第二章电子显微分析3

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材料现代研究方法习题加答案-考试实用

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第二部分电子显微分析一、电子光学1、电子波特征,与可见光有何异同?2、电磁透镜的像差(球差;色差;像散;如何产生,如何消除和减少)球差即球面像差,是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的,其中离开透镜主轴较远的电子比主轴附近的电子折射程度过大。

用小孔径成像时可使球差明显减小。

像散是由于电磁透镜的轴向磁场非旋转对称引起。

透镜磁场不对称,可能是由于极靴被污染,或极靴的机械不对称性,或极靴材料各项磁导率差异引起。

象散可由附加磁场的电磁消象散器来校正。

色差是由入射电子的波长或能量的非单一性造成的。

稳定加速电压和透镜电流可减小色差。

3、电磁透镜的分辨率、景深和焦长(与可见光),影响因素电磁透镜的分辨率主要由衍射效应和像差来决定。

(1)已知衍射效应对分辨率的影响(2)像差对分辨的影响。

像差决定的分辨率主要是由球差决定的。

景深:当像平面固定时(像距不变),能维持物像清晰的范围内,允许物平面(样品)沿透镜主轴移动的最大距离。

焦长:固定样品的条件下(物距不变),象平面沿透镜主轴移动时仍能保持物像清晰的距离范围,用D L表示。

二、透射电子显微镜1、透射及扫描电镜成像系统组成及成像过程(关系)扫描电镜成像原理:在扫描电镜中,电子枪发射出来的电子束,一般经过三个电磁透镜聚焦后,形成直径为0.02~20μm的电子束。

末级透镜(也称物镜,但它不起放大作用,仍是一个会聚透镜)上部的扫描线圈能使电子束在试样表面上作光栅状扫描。

通常所用的扫描电镜图象有二次电子象和背散射电子象。

2、光阑(位置、作用)光栏控制透镜成像的分辨率、焦深和景深以及图像的衬度、电子能量损失谱的采集角度、电子衍射图的角分辨率等等。

防止照明系统中其它的辐照以保护样品等3、电子衍射与x衍射有何异同电子衍射与X射线衍射相比的优点:1.电子衍射能在同一试样上将形貌观察与结构分析结合起来。

2.电子波长短,单晶的电子衍射花样婉如晶体的倒易点阵的一个二维截面在底片上放大投影,从底片上的电子衍射花样可以直观地辨认出一些晶体的结构和有关取向关系,使晶体结构的研究比X射线简单。

03-电子显微分析-基础知识与TEM(3-TEM)

03-电子显微分析-基础知识与TEM(3-TEM)

二、透射电子显微像的质厚衬度及透射电镜样品
使用透射电镜观察分析材料的形貌、组织、结构,需具备以 下两个前提: 一是制备适合TEM观察的试样,厚度100-200nm,甚至更薄;
TEM试样大致有三种类型: 粉末颗粒 材料薄膜 复型膜
二是建立电子图像的衬度理论
24
二、像衬度及复型像
(一)电子像衬度(像衬度)——质厚衬度
一般都采用双聚光镜系统。
②成象放大系统
主要组成:
➢ 物镜

➢ 中间镜(1-2个)


➢ 投影镜(1-2个)
大 系

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物镜
①形成显微像
将来自试样同一点的不同方向的弹性散射束会聚于其像
作用:平面上,构成与试样组织结构相对应的显微像。 ②形成衍射花样
将来自试样不同点的同方向、同相位的弹性散射束会聚 于其后焦面上,构成含有试样晶体结构信息的衍射花样
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(2)放大倍数
透射电镜的放大倍数是指电子图象对于所观察试样区的 线性放大率。
最高放大倍数表示电镜的放大极限。实际工作中,一般 都是在低于最高放大倍数下观察,以得到清晰的图像。
(3)加速电压
电镜的加速电压指电子枪的阳极相对于阴极的电压 决定电子枪发射的电子束的波长和能量 200kV电镜是一种比较理想的电镜(0.00251nm )
三、电子衍射
四、透射电子 显微像
电子衍射和X-ray衍射异同点 电子衍射基本公式 电子衍射花样 阿贝显微镜成像原理 透射电子显微镜中选区电子衍射 电子衍射花样的标定
像衬度:质厚衬度、衍射衬度、相位衬度 选择衍射成像原理 双光束条件 电子衍射分析的特点
一、透射电子显微镜
结构组成与工作原理 ➢ 光学成像系统 ➢ 真空系统 ➢ 电气系统

第2章 电子显微分析

第2章 电子显微分析
如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合,则在荧光屏 上得到一幅放大像这就是电子显微镜中的成像操作;如果把 中镜的物平面和物镜的背焦面重合,则在荧光屏上到一幅电 子衍射花样,这就是透射电子显微镜中电子衍射操作。
透射电子显微镜的构造
透射电子显微镜的构造
观察照相室
电子图象反映在荧光屏上。荧光发光和电子束流成正比。 把荧光屏换成电子干板,即可照相。干板的感光能力与其波 长有关。
透射电子显微镜的构造
透射电子显微镜的主要性能指标
分辨率 分辨率是透射电镜的最主要的性能指标,它表征了电镜显 示亚显微组织、结构细节的能力。透射电镜的分辨率以两种 指标表示:一种是点分辨率,它表示电镜所能分辨的二个点 之间的最小距离,另一种是线分辨率,它表示电镜所能分辨 的二条线之间的最小距离。目前超高分辨率透射电镜的点分 辨率为0.23~0.25nm,线分辨率为0.104~0.14nm。
各自物理信号产生的浓度和广度范围
各自物理信号产生的浓度和广度范围
俄歇电子便在表面1 nm层内产生,适用于表面分析。
二次电子在表面10nrn层内产生,在这么浅的深度内电 子还没有经过多少次散射,基本上还是按人射方向前进,因 此二次电子发射的广度与入射电子束的直径相差无几。在扫 描电镜成象的各种信号中,二次电子象具有最高的分辨率。
电磁透镜
一束平行于磁透镜主轴 的入射电子束在磁场作用下 已螺旋方式不断靠近轴而向 前运动,当其离开磁场范围 时,电子旋转速度减为零, 而作直线运动而与轴相交, 该交点为透镜的焦点。因此 有对称轴的磁场对运动的电 子有会聚作用,可以成象, 这与几何光学中的情况类似。
电磁透镜的特点
1. L1,L2,M 间关系
电磁透镜的景深大: Df=200-2000nm, 对加速

电子显微分析3-电子衍射

电子显微分析3-电子衍射
电子显微分析3-电子 衍射
目 录
• 电子衍射原理 • 电子衍射的应用 • 电子衍射实验技术 • 电子衍射在材料科学中的应用 • 电子衍射在纳米科技中的应用 • 电子衍射在考古学和文物鉴定中的应用
01
电子衍射原理
电子衍射与X射线衍射的异同
01
02
03
相同点
电子衍射和X射线衍射都 是通过测量衍射方向来分 析物质结构的方法。
05
电子衍射在纳米科技中 的应用
纳米颗粒的形貌和结构分析
形貌分析
电子衍射可以用于研究纳米颗粒的表 面形貌,通过分析衍射花样可以推断 出颗粒的形状、大小以及表面粗糙度 等信息。
结构分析
电子衍射可以揭示纳米颗粒的内部结 构,包括晶格常数、晶体取向、晶体 缺陷等,有助于理解材料的物理和化 学性质。
纳米薄膜的晶体结构和相组成
晶体结构分析
电子衍射可以用于研究纳米薄膜的晶体结构,包括晶格常数、晶面间距等,有助于了解材料的力学、电学和热学 等性能。
相组成分析
通过电子衍射可以确定纳米薄膜中存在的不同相的成分和分布,有助于优化材料性能和开发新材料。
纳米材料的应力分析
应变分析
电子衍射可以用于研究纳米材料在受力作用下的应变分布,有助于了解材料的力学行为 和稳定性。
花样性
通过电子衍射可以观察到晶体的 对称性,从而确定晶体的空间群。
测定晶格常数
电子衍射可以精确测定晶体的晶格 常数,了解晶体结构的基本单元。
观察晶体缺陷
电子衍射可以观察晶体中的缺陷和 错位,研究晶体缺陷对材料性能的 影响。
非晶体和准晶体的分析
确定非晶态结构
无机非金属材料
晶体结构和晶体缺

电子衍射可以用于研究无机非金 属材料的晶体结构和晶体缺陷, 有助于了解材料的物理和化学性 质。

篇电子显微分析PPT课件

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带有带有极靴的磁透镜
极靴——进一
步缩小磁场轴 向宽度,在环 状间隙两边, 接出一对顶端 成园锥状的极 靴,可使有效 磁场集中到沿 透镜轴几mm范 围。
习题
• 电子波有何特征?与可见光有何异同? • 分析电磁透镜对电子波的聚焦原理,说明电磁透镜
的结构对聚焦能力的影响。 • 电磁透镜的像差是怎样产生的?如何消除和减少像差? • 说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素
安培电流),钨丝表面电子获得大于逸出功的 能量,开始发射
(1)电子枪
• 阳极: • 加速从阴极发射出来的电子,以获得所
须的足够大的动能 • 阳极板放在阴极的下方,阳极板的中心
小孔对准钨丝的尖端 • 一般是阳极接地,阴极带有负高压
(1)电子枪
• 阳极板存在的问题: • 如过分缩小阳极小孔,穿过小孔的电子
光学显微镜的局限性
• 可见光的波长在 • 对玻璃透镜来说,取最
3900~7600埃,则 大孔径半角α=70~750,
其极限分辩率为
在物方介质为油的情况
2000埃
下,,那么其数值孔径
• 半波长是光学玻璃 nsinα=1.25~1.35
透镜分辨本领的理
论极限
∆r。=(1/2)
2.1.2 电子性质
• 高速运动的电子所具有的动能: eU 1 mv 2 2

高分辨电镜(HRTEM)

透射扫描电镜(STEM)

分析型电镜(AEM)等等。
• 入射电子束(照明束)也有两种主要形式:

平行束:透射电镜成像及衍射

会聚束:扫描透射电镜成像、微分析及微衍射
TEM的主要发展方向:
(1) 高电压:增加电子穿透试样的 能力,可观察较厚、较具代表 性的试样,现场观察辐射损伤; 减少波长散布像差; 增加分辨 率等,目前已有数部2-3MeV的 TEM在使用中。左图为200keV TEM之外形图。

厦门大学材料学院 考研复试 材料测试方法 08 TEM&SEM

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3)供电控制系统
加速电压和透镜磁电流不稳定将会产生严重的色差 及降低电镜的分辨本领,所以加速电压和透镜电流 的稳定度是衡量电镜性能好坏的一个重要标准 透射电镜的电路主要由高压直流电源、透镜励磁电 源、偏转器线圈电源、电子枪灯丝加热电源,以及 真空系统控制电路、真空泵电源、照相驱动装置及 自动曝光电路等部分组成。 另外,许多高性能的电镜上还装备有扫描附件、能 谱议、电子能量损失谱等仪器
第二章 电Leabharlann 显微分析Electron Micro-Analysis
第三节

透射电镜(TEM)
透射电子显微镜是以波长很短的电子束 做照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种具有 高分辨本领,高放大倍数的电子光学仪器。 测试的样品要求厚度极薄(几十纳米),以 便使电子束透过样品。
发展历史
※在电子光学微观分析仪器中,透射电镜历史久, 发展快,应用范围也最广泛 ※1932-1933,Ruska等制备第一台透射电子显微镜 后,透射电镜就已初步定型生产,并已达到分辨 率优于2nm的水平 ※到40年代末, 透射电镜的主体己基本定型。 ※由电子枪和两个聚光镜组成照明系统,产生一束 聚焦很细、亮度高、发散度小的电子束;由物镜、 中间镜和投影镜三个透镜组成三级放大的成像系 统; 给出分辨率优于lnm放大几十万倍的电子像。 透射电镜的发展带动了电子光学仪器和技术的发 展,在此基础上发展越来越多的高精尖仪器
R=L· tg2θ≈L· sin2θ≈2L· sinθ 可得 R/L=2sinθ=λ/d 电子衍射的基本公式:


R/L=λ/d
式中:R——衍射斑点距中心的距离 λ——电子波长,它与加速电压有关 L——镜筒长度,为定值


设:K=L· λ为相机常数,则

透射电子显微分析题库

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第二章 电子显微分析第三节 透射电子显微分析1.试述透射电镜的结构。

通常透射电子显微镜主要由光学成像系统、真空系统和电气控制系统三部分组成。

(1)光学成像系统:1 照明部分:电子枪、聚光镜。

2成像放大系统:物镜、中间镜、投影镜。

3图像观察记录部分。

4样品台。

(2)真空系统;(3)电气系统:灯丝电源和高压电源、磁透镜稳压稳流电源、电气控制电路。

2.透射电镜中粉末样品和薄膜样品的制备方法及要求?答:(1)粉末样品:用超声波分散器将需要的粉末在溶液(不与粉末发生作用的)中分散呈悬浮液。

用滴管滴几滴在覆盖有碳加强火棉胶支持膜的电镜铜网上。

待其干燥(或用滤纸吸干)后,在蒸上一层碳膜,即成为电镜观察用的分散情况,可用光学显微镜进行观察。

也可把载有粉末的铜网再作一次投影操作,以增加图像的立体感,并可根据投影“影子”的特征来分析粉末颗粒的立体形状。

(2)薄膜样品:块状材料是通过减薄的方法(需要先进行机械或化学方法的预减薄)制备成对电子束透明的薄膜样品。

减薄的方法有超薄切片、电解抛光、化学抛光和离子轰击等。

超薄切片方法适用于生物试样。

电解抛光减薄方法适用于金属材料。

化学抛光减薄方法适用于在化学试剂中能均匀减薄的材料,如半导体、单晶体、氧化物等。

无机非金属材料大多数为多相、多组分的的非导电材料,上述方法均木适用。

直至60年代初产生了离子轰击减薄装置后,才使无机非金属材料的薄膜制备成为可能。

3. 试述离子轰击制备薄膜样品的过程原理?答:(1)过程:离子轰击减薄是将待观察的试样按预定取向切割成薄片,再经机械减薄抛光等过程预减薄至30~40 m的薄膜。

把薄膜钻取或切取成尺寸为2.5~3mm的小片,装入离子轰击减薄装置进行离子轰击减薄和离子抛光。

(2)减薄原理:在高真空中,两个相对的冷阴极离子枪,提供高能量的氩子流,以一定角度对旋转的样品的两面进行轰击。

当轰击能量大于样品材料表层原子的结合能时,样品表层原子受到氩离子击发而溅射,经较长时间的连续轰击、溅射最终样品中心部分穿孔。

【材料课件】第二章电子显微分析

【材料课件】第二章电子显微分析
❖ 2)分辨率较低;
❖ 3)产生与Z有关,
❖ 与形貌有关。
❖ 2、二次电子(secondary electrons, SE)
❖ 入射电子在试样内产生二次电子,所产生的二次 电子还有足够的能量继续产生二次电子,如此继 续下去,直到最后二次电子的能量很低,不足以 维持此过程为止。
特点:
❖ 1)能量低,为2-3ev。
❖ 四、影响透镜分辨率的因素:
❖ 1、球差

球差是由于电磁透镜磁场的近轴区和远轴区对电子束
的会聚能力不同而造成的。 透镜球差图

❖2、色差 ❖ 普通光学中不同波长的光线经过透镜时,因折射率 不同,将在不同点上聚焦,由此引起的像差称为色差。 电镜色差是电子波长差异产生的焦点漂移。 ❖透镜色差图
❖ 3、轴上像散 ❖ 轴上像散又可简称为像散,它是由于透镜磁
❖ 当试样厚度小于入射电子的穿透深度时,入射电 子将穿透试样,从另一表面射出称为透射电子。如 果试样很薄,只有10-20nm的厚度,透射电子的 主要组成部分是弹性散射电子,成像比较清晰,电 子衍射斑点也比较明锐。
❖ 6、X射线 ❖ X射线(包括特征X射线、连续辐射和X光荧光)
信号产生的深度和广度范围较大。 ❖ 荧光X射线是特征X射线及连续辐射激发的次级
❖ 方法:
❖ 1、透射电镜(TEM) ❖ 2、扫描电镜(SEM) ❖ 3、电子探针(EMPA)
光学显微镜ห้องสมุดไป่ตู้
优点: 简单,直观。
局限性:分辨本领低(0.2微米);只能观察表面形 貌;不能做微区成分分析。
化学分析
优点: 简单, 方便。
局限性:只能给出试样的平均成分,不能给出所含 元素随位置的分布;不能观察象 。
特征辐射。X射线在固体中具有强的穿透能力,无 论是特征X射线还是连续辐射都能在试样内达到较 大的范围。

电子显微分析

电子显微分析
0.61 rn sin
可见光作为光源时,透镜的分辨本领极限为200nm。要进一 步提高显微镜的分辨本领,则必须采用波长更短的照明源。 由于电子束流具有波动性,而电子波的波长要比可见 光的波长短的多。显然,如果用电子束作为照明光源制成 的电子显微镜将具有更高的分辨率。
第二节
电子光学基础
电子波 高速运动的电子应考虑相对论修正,即:
电磁透镜
扫瞄式:仅受试样基座大小影响
穿透式:~1000 局部微区域
晶体结构,微细组织,化学组成二节
电子光学基础
光衍射使得由物平面内的点O1 、 O2 在象平面形成一B1 、 B2 圆斑(Airy斑)。若O1 、 O2靠的太近,过分重叠,图象就模糊不清。 L D 强度
B1
d
O1 O2
B2
R0
(a )
图(a)点O1

(b )
O2 形成两个Airy斑;图(b)强度分布
第二节
电子光学基础
0.81I
R0
I
图(c)两个Airy斑 明显可分辨出
图(d)两个Airy斑 刚好可分辨出
图(e)两个Airy斑 分辨不出
第二节
电子光学基础
阿贝(Abbe)根据衍射理论推导出了光学透镜分辨本领的公式
图1-4
在某一能量范围内 (Ec1<E<Ec2)二次电 子产额大于1,随着 的增大,二次电子产 额曲线的极大值增大, 并向高能方向推移。
1. 电子与固体作用产生的信号
Ix表示电子激发诱导的X射线辐射强度。在入射电子发生非弹性 散射过程中,X射线有两种产生过程:①入射电子在原子实(原子核
和束缚电子,即失去价电子的正离子)的库仑场中减速,产生能量
第二章 电子显微分析

第二章 电子显微分析基础

第二章 电子显微分析基础

式中: - 式中:k-常数 Ur-经相对论校正的加速电压 - (IN)-安匝数 I-通过线圈导线的电流, - -通过线圈导线的电流, N-线圈每 长度的圈数 -线圈每cm长度的圈数
可见, 总是正的,磁透镜是一种可变焦距(或倍数) 可见,焦距 f 总是正的,磁透镜是一种可变焦距(或倍数) 的会聚透镜。 的会聚透镜。
11
3、电子在磁场中的运动
电子在磁场中运动时,受到磁场作用力 洛仑兹力的 电子在磁场中运动时,受到磁场作用力—洛仑兹力的 作用 F = qv × B = qvB sin( v , B )
e
电子在磁场中的受力和运动有以下三种情况: 电子在磁场中的受力和运动有以下三种情况: 电子不受磁场影响,作匀速直线运动。 ①ν∥B 时,电子不受磁场影响,作匀速直线运动。 ∥ ②ν⊥ B 时,电子在与磁场垂直的平面内作匀速圆周运动。 ⊥ 电子在与磁场垂直的平面内作匀速圆周运动。 螺旋线的形式运动 ③ν 与B 有交角 θ时, 电子以螺旋线的形式运动。 时 电子以螺旋线的形式运动。
7
表:不同加速电压下的电子波长(经相对论校正) 不同加速电压下的电子波长(经相对论校正)
加速电压(KV)电子波长(nm)加速电压(KV)电子波长(nm) 加速电压(KV)电子波长(nm)加速电压(KV)电子波长(nm)
1 10 20 30 50 0.0388 0.0122 0.00859 0.00698 0.00536 80 100 200 500 1000 0.00418 0.00370 0.00251 0.00142 0.00087
18
③ 色差 入射电子的能量(或波长)有一定的变化,磁透镜对 入射电子的能量(或波长)有一定的变化,磁透镜对 不同能量(不同波长)的电子的会聚能力不同造成的 不同能量(不同波长)的电子的会聚能力不同造成的
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1)与Z的关系
物质对电子的散射系数与原子序数成正比 关系。
重元素物质比轻元素物质的散射系数大。 Z越大,散射强,越暗,反之越亮。 试样上相邻部位的Z相差越大,电子图像 的反差越大。
2)与试样厚度的关系
G
=
1
μ
(t1 − t 2 )
图像的衬度反映了试样上各部位的厚度 差,荧屏上暗的部位对应的试样厚,亮的部 位对应的试样薄,试样上相邻部位的厚度相 差大时,得到的电子图像反差大。
场发射电子枪及原理示意图
2 聚光镜:
由于电子之间的斥力和阳极小孔的发 散作用,电子束穿过阳极小孔后,又逐 渐变粗,射到试样上仍然过大。
聚光镜增强电子束密度和再一次将发 散的电子会聚起来,投射在下面的样品 上。
(二)成像放大部分
组成:试样室、物镜、中间镜、投影镜等。 工作原理:
① 穿过试样的电子束(包含试样信息) → ② 物镜和反差光阑 → ③ 一次放大电子图象(在物镜后的像平面上) → ④ 中间镜和投影镜 → ⑤ 最终再放大电子图像(在荧光屏或照相底片)。
(三) 图像观察和记录系统
透射电镜中电子所带的信息转换 成人眼能感觉的可见光图像,是通 过荧光屏或照相底板来实现的。人 们透过铅玻璃窗可看到荧光屏上的 像。
电子图像首先反映在荧光屏上。 配有照相装置,可将图像记录保存起来。 目前透射电镜常配慢扫电荷耦合器件 (CCD),可把显微镜的信息转换成数值信 号,再将信号强度放大几百倍后,线性放大 二十余倍的显微图像直接显示在监视器屏幕 上或存储在硬盘中,从而完成优质图像的数 值采集和分析。
1 试样室
位于照明部分和物镜之间,它的主要作用 是通过试样台承载试样,移动试样。
透射电镜样品非常薄,约为100~200nm, 必须用铜网支撑着。常用的铜网直径为3mm左 右,孔径约有数十μm,如图所示。
2 物镜
电镜的最关键的部分。 作用:
是将来自试样不同点同方向同相位 的弹性散射束会聚于其后焦面上,构 成含有试样结构信息的散射花样或衍 射花样。
是一种大型电子光学仪器。
结构:四个部分 包括: ① 电子光学系统(镜筒) ② 真空系统 ③ 电器部分 ④ 数据处理系统
2.3.1.1电子光学系统(镜筒)
电子枪
一 工作过程 ① 电子枪发出电子束 → ② 经聚光镜会聚 → ③ 照射在试样上并穿过试样 → ④ 经物镜成像 → ⑤ 再经中间镜和投影镜放大 → ⑥ 在荧光屏或照相底片上成
一 图像衬度的类型:
① 散射(质量-厚度) 衬度: 由于试样的质量和厚度不同,各部分对
入射电子产生的吸收与散射程度不同,而 使得透射电子束的强度分布不同,形成反 差,称为质-厚衬度。
② 衍射衬度:
由于晶体试样满足布拉格反射条件程 度的差异而形成电子图像的反差。
③ 相位差衬度:
产生机制是透射束与散射束相互干涉 引起的。
像。
聚光镜
试样 物镜
中间镜 投影镜
观察屏 照相底板
电子显微镜
(一) 电子照明系统
电镜的电子照明系统放置在电镜的镜 筒内。
决定着电子发射的数目及其动能。 作用: 提供一束亮度高、照明孔径角小、 平行度高、束斑小、束流稳定的照明 源。
两个组成部分:
1 电子枪 (阴极;控制极;阳极) 2 聚光镜。
电子枪的类型 热发射和场发射两种
热发射的电子枪
发射原理:
与普通照明用白炙灯的发光原理基本相同,即
通过加热来使整个枪体来发射电子。
热电子枪的发射体使用的材料有钨和六硼化镧
两种。
(1)热发射型
钨丝 六硼化镧
不足之处
热发射的电子枪主要缺点: 枪体的发射表面比较大并
且发射电流难以控制。
(2)场发射的电子枪
场发射电子枪的电子发射是通过外加电场 将电子从枪尖拉出来实现的。由于越尖锐 枪体的电子脱出能力越大,因此只有枪尖 位才能发射电子。这样就在很大程度上缩小 了发射表面。通过调节外加电压可控制发 射电流和发射表面。
一 电子衍射 由于电子束具有一定的波长,电子
束与晶体物质作用,可以发生衍射现 象。
2.3.1.2 真空部分
镜筒内部(从电子枪至照相底板盒)需处于高 真空(10-4~10-7托)系统内,原因:
a) 避免电子与气体分子相碰撞而散射,保证在 整个通道中只与试样发生相互作用。
b) 避免电子枪的高压放电,并可延长灯丝寿命 (免氧化)。
c) 避免试样被污染。
2.3.1.3 电器部分
电镜的电器主要包括以下几部分: (1)电子枪的高压电源。 (2)磁透镜激磁电流的电源。 (3)各种操作、调整设备的电器。 (4)真空系统电源。 (5)保护用电器等。
2.3.1.4 数据处理系统
1 自动操作程序控制系统。 2 数据处理的计算机系统。
金单晶样品
2.3.2 衬度原理
透射电镜的试样很薄,电子的加速电压很高,检 测的是透过的电子信号,主要考虑电子的①散射、 ②干涉和③衍射等作用。
图像上明暗(或黑白)的差异称为图像的衬度(反 差)。
衬度形成的原理不同,说明的问题也不同。 衬度原理是分析电镜图像的基础。
2.3 透射电子显微分析(TEM)
2.3.1 透射电子显微镜的结构 透射电镜是以电子束透过样品经过
聚焦与放大后所产生的物像,投射到 荧光屏的照相底片上进行观察的技术。
主要应用
材料的形貌、内部组织结构和晶体缺陷的 观察;
物相鉴定,包括晶胞参数的电子衍射测 定;
高分辨晶格和结构像观察; 纳米微粒和微区的形态、大小及化学成分 的点、线和面元素定性定量和分布分析。
3)与物质密度的关系
图像的衬度还与密度有关。试样中不同 的物质或者是不同的聚集状态,其密度一般 不同,也可以形成图像的反差,但这种反差 一般比较弱。
以上分析可知:
散射衬度主要反映了试样的质量和 厚度的差异,故也将散射衬度称为质 量-厚度衬度。
适用于非晶态或者是晶粒非常小的 试样。
2.3.3 电子衍射原理
二 散射(质量-厚度) 衬度
电子显微镜可以使电子束经试样散射 后带有的散射信息变成为人眼能观察到 的电子图像。由于试样上各部位散射能 力不同所形成的衬度称为散射衬度。
电子反差G
G
=
k
σபைடு நூலகம்
(
1
A1
ρ 1t1

σ2
A2
ρ 2t2 )
其中:
t----试样的厚度; A----原子量; ρ----密度; σ----电子的散射截面 (与原子序数Z成正 比)。
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