英制形位公差应用指南介绍5(位置公差部分))

• 相对于同一基准体系由理论正确尺寸定位
• 当两个或多个成组要素以相同的基准顺序，相对 于共用基准要素用理论正确尺寸定位时，使用下 述规则：同时要求 。
•
RFS的同时要求
• 当相对于共用基 准要素而彼此不 以尺寸公差相联 系，或相对于 RFS基础上规定 的共用基准尺寸 要素定位多个成 组要素时，可将 它们考虑成是各 个单个组。如下 图，每个成组要 素都相对于共用 基准要素定位而 彼此不以尺寸公 差相联系。
• 由于图1和图2中被测要素的实际配合包容面尺寸为直 径25，被测要素保持在可接受的尺寸极限内。对同轴 的位置公差，要素的实际配合包容面轴线的位置相对 于基准要素的轴线也在公差带内。当检查同轴位置公 差时，图1和图2所描述的两种状态是完全可以接受的， 也就是说，对这两种情况，零件都满足标注的同轴位 置公差要求，零件是合格的。
• 使用延伸公差带的位置度公差
• 延伸公差带，是把公差带延伸到被测孔 之外，控制孔的延伸部分，见下图。延 伸公差带的高度与延伸方向应根据装配 的需要而定，并在图样上作出明确的标 注。
美标82年版本对延伸公差带们标注方法与此标注略有不同
• 位置度的圆锥形公差带
• 图样上对较深的孔的位置度，可在孔 的两端给出不同的公差值，具体注法 见图。此时其公差带的形状不是圆柱 形，而是圆锥形。
• 位置度公差标注采用在公差框格中注写位置度符号、公差 值、相关的实体状态限定符号和相应的基准来表示。
理论正确尺寸标注
• 每个要素的位置都是由理论正确尺寸给定的，理论正确尺 寸不带公差。
• 一般公差在图样上也不标出，通常只是在图样的标题栏附 近统一提出要求。为使两者有所区别，理论正确尺寸必须 用下述方法之一与一般公差进行区分：
• 对于同轴度，完全相反的(或相应定位的)要素的中心 位置相对于基准要素轴线被控制，见下图。当检查同 轴度要求时，对上图1和图2所描述的那两种状态，只 有图2描述的零件是可以接受的，也就是说，对这种 情况，零件满足标注的同轴度公差要求，零件是合格 的。而对图1所示的状态，因为有的被测要素的中点 超过0.4直径同轴度公差圆柱的边界，所以不合格。
• 应用关键点：
• 美标对同轴性控制和同轴度有严格区分。使用时应 注意同轴性是控制被测要素的实际配合包容面的轴 线，既能满足功能要求又便于检测，所以美标推荐 采用同轴性控制，即在图样上通过标注位置度公差 或复合位置度来控制同轴性要求。除非是对要素中 心控制有明确的特殊需要，一般不推荐标注同轴度。
• 应用RFS的孔组
• 6个孔可以在直径25.0～25.6间变化。每个孔都必须位 于与孔尺寸无关的规定的位置度公差范围内。处在 LMC下的孔(直径25.6)和处在MMC下的孔(直径25.0) 具有同样的准确定位。这种位置控制比MMC要求更严 格。
• RFS的基准要素
• 某些设计由于功能要求需要基准要素应用RFS。即必 须要求实际基准要素的轴线(如在图中的基准直径B)与 用于孔组的孔的基准轴线相重合，而与基准要素的尺 寸无关。应用RFS要求，在基准要素偏离MMC时，不 允许孔组对基准轴线增加任何偏移。
• 复合位置度公差
• 复合位置度公差用于确定整个成组要素的位置以及组 内各要素的相互关系(位置和方向)。公差框格中每一 水平部分都可以分别检查，但下边框格总是上框格的 次级。
• 当使用复合位置度控制时，上框格是对整组的定 位控制用理论正确尺寸相对基准定位。
• 下框格是对成组要素中各个要素的控制。它对组 内每个要素规定了较小的位置公差。当复合位置 度的下框格未规定基准时，在建立和控制的范围 内自由定位和定向(可以偏离和倾斜)。若在下框 格内规定基准，这些基准控制的方向，见下图， 以三孔为例。
• MMC下对称要素的位置度公差
• 对称性可以在MMC下规定位置度公差 来控制，见下图。同样，基准要素可 以在MMC、LMC基础上规定，也可在 RFS基础上规定，这取决于实际要求。
• 在MMC下零位置度公差控制对称性
• 当有必要在要素的尺寸极限内控制 相关要素的对称性时，应规定在 MMC下的零位置度公差。此时的基 准通常是在MMC基础上规定。在 MMC下的零位置度公差意味着只有 在要素的尺寸向LMC偏离时才允许 有位置偏差。
在下框格中重复使用第一和第二基准
• 两个独立位置度公差框格的组合
• 使用两个单独位置度公差框格的组合，见下图 给出了两个单独公差框格的组合，下面的公差 框格重复了基准A和基准B。当保持垂直于基准 平面A而平行于基准B时，圆柱形公差带作为一 组可在定位公差带的控制下左、右移动。
• 在RFS基础上的对称要素位置度公差
• 某些设计可以要求对与实际尺寸无关 的要素间的对称性进行控制。此时， 规定的位置度公差和基准都应采用 RFS，见下图。
• 控制相对应要素中点的对称度公差
• 对称度是指两个或多个要素表面所有相 对应中点与基准要素的轴线或中心平面 一致的状态。当设计要求限定使用对称 度公差和符号时，可以使用下图所示的 方法。由于对称度和同轴度控制在概念 上是相同的，有关同轴度的解释同样也 适用于被测要素的对称度。对称度公差 和基准只能在RFS基础上应用。
• 国标对同轴度的概念与美标同轴性和同轴度皆不相 同，国标是要找出被测要素的提取中心线，提取中 心线应位于与基准同轴的给定直径的圆柱形公差带 内。虽然国标也可以用位置度公差来控制同轴，但 它仍是按提取中心线是否在按基准定位的圆柱形公 差带内来判定是否合格。应用时，要注意概念上的 不同。
• 对称要素的位置度公差
• 基准要素在MMC下的允许偏离
• 若成组要素必须相对于在MMC下的基准要素定位，见 下图。当图中基准要素B处于MMC时，它的轴线确定了 几何图框的位置。
当基准要素B偏离MMC时，其轴线可以偏离基准轴 线的正确位置(在MMC下的基准B)，其偏离值等于
其实际值与MMC尺寸之间的差值的一半。
• 在MMC下的零位置度公差(0M) • 在MMC下的位置度公差可以扩大应用于某些特
• MMC下的同时要求
• 当多个成组要素的任何共用基准体系在MMC基础上规 定时，根据功能要求，可以选择这些成组要素作为一 个单个组或具有单独要求的各个组。如果在公差框格 下未加任何附加注释，则把这些成组要素看成是一个 组。
• 当设计允许这些成组要素作为分别独立的单独组时， 应在每个单独组的公差框格下方加注“分别要 求”(SEP REQT)，见下图。
• 同轴关系 • 同轴关系可由在MMC基础上规定的位置
度公差控制，也可由在RFS基础上规定 的位置度公差控制，见下图。
• 同样，基准要素可在MMC基础上规定， 也可在RFS基础上规定。这些都取决于 设计要求。
• 基准要素是在MMC基础上规定的， 在这样情况下，基准要素相对 MMC的任何偏离量，均可引起基 准要素轴线与被测要素轴线之间 的附加位移，见下图(c)所示。
• 不同尺寸的孔
• 当所有孔具有相同要求而孔径不同时， 使用单个几何特征符号，并加注“两 孔”字样予以注释，见下图。
• 跳动公差控制
• 当旋转表面的组合为相对于共用基 准轴线的圆柱体、或圆锥体、或相 对于基准点的球体时，推荐使用跳 动公差。在规定跳动公差处，不能 应用MMC概念，因为跳动是控制要 素的表面。
五、位置公差
• 本章对应用位置公差的原则作了规定，包 括用于控制下列关系的位置度、同轴度和 对称度：
• (a) 孔、槽、凸台和耳片这类要素间的中心 距离；
• (b) 成组要素相对基准要素的位置； • (c) 要素的同轴度； • (d) 要素的同心度或对称度。
位置度公差的标注
• 位置度公差规定了被测要素的实际位置对其理想位置的允 许变动区域。或者说是建立一个边界。被测要素表面不能 超越这一边界。
• 非圆形要素的位置度公差
• 位置度公差也适用于非圆形形体，如槽、凸台、 长圆孔等。由于这些要素的中心要素不是直线， 而是平面，其公差带的形状也不是圆柱，而是 一组平行平面，公差值前面不需加注直径符号， 见下图。
• 同轴要素的位置公差
• 同轴要素的位置公差是控制要素的同轴 性。同轴性是指两个或两个以上旋转表 面的轴线要求重合的状态。其偏离公共 轴线的允许量可用位置度或跳动公差来 表示。选择哪种方法控制，取决于设计 的功能要求的性质。
• 成组定位公差中的两个或多个要素
• 在一个相对较大的成组要素定位公差 带内，若有两个或多个同轴要素之处， 可规定如下图所示的控制。
• 成组同轴要素公差的定向
• 当要求精确给出的圆柱建立的边界控 制定向时，在公差框格上部框格规定 的基准如果适用，可在下框格中以相 同的先后顺序重复基准，见下图。
• 同轴性检验
• 同轴性用位置度公差控制，不能使用单 一的检验量规进行检验，而应使用如上 图所示的功能量规进行。图(a)示出了被 测要素和基准要素两者都处于MMC下的 状态；图(b)示出了被测要素处于LMC下 和基准要素处于MMC下的状态；图(c)示 出了被测要素和基准要素都处于LMC下， 在相反的极端情况下位移。
• 同轴度
• 同轴度是旋转要素的所有完全相对 的要素的中点与基准要素轴线(或中 心点)一致的状态。
• 同轴wk.baidu.com公差的注法
• 同轴度公差是圆柱形(或球形)公差带，它的轴 线(或中心点)与基准要素的轴线(或中心点)重 合。所有被测要素的相应定位的要素的中点， 必须位于圆柱形(或球形)公差带内，并与要素 尺寸无关。规定的公差和基准仅在RFS基础 上适用，见下图。同轴度公差要求建立和验 证要素的中心点。
• a) 将理论正确尺寸符号标在每一个理论正确尺寸上，见下 图(a)、图(b)。
• b) 在图样上(或在图样的技术条件中)给出通注：“确定理 想位置的无公差尺寸是理论正确尺寸”，图(c)。
• 实体状态下的位置度公差
• 被测要素在MMC下位置度公差的解释
• 被测要素应用MMC时，如果位置度公差值的后面加注M，则实 际上是规定了被测要素的一个实效边界，位置度须受实效边界 的控制 。
定的场合。即被测要素在MMC下不允许有位置 误差，此时位置度公差为零。当偏离MMC时才 允许有位置度公差，允许的位置度公差完全随 被测要素的实际尺寸而定，见下图。
• 通过0M的标注，在功能范围内可以对被测要素 提供比其他方式更大的公差范围。
RFS的位置度公差
当零件的设计或功能要 求位置度与配合尺寸无 关，如对圆形孔组要素 的位置度可采用RFS， 要求每一个要素的轴线 定位在规定的位置度公 差内，而与尺寸要素无 关，见右图。
• 同轴性控制与同轴度的区别 • 下图所示被测要素的两种可能状态。
• 第1张图中，被测要素的实际配合包容面的轴线相对 于基准要素的轴线A向左偏移0.2，并从被测要素的表 面右边去除了0.5厚的材料。
• 第2张图中，当从要素表面上侧和下侧分别去除0.25 厚材料的同时，被测要素的实际配合包容面的轴线相 对于基准要素的轴线A向左偏移0.2。