第二章电子显微分析3

扫描电子显微分析

第11-12讲 教学目的：使学生了解扫描电子显微镜结构、工作成像原理及应用 教学要求：了解扫描电子显微镜的发展、原理与应用；了解扫描电镜相关术语；掌握扫描电镜制样技术 教学重点：1. 扫描电镜的工作原理； 2. 扫描电镜的二次电子像和背散射电子像 教学难点：两种种像差的形成原理； 教学拓展：扫描电镜的未来发展趋势 第3节扫描电子显微分析 扫描电子显微镜又称扫描电镜或SEM（scaning electron microscope），它是利用细聚 焦电子束在样品表面做光栅状逐点扫描，与样品相互作用后产生各种物理信号，这些信号经检测器接收、放大并转换成调制信号，最后在荧光屏上显示反映样品表面各种特征的图像。扫描电镜具有景深大、图像立体感强、放大倍数范围大、连续可调、分辨率高、样品室空间大且样品制备简单等特点，是进行样品表面研究的有效分析工具。扫描电镜所需的加速电压比透射电镜要低得多，一般约在 1～30kV，实验时可根据被分析样品的性质适当地选择。扫描电镜的图像放大倍数在一定范围内（几十倍到几十万倍）可以实现连续调整，放大倍数等于荧光屏上显示的图像横向长度与电子束在样品上横向扫描的实际长度之比。扫描电镜的电子光学系统与透射电镜有所不同，其作用仅仅是为了提供扫描电子束，作为使样品产生各种物理信号的激发源。扫描电镜最常使用的是二次电子信号和背散射电子信号，前者用于显示表面形貌衬度，后者用于显示原子序数衬度。 3.1扫描电子显微镜概述、基本结构、工作原理 一、扫描电子显微镜概述 第一阶段理论奠基阶段 1、1834年法拉第提出“电的原子”概念； 2、1858年普鲁克发现阴极射线； 3、1878年阿贝-瑞利给出显微镜分辨本领极限公式； 4、1897年汤姆逊提出电子概念； 5、1924年德布罗依提出波粒二象性； 第二阶段试验阶段 1、1935年克诺尔提出用电子束从样品表面得到图像的原理并设计简单实验装置; 2、1938年冯．阿登制备出了第一台透射扫描电子显微镜;

电子显微分析考试复习中南

电子显微分析考试复习中南

材料结构分析 一、名词解释： 1、球差：球差是由于电子透镜的中心区域和边 沿区域对电子的会聚能力不同而造成的。电子通过透镜时的折射近轴电子要厉害的多，以致两者不交在一点上，结果在象平面成了一个满散圆斑。 色差：是电子能量不同，从而波长不一造成的2、景深：保持象清晰的条件下，试样在物平面 上下沿镜轴可移动的距离或试样超越物平面元件的距离。 焦深：在保持像清晰的前提下，象平面沿镜轴可移动的距离或者说观察屏或照相底板沿镜轴所允许的移动距离 3、分辨率：所能分辨开来的物平面上两点间的最小距离，称为分辨距离 4、明场像：采用物镜光阑将衍射束挡掉，只让透射束通过获得图像衬度得到的图像。 5、暗场像：用物镜光阑挡住透射束及其余衍射束，而只让一束强衍射束通过光阑所的图像。中心暗场像：入射电子束相对衍射晶面倾斜角，此时衍射斑将移到透镜的中心位置，该衍 射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为中心暗场

成像。 衬度：试样不同部位由于对入射电子作用不同，经成像放大系统后，在显示装置上显示的 强度差异。 6、消光距离：衍射束的强度从0逐渐增加到最大，接着又变为0时在晶体中经过的距离。 7、菊池花样：由入射电子经非弹性不相干散射， 失去很少能量，随即入射到一定晶面时，满足布拉格定律，产生布拉格衍射，衍射圆锥与厄瓦尔德球相交，其交线放大后在底片投影出的由亮暗平行线对组成的花样。 8、衍射衬度：由于晶体试样满足布拉格反射条 件程度差异以及结构振幅不同而形成的电子图像反差，它仅属于晶体结构物质。 9、双光束条件：假设电子束穿过样品后，除了 透射束以外，只存在一束较强的衍射束精确地符合布拉格条件，其它的衍射束都大大偏离布拉格条件。作为结果，衍射花样中除了透射斑以外，只有一个衍射斑的强度较大，其它的衍射斑强度基本上可以忽略，这种情况就是所谓的双光束条件。

电子显微分析

电子显微分析 课程编号：40350033 课程名称：电子显微分析 英文名称：Electron Microscopy 学分：3 教材：1.自编讲义，2.陈梦谪主编金属物理研究方法（第二分册） 课程简介： 材料的宏观力学，物理和化学性质是由它的微观形态、晶体结构和微区化学成分所决定的。电子显微术就是由电子与物质的相互作用上所反映的信息来认识材料的形貌、结构与微区成分的。它可以研究原子尺度（特别是纳米尺度）的现象，而且可进行动态原位观察以及对微区进行综合分析，它是材料科学与工程中最常用的实验方法之一。本课程作为学习电子显微术的入门课，主要介绍透射电子显微术（电子衍射和透射电镜象的衬度原理）与扫描电子显微术，阐明各种现象的物理本质，基本理论及其应用与常用的实验方法，也介绍了电子显微术的新的发展方向。本课程适用于材料、物理、化学、化工、机械、微电子、土木、生物、医学等学科的本科生或研究生。 基本要求： 通过课堂教学和实验，使学生初步掌握电子衍射相分析、电于街村图象解释、扫描电子显微术及能谱分析技术，了解电子显微分析技术的最新进展，使学生能够正确地运用电子显微分析技术开展有关的科学研究。 教学内容： 绪论（1学时） 第一章电子光学（3学时） 1.l 分辨率 1.2 磁透镜的聚焦原理 1.3 电子光学作图成象法 1.4 电子透镜的象差 第二章透射式电子显微镜（4学时） 2.l 电子显微镜的发展 2.2 电子显微镜构造与原理 2.3 TEM成象原理 2.4 电子显微镜的合轴调整 2.5 TEM主要性能测试 2.6 TEM样品制备 第三章电子与物质的相互作用（2学时） 3.l 电子的弹性散射 3.2 电子的非弹性散射

电子显微作业

透射电子显微镜和扫描电子显微镜分析 摘要：透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,简称TEM),可以看到在光学显微镜下无法看清的小于0.2nm的细微结构，要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜，电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，目前TEM的分辨力可达0.2nm。扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope，简称SEM），是依据电子与物质的相互作用。利用电子和物质的相互作用，可以获取被测样品本身的各种物理、化学性质的信息，如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。 关键词：透射电子显微镜；扫描电子显微镜；实例分析。 第一章透射电子显微镜 透射电子显微镜是利用电子的波动性来观察固体材料内部的各种缺陷和直接观察原子结构的仪器，同时提供物理分析和化学分析所需要全部功能的仪器。特别是选区电子衍射技术的应用，使得微区形貌与微区晶体结构分析结合起来，再配以能谱或波谱进行微区成份分析，得到全面的信息。 实验中所用到的是Tecnai G2 F30—透射电子显微镜。它的主要性能指标为：（1）主机：点分辨率0.205nm，先分辨率0.102nm，信息分辨率0.14nm，加速 （2）附件：CCD数字成像系统，像素2048x2048，电压最高300KV最低小于等于50KV； 高角环形暗场探测器，STEM模式分辨率0.17nm，X射线能谱仪—能量分辨率136eV，分析元素范围B—U，电子能量损失谱仪—能量分辨率0.7eV，分析元素范围H—U。 §1.1透射电子显微镜的结构和成像原理 透射电子显微镜由照明系统、成像系统、真空系统、记录系统、电源系统五部分构成，如果细分的话，主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子枪、聚光镜、物样室、物镜、衍射镜、中间镜、投影镜、荧光屏和照相机

电子显微分析技术及应用

电子显微分析技术及应用 材料测试技术是材料科学与工程研究以及应用的重要手段和方法,目的就是要了解、获知材料的成分、组织结构、性能以及它们之间的关系,即材料的基本性质和基本规律。同时为发展新型材料提供新途径、新方法或新流程。在现代制造业中,测试技术具有非常重要的地位和作用。材料的组织形貌观察,主要是依靠显微镜技术,光学显微镜是在微米尺度上观察材料的组织及方法，电子显微分析技术则可以实现纳米级的观察。透射电子显微镜、扫描电子显微镜和电子探针仪等已成为从生物材料、高分子材料到金属材料的广阔范围内进行表面分析的不可缺少的工具。下面将主要介绍其原理及应用。 1.透射电子显微镜（TEM） a）透射电子显微镜 b)透射光学显微镜 图1：透射显微镜构造原理和光路 透射电子显微镜(TEM)是一种现代综合性大型分析仪器，在现代科学、技术的研究、开发工作中被广泛地使用。 所谓电子显微镜是以电子束为照明光源的显微镜。由于电子束在外部磁场或电场的作用下可以发生弯曲，形成类似于可见光通过玻璃时的折射现象，所以我们就可以利用这一物理效应制造出电子束的“透镜”，从而开发出电子显微镜。而作为透射电子显微镜(TEM)其特点在于我们是利用透过样品的电子束来成像，这一点有别于扫描电子显微镜。由于电子波的波长大大小于可见光的波长(100kV的电子波的波长为0．0037nm，而紫光的波长为400nm)，根据

光学理论，我们可以预期电子显微镜的分辨本领应大大优于光学显微镜。 图l是现代TEM构造原理和光路。可以看出TEM的镜筒(Column)主要有三部分所构成：(1)照明系统，即电子枪；(2)成像系统，主要包括聚光镜、物镜、中间镜和投影镜；(3)观察系统。 通过TEM中的荧光屏，我们可以直接几乎瞬时观察到样品的图像或衍射花样。我们可以一边观察，一边改变样品的位置及方向，从而找到我们感兴趣的区域和方向。在得到所需图像后，可以利用相机照相的方法把图像记录下来。现在新一代TEM也有的装备了数字记录系统，可以将图像直接记录到计算机中去，这样可以大大提高工作效率。 2.扫描电子显微镜（SEM） 下图为扫描电子显微镜的原理结构示意图。由三极电子枪发出的电子束经栅极静电聚焦后成为直径为50mm的电光源。在2-30KV的加速电压下，经过2-3个电磁透镜所组成的电子光学系统，电子束会聚成孔径角较小，束斑为5-10m m的电子束，并在试样表面聚焦。末级透镜上边装有扫描线圈，在它的作用下，电子束在试样表面扫描。高能电子束与样品物质相互作用产生二次电子，背反射电子，X射线等信号。这些信号分别被不同的接收器接收，经放大后用来调制荧光屏的亮度。由于经过扫描线圈上的电流与显象管相应偏转线圈上的电流同步，因此，试样表面任意点发射的信号与显象管荧光屏上相应的亮点一一对应。也就是说，电子束打到试样上一点时，在荧光屏上就有一亮点与之对应，其亮度与激发后的电子能量成正比。换言之，扫描电镜是采用逐点成像的图像分解法进行的。光点成像的顺序是从左上方开始到右下方，直到最後一行右下方的像元扫描完毕就算完成一帧图像。这种扫描方式叫做光栅扫描。 图2：扫描电子显微镜的原理和结构示意图

电子显微分析技术及其应用

电子显微分析技术及其应用 恶魔 （恶魔大学恶魔学院，湖北武汉） [内容提要]：本文阐述的电子显微技术及其在纳米材料中的应用。同时本文介绍了透射电镜（TEM）、扫描电镜(SEM)、扫描隧道显微镜(STM)等技术，并论述的电子显微技术在实际中的应用。 [关键词]：电子显微技术；TEM；SEM；STM 材料测试技术是材料科学与工程研究以及应用的重要手段和方法，目的就是要了解、获知材料的成分、组织结构、性能以及它们之间的关系，材料的基本性质和基本规律。同时为发展新型材料提供新途径、新方法或新流程。在现代制造业中,测试技术具有非常重要的地位和作用。特别是基于电磁辐射及运动粒子束与物质相互作用的各种性质建立的各种分析方法已成为材料现代测试分析方法的重要组成部分，以光谱分析、电子能谱分析、衍射分析与电子显微分析等4大类方法，以及基于其他物理性质或电化学性质与材料的特征关系建立的色谱分析、质谱分析、电化学分析及热分析等方法也是材料现代分析的重要方法。 材料及产品性能和质量的检测是检验和评价制造装备以及产品能否合格有效的重要关口。 在材料纳米材料分析当中，最长用到的电子显微分析技术包括了透射电镜（TEM）、扫描电镜(SEM)、扫描隧道显微镜(STM)等技术，通过这些技术来对物质的显微形貌、成分和结构进行分析。 一透射电镜技术 透射电子显微镜，是以波长极短的电子束作为照明源，用电磁透射聚焦成像的一种高分辨本领、高放大倍数的电子光学仪器。它由电子光学系统(镜筒)、电源和控制系统(包括电子枪高压电源、透镜电源、控制线路电源等)、真空系统3部分组成。分辨本领和放大倍数是透射电子显微镜的两项主要性能指标，它体现了仪器显示样品显微组织和结构细节的能力。 透射电镜一般分为分析型透射电镜和高分辨透射电镜。TEM的分辨率较高，可用于研究纳米材料的结晶情况，观察纳米粒子的形貌、分散情况及测量和评估纳米粒子的粒径，是研究材料微观结构的重要仪器。 利用透射电镜的电子衍射能够较准确地分析纳米材料的晶体结构，配合XRD, SAXS，特别是EX-AFS等技能更有效地表征纳米材料。可结合电子显微镜和能谱两种方法共同对某一微区的情况进行分析。此外，微区分析还能够用于研究材料夹杂物、析出相、晶界偏析等微观现象。利用透射电镜法测试纳米材料的粒度大小及其分布，是最直观的测试方法之一，可靠性较高，但该法的准确性很大程度上取决于取样的代表性和扫描区域的选择。利用TEM进行微观结构分析时，配以能谱可以研究元素在试样内部的存在状态或分布情况。近年来，高分辨率透射电镜(HRTEM)的应用越来越广泛，利用HRTEM可获取有关晶体结构的更可靠的信息。 二扫描电镜技术 扫描电子显微镜, 成像原理与透射电镜不同,不用透镜法放大成像, 而是以类似电视摄像显像的方式, 用细聚焦电子束在样品表面扫描是激发产生的某些物理信号来调制成像。扫描电子显微镜由于其具有制样简单、使用方便、可直接观察大样品(如100mm@100mm)、并具有景深大、分辨率较高、放大倍数范围宽、可连续调节、可进行化学成分和晶体取向测定等一系列优点, 在失效分析中得到了广泛的应用。 SEM在纳米材料的分析中应用很广，它可用于纳米材料的粒度分析、形貌分析以及微观结构的分析等。SEM一般只能提供微米或亚微米的形貌信息，与TEM相比，其分辨率较低，因而表征结果不如透射电镜准

第一章 电子显微技术一(最新设备介绍)

日本电子JSM-6380LV 扫描电子显微镜 主要特点 1.既保证高电压下的高分辨率，也可提供低电压下高 质量的图像。 2.全自动电子枪 3.高灵敏度半导体背散射探头 4.超级圆锥形物镜，高精度的变焦聚光镜系统 5.大样品室，全对中的样品台，大视野观察范围可观 测到2厘米见方的样品 仪器介绍 JSM-6380LV钨灯丝扫描电镜，是日本电子株式会社在2004年推出的新型号数字化扫描电镜。是在JSM-6360LV\JSM-5610LV的基础上，将电子光学系统进行技术革新，并保留了JSM-5610LV良好的操作界面和出色稳定的控制系统，堪称世界上最先进的扫描电子显微镜。主要特点为全数字化控制系统，高分辨率、高精度的变焦聚光镜系统、全对中样品台及高灵敏度半导体背散射探头；用于各种材料的形貌组织观察、金属材料断口分析和失效分析。 技术参数 1.分辨率：高真空模式：3.0nm 低真空模式：4.0nm 2.低真空度1 to 270Pa，高、低真空切换 3.样品台X:80mm Y:40mm T:-10 to +90°R:360° 4.加速电压0.5kV to 30Kv束流1pA—1uA 5.真空系统马达驱动台能谱分析接口稳压电源循环水箱

日本电子JEM-2100F 场发射透射电子显微镜 主要特点 1.高亮度场发射电子枪。 2.束斑尺寸小于0.5nm。 3.新式侧插测角台，更容易倾转、旋转、加热和冷冻，无机 械飘移。 4.稳定性好、操作简便。 5.微处理器和PC两套系统控制，防止死机。 仪器介绍 JEM-2100F应用广泛，从材料科学、生命科学、医疗、制药、半导体到纳米技术。利用200kV场发射 透射电镜JEM-2100F，不仅可实现超高分辨率图像的观察，同时，还可以得到纳米尺度的结构、成分 等信息。高亮度的场发射电子枪，轻松实现各种分析功能。JEM-2100F最新设计的侧插式侧角台，在 倾斜、旋转、加热、制冷时都不会造成机械飘移。SJEM-2100F可与TEM,MDS,EDS,EELS,and CCD-camer 实现一体化控制。 技术参数 1.点分辨率：0.19nm 2.线分辨率：0.14nm 3.加速电压：80, 100, 120, 160, 200kV 4.倾斜角：25 5.STEM分辨率：0.20nm

材料现代分析与测试第二章电子显微分析

第二章 电子显微分析 一、教学目的 理解掌握电子光学基础、电子与固体物质的相互作用、衬度理论等电子显微分析的基本理论，掌握透射电镜分析、扫描电镜分析、电子探针分析的应用和特点，掌握用各种衬度理论解释电子显微像，掌握电子显微分析样品的制备方法，了解透射电镜、扫描电镜、电子探针的结构。 二、重点、难点 重点：电子与物质的相互作用、衬度理论、电子探针X 射线显微分析。 难点：电子与物质的相互作用、衬度理论。 概述： 一、光学显微镜的局限性： 1.分辨能力（分辨率）： 分辨能力（分辨率、分辨本领）： 一个光学系统能分开两个物点的能力，数值上是刚能清楚地分开两个物点间的最小距离。 nsina 61.0r λ==A N .61.0λ(nm) r —分辨率（r 小，分辨能力越高） λ—照明光的波长 n —透镜所处环境介质的折射率 а—透镜孔径半角（°） nsina —数值孔径 用N.A 表示 电子在电、磁场中易改变运动方向，且电子波的波长比可见光短得多，所以电子显微镜在高放大倍数时所能达到的分辨率比光学显微镜高得多。 二、电子显微分析： 是利用聚焦电子束与试样物质相互作用产生的各种物理信号、分析试样物质的微区形貌、晶体结构和化学组成。 透射电子显微镜（TEM ） 扫描电子显微镜（SEM ） 电子探针（EPMA ） 特点： 1.分辨率高：0.2~0.3nm 2.放大倍数高：20~30万倍

3.是一种微区分析方法：能进行nm 尺度的晶体结构、化学组成分析 4.多功能、综合性分析方向发展：形貌、结构、成份 第一节 电子光学基础 电子光学是研究带电粒子（电子、离子）在电场和磁场中运动，特别是在电场和磁场中偏转、聚焦和成像规律的一门科学。 本课程所涉及的电子光学仅局限于电子显微镜这类仪器中电子的运动规律。 电子光学与几何光学的相似： 1. 聚焦成像：几何光学——光学透镜 电子光学——电场、磁场 2. 电子光学：仿照几何光学把电子运动轨迹看作射线，可用几何光学参数 来表征。 3. 几何光学中用旋转对称面（如球面）作为折射面。 电镜成像系统中用旋 转对称的电场、磁场的等位面作折射面。 一、电子的波性及波长 1. 电子波性——De Broglie 波 1924年，德布罗意提出了运动着的微观粒子（如中子、电子、离子等）也具有波粒二象性假说——运动着的微观粒子也伴随着一个波——物质波或德布罗意波 E=hv P=h/λ 则 λ=h/p=h/mv 2. 电子波长： V 0=0 m/s v ：0~v E=ev=1/2mv 2 当V ﹤﹤C 时 m=m 0 λ= = emV h 2v V 25 .12150= （A ） V↑ λ↓ 当V=100 KV λ=0.0037nm 二、电子在电磁场中的运动和电磁透镜 1. 电子在静电场中的运动： v= m ev 2 ① 电场力的加速作用 ② 折射作用

电子显微分析

读书报告1 电子显微分析在稀土发光纳米材料中的应用 1.前言 稀土发光纳米材料稀土发光纳米材料是指颗粒尺寸在1-100nm的稀土离子掺杂发光材料。纳米颗粒具有尺寸小、比表面积大、表面能高、表面原子所占比例大等特点，因而表现出小尺寸效应、表面/界面效应、量子尺寸效应、量子限域效应等。受这些特性的影响，稀土发光纳米材料表现出许多不同于体相材料的物理和化学特性，从而影响了稀土掺杂离子的发光特性和发光动力学性质，如电荷迁移带、发射光谱、发光效率和强度、荧光寿命、能量传递速率、浓度猝灭和温度猝灭、光诱导发光等。 十余年来，稀土发光纳米材料在多个领域展示出诱人的应用前景，例如纳米级稀土荧光粉能够显著改善涂屏的均匀度，有助于提高清晰度和分辨率。三基色荧光粉若以纳米级稀土发光材料代替普通微米级荧光粉，可以降低光散射，大大提高LED出光效率，并能有效改善光色质量。另外，稀土发光纳米材料还广泛应用于细胞染色、太阳能电池等领域。 目前，有关稀土发光纳米晶的发光特性研究依然是科研的热点，新的合成方法与优越的性能不断地被开发出来。许多科学工作者在提高稀土发光纳米材料的发光效率、亮度、稳定性方面已做了深入的研究。而近年来对于稀土掺杂纳米晶的形貌、粒径、分散性、表面质量的调控及机理研究掀起了一个新的高潮，这主要有赖于电子显微分析技术与水热合成法的发展成熟化。本读书报告遴选了3篇较为典型的有关电子显微分析技术在稀土发光纳米材料表征中的重要应用作个简要的介绍，同时指出了自己的一些启示与看法。 2.文献阅读与启示 2.1. 文献1——TEM及HRTEM在材料微观形貌及晶格条纹分析中的应用 文献标题：“Synthesis and Characterization of Lanthanide Hydroxide Single-Crystal Nanowires” 来源：Angew. Chem. Int. Ed., 2002, 41, 4790-4793 通讯作者：李亚栋院士，清华大学无机化学研究所所长

现代分析测试技术_03透射电子显微分析综合练习

第三章透射电子显微分析 （红色的为选做，有下划线的为重点名词或术语或概念） 1．名词、术语、概念：电子的散射角（2θ），电子的弹性散射与非弹性散射，电子的相干散射与非相干散射，电子吸收，吸收电子，二次电子，背散射电子，透射电子，电子透镜，电磁透镜，像差，球差，像散，色差，景深，焦深（或焦长），成像操作，衍射操作，明场像，暗场像，中心暗场像，质量厚度衬度（简称“质厚衬度”），衍射衬度（简称“衍衬”），复型，一级复型，二级复型，萃取复型等。 2．入射电子照射固体时，与固体中粒子的相互作用包括三个过程，即( )、( )、( )。3．对于电子的粒子性而言，固体物质对电子的散射有( )散射和( )散射两种。只改变方向而能量不变的散射叫（），在改变方向的同时能量也发生变化的散射叫（）散射。 4．对于电子的波动性而言，固体物质对电子的散射有( )散射和( )散射两种。 5．入射电子轰击固体时，电子激发诱导的X射线辐射主要包括( )、( )和( )。6．电子与固体物质相互作用，产生的信息主要有（）、（）、（）、（）等，据此建立的分析方法（或仪器）主要有（）、（）、（）、（）等。 7．透射电子显微镜（简称“透射电镜”，英文缩写“TEM”）主要由（）系统、（）系统、（）系统、（）系统和（）系统组成。 8．TEM的成像系统是由（）镜、（）镜和（）镜组成。 9．TEM成像系统的两个基本操作是（）操作和（）操作。 10．TEM的成像操作方式主要有四种，即（）操作、（）操作、（）操作和（）操作。 11．按复型的制备方法，复型主要分为（）复型、（）复型和（）复型。12．物质的原子序数越高，对电子产生弹性散射的比例就越大。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 13．电子束照射到固体上时，电子束的入射角越大，二次电子的产额越小。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 14．入射电子能量增加，二次电子的产额开始增加，达极大值后反而减少。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 15．电子吸收与光子吸收一样，被样品吸收后消失，转变成其它能量。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 16．电子与固体作用产生的信息深度次序是：俄歇电子≤二次电子< 背散射电子< 吸收电子< 特征X射线。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 17．透射电镜分辨率的高低主要取决于物镜。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 18．通过调整中间镜的透镜电流，使中间镜的物平面与物镜的背焦面重合，可在荧光屏上得到衍射花样；若使中间镜的物平面与物镜的像平面重合则得到显微像。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 19．电子衍射和X射线衍射一样必须严格符合布拉格方程。这种说法（）。 A．正确；B．不正确 20．电子衍射与X射线衍射相比，其精度和准确度更高。这种说法（）。 A．正确；B．不正确

电子显微分析技能训练

Harbin Institute of Technology 电子显微镜分析技能训练结课论文 院系：材料学院 专业：锻压 学生：刘德同 学号：13S009126 哈尔滨工业大学

1.扫描电子显微镜 1.1 概述 扫描电镜(Scanning Electron Microscope，简写为SEM)一种新型的电子光学仪器，是一个复杂的系统，浓缩了电子光学技术、真空技术、精细机械结构以及现代计算机控制技术，是一种利用电子束扫描样品表面从而获得样品信息的电子显微镜。由于制样简单、放大倍数可调范围宽、图像的分辨率高、景深大以及SEM与能谱（EDS）组合，可以进行成分分析等特点，扫描电镜已广泛地应用在生物学、医学、冶金学等学科的领域中，促进了各有关学科的发展[1]。 图1 KYKY-1000B扫描电子显微镜外貌图图2 Sirion 200扫描电镜外观照片 1.2 扫描电镜的发展 1923年，法国科学家Louis de Broglie发现，微观粒子本身除具有粒子特性以外还具有波动性。他指出不仅光具有波粒二象性，一切电磁波和微观运动物质(电子、质子等)也都具有波粒二象性。电磁波在空间的传播是一个电场与磁场交替转换向前传递的过程。电子在高速运动时，其波长远比光波要短得多。 1926年，德国物理学家H·Busch提出了关于电子在磁场中的运动理论。他指出：具有轴对称性的磁场对电子束来说起着透镜的作用。从理论上设想了可利用磁场作为电子透镜，达到使电子束会聚或发散的目的。 1932年，德国柏林工科大学高压实验室的M.Knoll和E.Ruska研制成功了第1台实验室电子显微镜，这是后来透射式电子显微镜（transmission electron microscope，TEM）的雏形。其加速电压为70kV，放大率仅12倍。尽管这样的放大率还微不足道，但它有力地证明了使用电子束和电磁透镜可形成与光学影像相似的电子影像。这为以后电子显微镜的制造研究和提高奠定了基础。

第一章 电子光学系统

第一章 电子光学系统-磁透镜结构与特性 一、光学显微镜的基本问题－分辨率与衍射极限 光学成像系统 光学显微镜由光学镜头组成，可以方便地将物体放大上千倍，以分析物体细节信息，其焦距公式为： v u f 111+= （1－1） 但是，受光学衍射极限地限制，光学显微镜的放大倍数不是无限的。德国科学家Abbe 证明，显微镜分辨率的极限取决于光源波长的大小，超过这个极限，再继续放大是徒劳的，实际上只是将噪音信号放大，得到的是模糊不清的象。 光学显微镜的分辨率与衍射极限 图1－ 1 P P ’O O ’

当点光源通过透镜后，由于衍射效应，在物平面上得到的不是像点，而是由一个中央亮斑及其周围一系列明暗相间地圆环所构成的图斑，即所谓的Airy 斑。如果将两个点光源靠近，相应的两个Airy 斑也逐步重叠，当两个Airy 斑中心的距离等于Airy 半径（第一暗环半径）时，刚好能分辩出两个光斑，此时地光点距离d 称为分辨率： 图1－2 衍射效应产生的Airy 斑。通过Airy 斑可定义透镜的分辨率。 α λ sin 222.1n d ≥ （1－2） 由上式可知，分辨率的上限约为波长的一半。对可见光，光学显 微镜的分辩极限为200纳米。此外，减少波长是提高分辨率的一条途径。虽然X 射线、γ射线波长短，但很难将它们汇聚成角。电子束由于其波长短，散射能量强，尤其可以方便地利用电磁透镜将其聚焦，使得利用电子显微镜分析物体结构、提高分辨率成为可能。

一、 透射电镜的结构与成像原理 1、 透射电子显微镜的成像原理与结构 Abbe 成像原理 电子显微镜成为重要的现代分析手段，其电子光学成像原理可以用物理光学的Abbe 成像原理进行说明。 图1－3电子显微镜成像的物理光学原理 1873年，Ernst Abbe 在研究如何提高显微镜的分辨率时，提出两一个相干成像的新理论。将一束单色平行光照射倒平面物体ABC 上，使整个系统成为相干成像系统。光波经物体发生Fraunhofer 衍射，在透镜后焦面上形成物的衍射花样。透镜后焦面上所有点作为新的次波源发出相干的球面次波，在像平面上相干叠加，给出物体的像。这种基于波动光学原理的二步成像理论，后来被称为Abbe 成像理论。可以证明，透镜后焦面上的波函数（衍射花样）是物函数的傅氏变换，而像平面上的像函数则是后焦面上波函数的傅氏逆变换。对于理想透镜（指无衍射效应，无限大透镜，无象差、畸变下） ，像函数是物函 {} )()(r q F h Q ={}) ()()(1 r q h Q F r ==?ψ) (r q

电子显微分析技术及应用(工大学生论文)

课程论文 课程：材料分析测试方法 题目：材料电子显微分析技术及应用 姓名：王昀立 学号：1101900422 所属单位：1019101班 指导老师：孟庆昌

材料电子显微分析技术及应用 摘要：电子显微分析技术的应用主要分为以下三方面：透射电子显微镜（TEM）；扫描电子显微镜（SEM）；电子探针显微分析（EPMA）。 关键词：透射电子显微镜；扫描电子显微镜；电子探针显微分析。 本文主干结构： 电子衍射分析技术 ①透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope） 晶体薄膜衍衬分析技术 二次电子成像 ②扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope） 背散射电子成像等 ③电子探针显微分析（Electron probe Micro-Analysis）——定性分析及定量分析 1透射电子显微镜（TEM） 1.1透射电子显微镜简介 透射电子显微镜（TEM）是一种能够以原子尺度的分辨能力，同时提供物理分析和化学分析所需全部功能的仪器。特别是选区电子衍射技术的应用，使得微区形貌与微区晶体结构分析结合起来，再配以能谱或波谱进行微区成份分析。 透射电子显微镜与光学显微镜结构对比： a）透射电子显微镜b)透射光学显微镜

1.2电子衍射分析技术 1.2.1电子衍射分析技术简介 许多材料的晶粒只有几十微米大小，甚至几百纳米，不能用X 射线进行单个晶体的衍射，但却可以用电子显微镜在放大几万倍的情况下，有目的的选择这些晶体，用选区电子衍射和微束电子衍射来确定其物相或研究其晶体结构。1.2.2电子衍射几何 电子衍射几何仍服从Bragg 定律： 2d sinθ=λd —晶面间距； λ—电子波长； θ—Bragg 角。 1.2.3电子衍射的光学特点 第一，衍射束强度有时几乎与透射束相当，因此就有必要考虑它们之间的相互作用，使电子衍射花样分析，特别是强度分析变得复杂，不能象X 射线那样从测量强度来广泛地测定晶体结构； 第二，由于散射强度高，导致电子穿透能力有限，因而比较适用于研究微晶、表面和薄膜晶体。 1.2.4电子衍射花样 ①根据衍射花样确定样品是晶体还是非晶。 ②根据衍射斑点确定相应晶面的晶面间距。 ③衍射斑点指标化。??? r O G ’ L d

第一章3 电子显微镜技术

第三节电子显微镜技术 Electron microscopy

3.1电镜发展历史 1924 年，法国物理学家Broglie 提出了“电子与 光一样，具有波动性“的假说。 1926年德国科学家Busch 1926 年，德国科学家Busch 发现了带电粒子在电 场或磁场中偏转聚焦的现象，类似于光线通过透镜可被聚焦样。由此奠定了电子显微镜的理论基础。可被聚焦一样由此奠定了电子显微镜的理论基础 德国人Ruska 在1938 年成功研制了世界上第一 台真正的电子显微镜，放大倍数为1200 倍。 1939Siemens公司生产了第一台商用的 1939 年，德国Siemens 公司生产了第台商用的透射电镜，分辨率为10nm 。 前高射镜辨率 目前，超高压透射电镜的分辨率可达0.005nm 。

3.2 电镜的电子光学基础 32 电子波的波长 式中： h为普朗克常数，m为电子的质 为普朗克常数 量；e为电子所带的电荷，V为 加速电压 电子透镜 ?静电浸没电镜(electrostatic immersion lens):静电透镜仅用于使电子枪中的阴极发射出的电子会聚成很细的电子束，而不用来成像。

?磁透镜：由一对圆柱形的线圈外面包有铁壳组成的。通电流的圆柱形线圈产生旋转对称的磁场空的通电流的圆柱形线圈产生旋转对称的磁场空 间并对电子束有会聚成像的性质。 通电的短线圈使电子做如图4所示的圆锥螺旋近轴运动。一束平行于主轴的入射电子通过电磁透镜将最终会聚于轴线上一点（即焦点）。

带有极靴的磁透镜 (a)结构图(b)磁力线在极靴中行进路线 带有极靴的电磁透镜可使有效磁场集中在沿透镜轴 向几毫米的范围内 向毫的范内