电子封装材料ppt
合集下载
集成电路芯片封装技术培训课程(ppt-35页)全
![集成电路芯片封装技术培训课程(ppt-35页)全](https://img.taocdn.com/s3/m/c48b947edc36a32d7375a417866fb84ae45cc3c2.png)
微电子技术发展对封装的要求
四、高密度化和高引脚数
高密度和高I/O数造成单边引脚间距缩短、封装难
度加大:焊接时产生短路、引脚稳定性差
解决途径:
采用BGA技术和TCP(载带)技术
成本高、难以进行外观检查等。
微电子技术发展对封装的要求
五、适应恶劣环境
密封材料分解造成IC芯片键合结合处开裂、断路
解决办法:寻找密封替代材料
Ceramic
Ceramic or
Thin Film on Ceramic
Thin Film on PWB
PWB-D
•Integration to
BEOL
•Integration in
Package level
PWB-Microation at
System level
1、电源分配:传递电能-配给合理、减少电压损耗
2、信号分配:减少信号延迟和串扰、缩短传递线路
3、提供散热途径:散热材料与散热方式选择
4、机械支撑:结构保护与支持
5、环境保护:抵抗外界恶劣环境(例:军工产品)
确定封装要求的影响因素
成本
外形与结构
产品可靠性
性能
类比:人体器官的构成与实现
微电子封装技术的技术层次
芯片,但两类芯片的可靠性和成本不同。
封装材料
芯片封装所采用的材料主要包括金属、陶瓷、
高分子聚合物材料等。
问题:如何进行材料选择?
依据材料的电热性质、热-机械可靠性、技术和
工艺成熟度、材料成本和供应等因素。
表1.2-表1.4
封装材料性能参数
介电系数:表征材料绝缘程度的比例常数,相对值,通常介
电系数大于1的材料通常认为是绝缘材料。
《薄膜材料》PPT课件
![《薄膜材料》PPT课件](https://img.taocdn.com/s3/m/767633169ec3d5bbfc0a7441.png)
浆料印刷法形成的膜层——厚膜,前者膜厚多,厚~ 200微米
薄膜的真空沉积法优点
可以得到各种材料的膜层 镀料气化方式很多(如电子束蒸发、溅射、气体源等),控 制气氛还可以进行反应沉积
通过基板、镀料、反应气氛、沉积条件的选择,可以对界面结 构、结晶状态、膜厚等进行控制,还可制取多层膜、复合膜及 特殊界面结构的膜层等。由于膜层表面精细光洁,故便于通过 光刻制取电路图形
特别是可直接印刷电路图形。
典型的成膜方法
电镀和化学镀成膜
是依靠电场反应,使金属从金属盐溶液中析出成 膜的方法
电镀 促进电场析出的还原能量由外部电源提供
化学镀 需添加还原剂,利用自分解而成膜
电镀或化学镀成膜的特点 可对大尺寸基板大批量成膜,与其他成膜方法 相比,设备投资低 需要考虑环境保护问题
为保证金属—半导体间连接为欧姆接触,要求: 金属与半导体的结合部位不形成势垒 对于n型半导体,金属的功函数要比半导体的功函数小 对于p型半导体,与上述相反 金属与半导体结合部的空间电荷层的宽度要尽量窄,电子 直接从金属与半导体间向外迁移受到限制等
2、薄膜材料
导体薄膜材料 电阻薄膜材料 介质薄膜材料 功能薄膜材料
2、薄膜材料 导体薄膜材料
材料的种类及性质 实际情形
单一种导体不可能满足上述所有要求 构成电子电路往往需要多种导体膜的组合
2、薄膜材料 导体薄膜材料
而且 相互连接及电极中往往也不是采用单一金属,而是多种导体膜积 层化,以达到上述各种要求
多层金属组合的实例
2、薄膜材料 导体薄膜材料
从道理上讲,这种方法ຫໍສະໝຸດ 以在任何基板上沉积任何物 质的薄膜,但一般多用于氧化物、氮化物等绝缘材料 及合金材料的成膜
典型的成膜方法 CVD法
电子封装与测试7-失效模式ppt课件
![电子封装与测试7-失效模式ppt课件](https://img.taocdn.com/s3/m/6b7ce1a56f1aff00bed51ee9.png)
物理结构分析
光学显微镜(OM)、扫描S电EM子显微镜(SEM)、透射电 子显微镜(TEM)、扫描探针显微镜(SPM)
元素分析技术
X射线能量色散谱(EDX)、X射线荧光光谱(XRF)、 X射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、二 次离子质谱(SIMS)
24
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
磁辐射 产品的失效机制:热机械:疲劳、蠕变;化学:
腐蚀、应力侵蚀;物理:扩散、分层、电迁移
5
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
失效分布和“浴盆式”曲线
早期失效:与材料/工艺缺陷有 关,用热老化筛除
本征失效:应力作用下的随即 失效,包括腐蚀/杂质扩散/晶体 枝状生长/热电迁移/循环疲劳等, 减小此阶段的失效是首要目标
功能失效 EOS、ESD、Latch-up
4
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
微电子封装的失效及其可靠性
可靠性:给定时间内器件正常工作的概率 可靠性关注:制造或使用过程中由热、机械、物
化环境造成的失效 电子系统的复杂性:多层薄基板、窄引线、微焊
接、微米尺寸组件数量增多 使用环境苛刻:极端温度、耐潮、耐腐蚀和防电
3
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
失效模式与失效机理的对应关系
失效模式
主要失效机理
开路
EOS、ESD、电迁移、应力迁移、腐蚀、键合 点脱落、紫斑、机械应力、热变应力
短路(漏电)pn结缺陷、pn结穿钉、EOS、介质击穿、水 汽、金属迁移、界面态、离子导电
参漂
氧化层电荷、Na离子沾污、表面离子、芯片裂 纹、热载流子、辐射损伤
光学显微镜(OM)、扫描S电EM子显微镜(SEM)、透射电 子显微镜(TEM)、扫描探针显微镜(SPM)
元素分析技术
X射线能量色散谱(EDX)、X射线荧光光谱(XRF)、 X射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、二 次离子质谱(SIMS)
24
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
磁辐射 产品的失效机制:热机械:疲劳、蠕变;化学:
腐蚀、应力侵蚀;物理:扩散、分层、电迁移
5
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
失效分布和“浴盆式”曲线
早期失效:与材料/工艺缺陷有 关,用热老化筛除
本征失效:应力作用下的随即 失效,包括腐蚀/杂质扩散/晶体 枝状生长/热电迁移/循环疲劳等, 减小此阶段的失效是首要目标
功能失效 EOS、ESD、Latch-up
4
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
微电子封装的失效及其可靠性
可靠性:给定时间内器件正常工作的概率 可靠性关注:制造或使用过程中由热、机械、物
化环境造成的失效 电子系统的复杂性:多层薄基板、窄引线、微焊
接、微米尺寸组件数量增多 使用环境苛刻:极端温度、耐潮、耐腐蚀和防电
3
西 南 科 技 大 学, 材 料 科 学 与 工 程 学 院
失效模式与失效机理的对应关系
失效模式
主要失效机理
开路
EOS、ESD、电迁移、应力迁移、腐蚀、键合 点脱落、紫斑、机械应力、热变应力
短路(漏电)pn结缺陷、pn结穿钉、EOS、介质击穿、水 汽、金属迁移、界面态、离子导电
参漂
氧化层电荷、Na离子沾污、表面离子、芯片裂 纹、热载流子、辐射损伤
常用电子元件封装及介绍PPT课件
![常用电子元件封装及介绍PPT课件](https://img.taocdn.com/s3/m/671c7a3c3b3567ec102d8ab2.png)
电阻与电位器
1.电阻的常用封装形式
2电阻表示方法
•直标法:直接标出阻值,百分数表示误差,若电阻上未注偏差,则均为±20%。 •数码法:算法:XXXY=XXX*10Y。 X为2位:多用于E-24系列,精度为J(±5%);例:272,表示2.7KΏ。 X为3位:多用于E-24、E-96系列,精度为F(±1%);例:3323,表示332KΏ。 Y为字母:前两位指有效数代码,具体值查E-96乘数代码表,后一位指10的几次 幂代码,从E-96阻值代码表查找;用于E-96系列,精度为F、D。用于E-96系列。 例:02C=102*102=10.2KΏ。 •文字符号法:m(豪欧)、R(欧)、K(千欧)、M(兆欧) ,例:6R2J,表示 6.2Ώ,允许偏差±5%。 •色标法:紧靠电阻体一端头的色环为第一环,末环表示允许误差,倒数第二环 表示乘数。 •封装:贴片电阻:0201、0402、0603、0805、1206、1210、1812、2010、2512 等,前两位与后两位分别表示长与宽,单位为英寸。 直插电阻:AXIAL-0.3、AXIAL-0.4、AXIAL-0.5、AXIAL-0.6、AXIAL-0.7、 AXIAL-0.8、AXIAL-0.9、AXIAL-1.0,数字表示焊盘中心距,单位为英寸。
适用场合:
以手机,PDA为代表的高密度电子产品多使用0201、0402的器 件;一些要求稳定和安全的电子产品,如医疗器械、汽车行驶 记录仪、税控机则多采用1206、1210等尺寸偏大的电阻。
碳膜电阻:
优点:
价格便宜,阻值范围宽 (从1ω-l0mω),具有良好的稳定性和高频特 性,电庇的变化对其阻值的影响很小,工作温度和极限电压都比 较高。温度系数和电压系数低. 缺点:承受的功率较小,一般是1/8-2w
1.电阻的常用封装形式
2电阻表示方法
•直标法:直接标出阻值,百分数表示误差,若电阻上未注偏差,则均为±20%。 •数码法:算法:XXXY=XXX*10Y。 X为2位:多用于E-24系列,精度为J(±5%);例:272,表示2.7KΏ。 X为3位:多用于E-24、E-96系列,精度为F(±1%);例:3323,表示332KΏ。 Y为字母:前两位指有效数代码,具体值查E-96乘数代码表,后一位指10的几次 幂代码,从E-96阻值代码表查找;用于E-96系列,精度为F、D。用于E-96系列。 例:02C=102*102=10.2KΏ。 •文字符号法:m(豪欧)、R(欧)、K(千欧)、M(兆欧) ,例:6R2J,表示 6.2Ώ,允许偏差±5%。 •色标法:紧靠电阻体一端头的色环为第一环,末环表示允许误差,倒数第二环 表示乘数。 •封装:贴片电阻:0201、0402、0603、0805、1206、1210、1812、2010、2512 等,前两位与后两位分别表示长与宽,单位为英寸。 直插电阻:AXIAL-0.3、AXIAL-0.4、AXIAL-0.5、AXIAL-0.6、AXIAL-0.7、 AXIAL-0.8、AXIAL-0.9、AXIAL-1.0,数字表示焊盘中心距,单位为英寸。
适用场合:
以手机,PDA为代表的高密度电子产品多使用0201、0402的器 件;一些要求稳定和安全的电子产品,如医疗器械、汽车行驶 记录仪、税控机则多采用1206、1210等尺寸偏大的电阻。
碳膜电阻:
优点:
价格便宜,阻值范围宽 (从1ω-l0mω),具有良好的稳定性和高频特 性,电庇的变化对其阻值的影响很小,工作温度和极限电压都比 较高。温度系数和电压系数低. 缺点:承受的功率较小,一般是1/8-2w
PPT微电子封装技术讲义
![PPT微电子封装技术讲义](https://img.taocdn.com/s3/m/fbc59921f4335a8102d276a20029bd64793e6260.png)
02
金属材料的可靠性较高,能够承 受较高的温度和压力,因此在高 集成度的芯片封装中广泛应用。
高分子材料
高分子材料在微电子封装中主要用于 绝缘、密封和塑形。常见的高分子材 料包括环氧树脂、聚酰亚胺、聚四氟 乙烯等,它们具有良好的绝缘性能和 化学稳定性。
高分子材料成本较低,加工方便,因 此在低端和大规模生产中应用较广。
板级封装
1
板级封装是指将多个芯片或模块安装在同一基板 上,并通过基板与其他器件连接的系统封装类型。
2
板级封装具有制造成本低、易于维修和更换等优 点,因此在消费电子产品中应用广泛。
3
常见的板级封装类型包括双列直插式封装 (DIP)、小外形封装(SOP)、薄型小外形封 装(TSOP)等。
系统级封装
系统级封装是指将多个芯片、模块和其他元器件集成在一个封装体内,形成一个完 整的系统的封装类型。
微电子封装技术的应用领域
通信
高速数字信号处理、 光通信、无线通信等。
计算机
CPU、GPU、内存条 等计算机硬件的封装 和互连。
消费电子
智能手机、平板电脑、 电视等消费电子产品 中的集成电路封装。
汽车电子
汽车控制单元、传感 器、执行器等部件的 封装和互连。
医疗电子
医疗设备中的传感器、 控制器、执行器等部 件的封装和互连。
详细描述
芯片贴装是将微小芯片放置在基板上的过程,通常使用粘合剂将芯片固定在基板 上,以确保芯片与基板之间的电气连接。这一步是封装工艺中的关键环节,因为 芯片的正确贴装直接影响到后续的引线键合和整体封装质量。
引线键合
总结词
引线键合是将芯片的电路与基板的电路连接起来的工艺过程。
详细描述
引线键合是通过物理或化学方法将芯片的电路与基板的电路连接起来的过程。这一步通常使用金属线或带状线, 通过焊接、超声波键合或热压键合等方式将芯片与基板连接起来,以实现电气信号的传输。引线键合的质量直接 影响着封装产品的性能和可靠性。
金属材料的可靠性较高,能够承 受较高的温度和压力,因此在高 集成度的芯片封装中广泛应用。
高分子材料
高分子材料在微电子封装中主要用于 绝缘、密封和塑形。常见的高分子材 料包括环氧树脂、聚酰亚胺、聚四氟 乙烯等,它们具有良好的绝缘性能和 化学稳定性。
高分子材料成本较低,加工方便,因 此在低端和大规模生产中应用较广。
板级封装
1
板级封装是指将多个芯片或模块安装在同一基板 上,并通过基板与其他器件连接的系统封装类型。
2
板级封装具有制造成本低、易于维修和更换等优 点,因此在消费电子产品中应用广泛。
3
常见的板级封装类型包括双列直插式封装 (DIP)、小外形封装(SOP)、薄型小外形封 装(TSOP)等。
系统级封装
系统级封装是指将多个芯片、模块和其他元器件集成在一个封装体内,形成一个完 整的系统的封装类型。
微电子封装技术的应用领域
通信
高速数字信号处理、 光通信、无线通信等。
计算机
CPU、GPU、内存条 等计算机硬件的封装 和互连。
消费电子
智能手机、平板电脑、 电视等消费电子产品 中的集成电路封装。
汽车电子
汽车控制单元、传感 器、执行器等部件的 封装和互连。
医疗电子
医疗设备中的传感器、 控制器、执行器等部 件的封装和互连。
详细描述
芯片贴装是将微小芯片放置在基板上的过程,通常使用粘合剂将芯片固定在基板 上,以确保芯片与基板之间的电气连接。这一步是封装工艺中的关键环节,因为 芯片的正确贴装直接影响到后续的引线键合和整体封装质量。
引线键合
总结词
引线键合是将芯片的电路与基板的电路连接起来的工艺过程。
详细描述
引线键合是通过物理或化学方法将芯片的电路与基板的电路连接起来的过程。这一步通常使用金属线或带状线, 通过焊接、超声波键合或热压键合等方式将芯片与基板连接起来,以实现电气信号的传输。引线键合的质量直接 影响着封装产品的性能和可靠性。
电子封装用低熔点玻璃调研报告 ppt课件
![电子封装用低熔点玻璃调研报告 ppt课件](https://img.taocdn.com/s3/m/f5741cdff12d2af90342e659.png)
两个实验均很清楚地表明,要实现硼硅酸盐玻璃的低熔化最主要的 是[注控释]制43..邓B乔大i文2O伟杰.3.和BiB2iBO23O2-3OB-2B3O2含3O-3Z-量nBOa。系O系低无熔铅点玻无璃铅p粉封p在t课接电件玻子璃浆结料构中与的熔应体用性.质东研华究大.武学汉硕理士工论大文学,硕20士11论.文3 8,
低熔点玻璃的应用
玻璃类材料作为封接材料的一种,由于 其在气密性和耐热性方面优于有机高分子材 料,在电绝缘性能方面又优于金属材料[2],因 而可应用于微电子(IC)封装、激光和红外技术、 航空航天、能源、机械加工行业、化学工业、 工业测量等领域。
低熔玻璃通常是以浆料的形式、作为陶 瓷等材料的封接剂用于电子封装。
2011.5
低熔点玻璃的实现
一种低熔点玻璃粉及其制备方法[5]
低熔玻璃的制备工艺已经相对成熟,各种专利也不鲜见,下面 介绍几种常用的制备方法。
第一种是针对要求较低的特种玻璃制造工艺,基本步骤如下:
• 玻璃主要组分为V205、P2O5、PbO,质量百分比分别为 22-62%、8-18%、20-70%;除此之外,还含有质量比不
[注释]5.李宏等.一种低熔点玻璃浆料及pp其t课制件备方法.武汉理工大学专利,
9
2015.10
低熔点玻璃的实现
一种低熔点玻璃粉及其制备方法[5]
各组分的配比不同,得到的玻璃粉 的软化温度也不同,没有较明确的规律, 例如,V205、P2O5、PbO质量百分比分别为 48%、12%、40%时,通过上述制备方法 得到的热分析谱图(DSC曲线)如右所示:
[注释]2.甄国青译.封接玻璃【J】.电子陶瓷p,p1t课98件9.1
6
低熔点玻璃的实现
• 低熔点玻璃粉作为电子浆料成分,应用于微电子封装行 业。低熔点玻璃粉的制备通常是以硼硅酸盐玻璃为主要成分, 常见的玻璃系统有Bi2O3-B2O3-BaO系和Bi2O3-B2O3-ZnO系。
低熔点玻璃的应用
玻璃类材料作为封接材料的一种,由于 其在气密性和耐热性方面优于有机高分子材 料,在电绝缘性能方面又优于金属材料[2],因 而可应用于微电子(IC)封装、激光和红外技术、 航空航天、能源、机械加工行业、化学工业、 工业测量等领域。
低熔玻璃通常是以浆料的形式、作为陶 瓷等材料的封接剂用于电子封装。
2011.5
低熔点玻璃的实现
一种低熔点玻璃粉及其制备方法[5]
低熔玻璃的制备工艺已经相对成熟,各种专利也不鲜见,下面 介绍几种常用的制备方法。
第一种是针对要求较低的特种玻璃制造工艺,基本步骤如下:
• 玻璃主要组分为V205、P2O5、PbO,质量百分比分别为 22-62%、8-18%、20-70%;除此之外,还含有质量比不
[注释]5.李宏等.一种低熔点玻璃浆料及pp其t课制件备方法.武汉理工大学专利,
9
2015.10
低熔点玻璃的实现
一种低熔点玻璃粉及其制备方法[5]
各组分的配比不同,得到的玻璃粉 的软化温度也不同,没有较明确的规律, 例如,V205、P2O5、PbO质量百分比分别为 48%、12%、40%时,通过上述制备方法 得到的热分析谱图(DSC曲线)如右所示:
[注释]2.甄国青译.封接玻璃【J】.电子陶瓷p,p1t课98件9.1
6
低熔点玻璃的实现
• 低熔点玻璃粉作为电子浆料成分,应用于微电子封装行 业。低熔点玻璃粉的制备通常是以硼硅酸盐玻璃为主要成分, 常见的玻璃系统有Bi2O3-B2O3-BaO系和Bi2O3-B2O3-ZnO系。
电子封装简介PPT课件
![电子封装简介PPT课件](https://img.taocdn.com/s3/m/7474adbb4afe04a1b071de95.png)
5
技术实力
• 本诺产品拥有自主知识产权,已申请国家基金项目及国家发明专利若干项 ,总部设立在上海;目前在日本、华东、 华南、华北、西北、东北地区设 有分支机构。
• 无论在研发, 工艺控制还是技术支持,本诺都拥有多年相关经验的博士硕士 等人才,保证本诺产品在性能上达到国际先进水平。
6
品质认证
本诺于2011年5月通过Iso9001国际标准认证,并于2011年6月开始5S现场 管理的推行,2012年9月通过Iso14001环境体系认证。本公司产品品质与 即时的专业技术支持,得以帮助我们的客户减少问题,降低成本、提高效 率。通过许多国际知名企业如京东方、中芯国际电子、富士康的供应商评 估并成为认可的策略伙伴都是本诺品质认证中的重要里程碑。
3
激情源于梦想,成功来自专注
• 企业愿景
最有竞争力的电子粘合剂品牌
• 企业精神
秉持专注,坚持创新
• 核心价值观
不惟学历重能力;不惟资历重成绩
4
核心竞争力
• 持续的研发能力 • 国际先进的生产工艺 • 多年累计的客户资源 • 灵活的客户订制服务 • 经验丰富的技术服务人员 • 开发及合成原材料的能力
41
三道光检 3rd Optical Inspection
检查Die Attach和Wire Bond之后有无各种废品
42
TSSOP/SOIC/QFP package后续工艺
EOL
Annealing 电镀退火
Trim/Form 切筋/成型
Molding 注塑
De-flash/ Plating 去溢料/电镀
15
LED 产品对比
我们的产品 8300C 8280C 8400C 9300C
技术实力
• 本诺产品拥有自主知识产权,已申请国家基金项目及国家发明专利若干项 ,总部设立在上海;目前在日本、华东、 华南、华北、西北、东北地区设 有分支机构。
• 无论在研发, 工艺控制还是技术支持,本诺都拥有多年相关经验的博士硕士 等人才,保证本诺产品在性能上达到国际先进水平。
6
品质认证
本诺于2011年5月通过Iso9001国际标准认证,并于2011年6月开始5S现场 管理的推行,2012年9月通过Iso14001环境体系认证。本公司产品品质与 即时的专业技术支持,得以帮助我们的客户减少问题,降低成本、提高效 率。通过许多国际知名企业如京东方、中芯国际电子、富士康的供应商评 估并成为认可的策略伙伴都是本诺品质认证中的重要里程碑。
3
激情源于梦想,成功来自专注
• 企业愿景
最有竞争力的电子粘合剂品牌
• 企业精神
秉持专注,坚持创新
• 核心价值观
不惟学历重能力;不惟资历重成绩
4
核心竞争力
• 持续的研发能力 • 国际先进的生产工艺 • 多年累计的客户资源 • 灵活的客户订制服务 • 经验丰富的技术服务人员 • 开发及合成原材料的能力
41
三道光检 3rd Optical Inspection
检查Die Attach和Wire Bond之后有无各种废品
42
TSSOP/SOIC/QFP package后续工艺
EOL
Annealing 电镀退火
Trim/Form 切筋/成型
Molding 注塑
De-flash/ Plating 去溢料/电镀
15
LED 产品对比
我们的产品 8300C 8280C 8400C 9300C
先进电子封装用聚合物材料研究进展PPT课件
![先进电子封装用聚合物材料研究进展PPT课件](https://img.taocdn.com/s3/m/05bd10c7ff00bed5b8f31d46.png)
基板/芯片
基板 基板 基板
技术指标 ≥500次 ≥700次 ≥500次 ≥5次
≥2次
≥500小时 ≥500小时 ≥500小时
化学所PI封装基板树脂研究
热塑性聚酰亚胺
O
O
N Ar
N
O
O
Ar=
O CF3
O
O
O
N Ar
N
O
O
n
F3C O
MPIa
CF3 O
42
O F3C
MPIb
热固性聚酰亚胺
O
O
O
O
O
N Ar
光敏性PI树脂
化学所层间介质树脂的研究
HO
CF3
OH
O2N HO
F3C
CF3
9F-bisphenol
HNO3
F3C
CF3
NO2 OH
CF3
Pd/C hydrazine
H2N HO
CF3
NH2 OH
F3C
CF3
9FAP
ClOC
CF3
R propylene oxide
H
HO
N
CF3
NC
CF3
HO
OH
F3C
MCM/SiP
00’s
05’s
➢ 小型化 ➢ 轻薄化 ➢ 高性能化 ➢ 多功能化 ➢ 高可靠性 ➢ 低成本
微电子封装技术-发展现状与趋势
PBGA TBGA
EBGA
QFP FPBGA
LQFP
VFBGA
BOC
mBGA
BCC
SOIC
TSOP
Current
CSP System In Package FC BGA
基板 基板 基板
技术指标 ≥500次 ≥700次 ≥500次 ≥5次
≥2次
≥500小时 ≥500小时 ≥500小时
化学所PI封装基板树脂研究
热塑性聚酰亚胺
O
O
N Ar
N
O
O
Ar=
O CF3
O
O
O
N Ar
N
O
O
n
F3C O
MPIa
CF3 O
42
O F3C
MPIb
热固性聚酰亚胺
O
O
O
O
O
N Ar
光敏性PI树脂
化学所层间介质树脂的研究
HO
CF3
OH
O2N HO
F3C
CF3
9F-bisphenol
HNO3
F3C
CF3
NO2 OH
CF3
Pd/C hydrazine
H2N HO
CF3
NH2 OH
F3C
CF3
9FAP
ClOC
CF3
R propylene oxide
H
HO
N
CF3
NC
CF3
HO
OH
F3C
MCM/SiP
00’s
05’s
➢ 小型化 ➢ 轻薄化 ➢ 高性能化 ➢ 多功能化 ➢ 高可靠性 ➢ 低成本
微电子封装技术-发展现状与趋势
PBGA TBGA
EBGA
QFP FPBGA
LQFP
VFBGA
BOC
mBGA
BCC
SOIC
TSOP
Current
CSP System In Package FC BGA
封装有机基板简介课件
![封装有机基板简介课件](https://img.taocdn.com/s3/m/c262f5a1988fcc22bcd126fff705cc1755275fda.png)
03
陶瓷材料
陶瓷材料具有优良的绝缘性、耐热性和机械强度,常用于封装有机基板
的特殊部分,如芯片粘结材料。常用的陶瓷材料包括氧化铝、氮化硅等
。
结构特点
多层结构
封装有机基板通常采用多层结构,各层之间通过粘 结剂粘结而成。这种多层结构可以增加基板的机械 强度和减小尺寸。
线路设计
封装有机基板上布设有各种线路,用于连接芯片和 其他元件。线路设计需要考虑到电流密度、热稳定 性、信号传输速度等因素。
06
封装有机基板的挑战与解决方案
封装有机基板的挑战与解决方案
• 封装有机基板是一种重要的电子封装材料,用于连接和保护电子元器件。它具有轻质、薄型、灵活和低成本等优点,广泛 应用于消费电子产品、汽车电子、航空航天等领域。
THANK YOU
感谢聆听
特点
具有轻便、薄型、高性能、低成本等优点,广泛应用于电子设备 、通信、计算机等领域。
封装有机基板的应用领域
电子设备
通信
计算机
其他
手机、平板电脑、电视 、音响等。
基站、路由器、交换机 等。
主板、显卡、内存条等 。
汽车电子、医疗器械等 。
封装有机基板的发展历程
01
02
03
04
起源
发展初期
快速发展期
成熟期
20世纪60年代,随着集成电路 的发明,封装有机基板开始出 现。
20世纪70年代,封装有机基板 开始进入商业化应用,主要应 用于军事和航天领域。
20世纪80年代,随着电子设备 市场的快速发展,封装有机基 板的应用范围不断扩大,技术 也不断进步。
20世纪90年代至今,封装有机 基板技术已经相当成熟,成为 电子设备制造中不可或缺的重 要部分。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
聚酰亚胺封装:聚酰亚胺可耐350~450℃的高温、 绝
缘性好、介电性能优良、抗有机溶剂和潮气的浸湿等
优点,主要用于芯片的钝化层、应力缓冲和保护涂层、 层间介电材料、液晶取向膜等,特别用于柔性线路板的 基材。
3.3金属基封装材料
a.优势与劣势: 金属基封装材料较早应用到电子封装中, 因其热
导率和强度较高、加工性能较好,至今仍在研究、开
电子封装材料及其应用
主讲人:
王科 鄢冬冬
目录
一、 电子封装材料的概念 二、 电子封装材料的分类 三、 电子封装的应用 四、 结语
一、电子封装材料的概念
电子封装
电子封装是指对电路芯片进行包装,保护电路芯片,使
其免受外界环境影响的包装。
电子封装起机械支 持,密封环境保护,信号传递, 散热和屏蔽等作用的基体材料。
半导体Si片的支撑材料。但W、Mo与Si的浸润性差、 焊接性差。另外W、Mo、Cu的密度较大,不宜航空航 天使用;W、Mo成本高,不宜大量使用。
新型金属基封装材料: Si/Al合金: 利用喷射成形技术制备出Si质量分数为70%的Si2Al合金,其热 膨胀系数为(6-8)×10- 6K- 1热导率大于100W/(m· K)密度为2.42.5g/cm3, 可用于微波线路、光电转换器和集成线路的封装等。 提高Si含量,可降低热膨胀系数和合金密度,但增加了气孔率,降低 了热导率和抗弯强度。Si含量相同时,Si颗粒较大的合金的热导率和 热膨胀系数较高, Si颗粒较小的合金的抗弯强度较高。Al/Si2合金应 用前景广阔。
溶性问题,以实现界面的良好结合。此外,C纤维价格昂贵,而且Cu/C纤维封
装材料还存在热膨胀滞后的问题。
3.4三种类型封装材料对比
塑料基封装材料的密度较小,介电性能较好,热导率 不高, 热膨胀系数不匹配,但成本较低,可满足一般的封装
技术要求。
金属基封装材料的热导率较高,但热膨胀系数不匹配, 成本较高。 陶瓷基封装材料的密度较小,热导率较高,热膨胀系数 匹配,是一种综合性能较好的封装方式
未来的金属基封装材料将朝着高性能、低成本、低密
度和集成化的方向发展。轻质、高导热和CTE匹配的Si/Al、 SiC/Al合金将有很好的前景。
三、电子封装工艺
电子封装结构的三个层次
3.电子封装材料研究现状
3.1 陶瓷基封装材料 3.2 塑料基封装材料 3.3 金属基封装材料
3.4 三种类型封装材料对比
3.5 绿色电子封装材料
3.1 陶瓷基封装材料
a.优势与劣势: 优势:1)低介电常数,高频性能好
2)绝缘性好、 可靠性高
3)强度高, 热稳定性好 4)低热膨胀系数, 高热导率 5)气密性好,化学性能稳定 6)耐湿性好, 不易产生微裂现象 劣势: 成本较高,适用于高级微电子器件的封装 (航空航天及军事领域)
Cu/C纤维封装: C纤维的纵向热导率高(1000W/(m· k)),热膨胀系数很小(-1.6×106K-1因),此Cu/C纤维封装材料具有优异的热性能。对于Cu/C纤维封装材 料,其具有明显的各向异性,沿着C纤维方向的热导率远高于横向分布的热 导率。 Cu与C的润湿性差,固态和液态时的溶解度小,且不发生化学反应。因 此,Cu/C 纤维封装材料的界面结合是以机械结合为主的物理结合, 界面结合 较弱。所以,Cu/C纤维封装材料制备过程中需要首先解决两组元之间的相
发和推广。 但是传统金属基封装材料的热膨胀系数不匹配,密 度大等缺点妨碍其广泛应用。
b.常用金属基电子封装材料
传统金属基封装材料: Al:热导率高、密度低、成本低、易加工,应用最广 泛。但Al的热膨胀系数与Si等差异较大,器件常因较 大的热应力而失效,Cu也是如此。
W、Mo:热膨胀系数与Si相近,热导率较高,常用于
结语
在未来相当长时间内,电子封装材料仍以塑料基为主。发展方向为:
1.)超大规模集成化、微型化、高性能化和低成本化。
2.)满足球栅阵列(BGA)、芯片级(CSP)、多芯片组件(MCM)等 先进新型封装形式的新型环氧模塑料。
3.)无卤、锑元素,绿色环保,适用于无铅焊料工艺的高温260℃回流
焊要求。 4.)开发高纯度、低黏度、多官能团、低吸水率、低应力、耐热性
b.常用塑料基封装材料
环氧模塑料(EMC)具有优良的粘结性、优异的电绝缘性、强度高、 耐热性和耐化学腐蚀性好、吸水率低,成型工艺性好等特点。环氧塑封 料目前存在热导率不够高,介电常数、介电损耗过高等问题急需解决。
可通过添加无机填料来改善热导和介电性质。
有机硅封装材料:硅橡胶具有较好的耐热老化、耐紫外线老化、绝 缘性能,主要应用在半导体芯片涂层和LED封装胶上。将复合硅树脂和 有机硅油混合, 在催化剂条件下发生加成反应, 得到无色透明的有机硅封 装材料。环氧树脂作为透镜材料时,耐老化性能明显不足,与内封装材料 界面不相容,使LED的寿命急剧降低。硅橡胶则表现出与内封装材料良好 的界面相容性和耐老化性能.
Al2O3陶瓷基片由于原料丰富、强度、硬度高、绝缘性、化学稳定性、 与金 属附着性良好,是目前应用最成熟的陶瓷基封装材料。但是Al2O3热膨胀系数和 介电常数比Si高,热导率不够高,限制了其在高频,高功率,超大规模集成封装
领域的应用。
AlN具有优良的电性能和热性能,适用于高功率,多引线和大尺寸封装。但是 AlN存在烧结温度高,制备工艺复杂,成本高等缺点,限制了其大规模生产和使用。
好的环氧树脂.新型环氧模塑料将走俏市场,有机硅类或聚酰亚胺类
很有发展前景
在军事、 航空航天和高端民用电子器件等领域,陶瓷基
封装材料将向多层化方向发展,低温共烧陶瓷具有广阔的前
景,多层陶瓷封装的发展重点是可靠性好,柔性大、成本低。 高导热、高密封的AlN发展潜力巨大,应在添加物的选择与 加入量、烧结温度、粉料粒度、氧含量控制等关键技术上 重点突破。
二、电子封装材料的分类
基板
布线
电子封 装材料
密封材料
框架
层间介质
基体
高密度多层封装基板主要在半导体芯片与常规 PCB (印制电 路板)之间起电气过渡作用,同时为芯片提供保护、支撑、散热 作用。 陶瓷 环氧玻璃
主要包括
金属基复 合材料
金属
金刚石
封装基板主要包括三种类型: 1) 硬质 BT 树脂基板:硬质 BT 树脂基板主要由 BT 树脂( 双马来酰亚胺三嗪树脂)和玻纤布经反应性模压工艺而制成。 2)韧性 PI(聚酰亚胺) 薄膜基板:在线路微细化、轻量化、 薄型化、高散热性需求的驱动下,主要用于便携式电子产品的 高密度、多 I/O 数的 IC 封装。 3)共烧陶瓷多层基板:烧陶瓷基板包括高温共烧陶瓷基板( HTCC)和低温共烧基板(LTCC)。和 HTCC 相比, LTCC 基板的介 电常数较低, 适于高速电路;烧结温度低, 可使用导电率高的 导体材料;布线密度高,且可以在 LTCC 结构中埋置元器件。
层间介质
介质材料在电子封装中起着重要的作用,如保护电路、隔离 绝缘和防止信号失真等。 它分为有机和无机 2 种,前者主要为聚合物,后者为 Si02 , Si3N4和玻璃。多层布线的导体间必须绝缘,因此,要求介质有 高的绝缘电阻,低的介电常数,膜层致密。
密封材料
电子器件和集成电路的密封材料主要是陶瓷和塑料。最早用 于封装的材料是陶瓷和金属,随着电路密度和功能的不断提高, 对封装技术提出了更多更高的要求,从过去的金属和陶瓷封装 为主转向塑料封装。至今,环氧树脂系密封材料占整个电路基 板密封材料的90%左右. 树脂密封材料的组成为环氧树脂 ( 基料树脂及固化剂 ) 、填料 (二氧化硅)、固化促进剂、偶联剂(用于提高与填料间的润湿性 和粘结性 ) 、阻燃剂、饶性赋予剂、着色剂、离子捕捉剂 ( 腐蚀 性离子的固化 ) 和脱模剂等。目前,国外 80 %~ 90 %半导体器 件密封材料 ( 日本几乎全部 ) 为环氧树脂封装材料,具有广阔的 发展前景。
布线
导体布线由金属化过程完成。基板金属化是为了把芯片安 装在基板上和使芯片与其他元器件相连接。为此,要求布线金 属具有低的电阻率和好的可焊性,而且与基板接合牢固。金属 化的方法有薄膜法和后膜法。
Al是半导体集成电路中最常用的薄膜导体材料,其缺点是抗电子迁移能 力差。Cu导体是近年来多层布线中广泛应用的材料,Au,Ag,NiCrAu,Ti— Au,Ti—Pt—Au等是主要的薄膜导体。为降低成本,近年来采用Cr—Cu—Au, Cr—Cu—Cr,Cu—Fe—Cu,Ti—Cu—Ni—Au等做导体薄膜。
SiC 陶瓷的热导率很高,热膨胀系数较低,电绝缘性能良好,强度高。但是SiC
介电常数太高,限制了高频应用,仅适用于低频封装。
3.2 塑料基封装材料
a.优势与劣势: 塑料基封装材料成本低、工艺简单、在电 子封装材料中用量最大、发展最快。它是实 现电子产品小型化、 轻量化和低成本的一类 重要封装材料。 但是塑料基封装材料存在热膨胀系数(与 Si)不匹配,热导率低,介电损耗高,脆性大 等不足。
3.5 绿色电子封装材料
绿色电子封装是指在电子产品整个封装过程中,必须考虑资源 能源消耗和环境影响等问题,并兼顾技术和经济因素,使得电子封 装企业的经济效益和社会效益达到协调优化的电子封装理念。目前 研究比较多的绿色电子封装是封装材料的无铅无卤化问题。 绿色电子封装要求封装材料,包括互连材料(如无铅焊料和焊膏 等 )和被连接材料(如印刷电路板、电子元器件等 )以及连接后清洗所 用的清洗剂等,均不得使用含铅及含卤素材料。