博士研究生开题答辩ppt-几种难混溶体系薄膜材料共27页
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2、研究方法与思路
研究方法 研究可行性分析
研究思路
研究方法
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01 02 03 04
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02 03
研究思路之第四步
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04 05
研究思路之第一步
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最全的各种薄膜制备PPT课件
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3．离子镀的应用
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第36页/共46页
12.5 化学气相沉积（ CVD）
• 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD)是通过气 相物质的化学反应在基材表面上沉积固态薄膜的一种工艺方法。
• CVD的基本步骤与PVD不同的是：沉积粒子来源于化合物的气 相分解反应。
• 种类：
（1）以材料种类划分：金属、合金、陶瓷、半 导体、化合物、高分子薄膜等。 （2）以晶体结构划分：单晶、多晶、纳米晶、 非晶 （3）以厚度划分：纳米薄膜，微米薄膜和厚膜。 （4）以薄膜组成结构划分：多层薄膜，梯度薄 膜，复合薄膜。
• 应用：
光学薄膜、微电子薄膜、光电子学薄膜、集 成电路薄膜、防护功能薄膜。
第40页/共46页
电子束辅助化学气相沉积(EACVD) 和激光束化学气相沉积(LACVD)
• 采用电子束或激光束对基片进行轰击和照射， 也可以使基片获得能量，从而促进和改善反应 的进行。
• 尤其是经过聚焦的电子束和激光束可以实现 基片表面的局部生成薄膜，这对于微电子和微 加工领域有着重要作用。
第41页/共46页
3SiH4 +4NH3 7500CSiN4 +12H2 W(s)+3I2 (g) ~ 134000 0 000CC WI6 (g)
SiH4 ~3500Ca-Si(H)+2H2 W(CO)6 激光 束W+6CO
第38页/共46页
• CVD的化学反应温度一般在800-1200℃，较高 的反应温度限制了基片材料的选择，并给薄膜 和薄膜基片复合体结构和性能带来不利的影响， 如基体材料的相变及由高温冷却到室温时产生 的热应力等。
3．离子镀的应用
第35页/共46页
第36页/共46页
12.5 化学气相沉积（ CVD）
• 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD)是通过气 相物质的化学反应在基材表面上沉积固态薄膜的一种工艺方法。
• CVD的基本步骤与PVD不同的是：沉积粒子来源于化合物的气 相分解反应。
• 种类：
（1）以材料种类划分：金属、合金、陶瓷、半 导体、化合物、高分子薄膜等。 （2）以晶体结构划分：单晶、多晶、纳米晶、 非晶 （3）以厚度划分：纳米薄膜，微米薄膜和厚膜。 （4）以薄膜组成结构划分：多层薄膜，梯度薄 膜，复合薄膜。
• 应用：
光学薄膜、微电子薄膜、光电子学薄膜、集 成电路薄膜、防护功能薄膜。
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电子束辅助化学气相沉积(EACVD) 和激光束化学气相沉积(LACVD)
• 采用电子束或激光束对基片进行轰击和照射， 也可以使基片获得能量，从而促进和改善反应 的进行。
• 尤其是经过聚焦的电子束和激光束可以实现 基片表面的局部生成薄膜，这对于微电子和微 加工领域有着重要作用。
第41页/共46页
3SiH4 +4NH3 7500CSiN4 +12H2 W(s)+3I2 (g) ~ 134000 0 000CC WI6 (g)
SiH4 ~3500Ca-Si(H)+2H2 W(CO)6 激光 束W+6CO
第38页/共46页
• CVD的化学反应温度一般在800-1200℃，较高 的反应温度限制了基片材料的选择，并给薄膜 和薄膜基片复合体结构和性能带来不利的影响， 如基体材料的相变及由高温冷却到室温时产生 的热应力等。
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谢谢聆听 请多指教
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02
课题现状及发展情况 输入标题内容
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PART 5
论文总结
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补充性文字
Hale Waihona Puke ART 4研究结论与实践验证
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12%
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37%
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PART 3
研究方法与过程
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结果探讨阶段
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用描述性语言简要解释该点用 描述性语言简要解释该点用描 述性语言简要解释该点用描述 性语言简要解释该点
XXXXXX大学XXXX学院20XX级博士生学位论文开题答辩
• 2 研究现状与趋势
• 章节主要 • 内章容节一 主要 • 内章容节二 主要
内容三
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5.2 研究计划安排
课题来源及意义 研究现状与趋势 研究内容与方案 课题创新与难点
课题研究计划
第一部分 第二部分
问卷调查
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解释该点
问卷分析
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解释该点
实验设计
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单击此处输入你的文字，文字是 您思想的提炼，为了最终演示发 布的良好效果，请尽量言简意赅 的阐述观点；根据需要可酌情增 减文字，以便观者可以准确理解 您所传达的信息。单击此处输入 你的文字，文字是您思想的提炼 ，为了最终演示发布的良好效果 ，请尽量言简意赅的阐述观点；
3
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PART 2
研究内容及思路
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2.研究内容及思路
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2.研究内容及思路
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3.研究方法及过程
关键词
关键词
关键词
关键词
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PART 2
研究内容及思路
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2.研究内容及思路
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3.研究方法及过程
关键词
关键词
关键词
关键词
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这是一个表格范例，可以将EXCEL里的表格直接复制到这 里，表格线框、字体、配色均可参照上表进行。
第 11 页
Part 2 2.3 采用某某研究方案
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这里可以添加主要内 容这里可以
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2
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这里是标题
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秦梦华：中小企业文化建设的现状及构建方 6 略研究[J].
第7页
Part 1 1.5 主要贡献与创新
某某某研究的主要创新指标
60.00% 50.00% 40.00% 30.00% 20.00% 10.00%
0.00%
41.70%
36.90%
35.20%
20.70% 17.90% 11.50%
53.30% 42.40% 40.40%
发展较快
第5页
Part 1 1.3 研究意义
学术研究价值
本课题具有较高的学术研究价值，可以某某某研究 提供相应的理论基础。
三个 意义
经济效益
本课题能有效地提高工作效率，降低成本，经济效 益比较明显。
社会效益
请在这里输入您的文字请在这里输入您的文字请在 这里输入您的文字请在这里输入您的文字
第6页
Part 1 1.4 参考文献
本模板有完整的逻辑框架，参考和实用价值高
博士研究生毕业论文 答辩PPT
经济管理学院 XXX管理专业XXX班
指 导 老 师 XXX教授
答 辩 人 李小明
1 绪论 2 研究思路与方法 3 关键技术和实践难点 4 研究成果与应用 5 相关建议与论文总结
研究生博士生毕业论文答辩PPT模板(绝对精品)
备用图表
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100 90 80 70 60 50 40 30 20 10 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100
输入文字
A
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B
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C
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D
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E
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F
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G
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输入文字 输入文字
输入文字 输入文字
输入文字
备用图表
01
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Part 03 关键技术和实践难点
关键技术 案例对比分析
实践难点
关键技术
请输入您的标题
输入您的文字内容 输入您的文字内容 输入您的文字内容 输入您的文字内容
方法三
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单击此处添加方法阐述， 添加简短问题说明文字， 方法与措施的具体说明文 字添加此处。单击此处添 加方法阐述，
理论基础与文献综述
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研究思路
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开题答辩报告样本 PPT课件
二、国内外同类课题研究现状及发展趋势
国外方面： 1860年法国的 Vierordt研制出第一台弹簧杠杆式脉 搏描记器； 1953年日本藤田六郎教授用麦杆法、电振法和羽毛 法试图使脉诊客观化； 1978年竹之内诊左夫用压力传感器测出桡动脉波， 并试用于临床 ； 1982年松本勋用自己设计的传感器制成了脉波计也 在临床进行了试用 ； 美国john ub受脉诊启示设计了脉搏记录仪。
xxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxx课题来源课题研究的目的和意义国内外同类课题研究现状及发展趋势研究过程中的主要问题和解决方法课题研究的时间进度安排课题研究所需主要设备仪器及药品外出调查研究主要单位主要解决问题访问学者姓名差旅费和资料费预算1
硕士学位论文开题报告
目
课题来源
录
课题研究的目的和意义
三、研究过程中的主要问题及解决方法
基于MEMS技术制作的硅脉象传感器是在悬臂梁 的根部制作由四个MOS场效应管组成的惠斯通电桥。 由于相同电阻率的P型电阻比N型电阻具有更显著的压 阻效应，所以我们选择PMOS场效应管，使其导电沟 道充当传统的扩散电阻。这样做，可以实现通过栅极 来调控导电沟道，从而使四个场效应管的电阻一致， 有效的克服了零位漂移的困难。单个PMOS场效应管 剖面图如下：
应变式压力传感器结构
二、国内外同类课题研究现状及发展趋势
国内方面： 我国脉诊客观化的研究始于五十年代，但是限于当 时的仪器水平，未能取得较大的进展 ； 七十年代中期，天津、上海、贵州、江西等地相继 成立了跨学科的脉象研究协作组，同时研制出了一 批性能和质量都较好的脉图仪 ，如北京的BYS-14 型脉象仪 ； 1981年台湾汪叔游教授把电子计算机运用到脉诊研 究方面并完成了硬件分析电路 ； 2001年电子第四十九研究所的张东青在传统传感器 基础上研制出一种新型自检脉搏传感器 。
研究生论文答辩课题报告动态PPT模板
表的综合描述说明。
C
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5
第二部分
命题假说
Hypothesis
选题背景 研究意义 实验预设 国内外相关研究综述 研究理论与文献综述
选题背景
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描述说明。
添加标题
在此录入上述图表的 描述说明，在此录入 上述图表的描述说明， 在此录入上述图表的
描述说明。
在此录入本图表的综合描述说明，在此录入本图表的综合描述说明，在此录入本图表的综合描述说明。在此录入本图 表的综合描述说明，在此录入本图表的综合描述说明，在此录入上述图表的综合描述说明，在此录入上述图表的综合
第一部分
论文导读
Introduction
论文摘要 实验创新
论文摘要
概述：您的内容打在这里，或者通过复制您的文本后，在此框中选择粘贴，并选择只保留文字。在此录入上述图表
的综合描述说明，在此录入上述图表的综合描述说明，在此录入上述图表的综合描述说明，在此录入上述图表的综合 描述说明。
摘要：您的内容打在这里，或者通过复制您的文本后，在此框中选择粘贴，并选择只保留文字。在此录入上述图表
第二部分 命题假说
9
研究方案
标签 文字
第三部分 材料方法
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标签 文字
在此录入上述图片的综合描述说 明，在此录入上述图片的综合描 述说明，在此录入上述图片的综 合描述说明，在此录入上述图片 的综合描述说明。
材料化学专业研究生毕业论文答辩PPT
1nm波长时Eu3+掺杂YTO晶态薄膜的激发光谱 Fig.4 Excitation spectrum of Eu3+-doped YTO crystal
film (em=611nm)
Eu3+掺杂YTO薄膜的光谱特性
图5 351nm激发时Eu3+掺杂YTO晶态薄膜的发射光谱 Fig.5 Emission spectrum of Eu3+-doped YTO crystal
由晶体学中立方晶系点阵中（hkl）
晶面族的晶面间距d与晶胞参数a的关系
式：
dhkl
h2 k2 l2
Eu3+掺杂YTO薄膜的物理特性
计 算 出 薄 膜 中 晶 粒 的 晶 格 常 数 为 a＝ 5.30nm，略大于卡片中参考数值5.20nm， 说 明 少 量 Eu3+ 的 掺 杂 对 钛 酸 钇 的 晶 体 结 构基本上没有影响。
film (ex=351nm)
Eu(TTFA)3掺杂SU-8光刻 胶薄膜的制备和光谱特性
Eu(TTFA)3掺杂SU-8光刻胶薄膜的制备
将稀土配合物Eu(TTFA)3溶于有机 溶 剂 环 戊 酮 （ Cyclopentanone, 纯 度 >99%）中，按稀土配合物占光刻胶质量 的5%的比例将此有机溶剂与SU-8胶复合， 通过甩胶机在石英基片上成膜，然后在 80C左右加热盘上热处理20分钟，最后 在光刻机上曝光，所得光刻胶薄膜厚度 约为2m。
Eu(TTFA)3掺杂SU-8光刻胶薄膜的测试
稀土配合物复合SU-8光刻胶薄膜的 激发、发射和三维荧光谱图通过P-E LS 55 荧光光谱仪测试，激发光源为脉冲氙 灯，所有测试均在室温下进行，所示光 谱图中氙灯光源灯线已删除。
film (em=611nm)
Eu3+掺杂YTO薄膜的光谱特性
图5 351nm激发时Eu3+掺杂YTO晶态薄膜的发射光谱 Fig.5 Emission spectrum of Eu3+-doped YTO crystal
由晶体学中立方晶系点阵中（hkl）
晶面族的晶面间距d与晶胞参数a的关系
式：
dhkl
h2 k2 l2
Eu3+掺杂YTO薄膜的物理特性
计 算 出 薄 膜 中 晶 粒 的 晶 格 常 数 为 a＝ 5.30nm，略大于卡片中参考数值5.20nm， 说 明 少 量 Eu3+ 的 掺 杂 对 钛 酸 钇 的 晶 体 结 构基本上没有影响。
film (ex=351nm)
Eu(TTFA)3掺杂SU-8光刻 胶薄膜的制备和光谱特性
Eu(TTFA)3掺杂SU-8光刻胶薄膜的制备
将稀土配合物Eu(TTFA)3溶于有机 溶 剂 环 戊 酮 （ Cyclopentanone, 纯 度 >99%）中，按稀土配合物占光刻胶质量 的5%的比例将此有机溶剂与SU-8胶复合， 通过甩胶机在石英基片上成膜，然后在 80C左右加热盘上热处理20分钟，最后 在光刻机上曝光，所得光刻胶薄膜厚度 约为2m。
Eu(TTFA)3掺杂SU-8光刻胶薄膜的测试
稀土配合物复合SU-8光刻胶薄膜的 激发、发射和三维荧光谱图通过P-E LS 55 荧光光谱仪测试，激发光源为脉冲氙 灯，所有测试均在室温下进行，所示光 谱图中氙灯光源灯线已删除。
博士研究生开题答辩ppt-几种难混溶体系薄膜材料
昆明理工大学博士学位论文开题答辩
金属或含金属薄膜的一些特殊性质 Cu/Ni、Cu/Pd、Ni/Mo Fe/Cr、Cu/Co、Fe-Ag膜 Co/Pt等多层膜 超模量、超硬度性质 巨磁阻效应 磁光效应 软X-Ray反射性 光学过滤和透明导电性 电磁响应效应 电催化性 减磨润滑性
Mo/Si、W/C、Co/C、W/SiC
昆明理工大学博士学位论文开题答辩
前期研究及有益结果
Ⅰ层状结构的获得与控制
[Al(20nm)/Pb(20nm)]2BFI及SADP
[Al(30nm)/Pb(30nm)]2BFI及SADP
Pb层增至30nm时，覆盖度＞0.8，完整、连接性较好，欲形成界面较完整的多层 膜，Pb层厚应大于35-40nm 中心透射斑光晕明显减小而清晰，多晶环线形精细更易辨，Pb单层连接变好， 使Al、Pb间界面清晰化，电子波在膜层中的路径趋于模型化
昆明理工大学博士学位论文开题答辩
电阻加热
固体薄膜制备技术
ห้องสมุดไป่ตู้
真空 蒸发
感应加热 电子束加热 激光加热
溶胶-凝胶法 电镀法 气相沉积
直流溅射
物理气相沉积 （PVD）
溅射 沉积
射频溅射
磁控溅射
离子束溅射
分子束外延 （MBE） 化学气相沉积 （CVD）
直流二极型离子镀
离子镀
热壁 热壁
射频放电离子镀 等离子体离子镀
主要结果
镶嵌型组织,耐磨性提高
Al/Pb多层膜在λ=4nm时对红 外、X射线和雷达波有明显 衰减 红外区反射比为0.6-0.8，而 透过率很低
王闸
郭诗玫
张丽华,张磊, N.T. Gladkikh
J.I. Akhter
博士论文答辩 PPT课件
5
3. 主要研究内容
3.1高速铁路科技创新产学研一体化的模式选择
3.2高速铁路科技创新产学研一体化的运行机制
3.3高速铁路科技创新产学研一体化合作收益的 分配模型
3.4高速铁路科技创新产学研一体化的运行绩效评 价 3.5高速铁路科技创新产学研一体化的实证研究－ －高速铁路建造技术国家工程实验室的建设与运行
24
3.2高速铁路科技创新平台的运行机制 3.2.2.2高速铁路科技创新平台的监督制约机制
创新平 台监督 制约的
主体
创新平 台监督 制约的
对象
创新平 台监督 制约的
内容
创新平 台监督 制约的
措施
25
3.2.2.2高速铁路科技创新平台的监督制约机制
➢创新平台监督制约的措施
充分发挥创新平台理事会对运营管理者的监督约束作用
轨道交通国
高速铁路系
高速铁路建
高速列车系 统集成国家
轨道交通运 行控制国家
家实验室 统试验国家 造技术国家 工程实验室 工程研究中
（筹） 工程实验室 工程实验室 （南、北车）
心
28
3.2.3高速铁路科技创新平台的知识产权保护
3.2.3.2科技创新平台知识产权保护与管理的特点
1 • 知识产权保护与管理多面性 2 • 所涉及的人员流动性高 3 • 评价的随意性 4 • 所涉及的方面专业性强
完善奖励制度
知识产权保护与管理费用的专款专用
充分利用知识产权信息资源
30
3.2.4高速铁路技术创新的产学研合作风险分析
我国高速铁路的修建如火如荼，高速铁路技术创新的产学研合作是高速铁 路施工企业、科研机构和高校在高速铁路技术创新资源上的集成与协同，具有 很强的互补性，符合社会生产力的发展趋势，正在高速铁路技术创新领域发挥 着越来越重要的作用。
3. 主要研究内容
3.1高速铁路科技创新产学研一体化的模式选择
3.2高速铁路科技创新产学研一体化的运行机制
3.3高速铁路科技创新产学研一体化合作收益的 分配模型
3.4高速铁路科技创新产学研一体化的运行绩效评 价 3.5高速铁路科技创新产学研一体化的实证研究－ －高速铁路建造技术国家工程实验室的建设与运行
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3.2高速铁路科技创新平台的运行机制 3.2.2.2高速铁路科技创新平台的监督制约机制
创新平 台监督 制约的
主体
创新平 台监督 制约的
对象
创新平 台监督 制约的
内容
创新平 台监督 制约的
措施
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3.2.2.2高速铁路科技创新平台的监督制约机制
➢创新平台监督制约的措施
充分发挥创新平台理事会对运营管理者的监督约束作用
轨道交通国
高速铁路系
高速铁路建
高速列车系 统集成国家
轨道交通运 行控制国家
家实验室 统试验国家 造技术国家 工程实验室 工程研究中
（筹） 工程实验室 工程实验室 （南、北车）
心
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3.2.3高速铁路科技创新平台的知识产权保护
3.2.3.2科技创新平台知识产权保护与管理的特点
1 • 知识产权保护与管理多面性 2 • 所涉及的人员流动性高 3 • 评价的随意性 4 • 所涉及的方面专业性强
完善奖励制度
知识产权保护与管理费用的专款专用
充分利用知识产权信息资源
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3.2.4高速铁路技术创新的产学研合作风险分析
我国高速铁路的修建如火如荼，高速铁路技术创新的产学研合作是高速铁 路施工企业、科研机构和高校在高速铁路技术创新资源上的集成与协同，具有 很强的互补性，符合社会生产力的发展趋势，正在高速铁路技术创新领域发挥 着越来越重要的作用。