第12讲_影响镀层烧焦的因素
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【电镀基础讲座】
第十二讲──影响镀层烧焦的因素
袁诗璞
烧焦是电镀的常见故障之一。“烧焦”是一个借 用词,指工件阴极电流密度过大而超过工艺规范上限 时镀层出现的非正常沉积,而并非木材之类燃烧或煮饭 菜时水烧干后持续高温下出现的发黑焦化、炭化现象。
不少论述工艺的文献中都有一个故障表,包括故 障现象、可能原因及排除方法。然而实际大生产的情 况非常复杂,各电镀厂的情况差异又很大,没有一个 故障表能包罗万象。即使比较全面的故障表,一个故 障现象列有可能原因七八个,具体到实际,到底是哪 个原因,还需逐一具体分析。死记硬背故障表未必能 找到真正的原因。只有对故障现象的实质,以及为什 么某种原因会造成故障的道理弄明白了,融会贯通, 才能结合实验验证,找出具体原因。本讲将从道理上 对引起烧焦故障的多种可能原因进行简单分析。
液喷射法、硬粒子磨擦法等。 3. 2. 9 杂质的影响
杂质对电镀的影响非常复杂,很难有共通的规律 可循,只能对相应工艺作具体试验来确定其影响、允 许浓度与去除方法。例如,Cl−是氯化物镀锌中重要的 导电阴离子,但在碱性锌酸盐镀锌液中却是杂质,会 使镀层起竖状条痕。硝酸根在无氰碱铜液中可借其在 宽电势范围内代替 H+优先放电而起到扩大允许电流密 度、降低使用温度的作用;但在镀镍液中不但会大大 降低深镀能力,甚至使低电流密度区镀层漏镀,而且 使高电流密度区镀层易烧焦起皮,且起皮处发黑。
镀液阴极极化值越大,主盐金属离子放电越困难, H+越易乘机放电,镀层越易烧焦。 3. 2. 4. 1 配合物电镀
当主盐浓度相同时,配合物电镀的配位剂含量越 高,即配合比越大,或因 pH 等条件控制不当,生成的 主盐配离子放电还原越困难,造成阴极电化学极化值 过大,H+越易放电,镀层越易烧焦,允许阴极电流密 度上限越低。对于氰化镀铜,当游离氰化物过高时, 阴极电流效率下降,易析氢,同时允许阴极电流密度 下降。 3. 2. 4. 2 简单盐电镀
析氢后界面液层中 pH 升高,可能形成金属氢氧化物 (甚至进而分解为氧化物)或碱式盐,并夹杂在镀层中。 上述两种情况下均不能形成结晶有序排列的正常镀层 而出现烧焦。即烧焦的根本原因可归结为:
(1) 阴极界面液层中主盐金属离子浓度过低; (2) 主盐金属离子放电过于困难,造成 H+放电析 氢; (3) 阴极界面液层中 pH 过高; (4) 镀层中夹杂较多非纯镀层金属的化合物。 烧焦的多种外在原因均可根据上述几条加以分析 和理解。
(4) 水平方向上阳极的分布远长于工件横向放置 的长度时,工件两头电力线密集,易烧焦。
(5) 阳极过少、分布过于稀疏(或部分不导电)时, 距阳极近的工件处电力线密集,易烧焦。 3. 2. 7 液温过低
液温过低时,扩散、对流、电迁移的速度都下降。 无论对于简单盐电镀还是配合物电镀,高电流密度处 的主盐金属离子放电消耗后,都来不及传质补充,浓 差极化过大,H+易放电而导致镀层烧焦。硼酸这类缓 冲剂易因液温低而结晶析出并沉于槽底,实际镀液中 缓冲剂的浓度不够,这也会加剧烧焦。 3. 2. 8 搅拌不足
单从烧焦而言,特别是对于简单盐电镀,pH 低些 为好;但镀液 pH 对镀液性能的影响是多方面的,应综 合考虑各方面因素后确定最佳 pH。比如 pH 低时,光 亮剂的吸附性能下降,需用量与消耗量都大增,造成 有机杂质增加过快。因镍价上涨,不少电镀厂的镀镍 液中主盐浓度控制得很低,这容易使镀层烧焦,为防
对于镀镍,烧焦处镀层粗糙且常伴有脱皮现象。 镀铬的烧焦呈灰色无光状。酸性光亮镀锡的烧焦则呈 暗色雾状。
2 烧焦的实质
阴极电流密度越大,主盐金属离子放电还原越快。 当扩散、对流、电迁移的传质速度低时,阴极界面液 层中主盐金属离子浓度低,浓差极化过大,H+易放电 还原而导致析氢。剧烈的析氢使还原后的金属原子无 法排列为正常结晶而形成疏松多孔的沉积物。另外,
赫尔槽试验时,若认为主盐浓度过低,可补加后 再试验,使烧焦区在其他条件相同的情况下,达到或 接近新配液的试片高端烧焦范围。 3. 2. 2 镀液 pH 过高 3. 2. 2. 1 简单盐电镀
(1) pH 高时,阴极界面液层中 H+浓度本身就低, 量不大的 H+还原即会使 pH 升高至产生烧焦的值。
(2) 镀液本体的 H+浓度低时,H+向阴极界面液层 的扩散、电迁移速度也低,来不及补充阴极界面液层 中 H+的消耗,其 pH 上升更快,也加剧烧焦。 3. 2. 2. 2 配合物电镀
4 滚镀时的烧焦
滚镀时只有滚筒孔眼处能导电,孔眼间隙处是绝 缘的。镀层的烧焦表现为工件上有孔眼大小的粗糙镀 层,俗称“起滚筒眼”。疏松的海绵状烧焦物会在随 后工件的相互摩擦中被除去而留下印记。滚镀是否易 因烧焦而起滚筒眼,取决于几个因素:
(1) 滚镀镀液本身的性能。如组分含量、液温、 pH 等是否良好,是否允许有较大的阴极电流密度。
这主要与阳极尺寸以及阳极与阴极的相对位置有 关。电力线分布不均时,电力线过于密集之处,阴极 电流密度大,镀层易烧焦。
(1) 阳极过长而工件过短时,工件下端电力线过 于密集,易烧焦。
(2) 工件过短而垂直悬挂于镀液中过深时,上部 电力线密集,易烧焦。
(3) 工件过短而悬挂于镀液中过浅时,下部电力 线密集,易烧焦;
对于氯化钾镀锌、光亮酸铜、镀镍等简单盐电镀, 当主盐浓度过低时,镀层易烧焦。原因是:(1)主盐浓 度过低时,阴极界面液层中主盐浓度本身很低,电流稍 大,放电后即缺乏金属离子,H+易乘机放电;(2)镀液 本体的主盐浓度低,扩散与电迁移速度都下降,阴极 界面液层中金属离子的补充速度也低,浓差极化过大。
配合物电镀则较复杂。若单独提高主盐浓度,则 配合比变小,阴极电化学极化不足。在保持配合比不 变的前提下,要提高主盐浓度,配位剂浓度应按比例 提高,即镀液应浓,但这受多种因素制约,镀液浓度 不可随意提高。
(5) 滚筒的开孔率(即孔眼总表面积与滚筒总表 面积之比)越大,电流分散性越好,孔眼处的电流密度 越小,工件起滚筒眼的可能性越小。一般开孔率不应 低于 40%。
(6) 滚筒的长度与筒径之比。采用细而长的滚筒 时,工件的受镀面积大,工件翻转快,烧焦起滚筒眼 的可能性较小。
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电镀基础讲座──影响镀层烧焦的因素
(3) 取完工件后也不降低整流器输出电压,再放 入的少量几挂电流过大,入槽即烧焦。电镀镍等易钝 化金属时,因双性电极现象过强,局部还易起皮(详见 第四讲)。正常操作是依槽中工件多少,及时增减电流。 3. 2 非正常情况产生的烧焦 3. 2. 1 主盐浓度过低
搅拌是提高对流传质速度的主要手段。采用阴极 移动或旋转,可使工件表面液层与稍远处镀液间出现 相对流动;空气搅拌则可使整个镀液产生翻动,起到 均质作用。搅拌强度越大,对流传质效果越好。加快 阴极界面液层中主盐金属离子放电后的补充速度,以 及界面液层中 H+、缓冲剂等的补充速度,均有利于减 少烧焦、扩大允许电流密度。但搅拌也会降低浓差极 化,使低电流密度区镀层的光亮整平性下降,且有可 能使某些工艺(如氯化钾镀锌)的深镀能力下降。因此, 对搅拌强度应予以控制,以兼顾扩大允许电流密度与 搅拌所带来的某些副作用。例如:实施阴极移动时, 要规定每分钟移动次数与行程;阴极旋转时,应调整 阴极回转头的转速;而空气搅拌则应在无油空压气进 气线路上加装调整进气量的阀门。对于常规电镀,工 件表面液层中镀液的流动只能呈比较温和的层流状。 在高速电镀时,为尽量扩大允许电流密度而又不至于 导致镀层烧焦,则要采用十分强烈的搅拌,使表面液 层的流动呈不规则的湍流状,如采用高速液流法、镀
(1) 若镀槽过窄或挂双排工件,近阴极到阳极的 距离过近,电流密度稍大则近阴极处镀层易烧焦。
(2) 若工件装挂不良,造成远、近阴极的距离差
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电镀基础讲座──影响镀层烧焦的因素
过大,为满足生产效率、保证低电流密度区镀层的光 亮整平性,电流开得稍大则近阴极处镀层易烧焦。 3. 2. 6 电力线分布不均匀造成的烧焦
一方面,与简单盐电镀一样,阴极界面液层中 H+ 放电后 pH 升高更快;另一方面,多数碱性条件下的配 合物电镀,随着镀液 pH 上升,在相同配合比时形成的 配离子更加稳定,主盐金属离子放电更为困难,H+的 放电则相对更易。正是由于这两方面原因,镀层更易 烧焦。这也许是多数配合物电镀的允许阴极电流密度 上限都较小的主要原因。
(1) 随意开电,掌握不了最佳值,其中也包括实 际经验不足。如氯化钾镀锌时,工件上不冒氢气泡, 说明电流肯定小;大冒氢气泡处,则必然产生烧焦; 最佳情况是工件尖角凸起处略冒氢气泡。不锈钢或镍 上闪镀镍时,必须大冒气泡,否则活化作用不良。酸 性亮铜不允许冒氢气泡,否则冒泡处必然烧焦。
(2) 手工操作时整槽工件取出部分后不及时减 电,余下部分电流密度过大,特别是空缺边上的一挂 上电流密度最大,很易烧焦。
3 烧焦的多种可能性
3. 1 其他条件正常时的烧焦 任何电镀工艺条件中都规定有相应工艺允许的阴
极电流密度(一般指平均电流密度)的范围。即使镀液 成分、液温、pH、搅拌等条件均正常时,所施加的阴 极电流密度过大,超过工艺允许的上限时,镀层也易 烧焦。电镀直流电源应均可从 0 V 起连续调压,正是 为了适应将电流密度调整到较佳值的需要。对于定型 产品或尺寸镀铬件,可根据槽中工件的表面积来确定 所采用的总电流。对于非定型产品,则只能灵活掌握。 根据相应工艺,对电流进行灵活调整,是电镀熟练操 作人员应具有的基本素质之一。电流过小时,生产效 率低,低电流密度区镀层光亮性、整平性下降,深镀 能力差;若电流过大,则工件易烧焦。在大生产中, 常见几种不良操作方式:
简单盐电镀时,若添加剂加入过多,吸附产生的 添加剂膜层过厚,主盐金属离子难于穿透吸附层放电, 但 H+是体积很小的质子,易于穿透吸附层放电析氢, 镀层容易烧焦。另外,添加剂过多还有其他副作用, 所以任何添加剂、光亮剂都必须坚持少加勤加的原则。 3. 2. 5 降低镀液分散能力的几何因素的影响
第八讲已对影响镀层厚度分布均匀性的因素作过 较详细讨论。在此,再归纳一下几何因素对烧焦的影 响。当其他条件正常时:
1 烧焦现象
烧焦的共同点是:位置总出现在阴极电流密度最 大的工件凸出或端头部位,决不会出现在工件深凹处 的低电流密度区。但对于不同镀种或同一镀种的不同 工艺,烧焦的外观表现不尽相同。例如:
对于氯化物微酸性镀锌,烧焦呈疏松黑色海绵状; 而对于碱性锌酸盐镀锌,烧焦呈白灰色粗糙状,镀层 附着力尚好。
对于氰化镀铜,烧焦呈结晶不细致的砖红色;光 亮酸铜的烧焦呈暗色海绵状疏松物;而对于多数无氰 碱铜,烧焦呈暗色较粗糙结晶。
止烧焦又要将 pH 调得很低;但主盐浓度低了又会出现 光亮整平性下降等其他问题。故 pH 过低并非好事。这 些问题已在第五、第六讲中作过讨论。电镀技术的复 杂性之一就在于不能简单地根据某一种需求而随意改 变配方与工艺条件,而应综合权衡得失。 3. 2. 3 镀液中 pH 缓冲剂过少
镀液中的 pH 缓冲剂不仅对镀液本身 pH 有缓冲作 用(详见第五讲),更重要的是对阴极界面液层 pH 的缓 冲作用。当其含量低时,高阴极电流密度区因其本底 浓度低,同样因镀液中浓度低,缓冲剂向阴极界面液 层扩散的速度下降,其对阴极界面液层中 pH 的缓冲作 用差,H+稍一放电,界面液层中 pH 上升更快,镀层更 易烧焦。镀镍、氯化钾镀锌液中的缓冲剂──硼酸,还 具有细化镀层结晶、提高镀层光亮性等作用,所以非 但不能缺,而且应根据不同液温条件,尽量多加至不 结晶析出为宜。不少人很不注重氯化钾镀锌液中硼酸 的及时补加,所以电镀质量上不了档次。 3. 2. 4 镀液阴极极化值过大
(2) 施加于每桶工件的总电流。总电流越大,越 易起滚筒眼。
(3) 工件形状。一般平面小件(如标件平垫圈)或 小工件的平面处易因紧贴滚筒内壁而易起滚筒眼。
(4) 工件在滚筒内的翻转状况。一方面取决于工 件的装载量,装载量过大,翻转效果差,易起滚筒眼; 另一方面取决于滚筒的结构,如六方形滚筒的平面部பைடு நூலகம்分易紧贴工件而使工件起滚筒眼,圆筒形滚筒则不易 使平面件紧贴(但其翻动效果不及六方形滚筒)。
第十二讲──影响镀层烧焦的因素
袁诗璞
烧焦是电镀的常见故障之一。“烧焦”是一个借 用词,指工件阴极电流密度过大而超过工艺规范上限 时镀层出现的非正常沉积,而并非木材之类燃烧或煮饭 菜时水烧干后持续高温下出现的发黑焦化、炭化现象。
不少论述工艺的文献中都有一个故障表,包括故 障现象、可能原因及排除方法。然而实际大生产的情 况非常复杂,各电镀厂的情况差异又很大,没有一个 故障表能包罗万象。即使比较全面的故障表,一个故 障现象列有可能原因七八个,具体到实际,到底是哪 个原因,还需逐一具体分析。死记硬背故障表未必能 找到真正的原因。只有对故障现象的实质,以及为什 么某种原因会造成故障的道理弄明白了,融会贯通, 才能结合实验验证,找出具体原因。本讲将从道理上 对引起烧焦故障的多种可能原因进行简单分析。
液喷射法、硬粒子磨擦法等。 3. 2. 9 杂质的影响
杂质对电镀的影响非常复杂,很难有共通的规律 可循,只能对相应工艺作具体试验来确定其影响、允 许浓度与去除方法。例如,Cl−是氯化物镀锌中重要的 导电阴离子,但在碱性锌酸盐镀锌液中却是杂质,会 使镀层起竖状条痕。硝酸根在无氰碱铜液中可借其在 宽电势范围内代替 H+优先放电而起到扩大允许电流密 度、降低使用温度的作用;但在镀镍液中不但会大大 降低深镀能力,甚至使低电流密度区镀层漏镀,而且 使高电流密度区镀层易烧焦起皮,且起皮处发黑。
镀液阴极极化值越大,主盐金属离子放电越困难, H+越易乘机放电,镀层越易烧焦。 3. 2. 4. 1 配合物电镀
当主盐浓度相同时,配合物电镀的配位剂含量越 高,即配合比越大,或因 pH 等条件控制不当,生成的 主盐配离子放电还原越困难,造成阴极电化学极化值 过大,H+越易放电,镀层越易烧焦,允许阴极电流密 度上限越低。对于氰化镀铜,当游离氰化物过高时, 阴极电流效率下降,易析氢,同时允许阴极电流密度 下降。 3. 2. 4. 2 简单盐电镀
析氢后界面液层中 pH 升高,可能形成金属氢氧化物 (甚至进而分解为氧化物)或碱式盐,并夹杂在镀层中。 上述两种情况下均不能形成结晶有序排列的正常镀层 而出现烧焦。即烧焦的根本原因可归结为:
(1) 阴极界面液层中主盐金属离子浓度过低; (2) 主盐金属离子放电过于困难,造成 H+放电析 氢; (3) 阴极界面液层中 pH 过高; (4) 镀层中夹杂较多非纯镀层金属的化合物。 烧焦的多种外在原因均可根据上述几条加以分析 和理解。
(4) 水平方向上阳极的分布远长于工件横向放置 的长度时,工件两头电力线密集,易烧焦。
(5) 阳极过少、分布过于稀疏(或部分不导电)时, 距阳极近的工件处电力线密集,易烧焦。 3. 2. 7 液温过低
液温过低时,扩散、对流、电迁移的速度都下降。 无论对于简单盐电镀还是配合物电镀,高电流密度处 的主盐金属离子放电消耗后,都来不及传质补充,浓 差极化过大,H+易放电而导致镀层烧焦。硼酸这类缓 冲剂易因液温低而结晶析出并沉于槽底,实际镀液中 缓冲剂的浓度不够,这也会加剧烧焦。 3. 2. 8 搅拌不足
单从烧焦而言,特别是对于简单盐电镀,pH 低些 为好;但镀液 pH 对镀液性能的影响是多方面的,应综 合考虑各方面因素后确定最佳 pH。比如 pH 低时,光 亮剂的吸附性能下降,需用量与消耗量都大增,造成 有机杂质增加过快。因镍价上涨,不少电镀厂的镀镍 液中主盐浓度控制得很低,这容易使镀层烧焦,为防
对于镀镍,烧焦处镀层粗糙且常伴有脱皮现象。 镀铬的烧焦呈灰色无光状。酸性光亮镀锡的烧焦则呈 暗色雾状。
2 烧焦的实质
阴极电流密度越大,主盐金属离子放电还原越快。 当扩散、对流、电迁移的传质速度低时,阴极界面液 层中主盐金属离子浓度低,浓差极化过大,H+易放电 还原而导致析氢。剧烈的析氢使还原后的金属原子无 法排列为正常结晶而形成疏松多孔的沉积物。另外,
赫尔槽试验时,若认为主盐浓度过低,可补加后 再试验,使烧焦区在其他条件相同的情况下,达到或 接近新配液的试片高端烧焦范围。 3. 2. 2 镀液 pH 过高 3. 2. 2. 1 简单盐电镀
(1) pH 高时,阴极界面液层中 H+浓度本身就低, 量不大的 H+还原即会使 pH 升高至产生烧焦的值。
(2) 镀液本体的 H+浓度低时,H+向阴极界面液层 的扩散、电迁移速度也低,来不及补充阴极界面液层 中 H+的消耗,其 pH 上升更快,也加剧烧焦。 3. 2. 2. 2 配合物电镀
4 滚镀时的烧焦
滚镀时只有滚筒孔眼处能导电,孔眼间隙处是绝 缘的。镀层的烧焦表现为工件上有孔眼大小的粗糙镀 层,俗称“起滚筒眼”。疏松的海绵状烧焦物会在随 后工件的相互摩擦中被除去而留下印记。滚镀是否易 因烧焦而起滚筒眼,取决于几个因素:
(1) 滚镀镀液本身的性能。如组分含量、液温、 pH 等是否良好,是否允许有较大的阴极电流密度。
这主要与阳极尺寸以及阳极与阴极的相对位置有 关。电力线分布不均时,电力线过于密集之处,阴极 电流密度大,镀层易烧焦。
(1) 阳极过长而工件过短时,工件下端电力线过 于密集,易烧焦。
(2) 工件过短而垂直悬挂于镀液中过深时,上部 电力线密集,易烧焦。
(3) 工件过短而悬挂于镀液中过浅时,下部电力 线密集,易烧焦;
对于氯化钾镀锌、光亮酸铜、镀镍等简单盐电镀, 当主盐浓度过低时,镀层易烧焦。原因是:(1)主盐浓 度过低时,阴极界面液层中主盐浓度本身很低,电流稍 大,放电后即缺乏金属离子,H+易乘机放电;(2)镀液 本体的主盐浓度低,扩散与电迁移速度都下降,阴极 界面液层中金属离子的补充速度也低,浓差极化过大。
配合物电镀则较复杂。若单独提高主盐浓度,则 配合比变小,阴极电化学极化不足。在保持配合比不 变的前提下,要提高主盐浓度,配位剂浓度应按比例 提高,即镀液应浓,但这受多种因素制约,镀液浓度 不可随意提高。
(5) 滚筒的开孔率(即孔眼总表面积与滚筒总表 面积之比)越大,电流分散性越好,孔眼处的电流密度 越小,工件起滚筒眼的可能性越小。一般开孔率不应 低于 40%。
(6) 滚筒的长度与筒径之比。采用细而长的滚筒 时,工件的受镀面积大,工件翻转快,烧焦起滚筒眼 的可能性较小。
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(3) 取完工件后也不降低整流器输出电压,再放 入的少量几挂电流过大,入槽即烧焦。电镀镍等易钝 化金属时,因双性电极现象过强,局部还易起皮(详见 第四讲)。正常操作是依槽中工件多少,及时增减电流。 3. 2 非正常情况产生的烧焦 3. 2. 1 主盐浓度过低
搅拌是提高对流传质速度的主要手段。采用阴极 移动或旋转,可使工件表面液层与稍远处镀液间出现 相对流动;空气搅拌则可使整个镀液产生翻动,起到 均质作用。搅拌强度越大,对流传质效果越好。加快 阴极界面液层中主盐金属离子放电后的补充速度,以 及界面液层中 H+、缓冲剂等的补充速度,均有利于减 少烧焦、扩大允许电流密度。但搅拌也会降低浓差极 化,使低电流密度区镀层的光亮整平性下降,且有可 能使某些工艺(如氯化钾镀锌)的深镀能力下降。因此, 对搅拌强度应予以控制,以兼顾扩大允许电流密度与 搅拌所带来的某些副作用。例如:实施阴极移动时, 要规定每分钟移动次数与行程;阴极旋转时,应调整 阴极回转头的转速;而空气搅拌则应在无油空压气进 气线路上加装调整进气量的阀门。对于常规电镀,工 件表面液层中镀液的流动只能呈比较温和的层流状。 在高速电镀时,为尽量扩大允许电流密度而又不至于 导致镀层烧焦,则要采用十分强烈的搅拌,使表面液 层的流动呈不规则的湍流状,如采用高速液流法、镀
(1) 若镀槽过窄或挂双排工件,近阴极到阳极的 距离过近,电流密度稍大则近阴极处镀层易烧焦。
(2) 若工件装挂不良,造成远、近阴极的距离差
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过大,为满足生产效率、保证低电流密度区镀层的光 亮整平性,电流开得稍大则近阴极处镀层易烧焦。 3. 2. 6 电力线分布不均匀造成的烧焦
一方面,与简单盐电镀一样,阴极界面液层中 H+ 放电后 pH 升高更快;另一方面,多数碱性条件下的配 合物电镀,随着镀液 pH 上升,在相同配合比时形成的 配离子更加稳定,主盐金属离子放电更为困难,H+的 放电则相对更易。正是由于这两方面原因,镀层更易 烧焦。这也许是多数配合物电镀的允许阴极电流密度 上限都较小的主要原因。
(1) 随意开电,掌握不了最佳值,其中也包括实 际经验不足。如氯化钾镀锌时,工件上不冒氢气泡, 说明电流肯定小;大冒氢气泡处,则必然产生烧焦; 最佳情况是工件尖角凸起处略冒氢气泡。不锈钢或镍 上闪镀镍时,必须大冒气泡,否则活化作用不良。酸 性亮铜不允许冒氢气泡,否则冒泡处必然烧焦。
(2) 手工操作时整槽工件取出部分后不及时减 电,余下部分电流密度过大,特别是空缺边上的一挂 上电流密度最大,很易烧焦。
3 烧焦的多种可能性
3. 1 其他条件正常时的烧焦 任何电镀工艺条件中都规定有相应工艺允许的阴
极电流密度(一般指平均电流密度)的范围。即使镀液 成分、液温、pH、搅拌等条件均正常时,所施加的阴 极电流密度过大,超过工艺允许的上限时,镀层也易 烧焦。电镀直流电源应均可从 0 V 起连续调压,正是 为了适应将电流密度调整到较佳值的需要。对于定型 产品或尺寸镀铬件,可根据槽中工件的表面积来确定 所采用的总电流。对于非定型产品,则只能灵活掌握。 根据相应工艺,对电流进行灵活调整,是电镀熟练操 作人员应具有的基本素质之一。电流过小时,生产效 率低,低电流密度区镀层光亮性、整平性下降,深镀 能力差;若电流过大,则工件易烧焦。在大生产中, 常见几种不良操作方式:
简单盐电镀时,若添加剂加入过多,吸附产生的 添加剂膜层过厚,主盐金属离子难于穿透吸附层放电, 但 H+是体积很小的质子,易于穿透吸附层放电析氢, 镀层容易烧焦。另外,添加剂过多还有其他副作用, 所以任何添加剂、光亮剂都必须坚持少加勤加的原则。 3. 2. 5 降低镀液分散能力的几何因素的影响
第八讲已对影响镀层厚度分布均匀性的因素作过 较详细讨论。在此,再归纳一下几何因素对烧焦的影 响。当其他条件正常时:
1 烧焦现象
烧焦的共同点是:位置总出现在阴极电流密度最 大的工件凸出或端头部位,决不会出现在工件深凹处 的低电流密度区。但对于不同镀种或同一镀种的不同 工艺,烧焦的外观表现不尽相同。例如:
对于氯化物微酸性镀锌,烧焦呈疏松黑色海绵状; 而对于碱性锌酸盐镀锌,烧焦呈白灰色粗糙状,镀层 附着力尚好。
对于氰化镀铜,烧焦呈结晶不细致的砖红色;光 亮酸铜的烧焦呈暗色海绵状疏松物;而对于多数无氰 碱铜,烧焦呈暗色较粗糙结晶。
止烧焦又要将 pH 调得很低;但主盐浓度低了又会出现 光亮整平性下降等其他问题。故 pH 过低并非好事。这 些问题已在第五、第六讲中作过讨论。电镀技术的复 杂性之一就在于不能简单地根据某一种需求而随意改 变配方与工艺条件,而应综合权衡得失。 3. 2. 3 镀液中 pH 缓冲剂过少
镀液中的 pH 缓冲剂不仅对镀液本身 pH 有缓冲作 用(详见第五讲),更重要的是对阴极界面液层 pH 的缓 冲作用。当其含量低时,高阴极电流密度区因其本底 浓度低,同样因镀液中浓度低,缓冲剂向阴极界面液 层扩散的速度下降,其对阴极界面液层中 pH 的缓冲作 用差,H+稍一放电,界面液层中 pH 上升更快,镀层更 易烧焦。镀镍、氯化钾镀锌液中的缓冲剂──硼酸,还 具有细化镀层结晶、提高镀层光亮性等作用,所以非 但不能缺,而且应根据不同液温条件,尽量多加至不 结晶析出为宜。不少人很不注重氯化钾镀锌液中硼酸 的及时补加,所以电镀质量上不了档次。 3. 2. 4 镀液阴极极化值过大
(2) 施加于每桶工件的总电流。总电流越大,越 易起滚筒眼。
(3) 工件形状。一般平面小件(如标件平垫圈)或 小工件的平面处易因紧贴滚筒内壁而易起滚筒眼。
(4) 工件在滚筒内的翻转状况。一方面取决于工 件的装载量,装载量过大,翻转效果差,易起滚筒眼; 另一方面取决于滚筒的结构,如六方形滚筒的平面部பைடு நூலகம்分易紧贴工件而使工件起滚筒眼,圆筒形滚筒则不易 使平面件紧贴(但其翻动效果不及六方形滚筒)。