半导体物理第二章..

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半导体物理学-半导体中杂质和缺陷能级模板

半导体物理学-半导体中杂质和缺陷能级模板
称电子为多数载流子,简称多子,空穴为少 数载流子,简称少子。
2.1 硅、锗晶体中的杂质能级
n 2.1.3 受主杂质 受主能级
Si
+
Si
Si
Si
B-
Si
Si
Si
Si
受 主 掺 杂(掺硼)
硼原子接受一个电子后, 成为带负电的硼离子, 称为负电中心(B- ) 。 带负电的硼离子和带正 电的空穴间有静电引力 作用,这个空穴受到硼 离子的束缚,在硼离子 附近运动。
2.1 硅、锗晶体中的杂质能级
深能级杂质产生多次电离:
3)III族元素硼、铝、镓、铟、铊在锗和硅中各产生1个 浅受主能级,而铝在硅中,还能产生1个施主能级。
4)IV族元素碳在硅中产生1个施主能级,而锡和铅在硅 中产生1个施主能级和1个受主能级。
5)V族元素磷、砷、锑在硅和锗中各产生一个浅施主 能级。
2.1 硅、锗晶体中的杂质能级
n 2.1.2 施主杂质、施主能级 多余的电子束缚在正电中心,但这种束缚很弱
很小的能量就可使电子摆脱束缚,成为在晶格中导 电的自由电子,而Ⅴ族原子形成一个不能移动的 正电中心。
硅、锗中的Ⅴ族杂质,能够释放电子而产生导电 电子并形成正电中心,称为施主杂质或N型杂质, 掺有N型杂质的半导体叫N型半导体。施主杂质未 电离时是中性的,电离后成为正电中心。
mn* 0.12m0
2.1 硅、锗晶体中的杂质能级
n 晶体内杂质原子束缚的电子与类氢模型相比:
m0mn*, mp*; 0 r0
施主杂质的电离能: E D8m r2n *q 0 24 h2m m 0 n *E r2 01.6 3m m 0n *r2
Si: mn* 0.26m0 r 12 ED0.02e5V

半导体物理第二章

半导体物理第二章

1第二章半导体中的杂质和缺陷能级要求:●掌握半导体中杂质的作用与杂质能级;●掌握半导体中的缺陷及其影响重点:浅能级和深能级杂质及其作用,杂质的补偿作用2原子并非固定不动,格点原子在平衡位置附近振动;半导体并非纯净,含有若干杂质(基质以外的任何元素);半导体晶格并非完美(完整),存在各种缺陷:点缺陷线缺陷面缺陷⎩⎨⎧实际半导体材料:⎪⎩⎪⎨⎧杂质来源:⎪⎩⎪⎨⎧§2.1 Si 、Ge 晶体中的杂质能级1、替(代)位式杂质间隙式杂质①原材料纯度不够;②工艺过程中引入玷污;③人为掺入杂质—为改善半导体材料性能;(1)Si 、Ge 都具有金刚石结构,一个晶胞内含有8个原子。

3(2)若视晶体中的原子为球体,且最近原子相切:a r ⋅=⋅3412%34)381(34834883333=×=×=a a a r ππ晶胞体积个原子体积则66%是空的相邻两球的半径之和(直径)为立方体体对角线的1/4。

4(3)杂质原子进入半导体中的存在方式:①位于格点原子间的间隙位置——间隙式杂质(一般杂质原子较小)②取代格点原子而位于格点上——替代式杂质(一般杂质原子大小与被取代的晶格原子大小近似,且价电子壳层结构也较相似){Si 、Ge 是Ⅳ族元素,Ⅲ、Ⅴ族元素在Si 、Ge 中是替位式杂质。

杂质浓度:单位体积中的杂质原子数,表示半导体晶体中杂质含量的多少,杂质浓度的单位为cm -3或/cm 3。

替位式杂质和间隙式杂质52、施主杂质施主能级Si中掺P效果上形成正电中心P + +一个价电子被正电中心P +束缚,位于P +周围,此束缚远小于共价键束缚,很小的能量△E 就可以使其挣脱束缚,形成“自由”电子,在晶格中运动(在导带)。

杂质电离:电子脱离杂质原子的束缚成为导电电子的过程。

杂质电离能:电子脱离杂质原子的束缚,成为导电电子所需的能量。

记作△E D 。

△E D 的值Si 中约0.04~0.05eV Ge 中约0.01eV {}<< E g以Si中掺入Ⅴ族替位式杂质P 为例6施主杂质或N 型杂质:Ⅴ族元素施放电子的过程——施主电离;Ⅴ族元素未电离时呈中性——束缚态或中性态;Ⅴ族元素电离后形成正电中心——施主离化态;⎩⎨⎧E cE vE D+++E g△E D一般情况下,杂质浓度较低杂质原子间的相互作用可以忽略所以施主能级是一些相同能量的孤立能级,即不形成能带。

半导体物理第二章概述

半导体物理第二章概述

半导体的导带和价带中,有很多能级存在,间隔 很小,约10-22eV,可以认为是准连续的。
• 状态密度:能带中能量E--E+dE之间有dZ个量子态。
dZ g (E) = dE
即状态密度是能带中能量E附近单位 能量间隔内的量子态数目
怎样理解状态密度?
1、理想晶体的k空间的状态密度
(1):一维晶体(一维单原子链) 设它由N个原子组成,晶格常数为a,晶体的长为L=aN, 起点在x处
一定到达某点,只给出到达各点的统计分布。粒子在
某点出现的几率与波函数的强度
*成正比
2
5、 自由电子波函数 解自由电子薛定谔方程可得自由电子波函数与能量:
( x) Ae 式中k
i ( kx t ) 2

E
k
2
2m0
2

,m0 为电子惯性质量,ห้องสมุดไป่ตู้角频率
自由电子速度
·
· 2
L
·
0
· 2
L
·
k
(2).三维立方晶体
设晶体的边长为L,L=N× a,体积为V=L3
K空间中的状态分布
kz
kx
• • • • • • 2 • • L • • • • •• •• • • • • • • • • • • • • • • •
3
• • • • • • • • • • • • • •
* 0 。 2、对于能带底,E(k)>E(0),顾 mn
半导体中的电子
k2 E (k ) E (0) * 2mn
1 d 2E 1 * 2 2 dk k 0 mn
2
自由电子能量:
k2 E 2m

半导体物理器件Chapter2-

半导体物理器件Chapter2-

势垒高度增加至 q(y0 VR) ,增高的势垒阻挡载流子通过PN结扩散,通
过PN结的电流非常小,结的阻抗很高。耗尽层宽度(突变结):
1
W

2k0

y0 VR
qNd
2

(2-23)
PN结
2.2加偏压的PN结
4)根据能带图和修正欧姆定律分析结的单向导电性
在电子扩散区和空穴扩散区,
区间电势差 y 0 。
未形成PN结之前的N区(P区)的电子(空穴)浓度为:
nN dnie(E F nE i)/K T
pNani(EiEFp)/KT
可以得到分别的费米能级为:
EFnEi
KTlnNd ni
EFp
Ei
KTln
Na ni
再由热电势
VT

KT q
,得: y01 q(EFnEFp)VTlnNn diN 2a
耗尽区
n 型电中性区
(c) 与(b)相对应的空间电荷分布
PN结
2.1热平衡PN结
3.几个概念
耗尽近似:在空间电荷区,与电离杂质浓度相比,自由
载流子浓度可以忽略,这种近似称为耗尽近似。因此空间电 荷区也称为耗尽区(又称为耗尽层)。在完全耗尽的区域, 自由载流子密度为零。
中性近似:假设耗尽区以外,在杂质饱和电离情况下,
单边突变结(一侧的杂质浓度远远大于另一侧的质浓度的突变结)
PN结
NaNd
引言
4.突变结与线性缓变结 2)线性缓变结: 两区之间杂质过渡是渐变的
adNDNA常数
dx
- ax
xj 0
x
ND NA
0
x
在线性区: N(x)a(xxj)

半导体物理学第二章-PPT

半导体物理学第二章-PPT
大家好
9
施主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的电子, 并成为带正电的离子。如Si中的P 和As
N型半导体
半导体的掺杂
施主能级
大家好
10
2.1.3 受主杂质 受主能级
在硅中掺入3价的硼B,硼原子有3个价电子,与周围四个硅原子形成共价鍵,缺少一个电子,必须从周围获得一个电子,成为负电中心B-。硼的能级距价带能级顶部很近,容易得到电子。负电中心B-不能移动;而价带顶的空穴易于被周围电子填充,形成空穴的移动,即“导电空穴”。这种能够接受电子的杂质称之为“受主杂质”,或P型杂质。受主杂质获得电子的过程称之为“受主电离”;受主束缚电子的能量状态称之为“受主能级EA”;受主能级比价带顶EV高“电离能EA” 。
大家好
11
受主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的空穴, 并成为带负电的离子。如Si中的B
P型半导体
半导体的掺杂
受主能级
大家好
12
半导体的掺杂
Ⅲ、Ⅴ族杂质在Si、Ge晶体中分别为受主和施主杂质,它们在禁带中引入了能级;受主能级比价带顶高 ,施主能级比导带底低 ,均为浅能级,这两种杂质称为浅能级杂质。杂质处于两种状态:中性态和离化态。当处于离化态时,施主杂质向导带提供电子成为正电中心;受主杂质向价带提供空穴成为负电中心。
大家好
30
杂质在GaAs中的位置
替代Ⅲ族时,周围是四个Ⅴ族原子替代Ⅴ族时,周围是四个Ⅲ族原子
大家好
31
IV族元素碳、硅、锗等掺入III-V族化合物中,若取代III族元素起施主作用;若取代V族元素起受主作用。总效果是施主还是受主与掺杂条件有关。
例如,硅在砷化镓中引入一个浅的施主能级,即硅起施主作用,向导带提供电子。当硅杂质浓度达到一定程度后,导带电子浓度趋向饱和,杂质的有效浓度反而降低。

半导体器件物理教案课件

半导体器件物理教案课件

半导体器件物理教案课件PPT第一章:半导体物理基础知识1.1 半导体的基本概念介绍半导体的定义、特点和分类解释n型和p型半导体的概念1.2 能带理论介绍能带的概念和能带结构解释导带和价带的概念讲解半导体的导电机制第二章:半导体材料与制备2.1 半导体材料介绍常见的半导体材料,如硅、锗、砷化镓等解释半导体材料的制备方法,如拉晶、外延等2.2 半导体器件的制备工艺介绍半导体器件的制备工艺,如掺杂、氧化、光刻等解释各种制备工艺的作用和重要性第三章:半导体器件的基本原理3.1 晶体管的基本原理介绍晶体管的结构和工作原理解释n型和p型晶体管的概念讲解晶体管的导电特性3.2 半导体二极管的基本原理介绍半导体二极管的结构和工作原理解释PN结的概念和特性讲解二极管的导电特性第四章:半导体器件的特性与测量4.1 晶体管的特性介绍晶体管的主要参数,如电流放大倍数、截止电流等解释晶体管的转移特性、输出特性和开关特性4.2 半导体二极管的特性介绍半导体二极管的主要参数,如正向压降、反向漏电流等解释二极管的伏安特性、温度特性和频率特性第五章:半导体器件的应用5.1 晶体管的应用介绍晶体管在放大电路、开关电路和模拟电路中的应用解释晶体管在不同应用电路中的作用和性能要求5.2 半导体二极管的应用介绍半导体二极管在整流电路、滤波电路和稳压电路中的应用解释二极管在不同应用电路中的作用和性能要求第六章:场效应晶体管(FET)6.1 FET的基本结构和工作原理介绍FET的结构类型,包括MOSFET、JFET等解释FET的工作原理和导电机制讲解FET的输入阻抗和输出阻抗6.2 FET的特性介绍FET的主要参数,如饱和电流、跨导、漏极电流等解释FET的转移特性、输出特性和开关特性分析FET的静态和动态特性第七章:双极型晶体管(BJT)7.1 BJT的基本结构和工作原理介绍BJT的结构类型,包括NPN型和PNP型解释BJT的工作原理和导电机制讲解BJT的输入阻抗和输出阻抗7.2 BJT的特性介绍BJT的主要参数,如放大倍数、截止电流、饱和电流等解释BJT的转移特性、输出特性和开关特性分析BJT的静态和动态特性第八章:半导体存储器8.1 动态随机存储器(DRAM)介绍DRAM的基本结构和工作原理解释DRAM的存储原理和读写过程分析DRAM的性能特点和应用领域8.2 静态随机存储器(SRAM)介绍SRAM的基本结构和工作原理解释SRAM的存储原理和读写过程分析SRAM的性能特点和应用领域第九章:半导体集成电路9.1 集成电路的基本概念介绍集成电路的定义、分类和特点解释集成电路的制造工艺和封装方式9.2 集成电路的设计与应用介绍集成电路的设计方法和流程分析集成电路在电子设备中的应用和性能要求第十章:半导体器件的测试与故障诊断10.1 半导体器件的测试方法介绍半导体器件测试的基本原理和方法解释半导体器件测试仪器和测试电路10.2 半导体器件的故障诊断介绍半导体器件故障的类型和原因讲解半导体器件故障诊断的方法和步骤第十一章:功率半导体器件11.1 功率二极管和晶闸管介绍功率二极管和晶闸管的结构、原理和特性分析功率二极管和晶闸管在电力电子设备中的应用11.2 功率MOSFET和IGBT介绍功率MOSFET和IGBT的结构、原理和特性分析功率MOSFET和IGBT在电力电子设备中的应用第十二章:光电器件12.1 光电二极管和太阳能电池介绍光电二极管和太阳能电池的结构、原理和特性分析光电二极管和太阳能电池在光电子设备中的应用12.2 光电晶体管和光开关介绍光电晶体管和光开关的结构、原理和特性分析光电晶体管和光开关在光电子设备中的应用第十三章:半导体传感器13.1 温度传感器和压力传感器介绍温度传感器和压力传感器的结构、原理和特性分析温度传感器和压力传感器在电子测量中的应用13.2 光传感器和磁传感器介绍光传感器和磁传感器的结构、原理和特性分析光传感器和磁传感器在电子测量中的应用第十四章:半导体器件的可靠性14.1 半导体器件的可靠性基本概念介绍半导体器件可靠性的定义、指标和分类解释半导体器件可靠性的重要性14.2 半导体器件可靠性的影响因素分析半导体器件可靠性受材料、工艺、封装等因素的影响14.3 提高半导体器件可靠性的方法介绍提高半导体器件可靠性的设计和工艺措施第十五章:半导体器件的发展趋势15.1 纳米晶体管和新型存储器介绍纳米晶体管和新型存储器的研究进展和应用前景15.2 新型半导体材料和器件介绍石墨烯、碳纳米管等新型半导体材料和器件的研究进展和应用前景15.3 半导体器件技术的未来发展趋势分析半导体器件技术的未来发展趋势和挑战重点和难点解析重点:1. 半导体的基本概念、分类和特点。

半导体中的杂质和缺陷

半导体中的杂质和缺陷

不含任何杂质
实际应用中的
极其微量的杂质和缺陷, 能够对半导体材料的物理性质 和化学性质产生决定性的影响
在硅晶体中,若以105个硅原子中掺入一个杂质原子的比例掺入硼(B)原子,则硅晶体的导电率在室温下将增加103倍。 用于生产一般硅平面器件的硅单晶,位错密度要求控制在103cm-2以下,若位错密度过高,则不可能生产出性能良好的器件。(缺陷的一种)
添加标题
实验测得,Ⅴ族元素原子在硅、锗中的电离能很小,在硅中电离能约为0.04~0.05eV,在锗中电离能约为0.01eV,比硅、锗的禁带宽度小得多。
2.1.2 施主杂质、施主能级3
2.1.2 施主杂质、施主能级4
2.1.3 受主杂质、受主能级1
硅中掺入硼(B)为例,研究Ⅲ族元素杂质的作用。当一个硼原子占据了硅原子的位置,如图所示,硼原子有三个价电子,当它和周围的四个硅原子形成共价键时,还缺少一个电子,必须从别处的硅原子中夺取一个价电子,于是在硅晶体的共价键中产生了一个空穴。硼原子成为一个带有一个负电荷的硼离子(B-),称为负电中心硼离子。其效果相当于形成了一个负电中心和一个多余的空穴。
利用杂质补偿的作用,就可以根据需要用扩散或离子注入等方法来改变半导体中某一区域的导电类型,以制备各种器件。
若控制不当,会出现ND≈NA的现象,这时,施主电子刚好填充受主能级,虽然晶体中杂质可以很多,但不能向导带和价带提供电子和空穴,(杂质的高度补偿)。这种材料容易被误认为是高纯度的半导体,实际上却含有很多杂质,性能很差。
2.1.3 受主杂质、受主能级2
02
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03
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01
2.1.3 受主杂质、受主能级3

半导体物理 第二章 杂质能级剖析

半导体物理 第二章 杂质能级剖析

EA
m
E0 m0 r 2
* p
可得同一个数量级 ED 0.025eV (Si)
§2.1.5 杂质的补偿作用
杂质补偿:半导体中存在施主杂质和受主杂质时, 它们底共同作用会使载流子减少,这种作用称为 杂质补偿。在制造半导体器件底过程中,通过采 用杂质补偿底方法来改变半导体某个区域底导电 类型或电阻率。
施主杂质的电离过程,可以 用能带图表示 如图2-4所示.当电子得到能ED 量后,就从施主的束缚态跃 迁到导带成为导电电子,所 以电子被施主杂质束缚时的 能量比导带底 E 低 。 E 将被施主杂质束缚的电子的 E 能量状态称为施主能级,记 为 ED ,所以施主能级位于 离导带底很近的禁带中
§2.1.3 受主杂质 受主能级
使空穴挣脱束缚成为导电空穴所需要的能量称为 受主杂质电离能 受主杂质电离后成为不可移动的带负电的受主离 子,同时向价带提供空穴,使半导体成为空穴导 电的p型半导体。
§2.1.3 受主杂质 受主能级
受主杂质的电离过程,可 以用能带图表示 如图2-6所示.当空穴得到 EA 后,就从受主的束 能量 缚态跃迁到价带成为导电 空穴,所以电子被受主杂 EV 质束缚时的能量比价带顶 高 E 。将被受主杂质 束缚的空穴的能量状态称 为受主能级,记为 ,所 E 以受主能级位于离价带顶 很近的禁带中
§2.1.2 施主杂质 施主能级
上述电子脱离杂质原子的束缚成为导电电子的 过程称为杂质电离 使个多余的价电子挣脱束缚成为导电电子所需 要的能量称为杂质电离能 施主杂质电离后成为不可移动的带正电的施主 离子,同时向导带提供电子,使半导体成为电 子导电的n型半导体。
§2.1.2 施主杂质 施主能级
§2.1.4 浅能级杂质电离能的简单计算

半导体物理 第二章

半导体物理 第二章

E-k关系
对于无限晶体,波失 k 可以连续取值;对于某一确定的 k 值, nk (r ) ,能量本征值En随波矢 k 是连续变化的。可以用 k
薛定谔方程存在一系列分立的能量本征值Enk和相应的本征函数
和n来表征电子状态。 但在晶体中,由于存在平移对称性,可以用来表征某一确定 电子状态的 k 并不是唯一的。若 k k Gl,则波矢 k 同样可以用来表征由 k 所表征的电子状态,其中 Gl 为倒格矢,
里渊区中给出。每一个布里渊区
有中一个能带,第n个能带在第n 个布里渊区中





E E-k关系总是中心对称的: n (k ) En (k )
在每一个布里渊区中给出所有能带 周期布里渊区图象: 由于认为 k 与 k G 等价,因此可以认为 En k 是以 倒格矢 G 为周期的周期函数,即对于同一能带n,有

i, j=1, 2, 3
2n 一维情形 k k a 这样,在晶体中,电子能量E随k周期性地变化。对应于 不同的n,电子状态分别被限制在一定能量间隔内,分别 属于不同的能带。相邻的能带之间可能存在一定的能量 间隙,在其中不存在电子状态,为禁带。
1. En(k)函数的三种图象 扩展布里渊区图象: 不同的能带在k空间中不同的布
在晶体中的电子有如被封闭在一个容器中,使得 k 并不能
有任意的数值。 下面我们来计算每个能带所包含的电子状态数量。通常有 所谓周期性边界条件来得到允许k值。
设一维晶格的晶格长度为L=Na, N为所包含的原胞总数,a为 晶格常数,此处为原子间距。 周期性边界条件:
k ( 0) k ( L ) ( x ) eikxuk ( x ) (0) uk (0) ( L) eikLuk ( L)

半导体物理 第二章 PN结 图文

半导体物理 第二章 PN结 图文

国家级精品课程——半导体器件物理与实验
第二章 PN结
引言
4-4 外延工艺:
外延是一种薄膜生长工艺,外延生长是在单晶衬底上沿晶体 原来晶向向外延伸生长一层薄膜单晶层。
外延工艺可以在一种单晶材料上生长另一种单晶材料薄膜。
外延工艺可以方便地形成不同导电类型,不同杂质浓度,杂 质分布陡峭的外延层。
外延技术:汽相外延(PVD,CVD)、液相外延(LPE)、分 子束外延(MBE)、热壁外延(HWE)、原子层外延技术。
硅平面工艺的主体
国家级精品课程——半导体器件物理与实验
第二章 PN结
引言
4-1 氧化工艺:
1957年,人们发现硅表面的二氧化硅层具有阻止杂质向硅内 扩散的作用。这一发现直接导致了氧化工艺的出现。 二氧化硅薄膜的作用: (1)对杂质扩散的掩蔽作用; (2)作为MOS器件的绝缘栅材料; (3)器件表面钝化作用; (4)集成电路中的隔离介质和绝缘介质; (5)集成电路中电容器元件的绝缘介质。 硅表面二氧化硅薄膜的生长方法: 热氧化和化学气相沉积方法。
N(x) (a)
Na
Nd xj
(b) -a(x - xj)
引言
扩 SiO2 散 结 N-Si
杂质扩散
P
N-Si
N-Si
由扩散法形成的P-N结,杂质浓度从P区到N区是
逐渐变化的,通常称之为缓变结,如图所示。设 P-N结位置在x=xj处,则结中的杂质分布可表示为: x
Na Nd (x xj), Na Nd (x xj)
Al
液体
Al
P
N-Si
N-Si
N-Si
把一小粒铝放在一块N型单晶硅片上, 加热到一定温度,形成铝硅的熔融体, 然后降低温度,熔融体开始凝固,在N 型硅片上形成含有高浓度铝的P型硅薄 层,它和N型硅衬底的交界面即为P-N 结(称之为铝硅合金结)。

半导体物理1-2章总结

半导体物理1-2章总结

半导体中E(k)与k的关系
01
(能带极值附近)
02
半导体中电子的平均速度
03
(能带极值附近)
04
半导体中电子的加速度
05
(能带极值附近)
06
4.空穴---
07
正电荷+q和正有效质量
08
半导体中的电子运动
09
1.3-1.4节
f
01
a
02
概括了半导体内部势场的作用 a是半导体内部势场和外电场作用的综合效果 直接将外力与电子加速度联系起来
严格周期性重复排列的原子间运动
恒定为零的势场中运动
▲单电子近似:晶体中的某一个电子是在周期性排列且固定不动的原子核的势场 以及其他大量电子的平均势场中运动,这个势场也是周期变化的, 并且它的周期与晶格周期相同。
原子相互接近 形成晶体
共有化运动
▲共有化运动:由于电子壳层的交叠,电子不再完全局限在某一个原子上,可以由一个原子转移到相邻的原子上去,因而,电子将可以在整个晶体中运动 只有外层电子共有化运动最显著
1.2节
能级分裂
能带形成
满带或价带 导带
2.半导体中电子状态和能带
晶体中的电子
VS
自由电子
标志区域
k只能取有限多个分立值
k可取任意的连续值,自由电子可以在整个空间内运动
波矢K
几率不相同,有周期性 周期函数的周期与晶格周期相同
空间各处几率相同
波函数
共有化运动的电子
自由电子
▲导体、绝缘体和半导体的能带
绝缘体 (b) 半导体 (c) 导体
在Ⅱ带带顶附近:
01
即:电子有效质量比空穴有效质量小
02

半导体物理学第二章

半导体物理学第二章

2.1 硅、锗中的杂质能级
当杂质进入半导体以后, Q: 当杂质进入半导体以后,分布在什 么位置? 么位置?
以硅为例,在一个晶胞中包含8个硅原子,若 以硅为例,在一个晶胞中包含8个硅原子, 近似把原子看成半径是r的圆球,那么这8 近似把原子看成半径是r的圆球,那么这8个原子 占据晶胞的百分数为: 占据晶胞的百分数为:
金在锗中的能级
2.2 三-五族化合物中的杂质能级
和硅、锗一样,当杂质进入三- 和硅、锗一样,当杂质进入三-五族 化合物中, 化合物中,仍然是间隙式杂质和替位 式杂质,不过具体情况更为复杂些。 式杂质,不过具体情况更为复杂些。
杂质既可以取代三族元素, 杂质既可以取代三族元素,也可以取 代五族元素。
间隙原子和空位一方面不断地产生同时两 者又不断地复合,最后确立一平衡浓度值。 者又不断地复合,最后确立一平衡浓度值。 以上两种由温度决定的点缺陷又称为热 缺陷,总是同时存在的。 缺陷,总是同时存在的。 由于原子须具有较大的能量才能挤入间隙 位置,以及它迁移时激活能很小, 位置,以及它迁移时激活能很小,所以晶体 中空位比间隙原于多得多, 中空位比间隙原于多得多,因而空位是常见 的点缺陷。 的点缺陷。
半导体物理学
理学院物理科学与技术系
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
2.1 2.2 2.3 硅、锗中的杂质能级 三-五族化合物中的杂质能级 缺陷、位错能级 缺陷、
在实际应用的半导体材料中, 在实际应用的半导体材料中,总是存在 偏离理想的情况。 偏离理想的情况。
1)原子并不是静止的; 原子并不是静止的; 原子并不是静止的 2)半导体材料并不是纯净的 半导体材料并不是纯净的; 半导体材料并不是纯净的 3)晶格结构存在缺陷。 晶格结构存在缺陷。 晶格结构存在缺陷

半导体物理2

半导体物理2

§2.2 缺 陷 能 级
1、 点 缺 陷:
空位 自间隙原子 反结构缺陷 各种复合体 位 错
(1)Si中的点缺陷: Si中的点缺陷:
以空位、间隙和复合体为主
A、空位
V0+e V0-e V- (受主) V+ (施主)
Ec EA
ED1 ED2 EV
ED1〈ED2
B、 间隙
例1:Si:B空位 Si:
7、等电子陷阱
(1)等电子杂质 ) 特征:a、与本征元素同族但不同原子序数 例:GaP中掺入Ⅴ族的N或Bi
b、以替位形式存在于晶体中,基本上 是电中性的。
(2)等电子陷阱
等电子杂质(如N)占据本征原子位置 (如GaAsP中的P位置)后,即 N NP 存在着由核心力引起的短程作用力,它们 可以吸引一个导带电子(空穴)而变成负 (正)离子,前者就是电子陷阱,后者就是 空穴陷阱。
3、受主能级:举例:Si中掺硼 B(Si:B) 举例:Si中掺硼 Si:
电离受主 B价带空穴
受主能级 EA
电离的结果: 掺受主的意义所在。 电离的结果:价带中的空穴数增加了,这即是掺受主的意义 掺受主的意义
EC
Eg EA EV
△EA
受主 电 离 能: △EA=EA-EV
受主杂质:束缚在杂质能级上的空穴 受主杂质:
EC
△ED=EC-ED
ED Eg
EV
施主杂质:束缚在杂质能级上的电子 施主杂质:
被激发到导带E 被激发到导带Ec成为导带电子,该杂质电 离后成为正电中心(正离子)。这种杂质 称为施主杂质。 Si、Ge中Ⅴ族杂质的电离能△ED(eV) 晶体 杂 质 P As Sb Si 0.044 0.049 0.039 Ge 0.0126 0.0127 0.0096

半导体物理器件第二章

半导体物理器件第二章

平衡PN 结 能带图:
突变结PN 结的扩散电势2ln i
A D D n N N q kT V = 缓变结PN 结的扩散电势)2ln(2i
m D n ax q kT V = m x 势垒区宽度,j
x x dx dN
a ==为PN 结前沿杂质浓度的梯度,
q kT =0.026V
正向偏置的PN 结能带图:
反向偏置的PN 结能带图:
理想PN 结满足的条件:①小注入;②耗尽层近似;③不考虑耗尽层的产生与复合;④ 玻尔兹曼边界条件;⑤忽略半导体表面对电流的影响; 理想PN 结的正向电流:))((1-+=kT qU p p no n n
po e L D p L D n Aq J
PN 结的击穿:
1:突变PN 结空间电荷区的电场:
在PN 结交界面处(x=0)的电场强度:0εεs n
D M x qN
E =;
在N 型一侧:)0)(1()(n n
M x x x x E x E <<-= 在P 型一侧:)0)(1()(<<-+=x x x x E x E p p
M 耗尽层宽度:0
0)(2qN V V x D s m -=εε(0N 表示低掺杂一边的杂质浓度) 2:缓变结最大场强:20)2(2m s M x qa
E εε=
耗尽层宽度:3/10])(12[qa
V V x D s m -=εε
3:突变结势垒电容m S T x A C 0εε=。

半导体物理与材料2

半导体物理与材料2

施主原子的轨道上施主电子Bohr氢原子模型. 这个轨道的半径仍用氢原子模型计算,得:
* rd 0 h 2 /(q 2m0 ) 0.53 10 8 ( r / 0 )( m0 / m0 )cm 13 10 8 cm
现在考虑左图的情形,随着施主原子增多,第 五个电子的轨道开始交叠,这种情况发生的临 界杂质浓度Ncrit可以通过计算体积求出:
100
1015
1019
N
迁移率与掺杂浓度关系
迁移率依赖于温度
1. 低掺杂:晶格散射占优势 3/ 2 温度增加,晶格振动加剧,增加碰撞,因而迁移率减小 T . 2. 高掺杂:电离杂质散射占优势 在这种情况下,主要因素是电子保留在电离杂质原子附近的时间长短,时 间越长,库仑效应越明显.但电子在高温下运动速度加快,停留在杂质原子 3/ 2 附近的时间变短,散射效应变弱,迁移率增加,理论上有 T .
热平衡状态
热平衡时未掺杂的半导体的载流子浓度由带隙Eg决定. 带隙越大.n0 , p0 就越小.因为在热平衡状态下,粒子的能量只有热 能,其量级是kT,而Eg远大于kT,所以只有很少的电子从价带激发到导 带.对本征半导体,可以推导出严格解:
n p ni C exp( Eg / 2kT ) C exp( Ei / kT )
空穴电荷,而将多数载流子浓度写为:
nn 0 N D
下标n代表N型材料,0代表热平衡状态.
考虑到电中性:
nn 0 N D pn 0
根据质量作用定律,就可以求出少子浓度:
pn 0 ni2 / N D
同理,对于P型半导体有:
p p 0 N A , p p 0 N A n p 0 , n p 0 ni2 / p p 0 ni2 / N A

《半导体物理》习题答案第二章

《半导体物理》习题答案第二章
②利用氢原子基态电子的轨道半径
13.6 0.012eV 17
r0
0 h2 52.9 1012 m m0 q 2
可将浅施主杂质弱束缚电子的基态轨道半径表示为
rn

0 r h2 m 17 r o r 52.9 1012 =6 10-8m=60nm * 2 * 0 mn q mn 0.015
补充 1、在硅晶体的深能级图中添加铒 (Er)、钐 (Sm)、钕(Nd)及缺陷深中心(双空位、E 中心、A
第2章
中心)的能级。 (略) 补充 2、参照上列 GaN 中常见杂质及缺陷的电离能参数表(或参考书表 2-4)回答下列问题: 1)表中哪些杂质属于双性杂质? 2)表中还有哪些杂质可能跟这些杂质一样起双重作用,未发现其双重作用的可能原因是什 么? 3)Mg 在 GaN 中起施主作用的电离能为什么比 Si、C 施主的电离能大,且有两个不同值? 4)Ga 取 N 位属何种缺陷,有可能产生几条何种能级,其他能级观察不到的可能原因是什 么? 5)还能不能对此表提出其他问题?试提出并解答之。 答:1)按表中所列,Si、C、Mg 皆既为施主亦为受主,因而是双性杂质。 2)既然 II 族元素 Mg 在 N 位时能以不同电离能 0.26eV 和 0.6eV 先后释放其两个价电子,那么 表中与 Mg 同属 II 族元素的 Be、Zn、Cd、Hg 似也有可能具有类似能力,I 族元素 Li 更有可能在 N 位上释放其唯一的外层电子而起施主作用。现未发现这些杂质的施主能级,原因可能是这些元素释 放一个电子的电离能过大,相应的能级已进入价带之中。 3)Mg 在 GaN 中起施主作用时占据的是 N 位,因其外层电子数 2 比被其置换的 N 原子少很多, 因此它有可能释放其价电子,但这些电子已为其与最近邻 Ga 原子所共有,所受之约束比 Si、C 原子 取代 Ga 原子后多余的一个电子所受之约束大得多,因此其电离能较大。当其释放了第一个电子之后 就成为带正电的 Mg 离子,其第二个价电子不仅受共价环境的约束,还受 Mg 离子的约束,其电离能 更大,因此 Mg 代 N 位产生两条深施主能级。 4)Ga 取 N 位属反位缺陷,因比其替代的 N 原子少两个电子,所以有可能产生两条受主能级, 目前只观察到一条范围在价带顶以上 0.59eV1.09eV 的受主能级, 另一能级观察不到的原因可能是其 二重电离(接受第二个共价电子)的电离能太大,相应的能级已进入导带之中。 (不过,表中所列数 据变化范围太大,不合情理,怀疑符号有误,待查。 ) 5)其他问题例如: 为什么 C 比 Si 的电离能高?答:因为 C 比 Si 的电负性强。 Li 代 Ga 位应该有几条受主能级?答:Li 比 Ga 少两个价电子,应该有两条受主能级。 ……….

半导体物理(朱俊)第二章 半导体中的杂质和能级缺陷

半导体物理(朱俊)第二章  半导体中的杂质和能级缺陷
对应金在锗中的四个能级,一个施主,三个受主能级
例2:Au(Ⅰ族)在Si中
EC EA ED EV
两个深杂质 能级,真正 对少子寿命 起控制作用 的是最靠近 禁带中部的 受主能级 0.54eV。
其它两个可能的受主能级目前还没有测量到。
6.Si、Ge 元素半导体中的缺陷
(空位、自间隙原子)
(1)空位 (1) 空位
●受主杂质- Ⅱ族元素
Ⅱ族元素(Zn、Be、Mg、Cd、Hg) 在GaAs中通常都取代Ⅲ族元素Ga原子 的晶格位置,由于Ⅱ族原子比Ⅲ族原子 少一个价电子,因此Ⅱ族元素杂质在 GaAs中通常起受主作用,均为 浅受主 。
常用掺Zn或Cd以获得Ⅲ-Ⅴ族化合物p型半导体
● 两性杂质- Ⅳ族元素
Ⅳ 族 元 素 杂 质 ( Si、Ge、Sn、Pb) 在 GaAs中的作用比较复杂,可以取代Ⅲ族的 Ga,也可以取代Ⅴ族的As,甚至可以同时 取代两者,因此Ⅳ族杂质不仅可以起施主作 用和受主作用,还可以起中性杂质作用。 例如,在掺Si浓度小于1×1018cm-3时,Si全 部取代Ga位而起施主作用,这时掺Si浓度和 电子浓度一致;而在掺Si浓度大于1018cm-3 时,部分Si原子开始取代As 位,出现补偿 作用,使电子浓度逐渐偏低。
硅、锗在T=0K 时的Eg为1.170eV和0.7437eV
浅施主杂质电离能的计算(类氢原子模型):
(1):氢原子中的电子的运动轨道半 径为: 2
εrεo h 2 rH = n 2 moπ q
+
n=1 为基态电子的运动轨迹
Si 中受正电中心 P 束缚的电子的运动轨道半 径,考虑正负电荷处在介电常数不同的介质 中以及晶格周期性势场的影响:
原因:杂质原子的电子壳层结构、杂质原子的大 小以及杂质在半导体晶格中的位置等原因,而导 致杂质的多能级结构。
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2.3.3 费米能-载流子浓度关系
把EF和载流子浓度联系起来的基本公式如下: (1)
(2)
E F Ei n n i exp( ) kT E i EF p n i exp( ) kT
ni是本征载流子浓度,Ei是接近禁带中线的一个能量。
已知载流子浓度,确定费米能级的高低。 已知费米能级计算载流子浓度。(习题见教材)
2.1 量子态和能级
2.1.3 能带基础上的电子和空穴
对于之前我们谈到的 Si和Ge,构成共价键 的电子就是填充价带 的电子;电子摆脱共 价键的过程,从能带 上看,就是电子离开 价带留下空的能级。 摆脱束缚的电子到导 带中需要的能量最小。
电子从价带到导带的量子跃迁过程-------电子、空穴的产生!
ni
2=np=
C1/2T3/2
e
Eg / 2 kT
同理,对于p型掺杂半导体,我 们有p= NA ; n=ni2/NA
2.3 费米能级
2.3.1 掺杂是改变能带里电子多少的手段
假设没有热运动产生的电子空穴对,即无少子:
从能带的基础上看,掺杂是在能带里放进一些电子或拿走一些电 子的手段。通过不同的掺杂可以使电子填充能带到不同的水平。
同一个量子态不能有两个电子。 电子总是从一个已有电子的量子态跃迁到一个空的量 子态。 “空能级”或空量子态在考虑跃迁的时候就十分重要。
2.1 量子态和能级
2.1.2 半导体中电子的能带
原子组合成晶体后,电子的量子态将发生质的变化,它将 不再是固定在个别原子上的运动,而是穿行于整个晶体的 运动,电子的这种质变称为“共有化”。
**理解微观粒子两种运动形式的辩证统一。
2.1 量子态和能级
2.1.1 原子中电子的量子态和能级
讨论电子的统计分布,最重要的是量子态的能 量。
能级图:用一系列高低不同的水平横线来表示各个量 子态所能取的能量。量子态的能量只能取特定的值。
通常情况下,具有同一个能量的几个量子态统称为一 个能级。为了阐述的方便,我们将把每一个量子态称为一 个能级。如果有几个量子态具有相同的能量,就看成是几 个能级重叠在一起。
费米能和载流子浓度关系式所表达的规律: 当EF=Ei时,可得到n=ni; p=ni,这就是本征情形。
EF在禁带宽度上半部,则代表n型, EF越高代表电子数越多。此时, n>ni; p<ni。
EF在禁带宽度下半部,则代表p型, EF越低代表空穴数越多。此时, n<ni; p>ni。 掺杂与费米能级: N型半导体:对于施主全部电离的情况,n-p=ND, 把(1)和(2)式 代入,最终可以变化为 :
电子从价带到导带的热跃迁被称为电子-空穴对的产生过程。(这 种热跃迁还可以间接通过杂质能级进行!)
永不休止的电子-空穴对的产生总是伴随着两者无休止的复合。 电子和空穴相遇时,电子可以从导带落入价带的这个空能级,此 过程称为电子-空穴的复合。
如果没有光照或者PN结注入等外界影响, 温度又保持不变,半导体中将在产生和复 合的基础上形成热平衡。 热平衡时,电子和空穴的浓度保持稳定 不变,但是产生和复合仍在持续不断地发 生。平衡是相对的、有条件的,而产生和 复合这一对矛盾的斗争是绝对的。
2.2 多子和少子的热平衡
2.2.2 电子、空穴浓度的热平衡关系
在单位体积、单位时间内复合与产生的电子-空穴对的数目分别 为电子和空穴的复合率和产生率。
复合率可以表示为: 复合率=rn*p n和p分别为电子和空穴的浓度。r是一个表示电子与空穴复合作用 强弱的常数,称为 复合系数。 产生率可以表示为: 产生率=KT3
2.1 量子态和能级
2.1.4 杂质能级(施主)
半导体中的杂质可以使电子在其周围运动而形成量子态。杂质量子态的能级 处于禁带中。
施主杂质本身成为正电中 心,可以束缚电子在其周 围运动而形成一个量子态。 用电离能来反映原子对电 子的束缚强弱。 通常器件的使用温度下, 施主上的电子几乎全部电 离,成为导电电子。 施主的电离其实就是施主 能级上的电子跃迁到导带 中,对应的能量即为电离 能。
浅能级:施主能级离导带或者受主能级离价带很近。
深能级:施主能级离导带或者受主能级离价带较远。
当施主能级和受主能级同时存在的时候,为何会相 互补偿?(不是分别提供电子和空穴)?
补偿的原因是因为导带和施主能级的能量比价带和受主能级的 能量高很多。 当ND>NA时,施主上的电子首先会填充NA个空能级,剩下只有 ( ND-NA )个电子可以电离到导带。
2.1 量子态和能级
2.1.4 杂质能级(受主)
受主杂质本身成为负电中 心,可以束缚空穴在其周 围运动而形成一个量子态。 用电离能来反映使空穴摆 脱受主束缚所需的能量。 通常器件的使用温度下, 受主上的空穴几乎全部电 离,成为导电空穴。 受主的电离其实就是价带 中的电子跃迁到受主能级 上的过程。
能级在有电子的时候呈电中性,失去电子后成为正电中 心,具有这个特点的杂质能级称为施主能级。 能级在没有电子的时候呈电中性,有电子的时候是带负 电的中心,具有这个特点的杂质能级称为受主能级。
当ND<NA时,ND个施主上的电子都落下去填充下面的空能级,剩 下只有( NA-ND )能够电离形成空穴。
2.1 量子态和能级
2.1.5 量子跃迁和禁带宽度
电子的量子跃迁与能量密切相关。电子必须吸收能量才能从低能 级跃迁到高能级;电子从高能级跃迁到低能级则必须把多余的能量 放出来。
对于半导体,电子跃迁中的交换能量可以是热运动的能量,称为 热跃迁。也可以是光能量,称为光跃迁。 随着温度升高,原子热振动剧烈,更多电子会从价带激发到导带 (热跃迁),同时也有电子从导带跃迁到价带。本章的统计分布规 律(热平衡和偏离平衡)就是基于热跃迁。施主和受主能级的电离 也是热跃迁过程。
2.2 多子和少子的热平衡
2.2.3 本征半导体
半导体中没有杂质,而完全靠半导体本身提供载流子的半导体称 为本征半导体(理想情况)。 这种情况下,载流子的形成完全依靠电子-空穴对的产生,因此, 每产生一个电子,就同时产生一个空穴,电子和空穴的浓度保持相 等。
ni=
C1/2T3/2
e
Eg / 2 kT
实际应用中的“本征情况”是指温度足够高,本征激发的载流子远 远超过了杂质浓度时的情况。
对于半导体晶体管、集成电 路等器件,本征情况是一种 参考标准,用来说明器件使 用的温度限制。
热平衡公式可以简写成: np=ni2
2.2 多子和少子的热平衡
2.2.3 电中性条件,多子、少子浓度
掺杂半导体中,由于电子-空穴对的产生,多子和少子同时存在。 那么多子和少子的浓度分别是多少呢? 不能把杂质提供的载流子和本征载流子当做互不相干的两部分进 行机械相加。多子、少子的浓度是通过热平衡基本公式和电中性条 件决定的。 半导体内部正负电荷总是保持相等,处于电中性状态。掺杂的作 用就是通过电中性表现出来的。
大量原子的不规则热运动表现出确定的统计规律性,具有各种不同 的热振动能量的原子之间保持确定的比例。
根据热运动理论,振动能量很大,超过某一能量E的原子所占比例为:
e E / kT
通常情况下,这个比例很小,但是考虑到单位体积原子总数很大, 每秒振动次数很大,所以,实际仍有相当大量的原子有足够的振动 能量是电子不断发生从价带到导带的跃迁。 比如Si,带隙Eg=1.1eV,室温下kT=0.026eV, 可以计算得到热运动能 量超过Eg的原子占得比例为大约3*10-19.
光跃迁(光发射)
一般来讲,导带电子集中在导带的最底部,空穴集中在价带顶部, 所以,导带电子跃迁到价带空能级的光跃迁中所发出的光的波长由 禁带宽度决定,基本上等于禁带宽。 如GaP或者GaP和GaAs的混合晶体(GaAs1-xPx)可以实现可见光发射, 用于可见光二极管器件。
2.2 多子和少子的热平衡
对于施主浓度为ND的n型半导体,室温下施主可以认为全部是电离的。 正电荷有ND个电离施主和p个空穴,负电荷是n个电子。
在一般器件使用的温度范围内, 掺杂浓度总是远远大于本征载流 子浓度;此时,少子的浓度也是 远远小于掺杂浓度。因此,p相 对于ND可以忽略不计。n= ND . 故:p=ni2/ND
n= ND +p
e
E g / kT
(电子-空穴对是由振动能量超过禁带宽度的原子产生。产生率随着 温度的升高而增加)
达到热平衡时,复合率等于迁移率。因此:
rn*p=
进一步写成:
KT3
e
E g / kT
np=CT3
e
E g / kT
公式中两个常数Eg和C都是有材料性质决定,与掺杂无关。对于Si, Eg=1.21 eV, C=1.5*1033 思考:如果n=p, 那是一种什么情况呢??
光跃迁
光跃迁的结果是产生一对电子和空穴;光跃迁是许多半导体器件 的基础。(i)如利用光照产生电子-空穴对降低半导体电阻的原理 可以制成光敏电阻(适合于红外光的化合物半导体光敏电阻是,在PN结 上可以产生光电流和光生电压的现象,制成太阳能电池,光电二极 管等光电转换器件。
2.3 费米能级
导带电子浓度n从左到右逐渐提高,价带空穴浓度p则逐渐下降, 表明价带中电子也是随着填充能带的“水平”而提高的。
2.3.2 费米能-电子填充能带的“水平”
填充能带的水平类似于水箱中水面达到的高度。但是又有明显区别:
1,价带和导带之间隔了一条禁带 2,热运动使得价带和导带均有载流子 (热运动使得电子并不是完全由低到高,先填满低能带,再去填高能带。)
2.2.1 电子-空穴对的产生和复合
N型半导体中,电子是多子(多数载流子);空穴是少子(少数 载流子)。P型半导体中,空穴是多子;电子是少子。
为什么电子和空穴总是同时存在于半导体中的呢? 根本原因在于晶格的热振动促使电子不断地发生从价带到导带的热 跃迁。要注意的是,热运动的特点是:不论运动的方向或者是运动 的强弱,都不是整齐划一的,而是极不规则的。原子的振动可以去 各个方向,振动的能量有大有小,kT只代表一个平均值。 总有少量原子的能量远远大于kT!!
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