第五章 硅的外延薄膜的生长

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第5章 硅外延生长

第5章 硅外延生长

形状象沙丘,用肉眼可看见。
防止角锥体产生采取的措施: ①选择与(111)面朝〈110〉偏离3~4°的晶向切片, 提高临界生长速度; ②降低生长速度;
③防止尘埃及碳化物沾污,注意清洁等。
41
雾状表面缺陷 ①雾圈 ②白雾
①雾圈 ②白雾
③残迹
④花雾
③残迹
④花雾
42
角锥体
43
3.亮点
外形为乌黑发亮的小圆点。 40~60倍显微镜下呈发亮的 小突起。 大者为多晶点,可因系统沾污,反应室硅粉,SiO2粒脱 落,气相抛光不当或衬底装入反应室前表面有飘落的灰 尘等引起。 细小的亮点多半由衬底抛光不充分或清洗不干净造成。
3.气流速度对生长速率的影响
反应物浓度和生长温度一定时,水平式反应器中的生长速率与 总氢气流速的平方根成正比。 立式反应器,流速较低时生长速度与总氢气流速平方根成比例; 流速超过一定值后,生长速率达到稳定的极限值而不再增加。
21
4.衬底晶向的影响
常压外延生长条件下 (SiCl4+H2源,生长温度T=1280℃,SiCl4浓度0.1%)
决定速率的步骤称速率控制步骤。
24
低温时,固-气表面上的反应最慢 整个生长过程的速度。
决定
过程称表面反应控制过程或动力学控制过程。
正常条件下,表面反应很快,主气流中的反 应物以扩散方式输运到表面的过程最慢,过程 称质量输运控制过程。
25
均质反应模型:
外延生长反应是在衬底表面几微米的空间中发生; 反应生成的原子或原子团再转移到衬底表面上完成晶 体生长; 反应浓度很大,温度较高时可能在气相中成核并长大; 例,高浓度SiH4高温热分解。 结论:复相反应和均质反应, 都认为反应物或反应生成 物要通过体系中的边界层达到衬底表面。

第5章+薄膜的生长过程和薄膜结构

第5章+薄膜的生长过程和薄膜结构
11
特点:每一层原子都自发地平铺于衬底或 者薄膜的表面,降低系统的总能量。
典型例子:沉积ZnSe薄膜时, 一种原子会自发地键合到另 一种原子所形成的表面上。
12
3. 层状-岛状(Stranski-Krastanov)生长模式
在层状—岛状生长模式中,在最开始的一两个原子层厚 度的层状生长之后,生长模式转化为岛状模式。 根本原因:薄膜生长过程中各种能量的相互消长。
3
第一节 薄膜生长过程概述
薄膜的生长过程直接影响到薄膜的结构以 及它最终的性能。 薄膜的生长过程大致划分为两个阶段:新 相形核阶段、薄膜生长阶段。
4
一.薄膜的生长过程
1. 在薄膜形成的最初阶段,一些气态的原子 或分子开始凝聚到衬底表面上,从而开始 了形核阶段。
2. 在衬底表面上形成一些均匀、细小而且可 以运动的原子团,这些原子团称为“岛”。
讨论:
27a12GV 2
(1)在热涨落作用下,半径r< r 的核心由于
降低的趋势而倾向于消失。
(2)r> r 的核心则可伴随着自由能不断下降
而长大。
36
(3) G* 可写为:
G*

16vf 3 3GV 2
(2 3cos 4
cos2
)
其中,
第一项
16
3 vf
是自发形核过程的临界自由能变化,
一.形核过程的分类:
在薄膜沉积过程 的最初阶段,都需 要有新核心形成。
新相的形核过程 自发形核
非自发形核
17
自发形核:指的是整个形核过程完全是在相变
自由能的推动下进行的。 发生条件:一般只是发生在一些精心控制的环 境中。
非自发形核过程:指的是除了有相变自由能作

《硅外延生长》课件

《硅外延生长》课件

硅外延生长的应用领域
现代半导体类产品如计算机 芯片、智能手机和光通信等 都需要硅外延生长技术。硅外延生Biblioteka 的原理与方法硅外延生长的原理
硅外延生长是核形成、晶核的成长与自发畴界移动 等复杂过程的综合表象。
硅外延生长的方法
• 气相外延法 • 液相外延法
气相外延法
1
原理与流程
气相外延法是指以光刻胶为模板,在硅片上生长SiGe薄膜的方法。
硅外延生长
本课程是关于硅外延生长的介绍,从定义、历史发展到应用领域,深入了解 硅外延生长的原理和方法。
硅外延生长概述
什么是硅外延生长?
硅外延生长是一种通过在硅 基底上沉积高品质单晶硅薄 膜的过程。
硅外延生长的历史发展
硅外延技术从二十世纪六十 年代就开始发展,并随着半 导体工业的高速发展一直得 到迅速发展。
硅外延生长的未来
发展趋势
硅外延生长技术将继续发展,主要趋势是提高生长效率和晶体质量。
发展方向
晶体质量控制、研究新的衬底材料以及外延材料和外延工艺的不断创新。
未来展望
硅外延生长技术将会在电子信息、新能源、生物医学等领域取得更广泛、更深入的应用。
2
工艺参数
气相外延生长的基本工艺参数有衬底温度、反应气体流量、反应时间和硅和外延 材料供应速率。
3
应用
用于光子集成芯片、高分辨率图像传感器和生物传感器等领域。
液相外延法
1
原理与流程
液相外延法是指用硅基底与融合锡(或石墨)作为液相反应体,在相应条件下长 出外延晶体。
2
工艺参数
液相外延法的工艺参数有溶液成分,溶液温度,外延晶体生长速率和升温速率等。
3
应用
用于太阳能电池电极、太阳能电池背反射层、光子晶体、一维纳米线等领域。

05章-硅外延生长解析

05章-硅外延生长解析
• 两个模型: 气-固表面复相化学反应模型, 气相均质反应模型
5.4 硅外延层电阻率的控制
• 不同器件对外延层的电参数要求是不同的。为 精确控制器件的电阻率,需要精确控制外延层 中的杂质浓度和分布。 • 5-4-l 外延层中的杂质及掺杂 • 1.外延层中的杂质 •
外延层中杂质的来源
• 外延层中杂质的来源是: • (1)主掺杂质:用于控制外延层的电阻率。常用磷烷、砷烷和 乙硼烷作为主掺杂质源。它与硅源一道随主气流进入外延反应 室,在外延生长过程中进入外延层。 • (2)固态外扩散杂质:(a)衬底中掺入的杂质在外延过程中, 通过固态外扩散进入外延层;(b)对于同型外延,衬底中反型 杂质通过固态扩散进入外延层形成外延夹层。 • (3)气相自掺杂:重掺衬底或重掺埋层中的杂质经蒸发后进入 气流中在后又掺入外延层中。 • (4)系统自掺杂:吸附在外延反应室内壁和外延基座表面的杂 质,解吸后进入气流形成新的掺杂源。 • (5)金属杂质:衬底硅片、外延基座和外延系统中沾污的金属 杂质在外延过程中进入外延层。
• 抑制自掺杂的途径:
一:减少杂质由衬底逸出
1.使用蒸发速度较小的杂质做衬底和埋层中的杂质
2.外延生长前高温加热衬底,使硅衬底表面附近形成一杂 质耗尽层,再外延时杂质逸出速度减少可降低自掺杂
3. 采用背面封闭技术,即将背面预先生长高纯 SiO2或多晶 硅封闭后再外延,可抑制背面杂质的蒸发而降低自掺杂。
• 从晶体管原理来看,要获得高频大功率,必须做到集 电极击穿电压要高,串联电阻要小,即饱和压降要小。 前者要求集电极区材料电阻率要高,而后者要求集电 区材料电阻率要低,两者互相矛盾。 • • 如果采用将集电区材料厚度减薄的方法来减少串联 电阻,会使硅片太薄易碎,无法加工。 若降低材料的电阻率,则又与第一个要求矛盾,外延 技术则成功地解决了这一困难。

吉林大学-半导体材料-课件-第五章5.1-5.3

吉林大学-半导体材料-课件-第五章5.1-5.3
按气体的物理特性分 气溶胶辅助CVD :Aerosol assisted CVD (AACVD) 直 接 液 体 喷 射 CVD : Direct liquid injection CVD
(DLICVD)
等离子体法 微波等离子体协助CVD :Microwave plasma-assisted CVD
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硅源要求
通常使用的硅源是SiH4、SiH2Cl2、SiHCl3和SiCl4。
SiHCl3和SiCl4常温下是液体,外延生长温度高,但 生长速度快,易提纯,使用安全
SiH2Cl2和SiH4常温下是气体,反应温度低,外延 层杂质分布陡峭。缺点是:
要求生长系统具有良好的气密性,否则会因漏气而 产生大量的外延缺陷。
第 5 章 硅外延生长
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半导体材料
第5章 硅外延生长
5-1、外延生长概述 5-2、硅衬底制备 5-3、硅的气相外延生长 5-4、硅外延层电阻率的控制 5-5、硅外延层的缺陷 5-6、硅的异质外延
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5-1、外延生长概述
外延生长的定义 外延生长的分类 发展外延生长的动机
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重掺杂的衬底区:低电阻率的衬底降低了基片的 电阻,降低饱和压降,提供在中等电流下高的器 件工作速度→高频
轻掺杂的外延层:集电极区高的电阻率保证高的 集电极-衬底的击穿电压→大功率
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CMOS电路制作在一层很薄的轻掺杂p型外延层上;
SiH4在高温和高浓度下易发生气相分解而生成粉末 状硅使外延无法进行。
表5-1:常用硅源的特性

第五章薄膜的生长过程和薄膜结构

第五章薄膜的生长过程和薄膜结构

在单位时间内,单位表面上由临界尺寸的原子团长大的核心数 目就是形核率,它应该正比于三个因子的乘积,即 dN (5-18) n* A*
dt
1 e v
Ed kT
(5-17)
薄膜的非自发形核理论
n* 为衬底上临界核心的面密度;
A* 为每个临界核心接受沿衬底表面扩散来的吸附原子的表面积;
为在单位时间内,向上述表面扩散来的吸附原子的通量。
结形成临界核(4)稳定核捕获其他原子生长
薄膜生长过程概述
(1)原子吸附
从蒸发源蒸发出的气相原子入射到基体表面上,
其中一部分因能量较大而弹性反射回去,另一部分则吸附在基
体上。在吸附的气相原子中有一小部分因能量稍大而再蒸发出 去。
薄膜生长过程概述
(2)表面扩散迁移
吸附气相原子在基体表面上扩散迁移,互相碰 这种原子团和其他吸附原子碰撞结合
10可求出形核自由能取得极值的条件为:
r
*
2(a3 vf a2 fs a2 sv ) 3a1GV
(5-14)
应用式5-11后,上式仍等于式5-4,即
r
*
2 vf GV
因而,虽然非自发形核过程的核心形状与自发形核时有所不同,
但二者所对应的临界核心半径相同。
将上式代入5-10得到相应过程的临界自由能变化为:
K nj n1j e
G kT
(5-8)
G* kT
将上式应用于临界核心,即可求出临界核心的面密度
n* ns e

(5-9)
新相的自发形核理论
根据上式,临界核心的面密度n*取决于两个量,即n1和 G * 前者正比于气相原子的沉积通量J或气相的压力P,而后者也 通过5-5和式5-1依赖于p。因此,当气相压力或沉积速率上 升时, n*将会迅速增加。 温度对n*的影响可以从两个方面来考虑。一方面,温度增加会提

第五章硅外延生长

第五章硅外延生长
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5-5硅的异质外延
• 在蓝宝石、尖晶石衬底上进行硅的SOS外延生长 和在绝缘衬底上进行硅的SOI异质外延。 • SOS :Silicon on Sapphire Silicon on Spinel 在单晶绝缘衬底蓝宝石(α-AI2O3)或尖晶石 (MgO. AI2O3)上外延生长硅 • SOI: Silicon on Insulator Semiconductor On insulator
• 星形线(滑移线):
35
5-4-2外延层的内部缺陷
• 层错
层错形貌分为单线,开口,正三角形,套叠三角形 和其他组态
• 位错
外延层中的位错主要是由于原衬底位错延伸引入的 另外可能是由于掺杂和异质外延时,由于异类原 子半径的差异或两种材料晶格参数差异引入内应力。 例如在Si中掺B,P,它们的半径比Si小,它们占据硅的位 置时,Si的点阵会发生收缩;当掺入AL,Sb等比Si半 径大的原子时,Si点阵会发生扩张。也就是产生晶格 点阵的失配。

气相外延、液相外延、固相外延、
对于硅外延,应用最广泛的是气相外延
以SiH2Cl2、SiHCl3、Sicl4或SiH4,为反应气体, 在一定的保护气氛下反应生成硅原子并沉积在 加热的衬底上,衬底材料一般选用Si、SiO2、Si3N4等
5
6
5.2硅Байду номын сангаас气相外延
5-2-1硅外延生长用的原料
对外延片的质量要求:电阻率及其均匀性、厚
40
2.SOS外延生长
• 存在问题:自掺杂效应 衬底表面的反应:AL2O3+2HCL+H2=2ALCL↑+3H2O
铝的低价氯化物为气体,它使衬底被腐蚀,导致外延层产 生缺陷。 氢气和淀积的硅也会腐蚀衬底

半导体材料第5章硅外延生长课后答案

半导体材料第5章硅外延生长课后答案

第五章硅外延生长1、解释名词:①*自掺杂:外延生长时由衬底、基座和系统等带来的杂质进入到外延层中的非人为控制的掺杂称为自掺杂。

②外扩散:在外延生长中,由于是在高温条件下进行的,衬底中的杂质会扩散进入外延层致使外延层和衬底之间界面处的杂质浓度梯度变平的现象。

③外延夹层:外延层和衬底界面附近出现的高阻层或反形层。

④双掺杂技术:在外延生长或扩散时,同时引入两种杂质。

因为原子半径不同而产生的应变正好相反。

当两种杂质原子掺入比例适当时,可以使应力互相得到补偿,减少或避免发生晶格畸变,从而消除失配位错的产生。

这种方法叫作双掺杂技术。

⑤SOS技术:在蓝宝石或者尖晶石衬底上外延生长硅。

⑥SOI技术:把器件制作在绝缘衬底上生长的硅单晶层上。

(当器件尺寸缩小到亚微米范围以内时,常规结构就不适应了,导致了SOI结构的发展)⑦SIMOX:氧注入隔离,通过氧离子注入到硅片,再经高温退火过程消除注入缺陷而成。

⑧SDB&BE:直接键合与背面腐蚀技术。

将两片硅片通过表面的S i O2层键合在一起,再把背面用腐蚀等方法减薄来获得SOI结构。

⑨ELTRAN:外延层转移,在多孔硅表面上可生长平整的外延层,并能以合理的速率将多孔硅区域彻底刻蚀掉,该技术保留了外延层所具有的原子平整性,在晶体形成过程中也不产生颗粒堆积或凹坑,因此具有比其它SOI技术更为优越的性能。

⑩Smart-Cut:利用H+注入Si片中形成气泡层,将注氢片与另一片支撑片键合,经适当的热处理,使注氢片从气泡层完整剥离形成SOI结构。

2、*(简述)详述影响硅外延生长速率的因素。

答:①S i CL4浓度:生长速率随浓度的增加增大并达到一个最大值,以后由于腐蚀作用增大,生长速率反而降低。

②*温度:当温度较低时,生长速率随温度升高而呈指数变化,在较高温度区,生长速率随温度变化比较平缓,并且晶体完整性比较好。

③气流速度:在反应物浓度和生长温度一定时,生长速率与总氢气流速平方根成比例关系,但到极限时不在增加。

第五章 ---硅外延生长

第五章 ---硅外延生长

外延生长的特点
(1)可以在低(高)阻衬底上外延生长高(低)阻外延层。 (2)可以在P(N)型衬底上外延生长N(P)型外延层,直接形成PN结 ,不存在用扩散法在单晶基片上制作PN结时的补偿的问题。 (3)与掩膜技术结合,在指定的区域进行选择外延生长,为集成 电路和结构特殊的器件的制作创造了条件。 (4)可以在外延生长过程中根据需要改变掺杂的种类及浓度,浓 度的变化可以是陡变的,也可以是缓变的。 (5)可以生长异质,多层,多组分化合物且组分可变的超薄层。 (6)可在低于材料熔点温度下进行外延生长,生长速率可控,可 以实现原子级尺寸厚度的外延生长。 (7)可以生长不能拉制单晶材料,如GaN,三、四元系化合物的 单晶层等。
气相外延法生长Si半导体膜所用原料气体、反应式、生 长温度及所属反应类型
各种硅源优缺点:
SiHCL3,SiCL4 常温液体,外延生长温度高,但是生长速度快,易纯制,使用安 全。是较通用的硅源。 SiH2CL2,SiH4 常温气体, SiH2CL2使用方便,反应温度低,应用越来越广。SiH4 反应温度低,无腐蚀性气体,但是会因漏气产生外延缺陷。
衬底要求
在硅外延中使用的硅衬底是经过切、磨、抛等工艺仔细加工而 成的,外延生长前又经过严格的清洗、烘干,但表面上仍残存 有损伤、污染物及氧化物等。 为了提高外延层的完整性,在外延生长前应在反应室中进行 原位化学腐蚀抛光,以获得洁净的硅表面。常用的化学腐蚀剂 为干燥的HCl或HBr,在使SiH4外延生长时,由于SF6具有无毒和 非选择、低温腐蚀特点,所以可用它做腐蚀抛光剂。 为了控制外延层的电特性,通常使用液相或气相掺杂法。
5—2 硅的气相外延 5-2-1硅外延生长用的原料
气相硅外延生长是在高温下使挥发性强的硅源与氢气发生反应 或热解,生成的硅原子淀积在硅衬底上长成外延层。 对外延片的质量要求:电阻率及其均匀性、厚度及其均匀性、 位错和层错密度等。

第五章 硅的外延薄膜的生长

第五章 硅的外延薄膜的生长

第五章硅的外延薄膜的生长外延生长工艺是一种在单晶衬底的表面上淀积一个单晶薄层(0.5∼20微米)的方法。

如果薄膜与衬底是同一种材料该工艺被称为同质外延,但常常就被简单地称为外延。

在硅衬底上淀积硅是同质外延最重要的在技术上的应用,并且是本章的基本主题。

在另一方面,如果在化学成分不同的衬底上进行淀积,则称为异质外延。

这种工艺已在被称为SOS的在蓝宝石(Al2O3)上淀积硅的工艺中得到应用。

外延起源于两个希腊字,意思是整理安排。

外延生长可以从气相(VPE)、液相(LPE)或固相(SPE)中获得。

在硅工艺中,气相外延得到了最广泛的接受,因为它对杂质浓度有良好的控制以及能获得晶体的完整性。

液相淀积在制造Ⅲ−Ⅴ族化合物外延层时得到广泛使用。

正如在第九章“非晶层损伤的退火”中讲到的,固相外延可用于离子注入的非晶层的再结晶。

发展硅外延的主要动机是为了改善双极型晶体管及后来的双极型集成电路的性能。

通过在重掺杂的硅衬底上生长一层轻掺杂的外延层,双极型器件得到优化:在维持低集电区电阻的同时,获得高的集电极-衬底击穿电压。

低的集电区电阻提供了在中等电流时的高的器件工作速度。

最近外延工艺已被用于制造先进的CMOS大规模集成电路。

这些电路中,器件被做在重掺杂的衬底上的一层很薄的(3∼7微米)轻掺杂的外延层中。

这种结构减少了在功率增加或在遭到辐射脉冲时CMOS电路可能经受的闩锁效应。

在外延层中制造器件(双极型和MOS)的其他优点还有:器件掺杂浓度的精确控制,并且这层中可以不含氧和碳。

但外延工艺并不是没有缺点,包括:a)增加了工艺复杂性和硅片成本;b)在外延层中产生缺陷;c)自掺杂以及d)图形改变和冲坏。

在这一章中,我们介绍了:a)外延淀积基础;b)外延层的掺杂;c)外延膜中的缺陷;d)对大规模集成电路的外延淀积的工艺考虑;e)外延淀积设备;f)外延膜的表征;g)硅外延的选择性淀积;和h)硅的分子束外延。

外延淀积基础这部分讨论了用于硅的气相外延的化学气相淀积(CVD)工艺的基础理论。

半导体材料分析第五章硅外延生长

半导体材料分析第五章硅外延生长
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气相均质反应模型
• 这个模型认为: 外延生长反应不是在固-气界面上,而是 在距衬底表面几微米的空间中发生。反 应生成的原子或原子团再转移到衬底表 面上完成晶体生长。
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5-3硅外延层电阻率的控制
• 不同器件对外延层的电参数要求是不同 的,这就需要在外延生长过程中,精确 控制外延层中的杂质浓度和分布来解决
5
6
5.2硅的气相外延
5-2-1硅外延生长用的原料
➢对外延片的质量要求:电阻率及其均匀性、厚 度及其均匀性、位错和层错密度等。
➢按照反应类型可分为氢气还原法和直接热分解 法。 氢还原法,利用氢气还原产生的硅在基片上进行 外延生长。
直接热分解法,利用热分解得到Si。
7
气相外延法生长Si半导体膜所用原料气体、反 应式、生长温度及所属反应类型
半导体材料分析 第五章硅外延生长
5.1外延生长概述
• 外延生长用来生长薄层单晶材料,即薄膜 • 外延生长:在一定条件下,在单晶衬底上,
生长一层合乎要求的单晶层的方法。 • 生长的这层单晶叫外延层。(厚度为几微米)
2
外延生长分类
• 根据外延层性质
同质外延:外延层与衬底同种材料 如Si/Si、GaAs/GaAs 、GaP/GaP;
3. 加热到氢气烘烤温度(1200 ℃ )以除去氧化层 (该步骤能去除50-100A的SiO2层)
4. a)加热到HCl刻蚀温度;b)引入无水HCl(或SF6) 以刻蚀表面的硅层;c)吹气以除去系统中的杂质 和HCl
5. a)冷却到沉积温度;b)引入硅原料和掺杂剂以沉 积所要的薄膜;c)吹入氢气以去除硅原料和掺杂 剂
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N气,N基座,N系统,杂质不是来源衬底片,因此 称为外掺杂

第五章 硅和硅基薄膜的外延生长

第五章  硅和硅基薄膜的外延生长

第五章硅和硅基薄膜的外延生长5.1 概述外延生长(通常亦简称外延)是半导体材料和器件制造的重要工艺之一,它的应用和发展对于提高半导体材料的质量和器件的性能,对于新材料、新器件的开发,对于半导体科学的发展都具有重要意义。

所谓外延生长就是在一定条件下,在经过仔细制备的单晶衬底上,沿着原来的结晶方向生长出一层导电类型、电阻率、厚度和晶格结构、完整性等都符合要求的新单晶层的工艺过程。

所生长的单晶层称为外延层。

外延生长同从熔体中直接生长一样都是制备半导体材料单晶的方法,但相比之下外延生长有它一些特殊的优点:(1)利用外延生长可以在一块低电阻率的衬底上生长出一层很薄的高电阻率的外延层,然后把器件制作在外延层上,解决了高频大功率晶体管要求高的击穿电压和低的饱和压降之间的矛盾。

(2)可进行选择性外延生长,为集成电路和某些特殊结构器件的研制提供了便利条件。

(3)外延技术可以控制外延层中的杂质分布。

(4)采用适当的外延技术可以生长异质、薄层、超薄层组分可变的外延层,为制造多层异质结构器件提供了条件。

(5)可在低于衬底熔点的温度下制备半导体薄膜。

外延生长分类的方法很多,从不同的角度有不同的分类方法,主要有以下四种分类方法:(1)根据外延层在器件制作过程中的作用可分为正外延和反外延。

如果器件直接制作在外延层上,则这种外延技术称为正外延;如果器件制作在衬底上,而外延层只起支撑和隔离作用,则这种外延技术称为反外延。

(2)根据衬底和外延层材料是否相同又可分为同质外延和异质外延。

如果衬底和外延层属于同一种材料则称为同质外延,否则称为异质外延。

(3)根据在生长过程中向衬底输送原子的方法不同可分为气相处延、液相外延和固相外延。

(4)根据生长机理的不同可分为直接外延生长和间接外延生长。

不经过中间化学反应,原子从源直接转移到衬底上形成外延层的外延生长称为直接外延生长;生长外延层所需要的原子或分子是由含有该组分的化合物,通过还原、热分解、歧化等化学反应而得,则这种外延生长称为间接外延生长。

第5章 硅外延生长分析

第5章 硅外延生长分析
A:常数;Re:雷诺数,无量纲,表示流体惯性力与 粘滞力大小之比; 由Re值的大小可判断系统中流体的状态。 Re大于一定值时流体为湍流,小于某一值时为层流, 介于两值之间时则湍流和层流两种状态共存。
28
扩散层(质量边界层或附面层):具有反应物浓度梯 度的薄层。
c ( x) ( x) 3 3 / D Pr x 0
44
4.塌边(取向平面)
外延生长后片子边缘部分比中间部分低,形成一圈或一部 分宽1~2mm左右的斜平面,是无缺陷的完整的(111)面。
单晶定向后,用内(外)圆/线切割机切成厚度为 400~550 m的薄片; 磨片机上用金刚砂磨平(倒角)后,再用SiO2胶体 溶液抛光成镜面,制成衬底; 清洗甩(烘)干后,放在基座上; 封闭反应室通高纯H2排除反应室中的 空气; 启动加热系统,调整温度到所需温度。 反应所需的氢气经净化器提纯, 一路 通反应室,另一路通硅源容器, 携带硅 源入反应室。
影响因素
• SiCl4的浓度 • 温度
• 生长动力学过程 • 边界层及其特性 • 动力学模型
• 气流速度
基本工艺
• 衬底晶向
生长机理
8
§5-3-1 硅外延生长用的原料 气相硅外延生长:高温下挥发性强的硅源与氢气发生反应 (氢还原)或热解(热分解),生成的硅原子淀积在硅衬底 上长成外延层。 常使用的硅源: SiH4、SiH2Cl2、SiHCl3和SiCl4。
1
第五章 硅外延生长
•外延生长概述 •硅衬底制备
•硅的气相外延生长
•硅外延层电阻率的控制 •硅外延层的缺陷
•硅的异质外延
2
§5-1 外延生长概述
外延生长:一定条件下,在经过切、磨、抛等仔细加 工的单晶衬底上,生长一层合乎要求的单晶层方法。 •外延生长用来生长薄层单晶材料,即薄膜(厚度为 几微米) 。

第五章_硅外延生长要点

第五章_硅外延生长要点
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第五章硅外延生长
5.1外延生长概述
• 外延生长用来生长薄层单晶材料,即薄膜 • 外延生长:在一定条件下,在单晶衬底上, 生长一层合乎要求的单晶层的方法。 • 生长的这层单晶叫外延层。(厚度为几微米)
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外延生长分类
• 根据外延层性质
同质外延:外延层与衬底同种材料
如Si/Si、GaAs/GaAs 、GaP/GaP;
CVD生长的薄膜未必是单晶,所以严格讲只有生长的薄膜是单晶的CVD才是外延生长。 CVD设备简单,生长参数容易控制,重复性好, 是目前硅外延生长的主要方法
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根据向衬底输运外延材料的原子的方法不同
• 真空外延、气相外延、液相外延
液相外延(LPE)法的原理是通过将硅熔融在母体里, 降低温度析出硅膜。
根据相变过程
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5-3-1外延层中的杂质及掺杂
• 1.外延层中的杂质
外延层中杂质来源很多,总的载流子浓度N总可以表示为 :N总=N衬底N气N邻片N扩散N基座N系统 N衬底:衬底中挥发出来的杂质掺入外延层中的杂质浓度分量 N气:外延层中来自混合气体的杂质浓度分量 N邻片:外延层中来自相邻衬底的杂质浓度分量 N扩散:衬底中杂质经固相扩散进入外延层的杂质浓度分量 N基座:来自基座的杂质浓度分量 N系统:除上述因素外整个生长系统引入的杂质浓度分量
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气相均质反应模型
• 这个模型认为: 外延生长反应不是在固-气界面上,而 是在距衬底表面几微米的空间中发生。 反应生成的原子或原子团再转移到衬底 表面上完成晶体生长。
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5-3硅外延层电阻率的控制
• 不同器件对外延层的电参数要求是不同 的,这就需要在外延生长过程中,精确 控制外延层中的杂质浓度和分布来解决

吉林大学-半导体材料-课件-第五章5.6

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在衬底表面被覆盖之后,这些腐蚀反应还会在衬 底背面发生,造成Al、O等沾污。
衬底表面被腐蚀,会增加外延层中的缺陷,甚至 局部长成多晶。
SiCl4对衬底的腐蚀大于SiH4,SOS外延生长采用 SiH4热分解法更为有利。
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为了解决生长和腐蚀的矛盾,可采用双速率生长 和两步外延等外延生长方法。
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SOI材料 制造技 术分类
如何实现SOI?
熔融再结晶 束致再结晶---激光或电子束
多晶/非晶 (ZMR) 区熔再结晶---石墨条加热
单晶化 固相外延
或卤素灯
(SPE)
单晶衬底 的隔离
氧离子注入形成SiO2埋层(SIMOX) 多孔硅氧化隔离法(FIPOS)
硅片键合背面腐蚀法(BESOI)
体硅的问题:
超大规模集成电路取得快速发展的动力主要源于不断减小 的器件尺寸和不断增加的芯片面积,当特征尺寸减小到 100nm以下时会出现以下一系列问题:
器件尺寸减小,导致热载流子效应,工作电源电压必须降 低。为了保证电路性能,阈值电压应随之降低,导致关态 漏电流的迅速增加。
体硅中的寄生可控硅闩锁效应。
智能剥离技术(Smart-cut)
硅单晶薄膜 选择外延横向生长法(ELO) 的沉积 异质外延法(SOS,SOZ等)
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5-6 硅的异质外延
5-6-1 SOS技术 5-6-2 SOI技术
5-6-3 SiGe/Si
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1.异质外延衬底材料的选择 首先要考虑的是外延层与衬底材料之间的相容性 如晶体结构、熔点、蒸气压、热膨胀系数等

5硅的气相外延生长

5硅的气相外延生长

气体输运
吸附
反应
停滞层
副产物向外扩散
表面迁移 成核/生长
副产物解吸附
§4.2 硅的气相外延生长
§4.2 硅的气相外延生长
边界层及其特性 一定流速v0的流体经过表面时,由于气流与衬底的摩擦力导致固体表面出现 一个流体速度受到干扰而变化的薄层,称为边界层或滞流层。 一般定义薄层厚度δ为流速为0.99v0处的厚度。 v
§4.2 硅的气相外延生长
1. APCVD(Atmospheric pressure) - 高淀积速率,简单,高效; - 均匀性差,纯度低; - 常用于生长厚氧化层. - 易二维成核,一般不用于IC制造.
2. LPCVD (0.2~20 torr) - 均匀性和纯度高; - 淀积速率较APCVD低; - 常用于生长多晶硅, 掺杂和非掺
F1 hG (CG CS ), F2 KsCs
hG D / c , ks k0 exp Ea / kBT
F1 F2
F2
CG 1 1
hG ks
薄膜生长速率V f
F2 N
, N :原子密度
§4.2 硅的气相外延生长
hG
D /c
1 L
D
L
c (x)dx
0
3 2
D3/
2
v0 L
1/ 2
…… PNV=NNkT
§4.1 真空基础
4. 分子平均速率 分子速率服从Maxwell-Boltzman
速率分布,则平均速率
§4.1 真空基础
5. 分子平均自由程
- 分子密度:n=N/V; - 分子直径d0; 例:300K的空气,
§4.1 真空基础
6. 入射速率 - 单位时间单位面积内与固体表面发生碰撞的分子数.
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第五章硅的外延薄膜的生长外延生长工艺是一种在单晶衬底的表面上淀积一个单晶薄层(0.5∼20微米)的方法。

如果薄膜与衬底是同一种材料该工艺被称为同质外延,但常常就被简单地称为外延。

在硅衬底上淀积硅是同质外延最重要的在技术上的应用,并且是本章的基本主题。

在另一方面,如果在化学成分不同的衬底上进行淀积,则称为异质外延。

这种工艺已在被称为SOS的在蓝宝石(Al2O3)上淀积硅的工艺中得到应用。

外延起源于两个希腊字,意思是整理安排。

外延生长可以从气相(VPE)、液相(LPE)或固相(SPE)中获得。

在硅工艺中,气相外延得到了最广泛的接受,因为它对杂质浓度有良好的控制以及能获得晶体的完整性。

液相淀积在制造Ⅲ−Ⅴ族化合物外延层时得到广泛使用。

正如在第九章“非晶层损伤的退火”中讲到的,固相外延可用于离子注入的非晶层的再结晶。

发展硅外延的主要动机是为了改善双极型晶体管及后来的双极型集成电路的性能。

通过在重掺杂的硅衬底上生长一层轻掺杂的外延层,双极型器件得到优化:在维持低集电区电阻的同时,获得高的集电极-衬底击穿电压。

低的集电区电阻提供了在中等电流时的高的器件工作速度。

最近外延工艺已被用于制造先进的CMOS大规模集成电路。

这些电路中,器件被做在重掺杂的衬底上的一层很薄的(3∼7微米)轻掺杂的外延层中。

这种结构减少了在功率增加或在遭到辐射脉冲时CMOS电路可能经受的闩锁效应。

在外延层中制造器件(双极型和MOS)的其他优点还有:器件掺杂浓度的精确控制,并且这层中可以不含氧和碳。

但外延工艺并不是没有缺点,包括:a)增加了工艺复杂性和硅片成本;b)在外延层中产生缺陷;c)自掺杂以及d)图形改变和冲坏。

在这一章中,我们介绍了:a)外延淀积基础;b)外延层的掺杂;c)外延膜中的缺陷;d)对大规模集成电路的外延淀积的工艺考虑;e)外延淀积设备;f)外延膜的表征;g)硅外延的选择性淀积;和h)硅的分子束外延。

外延淀积基础这部分讨论了用于硅的气相外延的化学气相淀积(CVD)工艺的基础理论。

包括了反应物和产物的通过边界层的传输以及它们在衬底上的化学反应。

Grove外延膜生长模型外延淀积是一个化学气相淀积的过程。

以下五个步骤对于所有的化学气相淀积是基本的:1)反应物被运输到衬底上;2)反应物被吸附在衬底表面上;3)在表面发生化学反应以生成薄膜和反应产物;4)反应产物从表面被放出;和5)反应产物从表面被运走。

在某些情况下,在步骤1之前先进行一个气相反应以形成薄膜的前身(反应物)。

甚至直到现在,针对全部五个步骤而发展出一个数学关系式仍是困难的。

Grove1基于一个只适用于步骤1和3(反应物的运输和化学反应)的假设而研发出一个模型。

尽管这些假设具有局限性,该模型还是解释了许多在外延淀积工艺中观察到的现象。

图1是关于这个模型的本质的图解。

它显示了反应气体的浓度分布和从气体的主体到正在生长的薄膜表面的流量F1(单位时间内通过单位面积的原子或分子的数量,原子/厘米2秒)。

它还显示了另一个代表反应气体消耗的流量F2。

用于硅外延的反应气体可以是下列气体中的任何一种:SiH4、SiHCl3、SiH2Cl2、SiH3Cl或SiCL4。

对用于硅生长的气体种类的选择并不影响该模型所描述的基本原则。

流量F1近似地假设为线性比例于C g(气体中反应物的浓度)和C s(衬底表面上反应物的浓度)之间的浓度差。

比例常数称为气相质量运输系数h g。

F1的关系式为:F1=h g(C g-C s) (1)流量F2假设为线性比例于在表面的反应物的浓度,比例常数为化学表面反应速率常数k s。

这个线性关系意味着反应遵循一级动力学。

F2的表达式为:F2=k s C s(2)应当注意的是:尽管存在着一个产物从衬底离开的流,但在本模型中忽略了它。

在稳态的情况下(没有材料的积累或耗尽),这两个流量必须是相等的:F1=F2=F。

设方程1和2相等,我们获得了反应物在表面的浓度C s的表达式:C s=C g/[1+(k s/h g)] (3)方程3有两种极限情况。

如果h g>>k s,表面浓度C s的值达到C g。

这被称为表面反应控制过程。

如果h g<<k s,表面浓度接近于零。

这种情况称为质量传输控制过程。

硅外延膜的生长速率V(厘米/秒)由此给出:V=F/N1(4)N1是单位体积的薄膜含有的硅原子的数量。

对于硅,N1的值为5×1022原子/厘米3。

将方程2中的F2(F1=F2=F)和方程3中的C s代入方程4,我们得到:V=F/N1=[k s h g/(k s+h g)](C g/N1) (5)气相中的反应物的浓度可被定义为:C g=C T Y (6)Y是反应物的摩尔分数,C T是每厘米3气体中所有分子的数量。

将方程6代入方程5,我们得到薄膜生长数率的表达式为:V =[k s h g/(k s+h g)](C T/N1)Y (7)方程7预示了两个重要的效应。

首先,它预示了生长速率将正比于气体中反应物的摩尔分数。

这与低的的Y值时的实验观察结果相一致。

图2显示出硅(在氢气中还原SiCl4)的生长速率取决于气相中的SiCl4的浓度。

对于这个反应,反应速率迅速偏离了线性,当浓度为0.1摩尔分数时,生长速率甚至开始减小。

当浓度大于0.27摩尔分数时,衬底发生了负生长(即刻蚀)。

这是因为反应产物中有HCl。

HCl依次与硅反应,造成对正在淀积的外延膜(甚至是衬底)的刻蚀。

其次,方程7预示了在Y值恒定时生长速率受k s和h g中的较小值的控制。

在极限情况下生长速率由此给出:V=C T k s Y/N1(表面反应控制) (8)或V=C T h g Y/N1 (质量传输控制) (9)化学表面反应速度常数k s描述了在衬底表面上的化学反应的动力学。

化学反应常常是热激活的,如果是在这种情况下,可由阿乌尼斯方程式来表示(见附录3)。

假设在表面的反应表现出这种行为,k s可写作:k k e s E KT a=−[/](10)k0是一个与温度无关的频率因子,E a是反应的激活能。

另一方面,质量运输系数h g相对来说对温度不敏感,并主要取决于反应室中气体的流量(流体力学)。

图3是在以H2还原SiCl4来淀积硅时,生长速度的数据(点)作为温度的倒数的函数的图形。

低温时,生长速度遵循着E a=1.9eV和k0=1×109cm/sec的指数定理。

在较高温度时,生长速度倾向于变得对温度不敏感。

生长速度的数据可由方程式7-10来解释。

低温时,h g>>k s,生长速度由k s控制。

方程式8占主导地位,k s的值由方程式10给出。

k s随温度迅速增加,到达表面的反应气体的量(由h g控制)最后无法跟上反应的要求,反应速度倾向于降低。

在高温时,h g<<k s,质量运输(由方程式9给出)占优势。

方程式9中的h g的值相对地对温度不敏感。

在中间温度h g和k s则均有贡献,生长速度并不象它在较低温度时增加得那样快。

对几个不同的从非常小(1厘米/秒)到非常大的h g值,由方程式7算出的点在图3中也有表示。

如采用h g≅5-10cm/sec和k s=107exp(-1.9eV/kT)cm/sec,实验数据与方程式7符合得最好。

Grove模型是一个对淀积问题的简化了的解决方法,因为它忽略了反应产物的流量,并假设反应速度流线性地取决于表面浓度,而后者只在低的Y值时成立。

该模型也忽略了温度梯度对气体质量运输的影响。

尽管有这些局限,该模型预示了生长过程的两个区域⎯质量运输和表面控制区,并提供了一个从生长速度的数据对k s和h g的值的合理估算。

气相运输方程式1通过F1=h g(C g-C s)对反应物从气体的主体到衬底表面的流量作了近似。

在这部分我们讨论了影响h g值的因素。

静止薄膜模型一种用于估计h g值的简单方法是假设气体分为两个部分。

其中一个部分(离开衬底)中气体混合得很好,并以一个恒定的、平行于衬底的速度U运动。

另一个部分是静止薄膜区,气体速度为零。

静止层的厚度设为δs。

图4是该模型的图示。

这种模型中,反应物通过静止层的质量运输假设只以扩散的方式进行。

这种情况下,方程式1的流量F1可重写为(按照菲克第一定理,第八章):F1=D g(C g-C s)/δs (11)D g是反应物的扩散系数,(C g-C s)/δs是浓度梯度。

设方程式1中的F1等于方程式11中的F1,我们得到:h g=D g/δs (12)该模型是很武断的,因为它假设了一个从一定的气体流量到无流量的突变,而事实上这种突发的静止层并不存在。

然而它却是一个用于解决许多气相质量运输问题的有用的一级近似。

边界层理论流体力学能提供更实际的因而也是更精确的对质量运输系数h g的估计值。

1904年,Prandtl发展了一种被称为边界层理论2的方法,边界层(比静止层更实际地代表了在表面发生的事件)是一个在气体速度为零的固体表面(衬底或支架)和气体速度(平行于衬底)为气流场(fluxfield)速度U的自由气流之间的过渡层。

这是一个气体速度迅速改变的区域。

边界层的厚度δ(x)定义为速度为自由气流速度的99%(0.99U)的地方。

图5所示为气体沿一个平面流动所形成的一个边界层。

这与在平行反应室中沿着支架的长度方向观察到的气流相似。

紧靠平板的气体的速度必须是零以避免无限大速度梯度的存在。

这种零速度的情况干扰了速度的分布。

当流体沿着一个在流动的气体最初碰到的前缘上面的平面运动时,扰动扩展得越来越远,最后进入了气体的主体,产生了一个厚度随沿平面的距离而增加的边界层。

由第一个原则,边界层厚度作为沿平面的距离x的函数,可由δ(x)=(µx/dU)1/2(13)算出。

µ是气体粘度,d是气体密度。

图5中的点线是达到自由气流速度U的99%的点的轨迹。

更精确的δ(x)的计算值与方程式13的差别只在于方程式的数字系数,依照δ的精确定义,该系数的范围在0.67到5之间。

在整个平板(或石英管的长度)上的平均边界层厚度为:δ=(1/L)∫0Lδ(x)dx=(2/3)L(µ/Dul)1/2 (14)或δ=2L/[3(Re L)1/2] (15)这里由Re L=dUL/µ(16)给出的Re L是气体的Reynolds常数。

Re L是用于流体力学的无量纲数字,它代表了流体运动中惯性效应对粘滞效应的量的比值。

对于低的值(Re L<2000),气体流动的模式被称为层流,而对于高的值则称为湍流。

边界层的平均厚度δ能为方程12中静止层模型的δs所代替,这导致了质量传输系数的表达式为:h g=D g/δs=(3D g/2L)(Re L)1/2(17)方程17可被重排为一个无量纲的方程:h g L/D g=3(Re L)1/2/2 (18)Pohljausen3比较了一个更准确的方程:h g L/D g=[2(Re L)1/2/3](µ/dD g)1/3 (19)这里µ/dD g是一个被称为Schmidt常数的无量纲的参数。

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