半导体物理学简答题及答案知识讲解
半导体物理问答题(精品).docx
第一篇习题半导体中的电子状态1-1、什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说明之。
1-2、试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。
1-3、试指出空穴的主要特征。
1-4、简述Ge、Si和GaAS的能带结构的主要特征。
1-5、某一维晶体的电子能带为E(k) = E Q[1—O.lcos(如)—0.3sin(*a)]其中E0=3eV,晶格常数a=5xl0-11mo求:Cl)能带宽度;C2)能带底和能带顶的有效质量。
第一篇题解半导体中的电子状态1-1、解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(3Eg)被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。
其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。
如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有更多的电子被激发到导带中。
1-2、解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。
温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。
反之,温度降低,将导致禁带变宽。
因此,Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数。
1-3、解:空穴是未被电子占据的空量子态,被用来描述半满带中的大量电子的集体运动状态,是准粒子。
主要特征如下:A、荷正电:+q;B、空穴浓度表示为p (电子浓度表示为n);C、Ep=-E nD、mp*=-m n*o1-4、解:(1) Ge、Si:a)Eg (Si: 0K)= 1.21eV; Eg (Ge: OK) = 1.170eV;b)间接能隙结构C)禁带宽度Eg随温度增加而减小;(2) GaAs :a) E g (300K) = 1.428eV, Eg (OK) = 1.522eV ;b) 直接能隙结构;c) Eg 负温度系数特性:dE g /dT = -3.95XlO-4eV/K ; 1-5、解:(1) 由题意得:dE ——=O.lofijsiii (如)-3cos (知)] dk= 0.1a 2E 0[cos(^a) + 3sin(A;a)]dF i令—=0,得tg (ka)=— dk 3k x a = 18.4349°,灼。
半导体物理与器件课后练习题含答案
半导体物理与器件课后练习题含答案1. 简答题1.1 什么是p型半导体?答案: p型半导体是指通过加入掺杂物(如硼、铝等)使得原本的n型半导体中含有空穴,从而形成的半导体材料。
具有p型性质的半导体材料被称为p型半导体。
1.2 什么是n型半导体?答案: n型半导体是指通过加入掺杂物(如磷、锑等)使得原本的p型半导体中含有更多的自由电子,从而形成的半导体材料。
具有n型性质的半导体材料被称为n型半导体。
1.3 什么是pn结?答案: pn结是指将p型半导体和n型半导体直接接触形成的结构。
在pn结的界面处,p型半导体中的空穴和n型半导体中的自由电子会相互扩散,形成空间电荷区,从而形成一定的电场。
当外加正向电压时,电子和空穴在空间电荷区中相遇,从而发生复合并产生少量电流;而当外加反向电压时,电场反向,空间电荷区扩大,从而形成一个高电阻的结,电流几乎无法通过。
2. 计算题2.1 若硅片的掺杂浓度为1e16/cm³,电子迁移率为1350 cm²/Vs,电离能为1.12 eV,则硅片的载流子浓度为多少?解题过程:根据硅片的掺杂浓度为1e16/cm³,可以判断硅片的类型为n型半导体。
因此易知载流子为自由电子。
根据电离能为1.12 eV,可以推算出自由电子的有效密度为:n = N * exp(-Eg / (2kT)) = 6.23e9/cm³其中,N为硅的密度,k为玻尔兹曼常数(1.38e-23 J/K),T为温度(假定为室温300K),Eg为硅的带隙(1.12 eV)。
因此,载流子浓度为1e16 + 6.23e9 ≈ 1e16 /cm³。
2.2 假设有一n+/p结的二极管,其中n+区的掺杂浓度为1e19/cm³,p区的掺杂浓度为1e16/cm³,假设该二极管在正向电压下的漏电流为1nA,求该二极管的有效面积。
解题过程:由于该二极管的正向电压下漏电流为1nA,因此可以利用肖特基方程计算出它的开启电压:I = I0 * (exp(qV / (nkT)) - 1)其中,I0为饱和漏电流(假定为0),q为电子电荷量,V为电压,n为调制系数(一般为1),k为玻尔兹曼常数,T为温度。
半导体物理试题及答案
半导体物理试题及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电能力介于导体和绝缘体之间,这是由于()。
A. 半导体的原子结构B. 半导体的电子结构C. 半导体的能带结构D. 半导体的晶格结构答案:C2. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带需要()。
A. 吸收能量B. 释放能量C. 吸收光子D. 释放光子答案:A3. PN结形成的基础是()。
A. 杂质掺杂B. 温度变化C. 压力变化D. 磁场变化答案:A4. 半导体器件中的载流子主要是指()。
A. 电子B. 空穴C. 电子和空穴D. 光子答案:C5. 半导体的掺杂浓度越高,其导电性能()。
A. 越好B. 越差C. 不变D. 先变好再变差答案:A二、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体的导电性能可以通过改变其________来调节。
答案:掺杂浓度2. 半导体的能带结构中,价带和导带之间的能量差称为________。
答案:带隙3. 在半导体中,电子和空穴的复合现象称为________。
答案:复合4. 半导体器件中的二极管具有单向导电性,其导通方向是从________到________。
答案:阳极阴极5. 半导体的PN结在外加正向电压时,其内部电场会________。
答案:减弱三、简答题(每题10分,共30分)1. 简述半导体的掺杂原理。
答案:半导体的掺杂原理是指通过向半导体材料中掺入少量的杂质元素,改变其电子结构,从而调节其导电性能。
掺入的杂质元素可以是施主杂质(如磷、砷等),它们会向半导体中引入额外的电子,形成N型半导体;也可以是受主杂质(如硼、铝等),它们会在半导体中形成空穴,形成P型半导体。
2. 描述PN结的工作原理。
答案:PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。
在PN结中,P型半导体的空穴会向N型半导体扩散,而N型半导体的电子会向P型半导体扩散。
由于扩散作用,会在PN结的交界面形成一个内建电场,该电场会阻止更多的载流子通过PN结。
半导体物理复习试题及答案复习资料
半导体物理复习试题及答案复习资料一、引言半导体物理是现代电子学中至关重要的一门学科,其涉及电子行为、半导体器件工作原理等内容。
为了帮助大家更好地复习半导体物理,本文整理了一些常见的复习试题及答案,以供大家参考和学习。
二、基础知识题1. 请简述半导体材料相对于导体和绝缘体的特点。
答案:半导体材料具有介于导体和绝缘体之间的导电特性。
与导体相比,半导体的电导率较低,并且在无外界作用下几乎不带电荷。
与绝缘体相比,半导体的电导率较高,但不会随温度显著增加。
2. 什么是本征半导体?请举例说明。
答案:本征半导体是指不掺杂任何杂质的半导体材料。
例如,纯净的硅(Si)和锗(Ge)就是本征半导体。
3. 简述P型半导体和N型半导体的形成原理。
答案:P型半导体形成的原理是在纯净的半导体材料中掺入少量三价元素,如硼(B),使其成为施主原子。
施主原子进入晶格后,会失去一个电子,并在晶格中留下一个空位。
这样就使得电子在晶格中存在的空位,形成了称为“空穴”的正电荷载流子,因此形成了P型半导体。
N型半导体形成的原理是在纯净的半导体材料中掺入少量五价元素,如磷(P)或砷(As),使其成为受主原子。
受主原子进入晶格后,会多出一个电子,并在晶格中留下一个可移动的带负电荷的离子。
这样就使得半导体中存在了大量的自由电子,形成了N型半导体。
4. 简述PN结的形成原理及特性。
答案:PN结是由P型半导体和N型半导体的结合所形成。
P型半导体和N型半导体在接触处发生扩散,形成电子从N区流向P区的过程。
PN结具有单向导电性,即在正向偏置时,电流可以顺利通过;而在反向偏置时,电流几乎无法通过。
三、摩尔斯电子学题1. 使用摩尔斯电子学符号,画出“半导体”的符号。
答案:半导体的摩尔斯电子学符号为“--..-.-.-...-.”2. 根据摩尔斯电子学符号“--.-.--.-.-.-.--.--”,翻译为英文是什么?答案:根据翻译表,该符号翻译为“TRANSISTOR”。
半导体物理面试题目(3篇)
第1篇一、基础知识1. 请解释半导体、绝缘体和导体的区别,并举例说明。
2. 什么是能带理论?请简述其基本原理和意义。
3. 解释半导体材料的禁带宽度对器件性能的影响。
4. 请简述半导体材料的导电机制,包括电子和空穴的导电。
5. 什么是pn结?请解释其形成原理、工作原理和主要特性。
6. 请简述半导体器件的基本结构,如二极管、晶体管等。
7. 解释霍尔效应及其在半导体中的应用。
8. 什么是半导体器件的掺杂?请简述掺杂对器件性能的影响。
9. 请解释光电效应及其在半导体器件中的应用。
10. 什么是半导体材料的晶体生长?请列举几种常见的晶体生长方法。
二、半导体器件1. 请简述二极管的基本结构、工作原理和主要特性。
2. 解释晶体管的工作原理,包括npn型和pnp型晶体管。
3. 请简述MOSFET的基本结构、工作原理和主要特性。
4. 解释半导体激光器的工作原理,包括半导体激光二极管(LD)和半导体激光器(SL)。
5. 请简述太阳能电池的基本结构、工作原理和主要特性。
6. 解释半导体光电器件(如光电二极管、光电三极管)的工作原理。
7. 请简述半导体存储器(如DRAM、SRAM)的基本结构、工作原理和主要特性。
8. 解释半导体传感器(如温度传感器、压力传感器)的工作原理。
三、半导体物理研究方法1. 请简述半导体物理实验的基本方法,如电学测量、光学测量等。
2. 解释半导体物理研究中的数据分析方法,如曲线拟合、误差分析等。
3. 请简述半导体物理研究中的模拟方法,如有限元分析、蒙特卡洛模拟等。
4. 解释半导体物理研究中的计算方法,如量子力学计算、分子动力学计算等。
5. 请简述半导体物理研究中的实验设计方法,如实验方案制定、实验参数优化等。
四、半导体物理前沿技术1. 请简述半导体物理领域的最新研究进展,如量子点、碳纳米管等。
2. 解释半导体物理在新能源、物联网、人工智能等领域的应用。
3. 请简述半导体物理在微电子、光电子、生物电子等领域的交叉研究。
半导体物理第一章习题答案
半导体物理第一章习题答案半导体物理第一章习题答案在半导体物理学的学习中,习题是非常重要的一部分。
通过解答习题,我们可以加深对理论知识的理解,巩固所学内容,并培养解决问题的能力。
下面是一些关于半导体物理第一章的习题及其答案,希望对大家的学习有所帮助。
1. 什么是半导体?答:半导体是介于导体和绝缘体之间的材料。
它的导电性介于导体和绝缘体之间,可以通过施加外界电场或温度的变化来改变其电导率。
2. 半导体的能带结构有哪些特点?答:半导体的能带结构具有以下特点:- 价带和导带之间存在禁带,禁带宽度决定了材料的导电性能。
- 价带和导带中的能级数目与电子数目之间存在关联,即保持电中性。
- 价带和导带中的电子分布符合费米-狄拉克分布。
3. 什么是载流子?答:载流子是指在半导体中参与电流传输的带电粒子。
在半导体中,载流子主要有电子和空穴两种类型。
4. 什么是固有载流子浓度?答:固有载流子浓度是指在材料中由于温度引起的自发激发和热激发所产生的载流子浓度。
它与材料的能带结构和温度有关。
5. 什么是掺杂?答:掺杂是指向纯净的半导体中加入少量杂质,通过改变杂质的电子结构来改变半导体的电导性能。
掺杂分为n型和p型两种。
6. 什么是pn结?答:pn结是由n型和p型半导体通过扩散或外加电场形成的结构。
在pn结中,n型半导体中的自由电子会扩散到p型半导体中,而p型半导体中的空穴会扩散到n型半导体中,形成电子-空穴复合区域。
7. 什么是势垒?答:势垒是指pn结两侧带电粒子所形成的电场引起的电位差。
势垒的存在导致了电子和空穴的扩散和漂移,从而产生电流。
8. 什么是正向偏置和反向偏置?答:正向偏置是指在pn结上施加外加电压,使得p区的正电荷和n区的负电荷相吸引,势垒减小,电流得以流动。
反向偏置是指在pn结上施加外加电压,使得p区的负电荷和n区的正电荷相吸引,势垒增大,电流被阻断。
9. 什么是击穿?答:击穿是指在反向偏置下,当外加电压达到一定值时,pn结中的电场强度足够大,使得势垒被完全破坏,电流急剧增大的现象。
半导体物理问题解答
目录第一章、量子力学初步 (3)1.1、一维无限深势阱: (3)1.2、一维有限深势阱: (3)1.3、周期势(周期有限势阱): (3)1.4、隧道效应: (3)第二章、晶格振动 (4)2.1、载流子的散射: (4)2.2、为什么要研究晶格振动? (4)2.3、一维双原子晶格的振动:分为光学波(相对,高频)和声学波(整体,低频) .. 42.4、为什么称为光学波? (4)2.5、为什么称为声学波? (4)2.6、三维晶体中的晶格振动: (4)第三章、晶体中的电子状态 (6)3.1、费米-狄拉克分布: (6)3.2、费米-狄拉克分布函数的性质: (6)3.3、晶体的能带 (7)3.4、施主能级与受主能级 (7)3.5、能带中的电子和空穴浓度: (8)3.5.1、导带电子密度 (8)3.5.2、价带空穴密度 (8)3.6、n型半导体(单一杂质/非补偿情形) (8)3.6.1、杂质弱电离/低温弱电离区(p0≈0 n0=nD+<<ND) (9)3.6.2、饱和电离(n0=ND) (9)3.6.3、过渡区(杂质饱和电离→本征激发)(n0=p0+ND) (9)3.7、补偿情形 (9)3.8、简并的出现(重掺杂) (9)3.9、金属、半导体、绝缘体 (10)第四章、载流子的运动 (11)4.1、漂移运动 (11)4.2、扩散运动 (11)4.3、爱因斯坦关系 (12)第五章、非平衡载流子 (13)5.1、非平衡载流子 (13)5.2、光电导现象 (13)5.3、非平衡载流子寿命τ (13)第六章、平衡p-n结 (15)6.1、p-n结接触电势差 (15)6.2、平衡p-n结中载流子浓度分布 (15)第七章、非平衡p-n结 (16)7.1、平衡PN结的能带图 (16)7.2、正偏PN结能带图 (16)7.3、反偏PN结的能带图 (16)7.4、p-n结在三种情况下的势垒高度及能带图 (17)7.5、理想p-n结J-V关系 (18)7.6、实际p-n结J-V关系 (18)7.7、p-n结的击穿 (18)7.7.1、雪崩击穿 (18)7.7.2、隧道击穿(齐纳击穿) (19)第八章、金半接触 (20)8.1、功函数和电子亲和能 (20)8.2、接触电势差(金半缝隙之间的电势差Vms) (20)8.3、表面势:半导体表面和体内的电势差Vs (20)8.4、肖特基势垒:(金半实际接触,无缝隙) (20)8.5、表面态对接触势垒的影响 (21)8.6、pn结和肖特基势垒二极管的比较 (21)8.7、欧姆接触(金属-重掺杂半导体接触) (21)第九章、表面电场效应 (22)9.1、半导体表面层的五种基本状态 (22)第一章第一章、量子力学初步1.1、一维无限深势阱:对于一维无限深势阱,粒子束缚于有限空间范围,这样的状态,称为束缚态。
半导体物理学复习题答案
半导体物理学复习题答案1. 半导体材料的基本特性是什么?答:半导体材料的基本特性包括介于导体和绝缘体之间的电导率,对温度和光照敏感的电导率变化,以及掺杂后可以控制其导电性。
2. 什么是本征半导体?答:本征半导体是指在绝对零度时,其导电性完全由材料内部的电子-空穴对产生,没有外部杂质原子的半导体。
3. 简述P型半导体和N型半导体的区别。
答:P型半导体是通过掺杂三价元素(如硼)制成的,这些元素在半导体晶格中产生空穴,使其成为主要的载流子。
N型半导体则是通过掺杂五价元素(如磷)制成的,这些元素在晶格中产生额外的电子,使其成为主要的载流子。
4. 什么是能带结构?答:能带结构是指固体材料中电子能级分布的图像,它显示了电子在不同能量状态下的分布情况。
能带结构中,价带和导带之间的能量差距称为带隙。
5. 描述费米能级在半导体中的作用。
答:费米能级是半导体中电子占据状态的概率为1/2的能量水平。
在半导体中,费米能级的位置受温度和掺杂水平的影响,它决定了半导体的导电性。
6. 什么是PN结?答:PN结是由P型半导体和N型半导体接触形成的结构,其特点是在接触区域形成一个耗尽区,该区域由于载流子的复合而几乎没有自由载流子,因此具有很高的电阻。
7. 简述光生伏打效应。
答:光生伏打效应是指当光照射到半导体表面时,光子能量激发电子从价带跃迁到导带,产生电子-空穴对,从而在半导体内部形成电势差的现象。
8. 什么是霍尔效应?答:霍尔效应是指在电流通过的导体或半导体上施加垂直于电流方向的磁场时,会在垂直于电流和磁场的方向上产生电压差的现象。
9. 描述半导体的载流子迁移率。
答:载流子迁移率是指在单位电场作用下,半导体中的载流子(电子或空穴)的平均漂移速度,它是衡量半导体导电性能的一个重要参数。
10. 什么是半导体的热电效应?答:半导体的热电效应是指在半导体中,由于温度梯度引起的电荷载流子的定向运动,从而产生电动势的现象。
这种效应可以用于制造热电发电机和温度传感器。
半导体物理复习要点答案
一、填充题1. 两种不同半导体接触后, 费米能级较高的半导体界面一侧带正电达到热平衡后两者的费米能级相等。
2. 半导体硅的价带极大值位于k空间第一布里渊区的中央,其导带极小值位于【100】方向上距布里渊区边界约0.85倍处,因此属于间接带隙半导体。
3. 晶体中缺陷一般可分为三类:点缺陷,如空位间隙原子;线缺陷,如位错;面缺陷,如层错和晶粒间界。
4. 间隙原子和空位成对出现的点缺陷称为弗仓克耳缺陷;形成原子空位而无间隙原子的点缺陷称为肖特基缺陷。
5.浅能级杂质可显著改变载流子浓度;深能级杂质可显著改变非平衡载流子的寿命,是有效的复合中心。
6. 硅在砷化镓中既能取代镓而表现为施主能级,又能取代砷而表现为受主能级,这种性质称为杂质的双性行为。
7.对于ZnO半导体,在真空中进行脱氧处理,可产生氧空位,从而可获得 n型 ZnO半导体材料。
8.在一定温度下,与费米能级持平的量子态上的电子占据概率为1/2 ,高于费米能级2kT能级处的占据概率为1/1+exp(2) 。
9.本征半导体的电阻率随温度增加而单调下降,杂质半导体的电阻率随温度增加,先下降然后上升至最高点,再单调下降。
10.n型半导体的费米能级在极低温(0K)时位于导带底和施主能级之间中央处,随温度升高,费米能级先上升至一极值,然后下降至本征费米能级。
11. 硅的导带极小值位于k空间布里渊区的【100】方向。
12. 受主杂质的能级一般位于价带顶附近。
13. 有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用。
14. 间隙原子和空位成对出现的点缺陷称为弗仓克耳缺陷。
15. 除了掺杂,引入缺陷也可改变半导体的导电类型。
16. 回旋共振是测量半导体内载流子有效质量的重要技术手段。
17. PN结电容可分为势垒电容和扩散电容两种。
18. PN结击穿的主要机制有雪崩击穿、隧道击穿和热击穿。
19. PN结的空间电荷区变窄,是由于PN结加的是正向电压电压。
20.能带中载流子的有效质量反比于能量函数对于波矢k的二阶导数,引入有效质量的意义在于其反映了晶体材料的内部势场的作用。
半导体器件物理复习题答案
半导体器件物理复习题答案一、选择题1. 半导体材料中,导电性介于导体和绝缘体之间的是:A. 导体B. 绝缘体C. 半导体D. 超导体答案:C2. PN结形成后,其空间电荷区的电场方向是:A. 由N区指向P区B. 由P区指向N区C. 垂直于PN结界面D. 与PN结界面平行答案:B3. 在室温下,硅的本征载流子浓度大约是:A. \(10^{10}\) cm\(^{-3}\)B. \(10^{12}\) cm\(^{-3}\)C. \(10^{14}\) cm\(^{-3}\)D. \(10^{16}\) cm\(^{-3}\)答案:D二、简答题1. 解释什么是PN结,并简述其工作原理。
答案:PN结是由P型半导体和N型半导体接触形成的结构。
P型半导体中空穴是多数载流子,N型半导体中电子是多数载流子。
当P型和N型半导体接触时,由于扩散作用,空穴和电子会向对方区域扩散,形成空间电荷区。
在空间电荷区,由于电荷的分离,产生一个内建电场,这个电场的方向是从N区指向P区。
这个内建电场会阻止进一步的扩散,最终达到动态平衡,形成PN结。
2. 描述半导体中的扩散和漂移两种载流子运动方式。
答案:扩散是指由于浓度梯度引起的载流子从高浓度区域向低浓度区域的运动。
漂移则是指在外加电场作用下,载流子受到电场力的作用而产生的定向运动。
扩散和漂移共同决定了半导体中的电流流动。
三、计算题1. 假设一个PN结的内建电势差为0.7V,求其空间电荷区的宽度。
答案:设PN结的空间电荷区宽度为W,内建电势差为Vbi,则有:\[ V_{bi} = \frac{qN_{A}N_{D}}{2\varepsilon}W \] 其中,q是电子电荷量,\( N_{A} \)和\( N_{D} \)分别是P型和N型半导体中的掺杂浓度,\( \varepsilon \)是半导体的介电常数。
通过这个公式可以计算出空间电荷区的宽度W。
四、论述题1. 论述半导体器件中的载流子注入效应及其对器件性能的影响。
半导体物理习题答案
半导体物理习题答案半导体物理是固体物理的一个重要分支,它研究的是半导体材料的物理性质及其在电子器件中的应用。
以下是一些常见的半导体物理习题及其答案。
习题一:半导体的能带结构问题:简述半导体的能带结构,并解释价带、导带和禁带的概念。
答案:半导体的能带结构由价带和导带组成,两者之间存在一个能量间隔,称为禁带。
价带是半导体中电子能量最低的能带,当电子处于价带时,它们是被束缚在原子周围的。
导带是电子能量最高的能带,电子在导带中可以自由移动。
禁带是价带顶部和导带底部之间的能量区间,在这个区间内不存在允许电子存在的能级。
半导体的导电性能介于导体和绝缘体之间,主要因为其禁带宽度较小,电子容易从价带激发到导带。
习题二:PN结的形成与特性问题:解释PN结的形成过程,并描述其正向和反向偏置特性。
答案:PN结是由P型半导体和N型半导体接触形成的结构。
P型半导体中存在空穴,而N型半导体中存在自由电子。
当P型和N型半导体接触时,由于扩散作用,P型中的空穴会向N型扩散,而N型中的电子会向P型扩散。
这种扩散导致在接触区域形成一个耗尽层,其中电子和空穴复合,留下固定电荷,形成内建电场。
正向偏置时,外加电压使内建电场减弱,允许更多的电子和空穴通过PN结,从而增加电流。
反向偏置时,外加电压增强了内建电场,阻碍了电子和空穴的流动,导致电流非常小。
习题三:霍尔效应问题:描述霍尔效应的基本原理,并解释霍尔电压的产生。
答案:霍尔效应是指在垂直于电流方向的磁场作用下,载流子受到洛伦兹力的作用,导致电荷在样品一侧积累,从而在垂直于电流和磁场方向上产生一个横向电压差,即霍尔电压。
霍尔效应的发现为研究材料的载流子类型和浓度提供了一种有效的方法。
霍尔电压的大小与电流、磁场强度以及材料的载流子浓度有关。
习题四:半导体的掺杂问题:解释半导体掺杂的目的和方法,并举例说明。
答案:半导体掺杂的目的是为了改变半导体的导电性能。
通过在纯净的半导体中掺入微量的杂质原子,可以增加或减少半导体中的载流子数量。
半导体物理知识点及重点习题总结
半导体物理知识点及重点习题总结半导体物理是现代电子学中的重要领域,涉及到半导体材料的电学、热学和光学等性质,以及半导体器件的工作原理和应用。
本文将对半导体物理的一些重要知识点进行总结,并附带相应的重点习题,以帮助读者更好地理解和掌握相关知识。
一、半导体材料的基本性质1. 半导体材料的能带结构半导体材料的能带结构决定了其电学性质。
一般而言,半导体材料具有禁带宽度,可以分为导带(能量较高)和价带(能量较低)。
能量在禁带内的电子处于被限制的状态,称为束缚态,能量在导带中的电子可以自由移动,称为自由态。
2. 掺杂和杂质掺杂是将少量的杂质原子引入纯净的半导体材料中,以改变其导电性质。
掺入价带原子的称为施主杂质,掺入导带原子的称为受主杂质。
施主杂质会增加导电子数,受主杂质会增加载流子数。
3. P型和N型半导体掺入施主杂质的半导体为P型半导体,施主杂质的电子可轻易地跳出束缚态进入导带,形成载流子。
掺入受主杂质的半导体为N型半导体,受主杂质的空穴可轻易地跳出束缚态进入价带,形成载流子。
二、PN结和二极管1. PN结的形成和特性PN结是P型和N型半导体的结合部分,形成的原因是P型半导体中的空穴与N型半导体中的电子发生复合。
PN结具有整流作用,使得电流在正向偏置时能够通过,而在反向偏置时被阻止。
2. 二极管的工作原理二极管是基于PN结的器件,正向偏置时,在PN结处形成正电压,使得电子流能够通过。
反向偏置时,PN结处形成反电压,使得电流无法通过。
3. 二极管的应用二极管广泛用于整流电路、电压稳压器、振荡器和开关等领域。
三、晶体管和放大器1. 晶体管的结构和工作原理晶体管是一种三端器件,由三个掺杂不同的半导体构成。
其中,NPN型晶体管由N型掺杂的基区夹在两个P型掺杂的发射极和集电极之间构成。
PNP型晶体管的结构与之类似。
晶体管的工作原理基于控制发射极和集电极之间电流的能力。
2. 放大器和放大倍数晶体管可以作为放大器来放大电信号。
半导体器件物理习题答案
1、简要的回答并说明理由:①p+-n结的势垒宽度主要决定于n型一边、还是p型一边的掺杂浓度?②p+-n结的势垒宽度与温度的关系怎样?③p+-n结的势垒宽度与外加电压的关系怎样?④Schottky势垒的宽度与半导体掺杂浓度和温度分别有关吗?【解答】①p+-n结是单边突变结,其势垒厚度主要是在n型半导体一边,所以p+-n结的势垒宽度主要决定于n型一边的掺杂浓度;而与p型一边的掺杂浓度关系不大。
因为势垒区中的空间电荷主要是电离杂质中心所提供的电荷(耗尽层近似),则掺杂浓度越大,空间电荷的密度就越大,所以势垒厚度就越薄。
②因为在掺杂浓度一定时,势垒宽度与势垒高度成正比,而势垒高度随着温度的升高是降低的,所以p+-n结的势垒宽度将随着温度的升高而减薄;当温度升高到本征激发起作用时,p-n结即不复存在,则势垒高度和势垒宽度就都将变为0。
③外加正向电压时,势垒区中的电场减弱,则势垒高度降低,相应地势垒宽度也减薄;外加反向电压时,势垒区中的电场增强,则势垒高度升高,相应地势垒宽度也增大。
④Schottky势垒区主要是在半导体一边,所以其势垒宽度与半导体掺杂浓度和温度都有关(掺杂浓度越大,势垒宽度越小;温度越高,势垒宽度也越小)。
2、简要的回答并说明理由:①p-n结的势垒高度与掺杂浓度的关系怎样?②p-n结的势垒高度与温度的关系怎样?③p-n结的势垒高度与外加电压的关系怎样?【解答】①因为平衡时p-n结势垒(内建电场区)是起着阻挡多数载流子往对方扩散的作用,势垒高度就反映了这种阻挡作用的强弱,即势垒高度表征着内建电场的大小;当掺杂浓度提高时,多数载流子浓度增大,则往对方扩散的作用增强,从而为了达到平衡,就需要更强的内建电场、即需要更高的势垒,所以势垒高度随着掺杂浓度的提高而升高(从Fermi 能级的概念出发也可说明这种关系:因为平衡时p-n结的势垒高度等于两边半导体的Fermi 能级的差,当掺杂浓度提高时,则Fermi能级更加靠近能带极值[n型半导体的更靠近导带底,p型半导体的更靠近价带顶],使得两边Fermi能级的差变得更大,所以势垒高度增大)。
半导体物理问答题
半导体物理问答题半导体物理答案1.简述半导体中引入有效质量的意义?答:它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。
可以很方便的解决电子的运动规律。
2.说明杂质能级及电离能的物理意义?答:杂质能级分为施主杂质能级和受主杂质能级,对于施主能级来说其物理意义为被受主杂志束缚的电子的能量,状态得到△E D能量后跃迁到导带成为导电电子。
受主能级是被受主杂质束缚的空穴得到△E A后跃迁到价带成为导电空穴的能量状态。
电离能分为受主电离能和施主电离能。
电离能的物理意义为多余的价电子挣脱束缚成为导电电子所需要的能量。
3.实际半导体与理想半导体的区别?答:对于理想半导体晶胞成周期性的排列,而实际半导体中存在晶格震动,热震动和缺陷,晶格震动又包括声学波和光学波。
4.半导体处于怎样状态才能叫处于热平衡状态?答:在一定的温度下,载流子的产生与电子空穴复合的速率相同,载流子的浓度保持不变,条件是非半导体与温度的存在。
5.直接复合与间接复合的物理意义?答:直接复合:电子和空穴的复合由电子在导带和价带之间的直接跃迁引起的。
间接复合:电子和空穴通过禁带的能级(施主能级和受主能级即复合中心)复合。
6.能带底到能带顶有效质量的变化?答:在能带底部附近,电子的有效质量是正值,在能带顶附近,电子的有效质量是负值。
7.本征Si和Ge中载流子迁移率随温度如何变化?答:对于本征Si和Ge来说,晶格散射起主要作用,由得温度升高时,迁移率减低。
P1058.什么是能量状态密度?答:状态密度g(E)就是在能带E附近单位能量间隔内的量子态g(E)=dz/dE P539.半导体的主要散射机制有哪些?答:1)电离杂质散射2)晶格振动散射3)其他因素引起的散射P94 10.为什么非平衡载流子是非平衡少数载流子?答:由于半导体电中性条件的要求,一般不能向半导体内部迁入或者从半导体内部抽出多数载流子而只能够迁入或抽出少数载流子,所以非平衡载流子是非平衡少数载流子。
半导体物理学习题集与详解
半导体物理学习题集与详解引言半导体物理学是现代电子学和光电子学的基础,涵盖了半导体材料的特性、载流子运动、固体结构等方面的知识。
掌握半导体物理学的知识,对于电子工程师和材料科学家来说都是非常重要的。
本文将为读者提供一些半导体物理学的学习题目,以及详细的解析,帮助读者更好地理解和应用半导体物理学的知识。
问题一问题:什么是半导体?半导体与导体和绝缘体有什么区别?解析:半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料。
在晶体中,半导体的禁带宽度比导体宽一些,但比绝缘体窄一些。
禁带宽度是指能量带隙,也就是价带和导带之间的能量差。
导体的禁带宽度为零,而绝缘体的禁带宽度很大。
半导体的特殊之处在于,它的禁带宽度可以通过外界条件(例如温度、施加电场、掺杂等)的改变而发生变化。
问题:如何计算半导体中载流子的浓度?解析:半导体中的载流子浓度可以通过以下公式计算:$$ n = N_c \\cdot e^{-\\frac{E_c - E_f}{kT}} $$$$ p = N_v \\cdot e^{-\\frac{E_f - E_v}{kT}} $$其中,n为电子浓度,p为空穴浓度,N_c为导带的状态密度,N_v为价带的状态密度,E_c和E_v分别为导带和价带的能量,E_f为费米能级,k为玻尔兹曼常数,T为绝对温度。
问题三问题:什么是本征半导体?本征半导体中的载流子浓度与温度的关系是怎样的?解析:本征半导体是指在没有外界杂质掺杂的情况下的纯净半导体。
在本征半导体中,电子和空穴浓度是相等的,并且与温度呈指数关系。
通常情况下,本征半导体中的电子浓度和空穴浓度都随着温度的升高而增加。
在绝对零度下,本征半导体中的电子和空穴浓度为零。
问题:什么是杂质掺杂?杂质掺杂对半导体的导电性有什么影响?解析:杂质掺杂是指将少量的外来原子掺入到半导体晶体中。
掺杂的原子被称为杂质或施主/受主离子。
杂质掺杂可以改变半导体的电性质。
当施主离子掺入到半导体中时,它会捐赠一个电子给半导体晶体,这样就会在半导体中形成额外的自由电子,导致半导体呈现n型导电性。
半导体简答题
1.在怎样条件下,电流密度随电场强度成线性变化?在强电场下,欧姆定律是否仍然正确? 电场强度不大的条件下;不正确2.产生负微分电导的条件是什么?3.如何用霍耳效应来测量出半导体的导电类型、载流子浓度及迁移率?从霍尔电压的正负可以判别半导体的导电类型;测出RH可求载流子浓度;测出电导率可求出霍尔迁移率。
4.具有相同电阻率的掺杂锗和硅,哪一个材料的少子浓度高?为什么? 锗的少子浓度高。
由电阻率=1/nqu和(ni)2=n0p0以及硅和锗本征载流子浓度的数量级差别,可以算出锗的少子浓度高。
5.电导有效质量与状态密度有效质量有何区别?它们与电子的纵向有效质量和横向有效质量的关系如何?当导带底的等能面不是球面时,不同方向的电导的有效质量就不同,且态密度分布可能不同,通过把不同的电导有效质量进行加权平均,就可以换算得到状态密度的有效质量。
6.什么是声子?它对半导体材料的电导起什么作用?声子是晶格振动的简正模能量量子,声子可以产生和消灭,有相互作用的声子数不守恒,声子动量的守恒律也不同于一般的粒子,并且声子不能脱离固体存在。
电子在半导体中传输时若发生晶格振动散射,则会发出或者吸收声子,使电子动量发生改变,从而影响到电导率。
7.半导体的电阻温度系数是正还是负的?为什么?负的,迁移率随温度的升高逐渐降低1.区别半导体平衡状态和非平衡状态有何不同?什么叫平衡载流子?半导体的热平衡状态是相对的,有条件的。
如果对半导体施加外界作用,破坏了热平衡条件,这就迫使它处于与热平衡状态相偏离的状态,称为非平衡状态。
处于非平衡态的半导体比平衡态多出来的这部分载流子称为非平衡载流子。
2.在平衡情况下,载流子有没有复合这种运动形式?为什么着重讨论非平衡载流子的复合运动?有,3.什么是俄歇复合?在半导体中,电子与空穴复合时,把能量或者动量,通过碰撞转移给另一个电子或者另一个空穴,造成该电子或者空穴跃迁的复合过程叫俄歇复合4.为什么不能用费米能级作为非平衡载流子浓度的标准而要引入准费米能级?准费米能级和费米能级有何区别?当热平衡状态受到外界影响,遭到破坏, 使半导体处于非平衡状态,不再存在统一的费米能级,因为费米能级和统计分布函数都是指热平衡状态下。
半导体物理学简答题及答案知识讲解
半导体物理学简答题及答案知识讲解第一章1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同, 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。
答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。
当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子则参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。
组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。
2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念, 用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。
答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。
惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比较宽。
4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1(k)随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。
5.简述有效质量与能带结构的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。
物理学中的半导体物理知识点
物理学中的半导体物理知识点半导体物理学是物理学领域中的一个重要分支,研究半导体材料及其性质与行为。
本文将介绍几个半导体物理学中的知识点,包括半导体的基本概念、载流子行为、PN结及其应用。
一、半导体的基本概念半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料。
它的导电能力介于导体和绝缘体之间,可以通过控制外加电场或温度来改变其电导率。
根据能带理论,半导体材料中存在一个禁带,将价带和导带分开,如果半导体材料的价带被填满,而导带是空的,那么半导体就没有导电能力;当半导体材料的温度升高或者施加电场时,一些电子会跃迁到导带中,形成可以导电的载流子。
二、载流子行为在半导体中,载流子是指能够输送电流的带电粒子,可以分为自由电子和空穴两种类型。
1. 自由电子:自由电子是指在半导体晶格中脱离原子束缚的电子,它具有负电荷。
在纯净的半导体中,自由电子的数量较少。
2. 空穴:空穴是指由于半导体中某个原子缺少一个电子而形成的一个正电荷,可以看作是受激发的价带上的空位。
载流子的行为受到材料的类型和掺杂等因素的影响。
三、PN结及其应用PN结是半导体中最基本的器件之一,由P型半导体和N型半导体的结合构成。
P型半导体中的空穴浓度较高,N型半导体中的自由电子浓度较高,当这两种类型的半导体材料接触时,自由电子和空穴会发生复合,形成一个耗尽区域。
PN结的特性使得它在半导体器件中有着广泛的应用,例如:1. 整流器:利用PN结的单向导电性质,将交流电信号转换为直流电信号。
2. 发光二极管(LED):在PN结中注入电流可以激发电子跃迁,从而产生光线,实现发光效果。
3. 晶体管:晶体管是一种基于PN结的三端口器件,通过调控PN结的导电状态,实现信号放大和开关控制。
PN结的应用广泛且多样化,是现代电子技术中不可或缺的一个元件。
总结:半导体物理学作为物理学中的重要分支,研究的是半导体材料及其性质与行为。
本文介绍了半导体的基本概念,包括能带理论和禁带,以及载流子行为,其中自由电子和空穴是半导体中的两种重要载流子。
半导体物理课后习题答案
半导体物理课后习题答案半导体物理课后习题答案半导体物理是现代电子学和光电子学的基础,对于理解和应用半导体器件和技术至关重要。
在学习半导体物理的过程中,习题是检验自己对知识掌握程度的重要途径。
下面将给出一些半导体物理课后习题的答案,希望能帮助大家更好地理解和应用相关知识。
1. 什么是半导体?半导体与导体和绝缘体有什么区别?答案:半导体是介于导体和绝缘体之间的一种材料。
与导体相比,半导体的电导率较低,但又比绝缘体高。
这是因为半导体的导电性质可以通过控制其杂质浓度和温度来调节。
在绝缘体中,几乎没有自由电子可以导电;而在导体中,自由电子非常多,可以自由传导电流。
半导体的电导率介于这两者之间,可以通过控制外界条件来改变。
2. 什么是pn结?它的特性是什么?答案:pn结是由p型半导体和n型半导体通过扩散或外加电场形成的结。
在pn结中,p型半导体中的空穴和n型半导体中的电子会发生复合,形成一个正负电荷的耗尽层。
这个耗尽层具有一个内建电场,使得p区的电势高于n区。
当外加正向偏压时,耗尽层变窄,电子从n区向p区扩散,空穴从p区向n区扩散,形成电流。
当外加反向偏压时,耗尽层变宽,几乎没有电流通过。
3. 什么是本征半导体?它的导电机制是什么?答案:本征半导体是指没有杂质掺杂的纯净半导体材料。
在本征半导体中,导电主要是由于自由电子和空穴的存在。
在室温下,半导体中的价带和导带之间的能隙相对较大,几乎没有电子跃迁到导带中,因此导电性较差。
但当温度升高时,部分电子会获得足够的能量跃迁到导带中,形成导电。
此外,光照和杂质掺杂也可以增强半导体的导电性。
4. 什么是pn结的正向偏压和反向偏压?它们的特性有何不同?答案:正向偏压是指将p区连接到正电压,n区连接到负电压的情况。
在正向偏压下,耗尽层变窄,电子从n区向p区扩散,空穴从p区向n区扩散,形成电流。
正向偏压下,pn结的导电性能良好。
反向偏压是指将p区连接到负电压,n区连接到正电压的情况。
半导体器件物理简答题
简答题答案:1.空间电荷区是怎样形成的。
画出零偏与反偏状态下pn结的能带图。
答:当p型半导体和n型半导体紧密结合时,在其交界面附近存在载流子的浓度梯度,它将引起p区空穴向n区扩散,n区电子向p区扩散。
因此在交界面附近,p区留下了不能移动的带负电的电离受主,n区留下了不能移动的带正电的电离施主,形成所谓空间电荷区。
PN结零偏时的能带图:PN结反偏时的能带图:2.为什么反偏状态下的pn结存在电容?为什么随着反偏电压的增加,势垒电容反而下降?答:①由于空间电荷区宽度是反偏电压的函数,其随反偏电压的增加而增加。
空间电荷区内的正电荷与负电荷在空间上又是分离的,当外加反偏电压时,空间电荷区内的正负电荷数会跟随其发生相应的变化,这样PN结就有了电容的充放电效应。
对于大的正向偏压,有大量载流子通过空间电荷区, 耗尽层近似不再成立,势垒电容效应不凸显。
所以,只有在反偏状态下的PN结存在电容。
②由于反偏电压越大,空间电荷区的宽度越大。
势垒电容相当于极板间距为耗尽层宽度的平板电容,电容的大小又与宽度成反比。
所以随着反偏电压的增加,势垒电容反而下降。
3.什么是单边突变结?为什么pn结低掺杂一侧的空间电荷区较宽?答:①对于一个半导体,当其P区的掺杂浓度远大于N区(即N d>>Na)时,我们称这种结为P+N;当其N区的掺杂浓度远大于N区(即Na >> N d)时,我们称这种结为N+P。
这两类特殊的结就是单边突变结。
②由于PN结空间电荷区内P区的受主离子所带负电荷量与N区的施主离子所带正电荷的量是相等的,而这两种带电离子是不能自由移动的。
所以,对于空间电荷区内的低掺杂一侧,其带电离子的浓度相对较低,为了与高掺杂一侧的带电离子的数量进行匹配,只有增加低掺杂一侧的宽度。
因此,PN结低掺杂一侧的空间电荷区较宽。
4.对于突变p+-n结,分别示意地画出其中的电场分布曲线和能带图:答:①热平衡状态时:突变p+-n结的电场分布曲线:突变p+-n结的能带图:注:画的时候把两条虚线对齐。
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第一章 1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同, 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。
答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。
当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子则参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。
组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。
2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念, 用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。
答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。
惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比较宽。
4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1(k)随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。
5.简述有效质量与能带结构的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。
6.从能带底到能带顶,晶体中电子的有效质量将如何变化?外场对电子的作用效果有什么不同;答:在能带底附近,电子的有效质量是正值,在能带顶附近,电子的有效质量是负值。
在外电F作用下,电子的波失K不断改变,f=h(dk/dt),其变化率与外力成正比,因为电子的速度与k有关,既然k状态不断变化,则电子的速度必然不断变化。
7.以硅的本征激发为例,说明半导体能带图的物理意义及其与硅晶格结构的联系,为什么电子从其价键上挣脱出来所需的最小能量就是半导体的禁带宽度? 答:沿不同的晶向,能量带隙不一样。
因为电子要摆脱束缚就能从价带跃迁到导带,这个时候的能量就是最小能量,也就是禁带宽度。
1.为什么半导体满带中的少量空状态可以用具有正电荷和一定质量的空穴来描述?答:空穴是一个假想带正电的粒子,在外加电场中,空穴在价带中的跃迁类比当水池中气泡从水池底部上升时,气泡上升相当于同体积的水随气泡的上升而下降。
把气泡比作空穴,下降的水比作电子,因为在出现空穴的价带中,能量较低的电子经激发可以填充空穴,而填充了空穴的电子又留下了一个空穴。
因此,空穴在电场中运动,实质是价带中多电子系统在电场中运动的另一种描述。
因为人们发现,描述气泡上升比描述因气泡上升而水下降更为方便。
所以在半导体的价带中,人们的注意力集中于空穴而不是电子。
2.有两块硅单晶,其中一块的重量是另一块重量的二倍.这两块晶体价带中的能级数是否相等,彼此有何联系?答:相等,没任何关系3.为什么极值附近的等能面是球面的半导体,当改变磁场方向时只能观察到一个共振吸收峰。
答:各向同性。
5.典型半导体的带隙。
一般把禁带宽度等于或者大于2.3ev的半导体材料归类为宽禁带半导体,主要包括金刚石,SiC,GaN,金刚石等。
26族禁带较宽,46族的比较小,如碲化铅,硒化铅(0.3ev),35族的砷化镓(1.4ev)。
第二章 1.说明杂质能级以及电离能的物理意义。
为什么受主、施主能级分别位于价带之上或导带之下,而且电离能的数值较小?答:被杂质束缚的电子或空穴的能量状态称为杂质能级,电子脱离杂质的原子的束缚成为导电电子的过程成为杂质电离,使这个多余的价电子挣脱束缚成为导电电子所需要的能量成为杂质电离能。
杂质能级离价带或导带都很近,所以电离能数值小。
2.纯锗,硅中掺入III或Ⅴ族元素后,为什么使半导体电学性能有很大的改变?杂质半导体(p型或n型)应用很广,但为什么我们很强调对半导体材料的提纯? 答:因为掺入III或Ⅴ族后,杂质产生了电离,使得到导带中得电子或价带中得空穴增多,增强了半导体的导电能力。
极微量的杂质和缺陷,能够对半导体材料的物理性质和化学性质产生决定性的影响,,当然,也严重影响着半导体器件的质量。
4.何谓深能级杂质,它们电离以后有什么特点?答:杂质电离能大,施主能级远离导带底,受主能级远离价带顶。
特点:能够产生多次电离,每一次电离相应的有一个能级。
5.为什么金元素在锗或硅中电离后可以引入多个施主或受主能级?答:因为金是深能级杂质,能够产生多次电离,每一次电离相应的有一个能级,因此,金在硅锗的禁带往往能引入若干个能级。
6.说明掺杂对半导体导电性能的影响。
答:在纯净的半导体中掺入杂质后,可以控制半导体的导电特性。
掺杂半导体又分为n型半导体和p型半导体。
7.说明半导体中浅能级杂质和深能级杂质的作用有何不同?答:深能级杂质在半导体中起复合中心或陷阱的作用。
浅能级杂质在半导体中起施主或受主的作用8.什么叫杂质补偿,什么叫高度补偿的半导体,杂质补偿有何实际应用。
答:当半导体中既有施主又有受主时,施主和受主将先相互抵消,剩余的杂志最后电离,这就是杂质补偿,若施主电子刚好填充受主能级,虽然杂质很多,但不能向导带和价带提供电子和空穴,这种现象称为杂质的高度补偿。
利用杂质补偿效应,可以根据需要改变半导体中某个区域的导电类型,制造各种器件。
9.什么是半导体的共掺杂答:掺入两种或两种元素以上第三章1.半导体处于怎样的状态才能叫处于热平衡状态,其物理意义如何?载流子激发和载流子复合之间建立起动态平衡时称为热平衡状态,这时电子和空穴的浓度都保持一个稳定的数值,处在这中状态下的导电电子和空穴称为热平衡载流子。
2.什么是能量状态密度能带中能量E附近每单位能量间隔内的量子态数。
3.什么叫统计分布函数,费米分布和玻耳兹曼分布的函数形式有何区别?在怎样的条件下前者可以过渡到后者,为什么半导体中载流子分布可以用玻耳兹曼分布描述?统计分布函数描述的事热平衡状态下电子在允许的量子态如何分布的一个统计分布函数。
当E-EF>>kT时,前者可以过度到后者。
4.说明费米能级的物理意义,根据费米能级位置如何计算半导体中电子和空穴浓度,如何理解费米能级是掺杂类型和掺杂程度的标志。
费米能级的意义:当系统处于热平衡状态,也不对外界做功的情况下,系统增加一个电子所引起的系统自由能的变化,等于系统的化学能。
n型掺杂越高,电子浓度越高,EF就越高。
5.在半导体计算中,经常应用这个条件把电子从费米能级统计过渡到玻耳兹曼统计,试说明这种过渡的物理意义。
E-EF>>kT时,量子态为电子占据的概率很小,适合于波尔兹曼分布函数,泡利原理失去作用,两者统计结果变得一样了。
6.写出半导体的电中性方程,此方程在半导体中有何重要意义?电子浓度等于空穴浓度。
平衡状态下半导体体内是电中性的。
7.半导体本征载流子浓度的表达式及其费米能级载流子浓度:ni=n0p0=(NcNv)1/2exp(-Eg/2kT) 费米能级:Ei=Ef=(Ec+Ev)/2+(3kT/4)*ln(mp/mn)8.若n型硅中掺入受主杂质,费米能级升高还是降低?若温度升高当本征激发起作用时,费米能级在什么位置,为什么?费米能级降低了。
费米能级在本征费米能级以上。
10.为什么硅半导体器件比锗器件的工作温度高?硅的禁带宽度比锗大,且在相同温度下,锗的本征激发强于硅,很容易就达到较高的本征载流子浓度,使器件失去性能。
11.当温度一定时,杂质半导体的费米能级主要由什么因素决定?试把强n,弱n型半导体与强p,弱p半导体的费米能级与本征半导体的费米能级比较。
决定因素:掺杂浓度,掺杂能级,导带的电子有效态密度等。
费米能级比较:强n>弱n>本征>弱p>强p12.如果向半导体中重掺施主杂质,就你所知会出现一些什么效应?费米能级深入到导带或者价带中13.半导体的简并化判据Ec-Ef<=0第四章1.试从经典物理和量子理论分别说明载流子受到散射的物理意义。
经典:电子在运动中和晶格或者杂质离子发生碰撞导致载流子速度的大小和方向发生了改变。
量子理论:电子波仔半导体传播时遭到了散射。
2.半导体的主要散射机制。
电离杂质散射;晶格振动散射,包括声子波和光学波散射;其他因素散射:等能谷散射,中性杂质散射,位错散射,合金散射,等。
3.比较并区别下述物理概念:电导迁移率,漂移迁移率和霍耳迁移率。
电导迁移率:漂移迁移率:载流子在电场作用下运动速度的快慢的量度,运动得越快,迁移率越大;运动得慢,迁移率小霍尔迁移率:Hall系数RH与电导率σ的乘积,即│RH│σ,具有迁移率的量纲,Hall迁移率μH实际上不一定等于载流子的电导迁移率μ, 因为载流子的速度分布会影响到电导迁移率4.什么是声子? 它对半导体材料的电导起什么作用?声子是晶格振动的简正模能量量子,声子可以产生和消灭,有相互作用的声子数不守恒,声子动量的守恒律也不同于一般的粒子,并且声子不能脱离固体存在。
电子在半导体中传输时若发生晶格振动散射,则会发出或者吸收声子,使电子动量发生改变,从而影响到电导率。
5.平均自由程,平均自由时间,散射几率平均自由程:电子在受到两次散射之间所走过的平均距离;平均自由时间:电子在受到两次散射之间运动的平均时间;散射几率:用来描述散射的强弱,代表单位时间内一个载流子受到散射的次数。
6.几种散射机制同时存在,总的散射几率总散射概率等于多种散射概率之和。
7.一块本征半导体样品,试描述用以增加其电导率的两个物理过程。
提高迁移率和和提高本征载流子浓度8.如果有相同的电阻率的掺杂锗和硅半导体, 问哪一个材料的少子浓度高,为什么?锗的少子浓度高。
由电阻率=1/nqu和(ni)2=n0p0以及硅和锗本征载流子浓度的数量级差别,可以算出锗的少子浓度高。
10.光学波散射和声学波散射的物理机构有何区别?各在什么样晶体中起主要作用?光学波散射:弹性散射,散射前后电子能量基本不变。
主要在离子性晶体中起作用声学波散射:非弹性散射,散射前后电子能量发生改变。
主要在共价性晶体中起作用。
11.说明本征锗和硅中载流子迁移率随温度增加如何变化?迁移率随温度的升高逐渐降低12.电导有效质量和状态密度有效质量有何区别?它们与电子的纵向有效质量和横向有效质量的关系如何?当导带底的等能面不是球面时,不同方向的电导的有效质量就不同,且态密度分布可能不同,通过把不同的电导有效质量进行加权平均,就可以换算得到状态密度的有效质量。