掺杂半导体,在低温时,杂质散射起主体作用,而晶格振动散射与一般掺杂半导体的相比较,影响并不大,所以这时侯随着温度的升高,重掺杂半导体的迁移率反而增加;温度继续增加后,晶格振动散射起主导作用,导致迁移率下降。
对一般掺杂半导体,由于杂质浓度较低,电离杂质散射基本可以忽略,起主要作用的是晶格振动散射,所以温度越高,迁移率越低。
4-2、何谓迁移率影响迁移率的主要因素有哪些解:迁移率是单位电场强度下载流子所获得的漂移速率。
影响迁移率的主要因素有能带结构(载流子有效质量)、温度和各种散射机构。
4-3、试定性分析Si的电阻率与温度的变化关系。
解:Si的电阻率与温度的变化关系可以分为三个阶段:(1)温度很低时,电阻率随温度升高而降低。
因为这时本征激发极弱,可以忽略;载流子主要来源于杂质电离,随着温度升高,载流子浓度逐步增加,相应地电离杂质散射也随之增加,从而使得迁移率随温度升高而增大,导致电阻率随温度升高而降低。
(2)温度进一步增加(含室温),电阻率随温度升高而升高。
在这一温度范围内,杂质已经全部电离,同时本征激发尚不明显,故载流子浓度基本没有变化。
对散射起主要作用的是晶格散射,迁移率随温度升高而降低,导致电阻率随温度升高而升高。
(3)温度再进一步增加,电阻率随温度升高而降低。
这时本征激发越来越多,虽然迁移率随温度升高而降低,但是本征载流子增加很快,其影响大大超过了迁移率降低对电阻率的影响,导致电阻率随温度升高而降低。
当然,温度超过器件的最高工作温度时,器件已经不能正常工作了。
4-4、证明当µn ≠µp,且电子浓度pninnμμ/=,空穴浓度npinpμμ/=时半导体的电导率有最小值,并推导minσ的表达式。
第四章_半导体的导电性
设有N个电子以速度v沿某方向运动,N(t)表示在t时刻尚
未遭到散射的电子数。则 t 到 t+△t 时间内被散射的电 子数为N(t) P△t,即:
N (t ) N (t t ) N (t ) Pt
当△t很小时,可以写为:
dN t N t+t -N t lim =- PN t t 0 dt t
30
4.2.2 载流子的散射
3)其他散射机构
a. 中性杂质散射:在温度很低时,未电离的杂质(中性杂质)的数目
比电离杂质的数目大得多,这种中性杂质也对周期性势场有一定 的微扰作用而引起散射.但它只在重掺杂半导体中,当温度很低,
晶格振动散射和电离杂质散射都很微弱的情况下,才起主要的散
射作用. b. 位错散射:位错线上的不饱和键具有受主中心作用,俘获电子后
h l 3 2 1 f h l P0 1 2 nq
k0T
k 0T
n q=
exph a k0T 1
1
γl为声子频率, nq为平均声子数 ,f h γ k0T 为T的缓缓变函
l
பைடு நூலகம்
其值值0.6变化到1.0
散射几率随温度的变化主要取决于 平均声子数,其随温度按指数上升:
14
4.2.1 漂移运动
迁移率与电导率
总漂移电流密度为:
J nqn +pqp E
与欧姆定律微分形式比较得
到半导体电导率表示式为:
nq n +pq p
电子和空穴的漂移运动
15
4.2.1 漂移运动
迁移率与电导率
对于n型半导体(n>>p),电导率为
nqn
对于p型半导体(p>>n),电导率为:
半导体物理学——半导体的导电性
半导体物理学黄整载流子输运半导体中载流子的输运有三种形式:¾漂移¾扩散¾产生和复合2沿电场的反方向作定向运动(定向运动的速度称为漂移速度)dv 电流密度Ad I qnv =−dJ qnv =−4d v nq J =E μnq =Eσ=nq σμ=q 5半导体的电导率和迁移率半导体的导电作用为电子导电和空穴导电的总和==n p J J J +当电场强度不大时,满足J =σ E()n p nq pq μμ+En pnq pq σμμ=+N 型半导体n nq σμ=p n >>P 型半导体p pq σμ=n n ===n p >>6本征半导体i p ()i n p n q σμμ+散射概念的提出外加电场的作用下载流子应当作加速运动外加电场的作用下,载流子应当作加速运动−dJ qnv =不断增大但是J σ=E恒定7热运动在无电场作用下,载流子永无停息地做着无规则的、杂乱无章的运动,称为热运动。
晶体中的碰撞和散射引起净速度为零,净电流为零。
平均自由时间为τm~0.1ps8当有外电场作用时,载流子既受电场力的作用,同时不断发生散射。
载流子在外电场的作用下为热运动和漂移运动的叠加,因此电流密度恒定。
9散射的原因根本原因是周载流子在半导体内发生散射的期性势场遭到破坏附加势场ΔV使能带中的电子在不同k状态间跃迁,并使载流子的运动速度及方向发生改变。
10晶格振动对电子的散射格波¾形成原子振动的基本波动¾格波波矢q=2π/λ¾对应于某一q值的格波数目不定,一个晶体中格波的总数取决于原胞中所含的原子数¾Si、Ge半导体的原胞含有两个原子,对应于每一个q就有六个不同的格波,频率低的三个格波称为声学波,频率高的三个为光学波¾长声学波(声波)振动在散射前后电子能量基本不变,为弹性散射;光学波振动在散射前后电子能量有较大的改变,为非弹性散射12长光学波,能谷内部非弹性散射。
半导体物理答案
第一篇 半导体中的电子状态习题1-1、 什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说明之。
1-2、 试定性说明Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数的原因。
1-3、试指出空穴的主要特征。
1-4、简述Ge 、Si 和GaAS 的能带结构的主要特征。
1-5、某一维晶体的电子能带为[])sin(3.0)cos(1.01)(0ka ka E k E --=其中E 0=3eV ,晶格常数a=5х10-11m 。
求:(1) 能带宽度;(2) 能带底和能带顶的有效质量。
题解:1-1、 解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(≥E g )被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。
其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。
如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有更多的电子被激发到导带中。
1-2、 解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。
温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。
反之,温度降低,将导致禁带变宽。
因此,Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数。
1-3、 解:空穴是未被电子占据的空量子态,被用来描述半满带中的大量电子的集体运动状态,是准粒子。
主要特征如下:A 、荷正电:+q ;B 、空穴浓度表示为p (电子浓度表示为n );C 、E P =-E nD 、m P *=-m n *。
1-4、 解:(1) Ge 、Si:a )Eg (Si :0K) = 1.17eV ;Eg (Ge :0K) = 0.744eV ;b )间接能隙结构c )禁带宽度E g 随温度增加而减小;(2) GaAs :a )Eg (0K) = 1.52eV ;b )直接能隙结构;c )Eg 负温度系数特性: dE g /dT = -3.95×10-4eV/K ;1-5、 解:(1) 由题意得:[][])sin(3)cos(1.0)cos(3)sin(1.002220ka ka E a k d dE ka ka aE dk dE+=-=eVE E E E a kd dE a k E a kd dE a k a k a k ka tg dk dE ooo o 1384.1min max ,01028.2)4349.198sin 34349.198(cos 1.0,4349.198,01028.2)4349.18sin 34349.18(cos 1.0,4349.184349.198,4349.1831,04002222400222121=-=∆<⨯-=+==>⨯=+====∴==--则能带宽度对应能带极大值。
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ps T 3 2
横声学波引起一定的切变,不引起原子的疏密变化,因而不产生形变
势.但对Ge、Si等具有多能谷的情形,这一切变也引起能带极值的变化,
起到一定的散射作用。
26
4.2.2 载流子的散射 ② 光学波散射
在离子晶体和极性半导体中,当温度较高时,长纵光学波有重要的 散射作用。这是由于在极性或离子性半导体中光学波可建立很强的
6
4.1.2 半导体导电的宏观电流-欧姆定律的微分形式
实验表明,在电场不太大时,半导体中的电流与电压仍服从欧姆定律:
I
电阻为
U R
l R s
1
ρ为半导体的电阻率,单位为Ω·m 或Ω·cm 单位西门子/米(S/m或S/cm ) 电导率
s
--------欧姆定律的微分形式
vd E
令:
va E
vd n E
n
vd E
va p E
va p E
μ n和μ p分别称为电子迁移率和空穴迁移率。 物理意义:表示在单位场强下电子或空穴所获得的平均漂移速度大 小,单位为m2/V·s或cm2/ V·s.
13
4.2.1 漂移运动 迁移率与电导率
n
从而呈现出电流。
3
(b)E≠0
4.1.1 半导体导电的微观机理
理想的半导体:无限大的、既没有杂质和缺陷也没有晶格振动和电子间的 相互碰撞。 理想的半导体的电阻为零.
当能带只是部分填充时,在外电场作用下,所有电子波矢以相同速率变化:
qE x
dk x dt
从而使电子在布里渊区的分布不再对称,因而产生电流。
根据准动量守恒,声子动量应和电子动量具同数量级,即格波波长
范围也应是10-8m.晶体中原子间距数量级为10-10m,因此起主要散射 作用的是波长在几十个原子间距的长波。
23
4.2.2 载流子的散射
研究表明,在能带具有单一极值的半导体中起主要散射作用的是: 长纵声学波。 纵波在晶体中引起原子间距的变动,从而引起能带极值的变动, 即引起一个附加势场。
32
复习题:
1. 什么是迁移率?为什么说电子的迁移率要 比空穴迁移率大? 2. 为什么温度越高, 电离杂质对载流子的 散射越弱? 3. 在极性半导体中,为什么纵光学波而不 是横光学波对载流子的散射是主要的?
33
复习:
迁移率
vd n E
p
vp E
μn和μp分别称为电子迁移率和空穴迁移率。
如何求证欧姆定律的微分形式?
7
4.1.2 半导体导电的宏观电流-欧姆定律的微分形式
当电场作用于半导体时,电子获得一个和外电场反向的平均速 度,用 v d 表示其大小,空穴则获得与电场同向的速度,用 表示其大小。
v
a
若只考虑电子的运动, 在dt时 间内通过ds的电荷量就是A、B 面间小柱体内的电子电量,即
由于电子的状态是波矢的周期函数,波函数
在第一布里渊区边界两边的状态等价,总 体上不呈现电流。
2
4.1.1 半导体导电的微观机理
半满带:对被电子部分填充的能 带情况,电子对称地占据能量较 低的状态,如下图(a)所示,没有 外电场作用时不呈现出电流。
(a)E=0
当存在如下图(b)所示电场时,
电子在能带中的分布发生变化,
对于本征半导体(n=p=ni),则电导率为:
i n i q n + p
16
4.2.2 载流子的散射
载流子散射的根本原因:
周期性势场被破坏。
晶格的周期性被破坏后,与周期性势场相比,存在一附加势场, 使能带中的电子发生不同k状态间的跃迁,即遭到散射:
v (k ) v (k ' )
第四章 半导体的导电性
1
4.1
半导体的导电原理 4.1.1 半导体导电的微观机理
半导体在外电场作用下是否存在电流并不取决于 单个电子的行为,而是取决于整个晶体中所有电 子运动的总和。 1、从能带的角度理解半导体导电性: 满带: 在外加电场的作用下,电子从第一 布里渊区边界的一边流进,另一边流出。但
h l 3 2 1 f h l P0 1 2 nq
k0T
k 0T
n q=
exph a k0T 1
1
γl为声子频率, nq为平均声子数 ,f h γ k0T 为T的缓缓变函
l
其值值0.6变化到1.0
散射几率随温度的变化主要取决于 平均声子数,其随温度按指数上升:
电子重新趋于对称分布,电流变为零,即存在电阻。
5
4.1.1 半导体导电的微观机理
2、从晶格角度理解半导体的导电性: 在一定温度下,共价键上的电子e挣脱了价键的束缚,进入到晶格
空间中成为准自由电子,这个电子在外电场的作用下运动而形成电
子电流. 在价键上的电子进入晶格后留下空 穴,当这个空穴被电子重新填充后, 会在另一位置产生新的空穴,这一 过程即形成空穴电流。 晶格中空穴和电子 导电示意图
PO
exph a k0T 1
1
29
4.2.2 载流子的散射
当长声学波和长光学波两种散射作用同时存在时,晶格振动对载流子
的总散射概率为两种散射概率之和:
P 1 P s P 0
对于不同的半导体,这两种散射的相对强弱不同: 在共价结合的元素半导体中,如Si和Ge,长声学波的散射是主要的; 在极性半导体中,长纵光学波的散射是主要的.
39
4.3.1 迁移率的简单理论分析
而这些粒子的总的自由时间为:
tN0 P exp(Pt)dt
所有粒子的平均自由时间为:
1 N0 1 P
0
tN 0 P exp( Pt)dt
(4-31)
即:平均散射时间等于散射几率的倒数。
40
4.3.2 电导率、迁移率与平均自由时间的关系
根据载流子在电场中的加速以及它们的散射,可导出在一定电场下载
流子的平均漂移速度,从而获得载流子的迁移率和电导率的理论式。
设沿x方向施加电场E,且电子具有各向同性的有效质量 mn
令在t=0时,某个电子恰好遭到散射,散射后沿x方向的速度为 x0 ,经
35
4.3 迁移率与杂质浓度和温度的关系
36
4.3.1
迁移率的简单理论分析
平均自由时间:连续两次碰撞间的时间间隔。
平均自由时间和散射几率是描述散射过程的两个重要
参量,以电子运动为例来求两者关系。
散射几率是载流子速度的函数。先不考虑电子的速度 分布,即认为电子有统一的速度。
37
4.3.1 迁移率的简单理论分析
(a) 纵声学波
24
4.2.2 载流子的散射
纵声学波使晶体中原子形成线度疏
密相间的区域,造成晶体体积的局 部压缩与膨胀,如图4-9(a)所
示.晶格原子的疏密排列引起晶格
势场有一个周期性的畸变,因而能 带的能量将发生周期性的起伏,如
图4-10所示.对于载流子,就相当
于存在一个附加的势能.
25
4.2.2 载流子的散射
总漂移电流密度为:
J nqn +pqp E
与欧姆定律微分形式比较得
到半导体电导率表示式为:
nq n +pq p
电子和空穴的漂移运动
15
4.2.1 漂移运动
迁移率与电导率
对于n型半导体(n>>p),电导率为
nqn
对于p型半导体(p>>n),电导率为:
nqp
17
4.2.2 载流子的散射
晶格振动 电离杂质 产生附加势场 的原因 载流子 空位 中性杂质 位错
18
4.2.2 载流子的散射
散射几率(Pi):描述散射的强弱,它表示单位时间内一个载流 子受到散射的次数。
1)电离杂质散射----杂质电离产生库仑场
(a)电离施主散射 电离杂质散射示意图
19
4.2.2 载流子的散射
4
4.1.1 半导体导电的微观机理
当外电场除去后,因为:
dk x qE x dt
dk x 0 dt
电子在布里渊区的非对称分布不再变化,从而电流将保持下去。也就是
说,在外电场为零的情况下,电流仍不等于零。意味着电导率应为无穷大, 电阻率应为零。 实际晶体是不完整性,杂质、缺陷、晶格热振动将对电子产生散射,使
偶极矩或使半导体极化,电子和光学波的作用比在非极性或非离子
性半导体中强烈得多。
如,对于离子晶体,在光学波中,两个离子向相反的方向振动,
如图4-9(b),从而导致以半个波长为周期重复出现带正电和带负 电的区域,如图4-11。
27
4.2.2 载流子的散射
(b) 纵光学波
28
4.2.2 载流子的散射
可以证明,离子性半导体中光学波对载流子的散射概率与温度的关系:
物理意义:表示在单位场强下电子或空穴所获得的平均漂移速度大
小,单位为m2/V· s或cm2/ V· s.
34
复习:
电离杂质对载流子的散射概率:
pi NiT -3 2
声学波散射概率与温度的关系: 散射几率随温度的变化主要取决于 平均声子数,其随温度按指数上升:
ps T 3 2
PO exph a k0T 1 1
温度和杂质浓度与散射次数的关系 电离杂质对载流子的散射概率:
pi NiT -3 2
20
4.2.2 载流子的散射
2)晶格振动散射
4.2.2 载流子的散射
22
4.2.2 载流子的散射
①声学波散射
室温下电子热运动速度约为105m/s,由hk=m*v可估计电子波波长约为: