半导体中的材料硅片制作流程概述PPT(共 56张)
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硅加工工艺PPT课件

43
硅加工工艺
3.曝光
• 曝光就是对涂有光刻胶且进行了前烘之后 的硅片进行选择性的光照,曝光部分的光 刻胶将改变其在显影液中的溶解性,经显 影后在光刻胶膜上得到和“掩膜”相对应 的图形。
44
硅加工工艺
4.显影
• 显影是把曝光后的硅片放在显影液里,将应去 除的光刻胶膜溶除干净,以获得腐蚀时所需要 的抗蚀剂膜保护图形。
多晶
硅
SiO2
SiO2
Si P-
58
硅加工工艺
6)离子注入,栅条、裸露的衬底以及厚氧化层都被 注入
多晶
硅
SiO2
SiO2
Si P-
7)栅和厚氧化层屏蔽了各自下面的硅,只有栅条两
边裸露的硅被注入,这就确保了栅条与源-漏区的对
准。
多晶 硅
SiO2
SiO2
Si P-
59
硅加工工艺
由于栅的屏蔽作用,N型杂质不能进入栅的下面, 在栅的两边形成了独立的两块N型区域,这被称为硅 栅自对准。
13
硅加工工艺
离子注入的基本原理
14
硅加工工艺
离子注入设备
15
硅加工工艺
16
硅加工工艺
17
硅加工工艺
2.3 生长外延层
• 外延生长用来生长薄层单晶材料,即薄膜 • 外延生长:按照原来的晶向在单晶衬底上,
生长另一层合乎要求的单晶层的方法。 • 生长的这层单晶叫外延层。(厚度为几微米)
18
硅加工工艺
8)在退火的时候,源-漏区会由于扩散而稍稍进入到 栅下一点点,重叠很小。在退火的同时,还可以在表 面生长另一层二氧化硅。
SiO2
多晶 硅
Si P-
SiO2
硅加工工艺
3.曝光
• 曝光就是对涂有光刻胶且进行了前烘之后 的硅片进行选择性的光照,曝光部分的光 刻胶将改变其在显影液中的溶解性,经显 影后在光刻胶膜上得到和“掩膜”相对应 的图形。
44
硅加工工艺
4.显影
• 显影是把曝光后的硅片放在显影液里,将应去 除的光刻胶膜溶除干净,以获得腐蚀时所需要 的抗蚀剂膜保护图形。
多晶
硅
SiO2
SiO2
Si P-
58
硅加工工艺
6)离子注入,栅条、裸露的衬底以及厚氧化层都被 注入
多晶
硅
SiO2
SiO2
Si P-
7)栅和厚氧化层屏蔽了各自下面的硅,只有栅条两
边裸露的硅被注入,这就确保了栅条与源-漏区的对
准。
多晶 硅
SiO2
SiO2
Si P-
59
硅加工工艺
由于栅的屏蔽作用,N型杂质不能进入栅的下面, 在栅的两边形成了独立的两块N型区域,这被称为硅 栅自对准。
13
硅加工工艺
离子注入的基本原理
14
硅加工工艺
离子注入设备
15
硅加工工艺
16
硅加工工艺
17
硅加工工艺
2.3 生长外延层
• 外延生长用来生长薄层单晶材料,即薄膜 • 外延生长:按照原来的晶向在单晶衬底上,
生长另一层合乎要求的单晶层的方法。 • 生长的这层单晶叫外延层。(厚度为几微米)
18
硅加工工艺
8)在退火的时候,源-漏区会由于扩散而稍稍进入到 栅下一点点,重叠很小。在退火的同时,还可以在表 面生长另一层二氧化硅。
SiO2
多晶 硅
Si P-
SiO2
半导体制程简=PPT课件

– 例如:硅、硅化 物、金属导线等 等。
– 另外,在去除光 阻止后,通常还 需要有一步清洗, 以保证晶园表面 的洁净度。
-
30
2.7 金属蚀刻
• Metal Etch
– 金属蚀刻用于制作芯片中的金属导线。 – 导线的形状由Photo制作出来。 – 这部分工作也使用等离子体完成。
-
31
2.8 薄膜生长
– Develop & Bake
• 曝光完毕之后,晶园送回Track进行显影,洗掉被曝 过光的光阻。
• 然后再进行烘烤,使没有被洗掉的光阻变得比较坚硬 而不至于在下一步蚀刻的时候被破坏掉。
-
24
2.4 酸蚀刻
• Acid Etch
– 将没有被光阻覆盖的薄膜腐蚀掉,是酸蚀刻的 主要任务。
– 蚀刻完毕之后,再将光阻洗去。
• 一般而言通常使用 正光阻。只有少数 层次采用负光阻。
-
20
• 曝光
– Exposure
• 曝光动作的目的是将光罩上的图形传送到晶园上。 • 0.13um,0.18um就是这样做出来的。 • 曝光所采用的机台有两种:Stepper和Scanner。
-
21
• 左图是当今 市场占有率 最高的ASML 曝光机。
半导体制程简介
——芯片是如何制作出来的
-
1
基本过程
• 晶园制作 – Wafer Creation
• 芯片制作 – Chip Creation
• 后封装 – Chip Packaging
-
2
第1部分 晶园制作
-
3
1.1 多晶生成
• Poly Silicon Creation 1
– 目前半导体制程所使用的主要原料就是晶园 (Wafer),它的主要成分为硅(Si)。
– 另外,在去除光 阻止后,通常还 需要有一步清洗, 以保证晶园表面 的洁净度。
-
30
2.7 金属蚀刻
• Metal Etch
– 金属蚀刻用于制作芯片中的金属导线。 – 导线的形状由Photo制作出来。 – 这部分工作也使用等离子体完成。
-
31
2.8 薄膜生长
– Develop & Bake
• 曝光完毕之后,晶园送回Track进行显影,洗掉被曝 过光的光阻。
• 然后再进行烘烤,使没有被洗掉的光阻变得比较坚硬 而不至于在下一步蚀刻的时候被破坏掉。
-
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2.4 酸蚀刻
• Acid Etch
– 将没有被光阻覆盖的薄膜腐蚀掉,是酸蚀刻的 主要任务。
– 蚀刻完毕之后,再将光阻洗去。
• 一般而言通常使用 正光阻。只有少数 层次采用负光阻。
-
20
• 曝光
– Exposure
• 曝光动作的目的是将光罩上的图形传送到晶园上。 • 0.13um,0.18um就是这样做出来的。 • 曝光所采用的机台有两种:Stepper和Scanner。
-
21
• 左图是当今 市场占有率 最高的ASML 曝光机。
半导体制程简介
——芯片是如何制作出来的
-
1
基本过程
• 晶园制作 – Wafer Creation
• 芯片制作 – Chip Creation
• 后封装 – Chip Packaging
-
2
第1部分 晶园制作
-
3
1.1 多晶生成
• Poly Silicon Creation 1
– 目前半导体制程所使用的主要原料就是晶园 (Wafer),它的主要成分为硅(Si)。
半导体制造工艺课件(PPT 98页)

激活杂质:使不在晶格位置上的离子运动到晶格 位置,以便具有电活性,产生自由载流子,起到 杂质的作用
消除损伤
退火方式:
炉退火
快速退火:脉冲激光法、扫描电子束、连续波激 光、非相干宽带频光源(如卤光灯、电弧灯、石墨 加热器、红外设备等)
氧化工艺
氧化:制备SiO2层 SiO2的性质及其作用 SiO2是一种十分理想的电绝缘材料,
去掉氮化硅层
P阱离子注入,注硼
推阱
去掉N阱区的氧化层 退火驱入
形成场隔离区
生长一层薄氧化层 淀积一层氮化硅
光刻场隔离区,非隔离区被 光刻胶保护起来
反应离子刻蚀氮化硅 场区离子注入 热生长厚的场氧化层 去掉氮化硅层
形成多晶硅栅
生长栅氧化层 淀积多晶硅 光刻多晶硅栅 刻蚀多晶硅栅
掺杂的均匀性好 温度低:小于600℃ 可以精确控制杂质分布 可以注入各种各样的元素 横向扩展比扩散要小得多。 可以对化合物半导体进行掺杂
离子注入系统的原理示意图
离子注入到无定形靶中的高斯分布情况
退火
退火:也叫热处理,集成电路工艺中所有的 在氮气等不活泼气氛中进行的热处理过程都 可以称为退火
Salicide工艺
淀积多晶硅、刻蚀 并形成侧壁氧化层;
淀积Ti或Co等难熔 金属
RTP并选择腐蚀侧 壁氧化层上的金属;
最后形成Salicide 结构
形成硅化物
淀积氧化层 反应离子刻蚀氧化层,形成侧壁氧化层 淀积难熔金属Ti或Co等 低温退火,形成C-47相的TiSi2或CoSi 去掉氧化层上的没有发生化学反应的Ti或Co 高温退火,形成低阻稳定的TiSi2或CoSi2
氧化层刻蚀掉,并去掉光刻胶 进行大剂量As+注入并退火,形成n+埋层
消除损伤
退火方式:
炉退火
快速退火:脉冲激光法、扫描电子束、连续波激 光、非相干宽带频光源(如卤光灯、电弧灯、石墨 加热器、红外设备等)
氧化工艺
氧化:制备SiO2层 SiO2的性质及其作用 SiO2是一种十分理想的电绝缘材料,
去掉氮化硅层
P阱离子注入,注硼
推阱
去掉N阱区的氧化层 退火驱入
形成场隔离区
生长一层薄氧化层 淀积一层氮化硅
光刻场隔离区,非隔离区被 光刻胶保护起来
反应离子刻蚀氮化硅 场区离子注入 热生长厚的场氧化层 去掉氮化硅层
形成多晶硅栅
生长栅氧化层 淀积多晶硅 光刻多晶硅栅 刻蚀多晶硅栅
掺杂的均匀性好 温度低:小于600℃ 可以精确控制杂质分布 可以注入各种各样的元素 横向扩展比扩散要小得多。 可以对化合物半导体进行掺杂
离子注入系统的原理示意图
离子注入到无定形靶中的高斯分布情况
退火
退火:也叫热处理,集成电路工艺中所有的 在氮气等不活泼气氛中进行的热处理过程都 可以称为退火
Salicide工艺
淀积多晶硅、刻蚀 并形成侧壁氧化层;
淀积Ti或Co等难熔 金属
RTP并选择腐蚀侧 壁氧化层上的金属;
最后形成Salicide 结构
形成硅化物
淀积氧化层 反应离子刻蚀氧化层,形成侧壁氧化层 淀积难熔金属Ti或Co等 低温退火,形成C-47相的TiSi2或CoSi 去掉氧化层上的没有发生化学反应的Ti或Co 高温退火,形成低阻稳定的TiSi2或CoSi2
氧化层刻蚀掉,并去掉光刻胶 进行大剂量As+注入并退火,形成n+埋层
硅片制备PPT课件

多晶硅
单晶硅
晶体生长:把多晶块转变成一个大单 晶,并给予正确的晶向和适量的N型或
P型掺杂。
.
25
单晶硅生长方法
目前主要有两种不同的生长方法:
直拉法(CZ法) 区熔法
.
26
直拉法(CZ法)
85%的单晶都 是通过直拉法 生长的。
旋转卡盘
籽晶
生长晶体
射频加热线圈
熔融 硅
.
27
直拉单晶炉
.
28
直拉单晶炉
磨片----是一个传统的磨料研磨工艺, 对硅片进行双面机械磨片以去除切片时 留下的损伤,以达到硅片两面高度的平 行及平坦。
用垫片和带有磨料的浆料利用旋转的压 力来完成----机械作用。
.
63
倒角
----边缘抛光休整,使硅片边缘获得光滑 的半径周线。为解决硅片边缘碎裂所引 起的表面质量下降,以及光刻涂胶和外 延的边缘凸起等问题的边缘弧形工艺。
高
.
39
§4.4 硅中的晶体缺陷和杂质
本节目的:讨论晶体中的各种缺陷和杂 质,以及它们在晶体中扮演的角色。
.
40
缺陷分类:
点缺陷 线缺陷——位错 面缺陷——层错 体缺陷
.
41
一、点缺陷
自间隙原子、空位、替位杂质、间隙杂质 弗伦克尔缺陷、肖特基缺陷 本征缺陷,非本征缺陷
.
42
点缺陷在晶体中扮演的角色
.
29
熔融物质再结晶必备的条件:
降温 结晶中心
--籽晶: 单晶硅,无位错,晶向正,电阻率
高,表面没有任何损伤和杂质沾 污……
.
30
单晶拉制过程
1.清洁处理----炉膛、多晶硅、籽晶、掺杂剂、 坩埚等等
半导体工艺流程简介ppt

半导体工艺流程的成就与挑战
进一步缩小特征尺寸
三维集成技术
绿色制造技术
智能制造技术
未来半导体工艺流程的发展趋势
01
02
03
04
THANKS
感谢观看
互连
通过金属化过程,将半导体芯片上的电路元件连接起来,实现芯片间的通信和电源分配功能。
半导体金属化与互连
将半导体芯片和相关的电子元件、电路板等封装在一个保护壳内,以防止外界环境对芯片的损伤和干扰。
封装
对封装好的半导体进行功能和性能的检测与试验,以确保其符合设计要求和实际应用需要。
测试
半导体封装与测试
半导体工艺流程概述
02
半导体制造步骤-1
1
半导体材料的选择与准备
2
3
通常使用元素半导体,如硅(Si)、锗(Ge)等,或化合物半导体,如砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等。
材料类型
高纯度材料对于半导体制造至关重要,杂质含量需要严格控制。
纯净度要求
材料应具有立方、六方或其他特定晶体结构。
晶格结构
蚀刻
使用化学试剂或物理方法,将半导体基板表面未被光刻胶保护的部分进行腐蚀去除。根据蚀刻方法的不同,可以分为湿蚀刻和干蚀刻两种。
去胶
在完成蚀刻后,使用去胶液等化学试剂,去除光刻胶。去胶过程中需要注意控制温度和时间,以避免对半导体基板造成损伤或污染。
半导体的蚀刻与去胶
05
半导体制造步骤-4
金属化
通常使用铝或铜作为主要材料,通过溅射、蒸发或电镀等手段,在半导体表面形成导线图案。
涂布
在半导体基板上涂覆光刻胶,使其覆盖整个基板表面。通常使用旋转涂布法,将光刻胶滴在基板中心,然后通过旋转基板将其展开并涂布在整个表面上。
半导体制造工艺流程课件

04
半导体制造的后处理
金属化
01
02
03
金属化
在半导体制造的后处理中 ,金属化是一个关键步骤 ,用于在芯片上形成导电 电路。
金属材料
通常使用铜、铝、金等金 属作为导电材料,通过物 理或化学沉积方法将金属 薄膜沉积在芯片表面。
连接电路
金属化过程将芯片上的不 同元件连接成完整的电路 ,实现电子信号的传输和 处理。
高纯度材料
半导体制造需要使用高纯度材料,以确保芯片的性能和可 靠性。然而,高纯度材料的制备和加工难度较大,需要克 服许多技术难题。
制程控制
半导体制造过程中,制程控制是至关重要的。制程控制涉 及温度、压力、流量、电流、电压等众多参数,需要精确 控制这些参数以确保芯片的性能和可靠性。
环境影响
能源消耗
半导体制造是一个高能耗的过程 ,需要大量的电力和能源。随着 半导体产业的发展,能源消耗也 在不断增加,对环境造成了很大 的压力。
废弃物处理
半导体制造过程中会产生大量的 废弃物,如化学废液、废气等。 这些废弃物如果处理不当,会对 环境造成很大的污染和危害。
碳排放
半导体制造过程中的碳排放也是 一个重要的问题。减少碳排放是 半导体产业可持续发展的关键之 一。
未来发展趋势
先进封装技术
随着摩尔定律的逐渐失效,先进封装技术成为半导体制造的重要发展方向。通过将多个 芯片集成在一个封装内,可以实现更小、更快、更低功耗的芯片系统。
沉积薄膜质量
影响沉积薄膜质量的因素包括反应温度、气体流量、压强等,需通 过实验优化获得最佳工艺参数。
外延生长
外延生长目的
在半导体材料表面外延生长一层单晶层,用 于扩展器件尺寸、改善材料性能和提高集成 度。
半导体制造流程PPT课件

2019/9/10
3
晶圆处理制程
融化(MeltDown)
颈部成长(Neck Growth)
晶柱成长制程
晶冠成长(Crown Growth)
晶体成长(Body Growth)
尾部成长(Tail Growth)
2019/9/10
4
晶圆处理制程
切片 (Slicing)
圆边 (Edge Polishin
2019/9/10
16
晶圆处理制程
• 离子注入是另一种掺杂技术,离子注入掺杂也分为两 个步骤:离子注入和退火再分布。离子注入是通过高 能离子束轰击硅片表面,在掺杂窗口处,杂质离子被 注入硅本体,在其他部位,杂质离子被硅表面的保护 层屏蔽,完成选择掺杂的过程。进入硅中的杂质离子 在一定的位置形成一定的分布。通常,离子注入的深 度(平均射程)较浅且浓度较大,必须重新使它们再分 布。掺杂深度由注入杂质离子的能量和质量决定,掺 杂浓度由注入杂质离子的数目(剂量)决定。
• 一个现代的IC含有百万个以上的独立组件,而其尺寸通 常在数微米,在此种尺寸上,并无一合适的机械加工机 器可以使用,取而代之的是微电子中使用紫外光的图案 转换(Patterning),这个过程是使用光学的图案以及光感 应膜來将图案转上基板,此种过程称为光刻微影 (photolithography)
2019/9/10
11
晶圆处理制程
曝光(exposure) • 在光刻微影过程,首先为光阻涂布,先将适量光阻滴上基
板中心,而基板是置于光阻涂 布机 的真空吸盘上,转盘 以每分钟數千转之转速,旋转30-60秒,使光阻均匀涂布 在 基板上,转速与旋转时间,依所需光阻厚度而定。 • 曝照于紫外光中,会使得光阻的溶解率改变。紫外光通过 光罩照射于光阻上,而在光照及阴影处产生相对应的图形 ,而受光照射的地方,光阻的溶解率产生变化,称之 为光 化学反应, 而阴影处的率没有变化,这整个过称之为曝光 (exposure)。
半导体中的材料硅片制作流程概述(共 56张PPT)

⑥掺杂
B1:直接掺杂
在晶体生长时,将一定量的杂质原子加入熔融液中,以获得所需的掺杂浓度
B2:母合金掺杂 将杂质元素先制成硅的合金(如硅锑合金,硅硼合金), 再按所需的计量掺入合金。
这种方法适于制备一般浓度的掺杂。
46
晶圆制备(2)晶体生长
⑥掺杂 B2:中子辐照(NTD)掺杂 硅有三种同位素:28Si 92.2% , 29Si 4.7% ,30Si 3.0%, 其中30Si有中子嬗变现象: 30Si 31Si+α 31Si 31P+β 31P是稳定的施主杂质,对单晶棒进行中子辐照,就能获得均 匀的n型硅。
28
SiHCl3 ↑ + H2 ↑
SiCl4 ↑
晶圆制备(1)获取多晶
④还原 多用H2来还原SiHCl3或SiCl4得到半导体纯度的多晶硅: SiCl4 + 2H2 SiHCl3 + H2 原因: 氢气易于净化,且在Si中溶解度极低
29
→ →
Si + 4HCl Si + 3HCl
晶圆制备( 2 )单晶 生长
39
晶圆制备(2)晶体生长
③区熔法
40
晶圆制备(2)晶体生长
④直拉法和区熔法的比较
41
晶圆制备(2)晶体生长
⑤硅棒举例(北京有色金属总院) 12 英 寸 , 等 径 长 400mm , 晶体重81Kg。
42
晶圆制备(2)晶体生长
⑥掺杂 直拉法掺杂是直接在坩埚内加入含杂质元素的物质。
圆片制造中最重要的半导体材料是硅。
9
周期表中半导体相关元素
周期 2 3 Ⅱ Ⅲ 硼B 铝Al Ⅳ 碳C 硅Si Ⅴ 氮N 磷P 硫S Ⅵ
B1:直接掺杂
在晶体生长时,将一定量的杂质原子加入熔融液中,以获得所需的掺杂浓度
B2:母合金掺杂 将杂质元素先制成硅的合金(如硅锑合金,硅硼合金), 再按所需的计量掺入合金。
这种方法适于制备一般浓度的掺杂。
46
晶圆制备(2)晶体生长
⑥掺杂 B2:中子辐照(NTD)掺杂 硅有三种同位素:28Si 92.2% , 29Si 4.7% ,30Si 3.0%, 其中30Si有中子嬗变现象: 30Si 31Si+α 31Si 31P+β 31P是稳定的施主杂质,对单晶棒进行中子辐照,就能获得均 匀的n型硅。
28
SiHCl3 ↑ + H2 ↑
SiCl4 ↑
晶圆制备(1)获取多晶
④还原 多用H2来还原SiHCl3或SiCl4得到半导体纯度的多晶硅: SiCl4 + 2H2 SiHCl3 + H2 原因: 氢气易于净化,且在Si中溶解度极低
29
→ →
Si + 4HCl Si + 3HCl
晶圆制备( 2 )单晶 生长
39
晶圆制备(2)晶体生长
③区熔法
40
晶圆制备(2)晶体生长
④直拉法和区熔法的比较
41
晶圆制备(2)晶体生长
⑤硅棒举例(北京有色金属总院) 12 英 寸 , 等 径 长 400mm , 晶体重81Kg。
42
晶圆制备(2)晶体生长
⑥掺杂 直拉法掺杂是直接在坩埚内加入含杂质元素的物质。
圆片制造中最重要的半导体材料是硅。
9
周期表中半导体相关元素
周期 2 3 Ⅱ Ⅲ 硼B 铝Al Ⅳ 碳C 硅Si Ⅴ 氮N 磷P 硫S Ⅵ
半导体制造工艺流程通用课件

半导体制造工艺流程通用课件
目录
• 半导体制造概述 • 半导体制造的前处理 • 半导体制造的核心工艺 • 半导体制造的后处理 • 半导体制造的挑战与解决方案 • 半导体制造的发展趋势与未来展望
01
半导体制造概述
半导体制造的定义
半导体制造
指通过一系列精密的物理和化学 工艺,将单晶硅或其他半导体材 料转化为集成电路的过程。
采用高k金属栅极材料, 可以提高芯片的性能和降 低功耗。
新型绝缘材料
采用新型绝缘材料,可以 提高芯片的集成度和可靠 性。
新型封装材料
采用新型封装材料,可以 提高芯片的散热性能和可 靠性。
系统集成与封装技术的发展
系统集成技术
通过系统集成技术,将多个芯片集成在一个封装 内,实现更高的性能和更小的体积。
封装类型
常见的封装类型包括塑料封装、陶瓷封装和金属封装等,它们具有不同的特点和适用范围 。
封装工艺
封装工艺涉及到多个环节,包括芯片贴装、引脚焊接、密封和标记等,每个环节都对保证 芯片的性能和可靠性至关重要。
测试与验证
测试与验证
在半导体制造的后处理过程中,测试与验证是确保芯片性能和质量 的重要环节。
化学气相沉积
总结词
化学气相沉积是通过化学反应在半导体表面形成薄膜的过程。
详细描述
化学气相沉积是在高温下,将气态物质在半导体表面进行化学反应,形成固态薄膜的过程。沉积的薄膜可以作为 绝缘层、导电层或保护层,对半导体器件的性能和稳定性具有重要影响。
04
半导体制造的后处理
金属化
金属化
在半导体制造的后处理过程中,金属化是关键的一步,它 涉及到在芯片表面沉积金属,以实现电路的导电连接。
半导体制造的工艺流程简介
目录
• 半导体制造概述 • 半导体制造的前处理 • 半导体制造的核心工艺 • 半导体制造的后处理 • 半导体制造的挑战与解决方案 • 半导体制造的发展趋势与未来展望
01
半导体制造概述
半导体制造的定义
半导体制造
指通过一系列精密的物理和化学 工艺,将单晶硅或其他半导体材 料转化为集成电路的过程。
采用高k金属栅极材料, 可以提高芯片的性能和降 低功耗。
新型绝缘材料
采用新型绝缘材料,可以 提高芯片的集成度和可靠 性。
新型封装材料
采用新型封装材料,可以 提高芯片的散热性能和可 靠性。
系统集成与封装技术的发展
系统集成技术
通过系统集成技术,将多个芯片集成在一个封装 内,实现更高的性能和更小的体积。
封装类型
常见的封装类型包括塑料封装、陶瓷封装和金属封装等,它们具有不同的特点和适用范围 。
封装工艺
封装工艺涉及到多个环节,包括芯片贴装、引脚焊接、密封和标记等,每个环节都对保证 芯片的性能和可靠性至关重要。
测试与验证
测试与验证
在半导体制造的后处理过程中,测试与验证是确保芯片性能和质量 的重要环节。
化学气相沉积
总结词
化学气相沉积是通过化学反应在半导体表面形成薄膜的过程。
详细描述
化学气相沉积是在高温下,将气态物质在半导体表面进行化学反应,形成固态薄膜的过程。沉积的薄膜可以作为 绝缘层、导电层或保护层,对半导体器件的性能和稳定性具有重要影响。
04
半导体制造的后处理
金属化
金属化
在半导体制造的后处理过程中,金属化是关键的一步,它 涉及到在芯片表面沉积金属,以实现电路的导电连接。
半导体制造的工艺流程简介
硅片制备与高温工艺课件PPT

Xianying Dai
30
2.2 单晶Si制备
直拉(CZ)法生长单晶
1) 拉晶仪
①炉子 石英坩埚:盛熔融硅液; 石墨基座:支撑石英坩埚;加热坩埚; 旋转装置:顺时针转; 加热装置:RF线圈;
Xianying Dai
31
2.2 单晶Si制备
直拉(CZ)法生长Si单晶
1)拉晶仪
②拉晶装置
籽晶夹持器:夹持籽晶(单晶);
• 熔融EGS和拉单晶硅锭
旋转提拉装置:逆时针;
单晶生长:直拉法、区熔法
在集成电路制造中,单晶Si和多晶Si分别 ➢ 硅与O2直接反应可得;
立式炉管使用最广泛,因为其占地面积小、污染控制好、维护量小;
有什么用途? 熔点 Melting point
Pre-oxidation Wafer Clean Inorganic Removal 氧化:杂质堆积和耗尽效应
98
99 100 101 102
•
Ac Th Pa U Np Pu Am Cm Bk Cf Es Fm Md No
Xianying Dai
3
周期表中用作半导体的元素
Ⅱ族 Ⅲ族 Ⅳ族 Ⅴ族 Ⅵ族
第2周期
BCN
第3周期
Al Si P S
第4周期 Zn Ga Ge As Se
第5周期 Cd In Sn Sb Te
2.1 单晶硅晶体结构
Xianying Dai
7
硅的重要性
2.1 单晶Si简介
储量丰富,便宜;(27.6%) SiO2性质很稳定、良好介质,易于热氧化生长; 较大的禁带宽度(1.12eV),较宽工作温度范围;
Xianying Dai
8
硅的基本参数
硅片制造生产流程ppt

4、滚圆
12
硅片性质、生产流程及其工艺
4、滚圆
将切方好的晶棒装夹到外圆磨床上,开始对晶棒外圆进行滚磨。 加工标准: 圆径 150± 0.2mm 同心度 ≤ 0.5mm 表面无明显锯痕:深度<0.5mm
加工好的晶棒送至待检区,由品管部 门对晶棒尺寸等参数进行检验
检验合格的晶棒送入存储区,等待下 一工序领用。 下一工序:切片粘棒
待喷洗干净后, 放入80度热水浸 泡硅棒粘胶部分, 等待胶水软化。
待胶软化后, 将硅片取出, 放入盛有清水 的盒子中,进 行插片
17
硅片性质、生产流程及其工艺
8、清洗
上图为全自动清洗机
18
硅片性质、生产流程及其工艺
8、清洗
将去胶后的硅片 放入片盒中,准 备清洗。
左图为片盒
将片盒放入盛有 清水的盒子,准 备清洗
右图为可以测量厚度和TTV 的花岗石测量仪器。 上图为刻度模板
用刻度模板的刻度目测缺角、梯形、外形 片是否存在检测标准内。
25
硅片性质、生产流程及其工艺
11、包装
品管再次对分选完的硅片进行抽检,合 格后分发合格证,转入下一工序——包 装
每100片硅片用两片泡沫垫包住,套进塑 料收缩袋中,进行封口
上图为正在封口的硅 片
此线锯满载切割 可以切割四根长 度为500mm的方 棒,出片率为57 片/公斤。
右下角图片为切 割过程示意图。 钢线以13m/s的 速度带着金刚砂 磨削形成切割。
16
硅片性质、生产流程及其工艺
7、切片去胶
将线锯切割完毕 卸下的晶棒送到 切片去胶室准备 去胶。
将晶棒翻转, 装在去胶工装 上,抬入去胶 槽,用水枪将 硅片外部和内 部的砂浆喷洗 干净。
12
硅片性质、生产流程及其工艺
4、滚圆
将切方好的晶棒装夹到外圆磨床上,开始对晶棒外圆进行滚磨。 加工标准: 圆径 150± 0.2mm 同心度 ≤ 0.5mm 表面无明显锯痕:深度<0.5mm
加工好的晶棒送至待检区,由品管部 门对晶棒尺寸等参数进行检验
检验合格的晶棒送入存储区,等待下 一工序领用。 下一工序:切片粘棒
待喷洗干净后, 放入80度热水浸 泡硅棒粘胶部分, 等待胶水软化。
待胶软化后, 将硅片取出, 放入盛有清水 的盒子中,进 行插片
17
硅片性质、生产流程及其工艺
8、清洗
上图为全自动清洗机
18
硅片性质、生产流程及其工艺
8、清洗
将去胶后的硅片 放入片盒中,准 备清洗。
左图为片盒
将片盒放入盛有 清水的盒子,准 备清洗
右图为可以测量厚度和TTV 的花岗石测量仪器。 上图为刻度模板
用刻度模板的刻度目测缺角、梯形、外形 片是否存在检测标准内。
25
硅片性质、生产流程及其工艺
11、包装
品管再次对分选完的硅片进行抽检,合 格后分发合格证,转入下一工序——包 装
每100片硅片用两片泡沫垫包住,套进塑 料收缩袋中,进行封口
上图为正在封口的硅 片
此线锯满载切割 可以切割四根长 度为500mm的方 棒,出片率为57 片/公斤。
右下角图片为切 割过程示意图。 钢线以13m/s的 速度带着金刚砂 磨削形成切割。
16
硅片性质、生产流程及其工艺
7、切片去胶
将线锯切割完毕 卸下的晶棒送到 切片去胶室准备 去胶。
将晶棒翻转, 装在去胶工装 上,抬入去胶 槽,用水枪将 硅片外部和内 部的砂浆喷洗 干净。
硅加工工艺.ppt

SiO2 高 温SiO 2
(3.2)
硅加工工艺
水汽氧化 水汽氧化是指在高温下,利用硅与高
纯水反应生成二氧化硅的方法。 在水汽氧化中水分子在二氧化硅中的
扩散速度快,但质量比在干氧氧化中生成 的二氧化硅要差。
S i22 H O 高 温 Si2 O 22 H
(3.3)
硅加工工艺
2.5 溅射
高能等离子体能够帮助我们沉积某些不能通过CVD沉 积的材料,在称为溅射台的设备中,利用氩气等惰性气体 产生等离子体,利用等离子体轰击出材料原子。 Ø在一个密闭容器中,晶圆上方悬挂着一大块准备沉积的 金属材料,该金属将被轰击到晶圆的表面形成一个新的表 面层,方法?
硅加工工艺
2.8 光刻
• 光刻是利用光学系统把掩膜版上的图形 精确地投影曝光到涂过光刻胶的硅片上。 最终的图形是用多个掩膜版按照特定的 顺序在晶圆表面一层一层叠加建立起来 的。光刻占硅片工艺60%的时间。
硅加工工艺
IC制造中最 关键的步骤
IC晶圆中最 昂贵的设备
最有挑战 的技术
决定最小 特征尺寸
硅加工工艺
离子注入的基本原理
• 离子注入和退火再分布 • 基本原理是用能量为100keV量级的离子
束入射到材料中去,离子束与材料中的 原子或分子将发生一系列物理的和化学 的相互作用,入射离子逐渐损失能量, 最后停留在材料中,并引起材料表面成 分、结构和性能发生变化,从而优化材 料表面性能,或获得某些新的优异性能。
硅加工工艺
2.10 自对准硅栅
自对准硅栅:光刻形成硅栅后,利用硅栅材料 自身作为掩膜区精确地对准源区和漏区。
自对准硅栅原理:
1)将裸片放入通有氧气的高温炉内一定时间,就得 到相当厚度的氧化层,接着光刻胶曝光、显影,然后 再氧化层上刻蚀出一个窗口。
硅和硅片制备ppt课件.ppt

Z
1
0
X1
Y
1
图 4.8 晶胞的坐标轴方向
用来描述硅晶体平面及其方向的参数称作密勒指数,其 中()用来表示特殊的平面,而<>表示对应的方向。
Z
Z
Z
Y
Y
Y
X (100)
X
X
(110)
图 4.9 晶面的密勒指数
(111)
4.5 单晶硅的生长
• CZ (Czochralski)法 –CZ 直拉单晶炉 –掺杂 –杂质控制
图 4.6 面心立方金刚石结构
晶向 晶向非常重要, 因为它决定了在硅片中 晶体结构的物理排列是 怎样的。不同晶向的硅 片,其化学、电学和机 械性能是不一样的,而 且会影响工艺条件和最 终的器件性能。
为了描述晶向,我 们需要一个坐标系,如 图4.8所示。 对于单晶 结构,所有的晶胞就会 沿着这个坐标轴重复地 排列。
0.13
2.0 ( 3%)
23 1.5 500 0.075
1.4 ( 2%)
2004 (0.13 m)
300 0.08 26 x 36 0.1
22 1.5 100 0.055
1.0 ( 2%)
平整度
平整度是硅片最主要的参数之一,主要因为 抛光工艺对局部位置的平整度是非常敏感的,硅 片平整度是指在通过硅片的直线上的厚度变化。 它是通过硅片上的表面和一个规定参考面的距离 得到的。
为了在最后得到所需电阻率的晶体,掺杂材料 被加到拉单晶炉的熔体中,晶体生长中最常用的掺 杂杂质是生产p型硅的三价硼或者生产n型硅的五价 磷。硅中的掺杂浓度范围可以用字母和上标来表示 ,如下表所示。
杂质 五价 三价
材料类 型 n
p
< 1014
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实验表明,氮化镓具有更好的发光性能,因此蓝 光发光领域内碳化硅已被氮化镓代替,目前氮化 镓是蓝光和白光发光器件的主流材料。同时,人 们还发现在微波功率放大领域,氮化镓的输出微 波功率比砷化镓和硅高出一个数量级以上。
21
2.5.4 半导体材料的新探索
随着材料技术的不断发展和成熟,新材料层出不 穷。人们可以用三种或四种元素人工合成混晶半 导体薄层单晶材料,调节这些元素的比例就可以 得到所想要的不同禁带宽度和不同晶格常数,称 此为能带工程。
8
绝缘体
• 绝缘体的价电子层不具有束缚松散的电子可用于导电,它 有很高的禁带宽度来分隔开价带电子和导带电子。
半导体制造中的绝缘体包括二氧化硅(SiO2)、氮化硅 (Si3N4)和聚酰亚胺(一种塑料材料)。
半导体
半导体材料具有较小的禁带宽度,其值介于绝缘体(>2eV) 和导体之间。这个禁带宽度允许电子在获得能量时从价带跃 迁到导带。
图2.1 碳原子的基本模型
3
电子能级:原子级的能量单位是电子伏特,它代表一个 电子从低电势处移动到高出1V的的电势处所获得的动能。
价电子层:原子最外部的电子层就是价电子层,对原子 的化学和物理性质具有显著的影响,只有一个价电子的原子 很容易失去这个电子,有7个价电子的原子容易得到一个电 子,具有亲和力。
14
2.4.2 纯硅
• 纯硅是指没有杂质或者其他物质污染的本征硅。 纯硅的原子通过共价键共享电子结合在一起。
+4
+4
+4
+4
共价键有很强的结合力, 使原子规则排列,形成晶体。
共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为
束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电
子,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导
11
硅的晶体结构
109º28´
地壳中各元素的含量
2.4.1 硅作为电子材料的优点
原料充分; 硅晶体表面易于生长稳定的氧化层,这对于保护
硅表面器件或电路的结构、性质很重要; 重量轻,密度只有2.33g/cm3; 热学特性好,线热膨胀系数小,2.5×10-6/℃ ,热
导率高,1.50W/cm·℃; 单晶圆片的缺陷少,直径大,工艺性能好; 化学性质稳定,常温下只有强碱、氟气反应; 机械性能良好。
图2.4 HCl的共价键
6
2.3 材料分类-能带理论
7
导体
导体在原子的最外层通常有一些束缚松散的价电子,容 易失去,金属典型地具有这种价电子层结构。
在一般的半导体制造中,铝是最普遍的导体材料,可以 用来充当器件之间的互连线,而钨可作为 金属层之间的互连 材料。
铜是优质金属导体的一个例子,逐渐被引入到硅片制造 中取代铝充当微芯片上不同器件之间的互连材料。
体的导电能力很弱。
15
2.4.3 掺杂硅
在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就 会使半导体的导电性能发生显著变化。
其原因是掺杂半导体的某种载流子浓度大 大增加。载流子:电子,空穴。
N型硅——在本征硅中掺入五价杂质元素(例如 磷、
氮),主要载流子为电子。 P型硅——在本征硅中掺入三价杂质元素(例如 硼、
镓、铟),主要载流子为空穴。
16
N型硅
硅原子 磷原子
Si
Si
多余电子
P
Si
17
P型硅
硅原子 空穴
硼原子
Si Si
ห้องสมุดไป่ตู้
B
Si
18
2.5 可选择的半导体材料
2.5.1 元素半导体——Ge、Si
最初大量使用的半导体材料是锗。1947年第一只 晶体管用的就是锗。但是锗的禁带宽度为0 67 V 热稳定性差最高工作温度只有85℃。
第二章 半导体材料特性
1
提纲
2.1 原子结构 2.2 化学键 2.3 材料分类 2.4 硅 2.5 可选择的半导体材料 2.6 新型半导体电子与光电材料
2
2.1 原子结构
原子由三种不同的粒子构成:中性中子和带正电的 质子组成原子核,以及围绕原子核旋转的带负电核的电子, 质子数与电子数相等呈现中性。
金刚石具有最大的禁带宽度、最高的击穿场强和 最大的热导率,被称为最终的半导体。此外,极 窄带隙半导体材料,如InAs(0.36 eV)等,也 被人们广泛研究。
石墨烯与碳纳米管等半导体材料。
22
几种常见半导体材料的主要特性参数
磷化铟器件的电子迁移率高达10000 cm2/V﹒s, 比砷化镓还高,所以其高频性能更好,工作频率 更高,且有更低的噪声和更高的增益。目前在 100 GHz左右的3mm波段多数都用磷化铟器件。
20
2.5.3宽带隙半导体——SiC、GaN
碳化硅原子束缚能力非常强,禁带宽度很宽,机 械硬度也很高,在20世纪80年代人们逐步掌握了 碳化硅晶体的生长技术后,90年代用于蓝光发光 材料,同时以碳化硅材料为基础的电力电子器件 和微波功率器件也相继问世。
图2.2 钠和氯原子的电子壳层
4
2.2 化学键
2.2.1 离子键
当价电子层电子从一种原子转移到另一种原子上 时,就会形成离子键,不稳定的原子容易形成离子 键。
图2.3 NaCl的离子键
5
2.2.2 共价键
不同元素的原子共有价电子形成的粒子键,原 子通过共有电子来使价层完全填充变得稳定。束缚 电子同时受两个原子的约束,如果没有足够的能量, 不易脱离轨道。
硅具有很多优点,地球上储量丰富,易于提纯, 热稳定性好,在表面可生长质量很高的二氧化硅 层,工作温度可达160℃。硅几乎成了半导体的 代名词,全球硅集成电路年产值在2400亿美元左 右。
19
2.5.2 化合物半导体——GaAs、InP
砷化镓等材料的电子迁移率差不多是硅材料的6 倍。它们的峰值电子速度也是硅饱和速度的2倍 多。禁带宽度和临界击穿场强也比硅高,因此是 制造高频电子器件的理想材料。目前砷化镓是化 合物半导体的主流材料,全球砷化镓高频电子器 件和电路的年产值24亿美元。
圆片制造中最重要的半导体材料是硅。
9
周期表中半导体相关元素
周期
Ⅱ
Ⅲ
Ⅳ
Ⅴ
Ⅵ
2
硼B 碳C 氮N
3
铝Al 硅Si 磷P 硫S
4
锌Zn 镓Ga 锗Ge 砷As 硒Se
5
镉Cd 铟In
锑Te
2.4 硅
硅是一种元素半导体材料,因为它有4个 价电子,与其他元素一起位于周期表中的ⅣA 族。硅中价层电子的数目使它正好位于优质 导体(1个价电子)和绝缘体(8个价电子) 的中间。
21
2.5.4 半导体材料的新探索
随着材料技术的不断发展和成熟,新材料层出不 穷。人们可以用三种或四种元素人工合成混晶半 导体薄层单晶材料,调节这些元素的比例就可以 得到所想要的不同禁带宽度和不同晶格常数,称 此为能带工程。
8
绝缘体
• 绝缘体的价电子层不具有束缚松散的电子可用于导电,它 有很高的禁带宽度来分隔开价带电子和导带电子。
半导体制造中的绝缘体包括二氧化硅(SiO2)、氮化硅 (Si3N4)和聚酰亚胺(一种塑料材料)。
半导体
半导体材料具有较小的禁带宽度,其值介于绝缘体(>2eV) 和导体之间。这个禁带宽度允许电子在获得能量时从价带跃 迁到导带。
图2.1 碳原子的基本模型
3
电子能级:原子级的能量单位是电子伏特,它代表一个 电子从低电势处移动到高出1V的的电势处所获得的动能。
价电子层:原子最外部的电子层就是价电子层,对原子 的化学和物理性质具有显著的影响,只有一个价电子的原子 很容易失去这个电子,有7个价电子的原子容易得到一个电 子,具有亲和力。
14
2.4.2 纯硅
• 纯硅是指没有杂质或者其他物质污染的本征硅。 纯硅的原子通过共价键共享电子结合在一起。
+4
+4
+4
+4
共价键有很强的结合力, 使原子规则排列,形成晶体。
共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为
束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电
子,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导
11
硅的晶体结构
109º28´
地壳中各元素的含量
2.4.1 硅作为电子材料的优点
原料充分; 硅晶体表面易于生长稳定的氧化层,这对于保护
硅表面器件或电路的结构、性质很重要; 重量轻,密度只有2.33g/cm3; 热学特性好,线热膨胀系数小,2.5×10-6/℃ ,热
导率高,1.50W/cm·℃; 单晶圆片的缺陷少,直径大,工艺性能好; 化学性质稳定,常温下只有强碱、氟气反应; 机械性能良好。
图2.4 HCl的共价键
6
2.3 材料分类-能带理论
7
导体
导体在原子的最外层通常有一些束缚松散的价电子,容 易失去,金属典型地具有这种价电子层结构。
在一般的半导体制造中,铝是最普遍的导体材料,可以 用来充当器件之间的互连线,而钨可作为 金属层之间的互连 材料。
铜是优质金属导体的一个例子,逐渐被引入到硅片制造 中取代铝充当微芯片上不同器件之间的互连材料。
体的导电能力很弱。
15
2.4.3 掺杂硅
在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就 会使半导体的导电性能发生显著变化。
其原因是掺杂半导体的某种载流子浓度大 大增加。载流子:电子,空穴。
N型硅——在本征硅中掺入五价杂质元素(例如 磷、
氮),主要载流子为电子。 P型硅——在本征硅中掺入三价杂质元素(例如 硼、
镓、铟),主要载流子为空穴。
16
N型硅
硅原子 磷原子
Si
Si
多余电子
P
Si
17
P型硅
硅原子 空穴
硼原子
Si Si
ห้องสมุดไป่ตู้
B
Si
18
2.5 可选择的半导体材料
2.5.1 元素半导体——Ge、Si
最初大量使用的半导体材料是锗。1947年第一只 晶体管用的就是锗。但是锗的禁带宽度为0 67 V 热稳定性差最高工作温度只有85℃。
第二章 半导体材料特性
1
提纲
2.1 原子结构 2.2 化学键 2.3 材料分类 2.4 硅 2.5 可选择的半导体材料 2.6 新型半导体电子与光电材料
2
2.1 原子结构
原子由三种不同的粒子构成:中性中子和带正电的 质子组成原子核,以及围绕原子核旋转的带负电核的电子, 质子数与电子数相等呈现中性。
金刚石具有最大的禁带宽度、最高的击穿场强和 最大的热导率,被称为最终的半导体。此外,极 窄带隙半导体材料,如InAs(0.36 eV)等,也 被人们广泛研究。
石墨烯与碳纳米管等半导体材料。
22
几种常见半导体材料的主要特性参数
磷化铟器件的电子迁移率高达10000 cm2/V﹒s, 比砷化镓还高,所以其高频性能更好,工作频率 更高,且有更低的噪声和更高的增益。目前在 100 GHz左右的3mm波段多数都用磷化铟器件。
20
2.5.3宽带隙半导体——SiC、GaN
碳化硅原子束缚能力非常强,禁带宽度很宽,机 械硬度也很高,在20世纪80年代人们逐步掌握了 碳化硅晶体的生长技术后,90年代用于蓝光发光 材料,同时以碳化硅材料为基础的电力电子器件 和微波功率器件也相继问世。
图2.2 钠和氯原子的电子壳层
4
2.2 化学键
2.2.1 离子键
当价电子层电子从一种原子转移到另一种原子上 时,就会形成离子键,不稳定的原子容易形成离子 键。
图2.3 NaCl的离子键
5
2.2.2 共价键
不同元素的原子共有价电子形成的粒子键,原 子通过共有电子来使价层完全填充变得稳定。束缚 电子同时受两个原子的约束,如果没有足够的能量, 不易脱离轨道。
硅具有很多优点,地球上储量丰富,易于提纯, 热稳定性好,在表面可生长质量很高的二氧化硅 层,工作温度可达160℃。硅几乎成了半导体的 代名词,全球硅集成电路年产值在2400亿美元左 右。
19
2.5.2 化合物半导体——GaAs、InP
砷化镓等材料的电子迁移率差不多是硅材料的6 倍。它们的峰值电子速度也是硅饱和速度的2倍 多。禁带宽度和临界击穿场强也比硅高,因此是 制造高频电子器件的理想材料。目前砷化镓是化 合物半导体的主流材料,全球砷化镓高频电子器 件和电路的年产值24亿美元。
圆片制造中最重要的半导体材料是硅。
9
周期表中半导体相关元素
周期
Ⅱ
Ⅲ
Ⅳ
Ⅴ
Ⅵ
2
硼B 碳C 氮N
3
铝Al 硅Si 磷P 硫S
4
锌Zn 镓Ga 锗Ge 砷As 硒Se
5
镉Cd 铟In
锑Te
2.4 硅
硅是一种元素半导体材料,因为它有4个 价电子,与其他元素一起位于周期表中的ⅣA 族。硅中价层电子的数目使它正好位于优质 导体(1个价电子)和绝缘体(8个价电子) 的中间。