基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析
纳米级精度光刻机测距与定位技术
![纳米级精度光刻机测距与定位技术](https://img.taocdn.com/s3/m/e63beb3642323968011ca300a6c30c225901f084.png)
纳米级精度光刻机测距与定位技术
芯片制造需要纳米级精度的光刻机,而制造一台高精度的光刻机需要纳米级精度的测距与定位技术的支持。
这里要用到双频激光干涉仪。
而双频激光干涉仪一般只能用于光刻机的测距,不能直接用来定位。
这是因为双频激光干涉仪靠多普勒频移来测距的,所以只有在动镜移动的时候读出移动的距离。
实际加工中需要多次对晶圆进行镀膜和光刻,一但晶圆离开光刻机工作台就无法再用双频激光干涉仪再次定位,所以要对双频激光干部涉仪进行改进。
改进后的结构如图所示:
先由激光器发出单频激光经偏振分光镜分成两束光,一束经过直角棱镜返回偏振分光镜,另一束经过电光晶体铌酸锂进行频率调制后经直角棱镜返回偏振分光镜,两束不同频率的激光束在偏振分光镜汇合后产生一个脉冲信号,我们可以以铌酸锂晶体通电时间算起,到光电接收器接收脉冲信号结束,来记录激光在动镜之间通过的脉冲数,即可计算出激光通过的距离。
这是一种静态读数双频氦氖激光干涉仪,就是双频氦氖激光干涉仪的动镜在处于静止时就可以读数。
这样就可以给晶圆多次定位了。
要说明的是晶圆需要与动镜固定在一起,直到晶圆全部加工结束才能取下动镜。
防止晶圆与动镜的相对位置发生偏移。
好了,关于光刻机的测距与定位就讲到这里,谢谢大家。
数控机床定位精度与激光干涉仪测试曲线分析报告
![数控机床定位精度与激光干涉仪测试曲线分析报告](https://img.taocdn.com/s3/m/8d90604a27d3240c8547ef10.png)
定位精度与激光干涉仪线性分析报告一、数控机床定位精度常见误差曲线及分析1.负坡度图1中曲线向外运行和向内运行,两个测试均出现向下的坡度。
图1显示在整个轴线长度上,误差呈线性负增加。
这表示激光系统测量的距离短于机床位置反馈系统指示的距离。
图11.负坡度可能原因。
在激光干涉仪设置上,可能光束准直调整不正确,如果轴线短于lm,则可能是材料热膨胀补偿系数不正确,材料温度测量不正确或波长补偿不正确。
建议:(1)如果轴线行程很短,请检查激光的校准情况,检查电脑和测量头是否已连接并有反应;(2)、检查材料传感器是否正确定位以及输入的膨胀系数是否正确。
(3) 机床可能的误差源。
俯仰和扭摆造成阿贝(Abbé)偏置误差、机床的线性误差。
建议:检查在垂直轴上的平衡作用。
检查控制器补偿。
再检查机床的俯仰和丝杆同轴度。
丝杠可能在最近的一次维修或机床移动时被弄弯了,或者丝杠偏心旋转。
2.正坡度如图2显示在整个轴线长度上,误差呈线性正递增。
可能是以下几种问题:(1)激光干涉仪设置可能有问题。
如:材料热膨胀补偿系数不正确,材料温度测量不正确,波长补偿不正确。
(2)机床方面的问题。
检查机床的俯仰和扭摆误差、机床的线性误差。
(3)建议:检查EC10和传感器是否已连接并有反应,或者检查输入的手动环境数据是否正确。
检查材料传感器是否正确定位以及输入的膨胀系数是否正确。
检查并调节导轨塞铁松紧。
检查控制器补偿。
图23.周期性曲线图3显示整个轴线长度上的重复周期误差。
沿轴的俯仰保持不变,但幅度可能变化。
周期性曲线可能原因:(1)激光干涉仪设置上的问题。
该曲线的误差大小,不太可能与仪器操作有关,主要去分析机床本身的误差源。
(2)机床方面的问题。
丝杠或传动系统故障、编码器问题或故障、长型门式机床轨道的轴线直线度。
检查丝杠和导轨润滑。
(3)建议:采用小得多的采样点间隔,在一个俯仰周期上再测量一次,确认俯仰误差。
作为一项指导原则,如果你要检查的是机床某元件的周期性影响,可将采样间隔设为预期周期性俯仰的1/8。
基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析
![基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析](https://img.taocdn.com/s3/m/93dc11918662caaedd3383c4bb4cf7ec4afeb63d.png)
基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析张文雅;宋健【摘要】介绍了双频激光干涉仪利用光的干涉和多普勒效应测距的原理以及距离的计算方法,并以此为基础介绍了双频激光干涉仪在投影光刻机工作台精确定位系统中的应用与工作原理,结合多年的投影光刻机维修经验分析了两例双频激光干涉仪及工作台系统的故障和解决步骤.【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2016(045)002【总页数】4页(P27-30)【关键词】投影光刻机;双频激光干涉仪;多普勒效应【作者】张文雅;宋健【作者单位】中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051;中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051【正文语种】中文【中图分类】TN305.7光刻技术起始于上世纪60年代,并遵循摩尔定律发展至今,光刻工艺的高低决定了在单位圆晶片上能够集成晶体管的数目,目前已经发展到28 nm甚至14 nm 制程,是人类所能达到的一种最高的加工技术。
投影光刻机是光刻工艺应用最为广泛的光刻设备,其工作台的定位精度是光刻机分辨率提高的根本与保障。
利用双频激光干涉仪,可以对工作台进行纳米级的跟踪定位。
双频激光干涉仪首先由美国HP公司研制成功并获得专利权,以稳频的双频氦氖激光器作为光源,按照拍频原理工作。
1.1 波的干涉当两个频率相同、振动方向相同、位相相同或位相差恒定的波在空间某一点相遇时,一些地方振动始终加强,一些地方始终减弱或完全抵消,这个现象就是波的干涉。
两个振动频率不同的波,即使振动方向相同,合振动也是很复杂的,一般不会产生干涉。
但是当振动方向相同、频率差很小的两列波在同一方向上传播时,便可产生一种特殊的干涉。
波一的振动频率f1,ym为振幅,t为时间,波一的振动位移为:波二的振动频率为f2,波二的振动位移为:合振动位移为:利用三角公式,可以把上式化为:合振幅频率为:双频激光干涉仪就是利用两个频率相差很小的光波干涉来工作。
激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差分析
![激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差分析](https://img.taocdn.com/s3/m/084ca70bbcd126fff7050be9.png)
激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差分析摘要: 使用( renishaw ) 激光干涉仪对一台立式铣床的定位精度进行了测量。
在启用和关闭机床环境补偿系统的条件下, 得出了两组相差较大的实验数据。
通过对激光干涉仪在测量中的误差进行分析, 找出了定位精度变化的原因和相关数据的变化范围。
由于数控机床热变形的不稳定性和测量方法的多样性, 到现在为止, 国内还没有统一的检验通则用来评定机床的热误差大小。
目前, 用来评定机床性能的主要依据之一是机床轴线的定位精度和重复定位精度的大小。
能够用于检测数控机床几何误差的检测方法有很多:一维球列测量法、球柄仪测量法和激光干涉仪测量法等。
但在生产实践中, 考虑到检测设备对测量精度、稳定性以及通用性等要求, 国内外生产厂家都采用激光干涉仪测量法来评定数控机床的轴线定位精度大小。
在使用激光干涉仪进行线性定位误差测量时, 分光镜或反射镜之一保持静止, 另一个光学元件沿着线性轴线运动。
图1中, 分光镜静止不动, 反射镜沿着预定的方向运动。
误差分析激光干涉仪是一种高精度的计量仪器, 自身的精度很高, 但在使用时会受到环境、安装条件、机床温度和线膨胀系数不准确等诸多因素的影响, 从而降低了测量精度。
激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差包括激光干涉仪的极限误差e1、安装误差e2 和温度误差e3 用激光干涉仪实现高精度定位主轴头和控制系统补偿的位置误差方面, 大型加工中心的定位精度要求为数百分之一毫米。
采用ML10激光干涉仪就能达到要求。
航空工程工业加工大型整体部件和大型轻合金模具都需要X轴和Y轴行程达数米的加工中心。
平面度、角度和位置精度测量ML10提供的测量范围完全能满足各种不同要求:可以测量导轨的垂直度和水平平直度,主轴头的定位精度,正交轴的角度和回转轴的定位精度。
激光干涉仪便可自动测量主轴头的位置偏差。
ML10是测量大型加工中心平直度与定位精度最好且精度最高的测量装置。
用激光干涉仪测量数控机床主轴误差新法从激光干涉仪检验的内容来看,从最初的单独测量机床各轴的位移精度,扩展到分别测量定位精度、直线度、平行度、垂直度等,再到现在使用分布体对角线测量法测量机床的三维整体性能。
步进投影光刻机及其常见故障分析
![步进投影光刻机及其常见故障分析](https://img.taocdn.com/s3/m/56e77a1e7f1922791788e8c6.png)
步进投影光刻机及其常见故障分析摘要:本文主要针对步进投影光刻机及其常见故障展开深入研究,先阐述了投影光刻机的结构、曝光系统等等,然后就又提出了几点常见故障,并采取了相应的解决方法,如圆片传输故障、曝光光源故障、淹模板传输故障、圆片出台故障,通过以上方法,能够使其常见的故障更好地解决。
关键词:步进投影;光刻机;常见故障;分析引言:在半导体器件制造中,离不开投影光刻工艺,而为了使其投影光刻工艺技术顺利完成,最重要的设备之一就是步进投影光刻机。
对投影光刻机进行分析,主要是由美国研制出来,并投入使用,此光刻机其特点为有着较高的性价比,而且具有一定的兼容性。
随着设备制造厂商的不断发展,投影光刻机已经朝着紫外光刻和侵没式光刻机的方向发展。
而在半导体工艺设备中,对于投影光刻机设备来说,其具有一定的复杂性和紧密性,而且所涉及到的学科知识也比较多。
一、投影光刻机的结构(一)圆片传输系统在圆片传输系统中,主要有两个单元,这两个单元分别为传输单元和预对准单元。
对于圆片传输单元进行分析,所组成的机构有很多,分别为片盒升降机构、取片机械手、下片机构等等。
对于圆片对准单元进行分析,所组成的结构也比较多,分别为标记传感器、圆片定中机构和圆片旋转机构等等。
在此系统中,其主要的功能对于曝光的圆片来说能够起着重要的作用,主要就是在预对准系统下,将所曝光圆片的标记进行找到,并对此中心进行定位,当完成找平工作之后,在工作台中,将其圆片放置在此工作台中,切忌要放在的位置必须要曝光。
(二)曝光系统对于投影光刻机进行分析,最重要的结构就是曝光系统,在曝光系统中,可以将此系统进行细分,在细分的过程中,可分为的系统比较多,如照明系统、对准系统和圆片工作台等等。
其中在照明系统中,组成部分比较多,有灯室、控制模块、干涉滤光片、聚光镜等等。
对于照明系统来说,其功能为能够将其光源提供给曝光,其中对提供的光源在波长和强度上,具有一定的特定性,在能量方面,比较均匀。
激光干涉仪的原理和应用
![激光干涉仪的原理和应用](https://img.taocdn.com/s3/m/96475c6a905f804d2b160b4e767f5acfa1c78396.png)
激光干涉仪的原理和应用1. 引言激光干涉仪是一种利用激光的干涉现象测量物体形状、表面粗糙度等参数的高精度仪器。
本文将介绍激光干涉仪的原理和应用,并深入探讨其工作原理和常见的应用领域。
2. 原理激光干涉仪的原理基于激光的干涉现象。
当两束光波相遇时,若其光程差为整数倍的波长,两束光波会发生干涉。
激光干涉仪利用这个原理,通过测量干涉条纹的位置和形态来进行各种参数的测量。
3. 工作原理激光干涉仪的工作原理可以分为两个步骤:光路干涉和信号处理。
3.1 光路干涉激光干涉仪的光路干涉部分包含分束器、反射镜和待测物体。
激光通过分束器被分为两束光,一束经过反射镜反射后再次汇聚,另一束直接照射到待测物体上。
两束光再次汇聚形成干涉条纹,这些条纹可以用来测量待测物体的形状和表面特性。
3.2 信号处理激光干涉仪的信号处理部分主要包括光电探测器和信号分析处理装置。
光电探测器负责将干涉条纹转换为电信号,信号分析处理装置则对这些电信号进行处理和分析,提取出有用的信息。
4. 应用激光干涉仪具有高精度、非接触、快速测量等特点,在各个领域都有着广泛的应用。
4.1 表面形状测量激光干涉仪可以通过测量干涉条纹的位置和形态来获取物体的表面形状信息。
例如,在机械制造中,可以利用激光干涉仪来检测零件的平整度、平行度等参数;在地质勘探中,可以用激光干涉仪来测量地表起伏、地壳变形等。
4.2 表面粗糙度测量激光干涉仪还可以用于表面粗糙度的测量。
通过测量干涉条纹的密度和间距,可以确定物体表面的粗糙度。
这在材料科学、电子工程等领域都有着重要的应用。
4.3 精密测量激光干涉仪的高精度使得其在精密测量领域有着广泛应用。
例如,在光学制造过程中,可以利用激光干涉仪来测量光学元件的表面形状,保证其质量和精度;在纳米技术中,激光干涉仪可以用于测量微小尺寸的构造。
4.4 光学与激光实验研究在光学与激光实验研究中,激光干涉仪也扮演着重要角色。
利用激光干涉仪,可以研究光的干涉、衍射等现象,对光学原理进行深入理解。
激光干涉仪如何校准数控机床
![激光干涉仪如何校准数控机床](https://img.taocdn.com/s3/m/cb9ab4d7172ded630b1cb69c.png)
激光干涉仪是一种以波长作为标准对被测长度进行测量的仪器。
激光干涉仪是20世纪60年代末期问世的一种新型的测量设备,由美国HP公司研制成功并于1970年投入市场,随即受到了相关行业特别是机床制造业的重视,其主要在:线形、角度、垂直度、直线度、平面度等方面上应用。
随着激光干涉仪测量技术的不断提高,测量软件的不断开发其测量范围越来越广泛,特别是在测量数控机床位置精度方面用途最为广泛,本文以某国产激光干涉仪为例详细讲述如何对数控机床进行线性测量。
◆数控机床检测的必要性首先,新机床出厂前都要进行定位精度和重复定位精度以及反向间隙的检测,现在大多使用激光干涉仪进行.其次,机床使用一段时间后,由于丝杠的磨损和其它原因,精度会逐渐丧失,这时需要使用激光干涉仪进行精度的再校准.最后,激光干涉仪还可以进行其它项目的检测,例如直线度,垂直度,角度等。
◆激光干涉仪工作原理一个角锥反射镜紧紧固定在分光镜上,形成固定长度参考光束。
另一个角锥反射镜相对于分光镜移动,形成变化长度测量光束。
从激光头射出的激光光束(1)具有单一频率,标称波长为0.633µm,长期波长稳定性(真空中)优于0.05ppm。
当此光束到达偏振分光镜时,被分成两束光—反射光束(2)和透射光束(3)。
这两束光被传送到各自的角锥反射镜中,然后反射回分光镜中,在嵌于激光头中的探测器中形成干涉光束。
如果两光程差不变化,探测器将在相长干涉和相消干涉的两端之间的某个位置观察到一个稳定的信号。
如果两光程差发生变化,每次光路变化时探测器都能观察到相长干涉和相消干涉两端之间的信号变化。
这些变化(条纹)被数出来,用于计算两光程差的变化。
测量的长度等于条纹数乘以激光波长的一半。
应当注意到,激光波长将取决于光束经过的空气的折射率。
由于空气折射率会随着气温、压力和相对湿度的变化而变化,用于计算测量值的波长值可能需要对这些环境参数的变化进行补偿。
在实践中,对于技术指标中的测量精度,只有线性位移(定位精度)测量需要进行此类补偿,在这种情况下两束光的光程差变化可能非常大。
投影光刻机TTL对准原理与故障分析
![投影光刻机TTL对准原理与故障分析](https://img.taocdn.com/s3/m/f1b92ce4f80f76c66137ee06eff9aef8941e48d2.png)
投影光刻机TTL对准原理与故障分析张文雅;宋健【摘要】This article expounds the w orking principle of ASM L stepperTTL align system and its com prised m odules,introduces the align system process program ,and sum m arizes the norm al faults of the alignsystem ,and m ethods of analysis and problem solving.%论述了A SM L 公司某型投影光刻机TTL 对准系统的基本原理和主要构成,介绍了对准系统在光刻工艺中的工作过程,结合多年的投影光刻机维修经验总结了对准系统的常见故障,并给出了分析以及解决方法。
【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2016(000)004【总页数】4页(P29-32)【关键词】氦氖激光器;同轴对准;投影光刻机【作者】张文雅;宋健【作者单位】中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051;中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051【正文语种】中文【中图分类】TN305.7光刻工艺是大规模集成电路生产的关键工艺,直接决定了半导体芯片的特征尺寸。
投影光刻机作为半导体工艺中应用最为普遍的光刻设备,具有结构复杂,设计精密,生产效率高等特点。
为了成功的在硅片上形成图案,必须把硅片上的图形正确地与投影掩模板上的图形对准,也就是确定硅片上图形位置、方向和变形的过程。
要实现这个目的就要通过掩模板与硅片之间的坐标变换,利用这些数据与投影掩模图形建立起正确关系,使得每个连续的图形与先前曝光层匹配对准。
对准系统就是保证芯片套刻精度的核心,深刻理解对准系统的原理对我们用好投影光刻机以及故障的排除都有很大的指导作用。
本文以ASML公司的某型1:4镜头倍率的步进投影光刻机为例进行阐述与分析。
双频激光干涉仪
![双频激光干涉仪](https://img.taocdn.com/s3/m/3897e37f24c52cc58bd63186bceb19e8b9f6ec50.png)
光刻机定位双频激光干涉仪发布日期:2005年10月20日访问次数:1503光刻机定位双频激光干涉仪1.项目概述双频激光干涉仪以其特有的同时具有大测量范围、高分辨率、高测量精度和高速度等优点,在精密和超精密测量领域获得了广泛的应用。
双频激光干涉仪采用外差干涉测量原理,克服了普通单频干涉仪测量信号直流漂移的问题,具有信号噪声小、抗环境干扰能力强、允许光源多通道复用等诸多优点,使得干涉测长技术能真正用于实际生产。
例如,精密坐标机床的标定、高精度传感器的标定、半导体工业中的高精度模板的制造和定位、以及构成多坐标精密定位多轴运动系统等。
中科院上海光机所在上海市科委光科技专项二期项目支持下,完成了“光刻机定位双频激光干涉仪”样机。
以100nm线宽步进扫描投影光刻机工件台定位需求为研制目标,对双频激光干涉仪系统的关键技术进行了攻关,已经成功研制出一台高精度、高速度、大范围的双频激光干涉仪实验室样机,如图1所示。
该仪器核心技术是分辨率的提高和改进,取得6项专利,拥有自主知识产权。
2.国内外技术、应用现状及应用领域1)国内外技术双频激光干涉仪首先由美国HP公司研制成功并获得专列权。
第一批定型产品为5500A,于1970年投放市场,它的量程达到61m,测量精度为5×10-7,测量速度达330mm/s。
其后HP公司又研制了其他派生产品,如5526A除了能测长度以外,还能测速度、角度、平面度、直线度和垂直度,还可以用来测震及进行X-Y微动台的定位,用途极为广泛。
其他国家在这方面做了不少工作,投入市场的还有英国的Renishaw、美国的ZYGO、法国SORO和日本横河等公司。
我国从七十年代,清华大学、北京计量院、机械部成都工具研究所等科研部门就已开始研制双频激光干涉仪样机,至今已经有二、三十年历史。
成都工具研究所有商品化仪器出售,但分辨率比较差。
尽管国外双频激光干涉仪水平比较高,但价格高,特别是高档次的产品对我国禁运,而国内产品不能满足高精度先进制造技术方面的需求。
双频激光干涉仪原理
![双频激光干涉仪原理](https://img.taocdn.com/s3/m/ab03b9b1fbb069dc5022aaea998fcc22bcd143e9.png)
双频激光干涉仪原理双频激光干涉仪是一种利用激光干涉原理来测量光程差的精密光学仪器。
它通过将两束具有不同频率的激光束进行干涉,利用干涉条纹的移动来测量被测量物体的位移、形变等参数。
双频激光干涉仪具有测量精度高、非接触测量、适用于动态测量等优点,因此在工程测量、材料科学、生物医学等领域得到了广泛的应用。
双频激光干涉仪的原理是基于激光的干涉现象。
激光是一种具有高相干性和定向性的光,它的频率稳定、波长单一。
在双频激光干涉仪中,通常使用两束具有微小频率差的激光束进行干涉。
这两束激光束经过分束器分成两路,分别通过不同的光路传播,然后再经过反射镜反射回来。
当这两束激光束重新合并时,由于它们的频率略有不同,会产生干涉现象。
通过控制其中一束激光的光程差,可以观察到干涉条纹的移动,从而实现对光程差的测量。
双频激光干涉仪的工作原理可以简单描述为,首先,激光器产生出两束具有微小频率差的激光束;然后,这两束激光束经过分束器分成两路,分别通过不同的光路传播;接着,它们再经过反射镜反射回来,重新合并时产生干涉现象;最后,通过控制其中一束激光的光程差,观察干涉条纹的移动,从而实现对光程差的测量。
双频激光干涉仪的测量精度主要取决于激光的频率稳定性和光程差的测量精度。
激光的频率稳定性越高,测量精度越高;光程差的测量精度越高,测量精度也越高。
因此,双频激光干涉仪在实际应用中需要保证激光器的频率稳定性,并采用高精度的光路控制和检测系统。
双频激光干涉仪在工程测量中有着广泛的应用,例如在微米级位移测量、表面形貌测量、振动分析等方面发挥着重要作用。
同时,在材料科学、生物医学等领域也有着重要的应用价值,例如在材料的动态变形分析、生物细胞的形变测量等方面具有很高的潜在应用前景。
总之,双频激光干涉仪作为一种精密光学测量仪器,具有测量精度高、非接触测量、适用于动态测量等优点,因此在工程测量、材料科学、生物医学等领域具有广泛的应用前景。
通过深入理解其原理和特点,可以更好地发挥其在各个领域的应用价值。
双频激光干涉仪工作原理
![双频激光干涉仪工作原理](https://img.taocdn.com/s3/m/e6969b080622192e453610661ed9ad51f01d54e1.png)
双频激光干涉仪工作原理激光干涉仪是一种高精度的测量仪器,广泛应用于工业、科研等领域。
其中,双频激光干涉仪是一种常见的激光干涉仪,其工作原理是利用激光的干涉现象进行测量。
下面将详细介绍双频激光干涉仪的工作原理。
一、激光干涉仪的基本原理激光干涉仪是利用激光的干涉现象进行测量的仪器。
激光是一种具有高度相干性的光源,当两束激光相遇时,它们会发生干涉现象。
干涉现象是指两束光波相遇时,它们的振幅会相互叠加或相互抵消,从而形成明暗相间的干涉条纹。
通过测量干涉条纹的形态和数量,可以得到被测物体的形态和尺寸等信息。
二、双频激光干涉仪的工作原理双频激光干涉仪是一种利用双频激光进行测量的干涉仪。
其工作原理是将激光分成两束,分别经过两个不同的光路,然后再将它们合并在一起。
由于两束激光的频率不同,它们在合并时会发生干涉现象,形成干涉条纹。
通过测量干涉条纹的形态和数量,可以得到被测物体的形态和尺寸等信息。
三、双频激光干涉仪的具体实现双频激光干涉仪的具体实现是将激光分成两束,分别经过两个不同的光路,然后再将它们合并在一起。
其中,一束激光经过一个可调谐的光学器件,如光栅或波长分复用器,使其频率发生变化。
另一束激光则不经过光学器件,频率保持不变。
两束激光再经过一个分束器,将它们分成两束,分别经过两个不同的光路。
其中一条光路是参考光路,另一条光路是测量光路。
参考光路中的激光束与测量光路中的激光束在被测物体上发生干涉,形成干涉条纹。
通过测量干涉条纹的形态和数量,可以得到被测物体的形态和尺寸等信息。
四、双频激光干涉仪的应用双频激光干涉仪广泛应用于工业、科研等领域。
在工业领域,它可以用于测量机械零件的尺寸、形态等信息,以及检测机械零件的表面质量。
在科研领域,它可以用于测量微小物体的形态和尺寸等信息,以及研究光学干涉现象等。
总之,双频激光干涉仪是一种利用激光的干涉现象进行测量的高精度仪器。
其工作原理是将激光分成两束,分别经过两个不同的光路,然后再将它们合并在一起。
双频激光干涉仪原理
![双频激光干涉仪原理](https://img.taocdn.com/s3/m/a437885f15791711cc7931b765ce05087632753f.png)
双频激光干涉仪原理双频激光干涉仪是一种利用激光干涉原理进行测量的仪器,它可以实现高精度的长度测量和位移测量。
在实际工程应用中具有广泛的用途,比如在精密加工、光学制造、半导体制造等领域都有着重要的作用。
本文将详细介绍双频激光干涉仪的原理及其应用。
双频激光干涉仪利用激光的干涉现象来实现测量,其原理是利用两束频率略有差异的激光光束进行干涉,通过测量干涉条纹的位移来实现长度或位移的测量。
在双频激光干涉仪中,一束激光经过分束器分成两束,分别通过不同的光路传播,然后再通过合束器合成一束光,这两束光的频率略有差异,形成了干涉条纹。
当被测量的长度或位移发生变化时,干涉条纹会产生位移,通过测量干涉条纹的位移就可以得到被测量的长度或位移值。
双频激光干涉仪的原理非常简单,但是在实际应用中需要考虑到一些影响测量精度的因素。
首先是激光的频率稳定性,激光的频率稳定性直接影响到干涉条纹的稳定性,从而影响到测量的精度。
其次是光路的稳定性,光路的稳定性对于保持干涉条纹的清晰度和稳定性非常重要。
另外,还需要考虑到环境因素对测量的影响,比如温度、湿度等因素都会对激光的传播和干涉条纹产生影响,因此需要在实际应用中进行相应的补偿和校正。
双频激光干涉仪在工程应用中有着广泛的用途,比如在精密加工中可以用于测量加工件的尺寸和形位公差,保证加工件的精度要求。
在光学制造中可以用于测量光学元件的表面形貌和表面粗糙度,保证光学元件的质量。
在半导体制造中可以用于测量半导体器件的尺寸和位置,保证器件的性能和可靠性。
另外,在科学研究领域也有着重要的应用,比如在激光干涉测量、光学成像等方面都有着重要的作用。
总之,双频激光干涉仪作为一种高精度的测量仪器,在工程应用中具有着广泛的用途。
通过对其原理的深入理解和对影响测量精度的因素的控制,可以实现高精度的长度和位移测量,为工程实践和科学研究提供重要的支持。
希望本文能够对双频激光干涉仪的原理和应用有所帮助,同时也希望读者能够在实际应用中充分发挥其优势,取得更好的测量效果。
步进投影光刻机及其常见故障分析
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步进投影光刻机及其常见故障分析雷宇【摘要】根据步进投影光刻机的基本原理及其基本结构,分析了影响投影光刻工艺的主要因素.根据多年对设备的维修经验,总结了ASML步进投影光刻机的常见故障并给出了相应的解决方法.【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2018(047)002【总页数】6页(P40-45)【关键词】曝光;预对准;调平调焦;同轴对准【作者】雷宇【作者单位】中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄 050051【正文语种】中文【中图分类】TN305投影光刻工艺是半导体器件制造工艺中最重要的工艺之一,步进投影光刻机是完成投影光刻工艺技术的关键设备。
自1978年美国研制出世界首台商业化的分步重复(g线)投影光刻机以来,投影光刻机以其性价比高、兼容性强的特点备受推崇[1]。
经过各大设备制造厂商几十年的发展,投影光刻机已经由g线、i线,发展为紫外光刻、深紫外光刻以及浸没式光刻机。
投影光刻机是半导体工艺设备中最为复杂而且精密的设备之一,其维修涉及光学、电子、精密机械以及自动控制等多学科知识。
1 投影光刻的原理投影光刻技术是利用i线或紫外光、深紫外光等既定光源,通过缩小投影镜头,以4∶1或5∶1的缩小倍率,经过多层的曝光,将掩模工艺板上预制的图形转换到由硅、二氧化硅或其他化合物制成并经过清洗、涂胶等先期处理的圆片的光刻胶上,再进行后续工艺处理。
2 投影光刻机的结构以ASML光刻机为例,投影光刻机主要包括圆片传输系统、曝光系统、环境控制系统和操控台4部分,如图1所示。
图1 ASML某型号光刻机结构示意图2.1 圆片传输系统圆片传输系统包括圆片传输单元和圆片预对准单元。
圆片传输单元主要由片盒升降机构、片盒内圆片水平检测、取片机械手、异型机械手、下片机构等组成。
圆片预对准单元主要由标记传感器、圆片旋转机构、圆片定中机构、平边探测器等组成。
它的功能是把要曝光的圆片经过预对准系统找标记、定中心、找平边以后,把预对准后的圆片放到工作台的曝光位置,曝光完毕将圆片放回片盒相应的片槽内。
激光干涉仪原理和应用研究方案
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激光干涉仪原理和应用研究方案一、引言激光干涉仪是一种基于激光干涉原理的精密测量仪器,广泛应用于科学研究、工业生产和医疗诊断等领域。
本文将对激光干涉仪的原理进行介绍,并探讨其在应用研究中的潜在价值。
二、激光干涉仪原理1. 激光干涉原理激光干涉仪利用激光的相干性和干涉现象进行测量。
激光是一种特殊的光源,具有高度的单色性、方向性和相干性。
当两束相干激光束在特定条件下相遇时,它们会产生干涉现象。
干涉现象的出现是由于两束光的波长和相位差的关系导致的。
2. 光程差的测量激光干涉仪利用光程差的测量原理来实现测量目标的精密测量。
光程差是指两束光在传播过程中所经历的路径差。
通过调整其中一束光的光程,利用干涉现象的变化来测量目标的形状、表面粗糙度等参数。
三、激光干涉仪的应用研究方案1. 表面形貌测量激光干涉仪可以用于测量目标的表面形貌,包括平面度、曲率和倾斜度等参数。
通过测量光束的干涉图案,可以反推出目标表面的形状信息。
这在制造业中具有重要的应用价值,可以用于检测零件的加工精度和质量控制。
2. 薄膜厚度测量激光干涉仪可以用于测量薄膜的厚度。
薄膜是一种常见的材料,广泛应用于光学、电子等领域。
通过测量反射光的干涉图案,可以准确测量薄膜的厚度,从而评估薄膜的质量和性能。
3. 表面粗糙度测量激光干涉仪可以用于测量目标表面的粗糙度。
通过测量光束反射或透射后的干涉图案,可以评估目标表面的光滑程度和粗糙度。
这对于材料表面处理和质量控制具有重要意义。
4. 光学元件质量检测激光干涉仪可以用于检测光学元件的质量。
光学元件是光学系统中的关键部件,其质量直接影响到光学系统的性能。
通过测量光束的传播和干涉情况,可以评估光学元件的透明度、平整度和表面质量。
5. 生物医学应用激光干涉仪在生物医学领域也有广泛的应用。
例如,利用激光干涉仪可以测量人体组织的厚度变化,用于疾病的早期诊断和治疗监测。
此外,激光干涉仪还可以用于测量生物材料的力学性质,如弹性模量和变形程度等。
NSR-1755i7A投影光刻机自动对准故障分析
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3 自动对准系统故障的分析
3 . 1硅片对准图形无规则偏移故障
对准( hneg bl mn 。 G E a d aag e)在E A对准后主 n c l ln t o i 计算机根据对准结果计算出: ),方向 ( xy 位置偏差 1 修正值;2硅片旋转偏差修正值;3x 比 ( ) ( , 例修 ) y 正值; ) 轴正交修正值。 (x 4 , y 通过上述4 项修正
《 电子工业专用设备》 } } 希望龙一如既往的支持和帮助。
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(第1 期 ① 总 5 ) 7
万方数据
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二进制数字信号, 并存入“ a fm M 工 wv o R " e A , r
作 台扫描位置参数被编址 。工作台开始扫描位
置坐标为二 对准位置为x= 2 ) 。 , . . m X 0 ( 0p n ( 为选通次数)对准位置坐标x=x +x( n , o a见 图2。如对准图形向: ) 方向偏移, 应检查相关
中图分类号:N0. T 35 7
文献标识码: A
文章编号: 0- 0( 0) - 0- 1 4 57 08 2 013 0 4 2 00 0
T obe ot g N R 15i Sepr ru l S o n o S -75 A p e h i f 7 t A t A gmet t s m uo n n S e i l y
后,基座上的硅片在主坐标系中的精确位置被确
此类型的故障主要是由双频激光干涉仪光路 系统或信号处理系统公共通道故障造成, 双频激光 干涉仪系统时刻以纳米精度监视着工作台的位置, 并用串口与主计算机交换数据, 激光干涉仪是投影 光刻机最重要的部件之一。其工作原理: 双频激光 器 B 51 P57 A输出由两束偏振面相互正交的线偏振
单频与双频激光干涉仪比较 激光干涉仪常见问题解决方法
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单频与双频激光干涉仪比较激光干涉仪常见问题解决方法激光干涉仪,以激光波长为已知长度,利用迈克耳逊干涉系统测量位移的通用长度测量。
单频与双频激光干涉仪比较单频的激光器它的一个根本弱点就是受环境影响严重,在测试环境恶劣,测量距离较长时,这一缺点特别突出。
其原因在于它是一种直流测量系统,必定具有直流光平和电平零漂的弊端。
激光干涉仪可动反光镜移动时,光电接收器会输出信号,假如信号超过了计数器的触发电平则就会被记录下来,而假如激光束强度发生变化,就有可能使光电信号低于计数器的触发电平而使计数器停止计数,使激光器强度或干涉信号强度变化的紧要原因是空气湍流,机床油雾,切削屑对光束的影响,结果光束发生偏移或波面扭曲。
这种无规定的变化较难通过触发电平的自动调整来补偿,因而限制了单频干涉仪的应用范围,只有设法用交流测量系统代替直流测量系统才能从根本上克服单频激光干涉仪的这一弱点。
而双频激光干涉仪正好克服了这一弱点,它是在单频激光干涉仪的基础上进展的一种外差式干涉仪。
和单频激光干涉仪一样,双频激光干涉仪也是一种以波长作为标准对被测长度进行度量的仪器,所不同者,一方面是当可动棱镜不动时,前者的干涉信号是介于亮和暗之间的某个直流光平,而后者的干涉信号是一个频率约为1.5MHz的交流信号;另一方面,当可动棱镜移动时,前者的干涉信号是在亮和暗之间缓慢变化的信号,而后者的干涉信号是使原有的交流信号频率加添或削减了△f,结果仍旧是一个交流信号。
因而对于双频激光干涉仪来说,可用放大倍数较大的交流放大器对干涉信号进行放大,这样,即使光强衰减90%,仍旧可以得到合适的电信号。
由于这一特点,双频激光干涉仪可以在恒温,恒湿,防震的计量室内检定量块,量杆,刻尺和坐标测量机等,也可以在一般车间内为大型机床的刻度进行标定,既可以对几十米的大量程进行精密测量,也可以对手表零件等微小运动进行精密测量,既可以对几何量如长度、角度.直线度、平行度、平面度、垂直度等进行测量,也可以用于特别场合,诸如半导体光刻技术的微定位和计算机存储器上记录槽间距的测量等等。
投影光刻机调平调焦系统原理与故障分析
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投影光刻机调平调焦系统原理与故障分析张文雅;赵英伟【摘要】This article taking a stepper as an example, introduces the basic principle and main structure of the leveling and focusing system, describes the working procedure of the leveling and focusing system in detail, summarizes the normal faults of the leveling and focusing system based on the maintenance experience of the projection lithography machine for many years, and gives the methods and steps to deal with and solve the faults.%以某型投影光刻机为例介绍了调平调焦系统的基本原理和主要构成, 详细叙述了调平调焦系统的运行步骤, 并结合多年的投影光刻机维修经验总结了调平调焦系统的常见故障, 给出了处理故障的方法和步骤.【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2019(048)001【总页数】4页(P37-40)【关键词】调平;调焦;投影光刻机【作者】张文雅;赵英伟【作者单位】中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄 050051;中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄 050051【正文语种】中文【中图分类】TN305.7光刻工艺是大规模集成电路生产的基础,半导体工艺水平的高低很大程度上是由光刻工艺所能加工的最小线宽决定。
半导体芯片的集成度、功耗、性能以及生产成本都与此息息相关。
作为光刻工艺中最为关键的设备投影光刻机,被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠,研发的技术门槛和资金门槛都非常高,能生产高端投影光刻机的厂商非常少。
激光干涉仪在检测数控机床精度方面的应用
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激光干涉仪在检测数控机床精度方面的应用1.前言随着大型数控机床应用的日见广泛,对大型机械两条导轨间平垂直度检测要求也越来越多。
传统的垂直度检测方法如大理石角尺配合干分表方法受标准角尺大小的限制只能应用于小型机器:另外采用四象限等传感器方法,则因传感器的精度漂移和读数稳定性容易受到环境变化的影响,使得其应用范围大大受限。
激光干涉仪是通过激光波长溯源的原理来实现数控机床几何精度及定位精度检测,激光干涉仪主要可以对数控机床进行线性、角度、直线度、垂直度、转轴测量等,下面就来一一讲解。
2.测量应用2.1.线性测量2.1.1.线性测量构建要进行线性测量,需使用随附的两个外加螺丝将其中的一个线性反射镜安装在分光镜上,组装成“线性干涉镜”。
线性干涉镜放置在激光头和线性反射镜之间的光路上,用它的反射光线形成激光光束的参考光路,另一束光入射到线性反射镜,通过线性反射镜的线性位移来实现线性测量。
如下图所示。
线性测量构建图水平轴线性测量样图垂直轴线性测量样图2.1.2.线性测量的应用激光干涉仪可用于精密机床定位精度、重复定位精度、微量位移精度的测量。
测量时在工作部件运动过程中自动采集并及时处理数据。
激光干涉仪应用于机密机床校准2.2角度测量2.2.1.角度测量构建与线性测量原理一样,角度测量需要角度干涉镜和角度反射镜,测试时角度反射镜和角度干涉镜必须有一个相对旋转,相对旋转后两束光的光程差就会发生变化,而光程差的变化会被激光干涉仪探测器探测出来,由软件将线性位置的变化转换为角度的变化显示出来。
角度测量原理及测量构建水平轴俯仰角度测量样图水平轴偏摆角度测量样图2.2.2.角度测量的应用机床准直平台/倾斜工作台的测量由于角度镜组的不同安装方式,其测量结果代表不同方向的角度值。
您可以结合实际需要进行安装、测量。
水平方向角度测量垂直方向角度测量在垂直方向的角度测量中,角度反射镜记录下导轨在不同位置时的角度值,可由软件分析出导轨的直线度信息,实现角度镜组测量直线度功能。
光刻设备中工件台激光测长原理
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光刻设备中工件台激光测长原理
韦俊; 杨兴平
【期刊名称】《《电子工业专用设备》》
【年(卷),期】2008(037)010
【摘要】通过对双频激光干涉仪的原理、结构、双频产生机理进行分析,阐述激光干涉仪在光刻设备中的实际应用,探讨激光干涉仪技术。
【总页数】8页(P28-35)
【作者】韦俊; 杨兴平
【作者单位】上海微高精密机械工程有限公司上海 201203
【正文语种】中文
【中图分类】TN305
【相关文献】
1.双频激光多普勒频移测长原理及其光路检验 [J], 李茂山
2.基于单频激光干涉仪的精密工件台定位系统设计 [J], 王蕴;薛虹;韩立
3.超精密工件台多维激光测量系统研究 [J], 周云飞;申喻;于宝成
4.激光测长仪的基本原理 [J], 戴锦锟
5.光刻设备中工件台激光测长原理 [J], 韦俊; 杨兴平
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收 稿 日期 :2016—01.21
(总第252期)⑨
先 进 光 刻 技 术 与 设 备
电 子 工 业 毫 用 设 备
-
频 原 理 工 作 。 1 双 频 激 光 干 涉 仪 测 距 原 理
卜 .
厂:. 、/ —一 ( )
(6)
其 中 , 为 光 源 与 观 测 者 的 相 对 速 度 ,c为 光
中图分 类 号 :TN305.7
文献 标 识 码 :A
文章 编 号 :1004—4507(2016)02/03—0027—0
The Principle of Stepper W afer Stage Positioning Based on the Dual-frequency Laser Interferom eter and Fault Diagnosis
并 以此 为基 础 介 绍 了双 频 激 光 干 涉仪 在 投 影 光 刻 机 工作 台精 确 定位 系统 中的 应 用 与 工作 原 理 .
结合 多年 的 投 影 光刻 机 维修 经验 分析 了 两例 双频 激 光干 涉仪 及 工 作 台系统 的故 障和 解 决 步骤 。
关 键 词 :投 影 光刻 机 ;双 频 激 光干 涉仪 ;多 普勒 效 应
y=[2 c。s 2耵( 。s( 卜(4)
合 振 幅频 率 为 :
Y
(5)
双 频 激 光 干涉 仪 就 是 利 用 两 个 频 率 相 差 很 小 的光 波干 涉 来 工作 。
1.1 波 的 干 涉 当两 个 频 率 相 同 、振 动 方 向相 同 、位 相 相 同或
位 相 差 恒 定 的波 在 空 间 某 一 点 相 遇 时 ,一 些 地 方
速 。 利 用 二 项 式 展 开 ,当 比值 很 小 而 略 去 高 次
C
项 时 ,就 得 出 :
振 动 始 终 加 强 ,一 些地 方始 终减 弱 或 完全 抵 消 ,这
ZHANG W enya,SONG Jian
(The 1 3 Research Institute of CECT,Shijiazhuang 05005 1,China)
Abstract: This paper describes the principle of the dual—frequency laser interferom eter measuring distances using the principle and the calculation methods of the light interference and Doppler efect. and thus based introduces the application and working principle of the dual—f requency laser interferom eter in the stepper w afer stage positioning,and sum m arizes two faults and the corresponding solution. K eywords:Stepper;dual—frequency Laser interferom eter;D oppler efect
囝 蔓 墓 耋
塑鱼
基于双频激 光干涉仪 的投影光刻机 工作 台定 位原 理 与 故 障分 析
张 文 雅 .宋 健
(中 国 电子 科 技 集 团公 司第 十 三 研 究所 ,石 家 庄 050051)
摘 要 :介 绍 了双 频 激 光 干 涉仪 利 用 光 的 干 涉 和 多普 勒 效应 测距 的原 理 以及 距 离的计 算 方 法 。
个 现 象 就 是 波 的干 涉 。两 个 振 动 频 率 不 同的 波 ,即
使振 动 方 向相 同 ,合 振 动 也 是很 复杂 的 ,一 般 不 会
产 生 干 涉 。但 是 当振 动 方 向相 同 、频 率 差 很 小 的两
列 波 在 同 一方 向上 传 播 时 ,便 可 产 生 一 种特 殊 的
为广 泛 的光 刻 设 备 ,其 工 作 台 的 定 位 精 度 是 光 刻 机 分 辨 率 提 高 的根 本 与 保 障 。利 用 双 频 激 光 干 涉 仪 ,可 以对 工 作 台进 行 纳 米 级 的 跟 踪 定位 。双 频 激 光 干 涉 仪 首 先 由美 国 HP公 司 研 制 成 功 并 获 得 专 利 权 ,以稳 频 的双 频 氦 氖 激 光 器 作 为 光 源 ,按 照 拍
干 涉 。波 一 的振 动 频 率 ,ym为 振 幅 ,t为 时 间 ,波
一 的振 动 位 移 为 :
y1=y ̄cos 2盯 t
(1)
波 二 的振 动 频 率 为 , 波 二 的振 动 位 移 为 : .
Af=(厂一门 - _f
(7)
在 双 频 激 光 干 涉 仪 中 ,工 作 台长 条镜 的 移 动 速 度 是 ,由于 激 光 射 入 长 条 镜 又 返 回 ,相 当于 接 收 器 相 对 光 源 移 动 速 度 是 2 ,故 :
光 刻 技 术 起 始 于 上 世 纪 60年 代 ,并 遵 循 摩 尔 定 律 发 展 至 今 ,光 刻 工 艺 的 高 低 决 定 了在 单位 圆 晶 片 上 能 够 集 成 晶体 管 的 数 目, 目前 已经 发 展 到 28 nnl甚 至 14 nnl制 程 , 是 人 类 所 能 达 到 的一 种 最 高 的 加 工 技 术 。投 影 光 刻 机 是 光 刻 工 艺应 用 最
△产 厂 C
(8)
沤 就 是 由 工 作 台 长 条 镜 移 动 向 产 生 光 频 率 的 变 化 ,称 为 多 普 勒 频 差 。如 果长 条 镜 在 t时 间 内移
动 了距 离 L,由:
y2=ymCOS 21T t 合振 动 位 移 为 :
(2)
Y=yl+y2:ymcos 21T f COS 2 t (3) 利 用 三 角 公 式 ,可 以把 上 式 化 为 :