第二章 金属电沉积过程中的极化

合集下载

金属的电沉积过程课件

金属的电沉积过程课件
2023 WORK SUMMARY
金属的电沉积过程课 件
REPORTING
目录
• 电沉积过程简介 • 电沉积的物理化学基础 • 电沉积的工艺与参数 • 电沉积的设备与装置 • 电沉积的实践与应用 • 电沉积过程的优化与控制
PART 01
电沉积过程简介
定义与原理
定义
电沉积是一种通过电解液中的金 属离子在阴极上还原并沉积成金 属的过程。
电解液浓度
浓度对电沉积过程有重要 影响,过高或过低的浓度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
添加剂使用
为了改善电沉积效果,有 时需要添加一些添加剂, 如稳定剂、光亮剂等。
电沉积的工艺条件
电流密度
电流密度的大小直接影响 沉积速率和沉积物的质量 ,需要根据实际情况进行 调整。
温度
温度对电沉积过程有一定 影响,过高或过低的温度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
时间
电沉积时间的长短会影响 沉积层的厚度和致密性, 需要根据实际需求进行控 制。
电沉积参数的影响
电流密度对沉积层质量的影响
01
电流密度过小会导致沉积速率慢,过大则可能导致烧焦或气孔
等缺陷。
温度对沉积层质量的影响
02
温度过高可能导致金属离子水解,过低则可能导致沉积不均匀

时间对沉积层质量的影响
03
时间过长可能导致过度沉积或偏析,过短则可能导致沉积不完
金属离子的还原过程
还原反应
在电流的作用下,金属离子获得电子,从阳离子变为金属原子。
形核与生长
新形成的金属原子聚集形成晶核,随后晶核不断生长,形成金属沉积层。
PART 03
电沉积的工艺与参数
电解液的选择与制备

金属电沉积理论2

金属电沉积理论2

金属电沉积理论2⑴.降低游离金属离子浓度,是平衡电位负移。

电位负移程度与金属络离子稳定性有关,络离子越稳定,则平衡电位负移越显著。

金属络离子稳定性由络合物不稳定常数K不表征,当电离平衡为:ML(n-km)=Mn++Lm-K不=[Mn+][Lm-]/[ML(n-km)]⑵.提高阴极还原的电化学极化。

金属络离子的界面反应历程,通常是先经过表面转化形成低配位数的表面络合物,如多核络离子或缔合离子,然后放电。

放电前配体的变换和配位数的降低涉及能量变化,导致还原所需活化能的升高,因而表现出比简单金属离子更大的电化学极化。

络合物对电化学极化的贡献取决于配体界面性质和不稳定常数两个因素。

当配体具有对电极过程起阻化作用的性质时,K不越小的配体转化所须的活化能越大,则阴极极化增大效应越显著。

如配体对电极过程起活化作用则很难通过K 不来预测阴极极化效果。

络合剂具有选择性。

根据软硬酸碱的原理,形成络合物的稳定性服从"软亲软,硬亲硬"的规律。

金属离子和配体分别当作广义碱时的软硬划分可以软硬势标镀为据。

金属的电子构型对络合物的影响较大。

满d壳层的d10类金属(如Cd,Sn,Pb,Cu,Zn,Ag等),一般只能形成活性络合物,可选用络合能力很强的络合剂。

d6,d8,d13等类金属(如Fe,Co,Ni,Cr等),与K不小的配体移形成惰性络合物而难以还原析出。

金属离子浓度提高时,界面浓度与交换电流均相应增加,一般会降低电化学极化,故无论在单盐还是络盐溶液中提高金属离子浓度,都具有减小形核率并伴随着镀层粗糙的趋势。

但浓度降低导致浓差极化增强,极限电流也随之下降。

3.游离络合剂游离酸存在于单盐溶液中,并依其含量高低可分为高酸度和低酸度两类镀液。

在高酸度镀液中,游离酸能在一定程度上提高阴极极化,并防止主盐水解或氧化,提高镀液电导率。

但游离酸浓度过高时,主盐溶解度下降,浓差极化趋势增强。

低酸度镀液中,游离酸浓度过低易引起主盐水解或发生沉淀;过高则导致大量析氢,电流效率下降。

电镀工艺学-金属电沉积理论

电镀工艺学-金属电沉积理论

即电化学步骤和电结晶步骤,动力学规律交迭,极化曲线复
杂、数据分析困难; 2 固体表面不均匀,结晶过程中电极表面不断变化; 3 对大多数金属而言,界面步骤都进行的很快, 用经典电化学 测量极化曲线的方法不能揭示界面动力学规律。
2
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
电镀工艺学
第二章 金属电结晶
1
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
• 金属电结晶的基本概念 • 定义:通常把金属离子或络离子的放电并形成金属晶体的过 程称为金属电结晶 1 金属电结晶的界面反应至少包括放电和结晶两个连续的步骤,
1. 电化学极化较小的金属体系:
当从铜、银、锌、镉、铅、锡等金属的简单盐溶液中沉积这 些金属时极化都很小,即交换电流密度都很大。
8
Plating technology 如: 1 M
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
ZnSO4
80mA/cm2 42mA/cm2
吸附原子的表面扩散控制 在许多电极上,吸附原子的表面扩散速度并不大,如果电
化学步骤比较快, 则电结晶过程的进行速度将由吸附原子的
表面扩散步骤控制;如果电极体系的交换电流较小,则往往是 联合控制。 假设一个台阶上有一个无穷小面积dx、dy。 假设单位表面上吸附原子的平均浓度为。
其对时间t的变化应为表面上由法拉第电流产生的吸附原子的

三价铬电沉积过程中的电流效率和极化行为(外文翻译版)

三价铬电沉积过程中的电流效率和极化行为(外文翻译版)

三价铬电沉积过程中的电流效率和极化行为Y.B. Song, D.-T. Chin摘要:用整流器和旋转圆盘电极研究了一种用甲酸铵和乙酸钠做络合剂的三价铬镀液铬沉积过程中镀液组成和附加电位的影响。

结果表明:铬的电沉积过程包括两个连续的还原过程。

[Cr(H2O5)L]2++e [Cr(H2O5)L]+L-代表络合物的甲酸根或者乙酸根配位体。

下面是二价铬络合物还原成金属铬:[Cr(H2O5)L]++2e Cr+5H2O+L-沉积速度由三价铬络离子的转移到阴极表面的速度决定。

关键字:三价铬电沉积;电流效率;极化;反应机理前言由于六价铬离子的毒性和联邦法规对六价铬的排放要求,电镀铬工艺需要从六价铬向三价铬转变[1]。

在美国,商业化的装饰性镀铬从1970年中期开始应用[2]。

典型的三价铬镀液组成有:CrCl3或者Cr2(SO4)3形式的三价铬盐,络合剂(例如:甲酸盐,乙酸盐,尿素等),PH缓冲剂(硼酸),润湿剂和光亮剂[3]。

三价铬镀液的主要优势在于三价铬离子是无毒的。

三价铬离子的电化学当量是六价铬的两倍。

厚铬镀层不容易获得。

商业化三价铬电镀镀层厚度通常不超过10µm,镀层不适合作硬铬层,耐磨层和其他功能性应用。

很难从三价铬槽液中沉积出厚铬镀层的原因现在还没有完整的解释。

三价铬镀液的PH只有范围为1-3,镀液缓冲能力很差。

一些实验[4-6]把三价铬离子的可持续沉积失败归于在水溶液中会形成稳定,惰性的三价铬离子络合物[(H2O)4Cr(OH)(OH)Cr(H2O)4]4+。

Mandich[7-8]发表在chromium chemistry的文章上,详细的介绍了羟基的水解,以及与三价铬离子的聚合和氧连作用。

Tu et al[9]提出在电镀过程中三价铬离子放电形成铬金属的过程由Cr(OH)3或者Cr2O3在阴极形成的盐膜控制。

Yudi et al[10] 用循环伏安法曲线证明了[Cr(H20)5Cl]2+[Cr(H2O)6]2+是可逆反应。

金属的电沉积过程

金属的电沉积过程
第九章 金属的电沉积过程
第一节 金属电沉积的基本历程的特点
一.基本历程 液相传质 前置转化 电荷传递 电结晶
二.金属电沉积过程的特点


阴极过电位是电沉积过程进行的动力; 双电层的结构,特别是粒子在紧密层中 的吸附对电沉积过程有明显影响; 沉积层的结构、性能与电结晶过程中新 晶粒的生长方式和过程密切相关,同时 与电极表面(基体金属表面)的结晶状 态密切相关。
2
电子转移
进入晶格
第三节
金属电结晶过程
金属电结晶的形式 阴极还原的新生态吸附原子聚集形成晶 核,晶核长大称晶体;

新生态吸附原子在电极表面扩散,达到 某一位置并进入晶核,在原有金属的晶 格上延续生长。
盐溶液中结晶过程

过饱和度越大,结晶出来的晶粒越小;
过饱和度越小,结晶出来的晶粒越大; 在一定过饱和度的溶液中,能继续长大 的晶核必须具有一定大小的尺寸 。
金属络离子的阴极还原
机理:(以氰化镀锌为例)
ZnCN 4OH ZnOH 4CN
2 4 2 4
配位体交换 配位数降低
ZnOH ZnOH 2 2OH
2 4
2 4 2 2

ZnOH 2e ZnOH (吸附)
ZnOH 2 (吸附)=Zn(晶格中) 2OH
第二节 金属的阴极还原过程

金属离子从水溶液中阴极还原的可能性 :
满足上式金属离子才能从水溶液中还原。
平+
简单金属离子的阴极还原
M
n
mH 2 0 ne M mH 2 O
步骤: 水分子的重排和水化程度的降低 水化离子转变为吸附原子(离子) 吸附原子(离子)转变为金属原子

固相金属铝电沉积中枝晶生长的浓差极化机理

固相金属铝电沉积中枝晶生长的浓差极化机理

固相金属铝电沉积中枝晶生长的浓差极化机理*木能大学李庆峰年竹贤丹麦技术大学N.J.比隆摘典固相金属电沉积中枝晶生长理论所提出的扩散控制机理和电成核控制机理都不能解释本研究中所发现的沉积后铝枝晶的自发生长现象,为此本文提出了一种浓差极化机理,并进行了实脸脸证.认为浓差驱动的枝晶生长是枝晶动力学的另一个原因.关傲询固相金属电沉积,枝晶,浓差极化,NaCI-A1C19熔体嘿哪一冬懊攘1实验采用区域熔炼的NaA1C1‘作为电解质,通过在175℃下添加饱和的NaCI以使熔体呈碱性。

实验电极为玻璃碳电极。

铝沉积用恒电流电解法,电流由一台恒电流仪供给。

电位一时间曲线用一台Y-t记录仪记录。

实验是在透明炉中进行的。

沉积铝的观察采用一台配有Olympus OM-2SL R照相机的Zeiss Jena Technical 2Stero型显微镜和一组Schott KL1500照明光源。

沉积铝的形状可直接采用显微照相法进行观察和照相。

2实验观察在玻璃碳电极上沉积铝的形状决定沉积条件,主要是沉积电流和熔体组成的不同而沉积形状不一样。

一般说来,在饱和NaCI的NaA1C14熔体中,沉积电流密度高于15mA/cm“时,通常生成枝晶状或针状沉积铝。

实验发现,当采用的沉积电流密度较高时,电解沉积后即使切断电流,经过一段诱发期,铝枝晶仍然能够自发地生长。

铝枝晶自发生长的诱发期因沉积电流密度的不同而不同,且随沉积电流密度的增大而减小,沉积时间从几分钟到数小时不等。

且电解结束后,铝枝晶自发生长的量和生长速率随沉积电流密度的增大而增加。

图1是电沉积后枝晶生长的一个实例。

熔体为同时饱和I}TaCI和MnCI:的NaA1C14o沉积电流密度为70mA/cmz,沉积时间6mino图1(a)为沉积结束时在电极上获得的针状沉积物,此后切断电流并打开电路,静置4min后,枝晶首先在针状沉积物的顶部生成(图lb)o 8min后,在针状沉积物的顶部生成越来越多的枝晶(图lc)o 16min后,在沉积物的其他部位也有枝晶状物生成(图1.d)。

第二章金属电沉积过程中的极化

第二章金属电沉积过程中的极化

第二章金属电沉积过程中的极化金属电沉积是在外加电场作用下,将金属离子从溶液中转化成金属膜或金属物体的过程。

在金属电沉积过程中,极化现象是一个重要的现象。

极化是指金属电极在电解质溶液中电化学反应过程中形成电势差,导致电流向相反方向流动的现象。

极化现象可以分为正极化和负极化。

正极化是指电极表面形成了与电流方向相同的极化电位,阻碍了电流的流动。

正极化的主要原因是在电解质溶液中,金属电极表面吸附了反应活性物种,如金属离子和氧化物,形成了阻碍电流传输的物种层。

这种极化效应会使电沉积速率减慢,导致沉积物品质下降。

为了克服正极化,可以通过增加电流密度、提高温度或添加激活物质等方法来降低正极化。

负极化是指电极表面形成了与电流方向相反的极化电位,促进了电流的流动。

负极化的主要原因是在电解质溶液中,金属离子的还原速率大于金属离子的生成速率,导致电极表面形成了过电位,从而促进了电流的流动。

负极化效应可以提高电沉积速度和沉积物品质。

然而,当负极化过大时,可能会导致气泡的生成和沉积物品质下降。

为了控制金属电沉积过程中的极化效应,可以采用以下方法:1.控制电导率:电解质溶液的电导率对极化效应有重要影响。

可以通过调整电解质浓度和温度,以控制电解质的电导率。

较高的电导率有助于减小极化效应。

2.调整电流密度:通过调整电流密度,可以调控极化效应。

较大的电流密度有助于减小正极化,促进负极化。

但是,过大的电流密度可能会导致过极化和沉积物质量下降。

3.控制温度:温度对极化效应有明显影响。

较高的温度有助于减小正极化,促进负极化。

这是因为在较高温度下,溶液中的晶体活性和扩散速率会增加,有利于电流的流动。

4.添加添加剂:在电沉积过程中,可以添加一些特定的添加剂来控制极化效应。

添加剂可以改变溶液的电荷分布,调节极化电位,从而改善电沉积过程。

因为金属电沉积过程中的极化现象对沉积物质量和电化学反应速率有着重要影响,所以在金属电沉积工艺中,需要充分了解和控制极化效应,以获得所需的电沉积效果。

电-沉-积-原理

电-沉-积-原理


2、阳极溶出法
L.P. As Ar 100% As
L.P. Qs Qr 100% Qs
3、金相法

4、有整平能力的镀液的特点 整平剂受扩散步骤控制 电沉积受电子转移步骤控制
第六节 镀液的整平作用 三、整平能力的测定
1、转盘电极法 δ =1.62D1/3ν1/6ω-1/2 DL=0.62nFD2/3ν-1/6ω1/2Co (1)D与ω无关,D峰=D谷 ,几何整平 (2)ω↑D↑, D峰> D谷 ,负整平 (3)ω↑D↓, D峰< D谷 ,正整平 未考虑电流效率
金属析出过电位增大
基体材料的表面状态

测量方法 1. 直角阴极法
适用于镀铬液 2. 内孔法
适用于覆盖能力好的镀液 3. 凹穴法
第五节 梯形槽的应用 一、梯形槽阴极上的电流分布
1000mL Dk = I (3.2557-3.0451 lgL)
267mL Dk = I (5.1019-5.2401 lgL)
Δφ= D2ΔL – L1ΔD
Δφ/(ΔD) = D2ΔL/ΔD – L1
Δφ/(ΔD) + L1= D2ΔL/(D1 – D2 )

1
D
L1
D2L D1 D2

1
1
D
L1
D1 D2 D2L
D1 D2
1
1 L
得: D1 D2
1
1
L
D
L1
影响电流二次分布的因素:
ΔL↓ ↓ Δφ/ΔD ↑ L1 ↑
Sn Te
Te
I
六 Cs Ba La Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At

第二章 金属电沉积

第二章    金属电沉积
20
表2-3 直接在电极上放电的络离子
电极体系
络离子的主要存在形式
直接在电极上放电的络离子
Zn(Hg)/Zn2+,CN-,OH-
[Zn(CN)4]2-
Zn(OH)2
Zn(Hg)/Zn2+,NH3 Cd(Hg)/Cd2+,CN-,
Ag/Ag+,CNAg/Ag+,NH3
[Zn(NH3)3OH]+ [Cd(CN)4]2-
22
自电化学暂态测量方法出现以来,采用暂态可减少浓差 极化,使电极表面变化轻微,或用液体电极撇开结晶过程, 如此,才对电结晶过程有了一个较统一的认识。目前,电结 晶的研究理论与实践仍有很大差距,而由于多种综合因素的 影响使其在解决电化学结晶的实际问题时,现有理论还不能 很好的解释。
23
2.3.1 电结晶历程
??
图2-1 金属电结晶过程可能的历程
25
实验:在45%的HClO4中测定固态和液态汞电极上
的交换电流密度,由于电极为液态时,电化学反应中没有 结晶步骤,如果放电可以在任意位置进行,则在固态和液 态时,反应速度应该接近。
试验表明,固态和液态情况下,电极上的交换电流密 度相差较小,认为放电反应可以在任意位置上进行。
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
x
=
K a / a 不
A g ( CN ) + 2

第2章金属电沉积理论(2)

第2章金属电沉积理论(2)

参数
电解参数:电流密度、溶液浓度、搅拌情况、电源类型;
4.1 镀液的组成与类型
镀液的组成
图2-4 电解液中各种物质的关系
1、 主盐及其分类 (1)主盐:在电镀工艺中,常将含有沉积金属的盐类称 为主盐,如各种镀锌溶液中的硫酸锌、锌酸钠等; (2)分类:根据主盐化学成分和性质不同,分为单盐、 复盐、络盐。一般将单盐,复盐组成的电解液归为单盐电 解液,把络盐和螯合物组成的电解液称为络合物电解液; 2、 镀液的基本类型: (1)单盐电解液类型(见表2-3) 硫酸盐型,氯化物型,氟硼酸型,氟硅酸型,氨基磺酸型 (2)络合物电解液类型(见表2-4) 氨合络盐型,有机络盐型,焦磷酸盐型,碱性络盐型,氯 化物型
Tc Ru Rh Pd Ag Re Os
Ir
Cs Ba La
稀 土
W
Pt
Au
Bi Po At
水溶液中可能电沉积
氰化物电解液可以电沉积
非金属
第二节
2.1 电结晶过程
金属电结晶及电沉积过程
电结晶历程至少包括金属离子的放电和长入晶格两个步骤,
其影响因素很多,如温度、电流密度、电极电位、电解液组
成、添加剂等,这些因素对电结晶过程的影响直接表现在所 获得电沉积层的各种性质上,如致密、反光性、分布均匀性、 结合力及机械性能等, 因此有一定的研究意义。 当金属离子在很小的过电位(η<100mV)下放电时,新晶核形 成的速度很小, 这时电结晶过程主要是原有的晶体长大,若 过电位较大,就有可能产生新晶核。
5.4 强度和塑性 : 通常强度较冶金金属大,塑性较冶金金属差
表2-6 某些电镀层和冶金材料的抗拉强度和伸长率
5.5 电镀层的内应力
通常软金属内应力较 低,硬金属内应力较高

金属的电沉积过程课件

金属的电沉积过程课件
A、简单金属离子在水溶液中都是以水合形式存在的,金属离子在阴极还原 时,必须首先发生水化离子周围水分子的重排和水化程度降低
B、多价金属离子的阴极还原符合多电子电极反应规律(多步反应)
2.3. 金属络离子的阴极还原
加入络合剂后,由于络合剂和金属离子的络合反应,使水化金属离子转变为 不同配位数的络合离子,金属离子在溶液中的存在形式和在电极上的放电粒 子都发生了改变,因而引起了该电极体系的电学性质变化
电冶炼、电精炼、电铸、电镀。
1.1. 金属电沉积的基本历程
A、液相传质步骤 溶液中的反应粒子(金属水化离子)向电极表面迁移
B、前置转化 迁移到电极表面的粒子发生化学转化反应,如离子 水化程度降低、重排,络离子配位数变化 C、电荷转移 反应粒子得到电子、还原为吸附态金属原子
D、电结晶 新生吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置进 入金属晶格生长,形成晶体
晶核长大时过电 位
晶核生成时过电位
电结晶形核过程规律 一、电结晶形核需要消耗一定电能,因而在平衡电位不能形核,从 物理意义上来说,过电位或阴极极化只所起的作用与盐溶液结晶的 过饱和度相同
二、阴极过电位的大小决定了电结晶层的粗细度,过电位越高,晶 核数量越多,沉积层越细致,反之越粗
3.2. 在已有晶面上的延续生长
A、使金属电极的平衡电位负移 25oC时,银在1mol/L AgNO3中平衡电位:
e = Ө + RT/F lnaAg+ = 0.779 + 0.0591 log(0.4) =0.756 V
加入1mol/L KCN后,因Ag+与CN-形成络离子,平衡反应为:
Ag+ + 2CN- = Ag(CN)2K不 = aAg+ aCN-2/ aAg(CN)2- = 1.6 10-23 Ag+ 的活度为

第二章 金属电沉积

第二章    金属电沉积
13
如:1 M ZnSO4 、0.2 M Pb(NO3)2 中所得镀层不 致密,结晶粗大。
2. 电化学极化较大的金属体系 当铁、钴、镍等金属从硫酸盐或氯化物中电沉积时,
它们的交换电流密度都很小。 如: 1M FeSO4 、NiSO4 中所得的镀层致密。
14

高交换电流密度金属 中交换电流密度金属 低交换电流密度金属
22
自电化学暂态测量方法出现以来,采用暂态可减少浓差 极化,使电极表面变化轻微,或用液体电极撇开结晶过程, 如此,才对电结晶过程有了一个较统一的认识。目前,电结 晶的研究理论与实践仍有很大差距,而由于多种综合因素的 影响使其在解决电化学结晶的实际问题时,现有理论还不能 很好的解释。
23
2.3.1 电结晶历程
(2)电极表面溶液层中金属离子水化数降低、水化层发 生重排,使离子进一步靠近电极表面,过程表示为:
M 2+.mH2O − nH2O → M 2+.(m − n)H2O
(3) 部 分 失 水 的 离 子 直 接 吸 附 于 电 极 表 面 的 活 化 部 位,并借助于电极实现电荷转移,形成吸附于电极 表面的水化原子,过程表示为:
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
x
=
K a / a 不
A g ( CN ) + 2
第二章 金属电沉积
1
2 .1 金属离子还原的可能性

第2章-金属的电沉积

第2章-金属的电沉积

电沉积的金属种类
目前,电沉积单金属的种类众多,有锌、镉、 铜、镍、铁、铬、银、金、锡、铅、铟、钴、 钌、铑、铂、锇、钯、铝、铍、镁、钙、铕、 铈、铼、钇、钐、铀、钍、镎、钚等。
这些金属中有一些不是用来作镀层的,其中还 有不少金属无法从水溶液中得到,而只能从非 水溶剂组成的电解液或熔盐浴中电沉积,至于 电沉积合金的种类更是五花八门、不胜枚举。
在什么情况下,金属会从溶液中阴极还原沉积出来 ,在什么情况下会形成结构致密、厚度均匀,结合 力好的金属层,进而起到防护、装饰、功能性的作 用。
这样就需要首先了解金属的电沉积机理,以及电镀 液和电解规范对镀层质量的影响。
第 2 章 金属的电沉积
2.1 金属离子阴极还原的可能性 2.2 金属电结晶的基本历程 2.3 金属析氢过电势 2.4 电沉积金属的形态和结构 2.5 金属配离子还原时的极化 2.6 金属的E-pH图及其在电镀领域中的应用 2.7 电解液对沉积层结构的影响(简单离子) 2.8 电解规范对沉积层结构的影响
•例如飞机发动机的钢轴承上先镀一层银,然后在氟硼酸盐镀液中镀 上一层厚度为25斗m的铅层,最后镀1μm~2.5μm的铟层,然后在与 空气隔绝条件下进行热处理,在2h内缓慢升温至l50℃-l70℃。另一 种方法是在热油中加热,使得铟在铅中充分进行扩散,这样铟就固 溶于铅层之中。
二、金属离子沉积的情形
•镀镀铅简介
铅的电位比铁正,对钢铁而言是属于阴极性镀层,所以只有铅镀层 厚而无破损、无孔隙时才能有效地保护铁基体不受腐蚀。镀铅层适 用于接触的硫酸的设备和零件,也用于接触二氧化硫气体的器具和 仪表零件的防腐蚀。利用其良好的塑性和韧性,也可作为冷拉加工 的润滑材料。 镀铅的镀液种类很多,如氟硼酸盐、氟硅酸盐、氨基磺酸盐、醋酸 盐等,氟硼酸镀液以其简单、稳定、结晶细密而应用最广。

金属镀层的沉积原理

金属镀层的沉积原理
m′--实际析出物质的质量, m --理论上应析出物质的质量。
整理课件
21
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
2、电镀反应
(3)阴极、阳极反应
电流效率
用于沉积金属的电流
η
总电流
100%
析氢的后果: ★ 电能消耗; ★ 镀层出现麻点、针孔、氢脆、鼓泡,为避免氢脆,要 增加一道退火工艺; ★ 氢的析出,使阴极附近溶液中pH升高,产生氢氧化物 沉积,夹杂在镀层中影响镀层质量。
整理课件
22
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
2、电镀反应 (3)阴极、阳极反应. ② 阳极反应
主反应: M -ne → Mn+ 副反应: 4OH- -4e →O2↑+2H2O
为防止阳极金属钝化,常在镀液中加入一些阳极 去钝剂,使其由钝态转化为活化态。
整理课件
23
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺 1.2.4 电镀液的性质
◆ 阳极活化剂:镀液中能促进阳极活化的物质称为阳极活化 剂。其作用在于提高阳极开始钝化的电流密度,从而保证 阳极处于活化状态而能正常溶解。
◆ 添加剂:不改变镀液性能的微量物质,却能显著改善镀层 性能的物质,按所起作用可分为光亮剂、整平剂、润湿剂 和抑雾剂等。
整理课件
6
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
η -金属沉积的电流效率,%
γ -沉积金属的比重,g/cm3
整理课件
26
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
1.2.4 电镀液的性质 1.电镀液的分散能力(均镀能力)
整理课件
27
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
1.2.4 电镀液的性质 1.电镀液的分散能力(均镀能力)
T近 =D近 近 T远 D远 远

沉积电位去极化

沉积电位去极化

沉积电位去极化
沉积电位去极化是一种电化学现象,它是指在电化学反应中,当电极表面的沉积物达到一定厚度时,会发生去极化现象,导致电极电位的变化。

这种现象在许多工业和科学领域中都有广泛的应用。

沉积电位去极化的机理是电极表面的沉积物会阻碍电子和离子的传输,从而导致电极电位的升高。

当沉积物的厚度达到一定程度时,电极表面的电子和离子就会开始发生反应,从而导致电极电位的下降。

这种现象被称为沉积电位去极化。

沉积电位去极化在许多工业领域中都有广泛的应用。

例如,在电镀过程中,金属离子会在电极表面沉积形成金属膜。

当金属膜的厚度达到一定程度时,就会发生沉积电位去极化现象,从而导致电极电位的下降,使得电镀过程能够继续进行。

在电池中,沉积电位去极化也是一个重要的现象。

当电池中的阳极表面沉积了过多的金属离子时,就会发生沉积电位去极化现象,从而导致电池电位的下降,使得电池的输出电压降低。

除了在工业和科学领域中的应用外,沉积电位去极化还在环境保护和能源领域中有着重要的作用。

例如,在燃料电池中,沉积电位去极化是一个重要的限制因素,它会导致燃料电池的效率降低。

因此,研究沉积电位去极化的机理和控制方法对于提高燃料电池的效率具有重要的意义。

沉积电位去极化是一种重要的电化学现象,它在许多工业和科学领域中都有广泛的应用。

研究沉积电位去极化的机理和控制方法对于提高工业生产效率、保护环境和提高能源利用效率具有重要的意义。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
化程度的降低和重排,或者是络合离子配位体的改组或配 位数的降低等。
一、金属电沉积步骤和稳态过程 3)电化学步骤:反应粒子在阴极上得到电子还 原成为金属的过程。 如:
Zn(OH ) 2(吸) 2e Zn (吸) 2OH

4)新相生成步骤:反应产物生成新相,如电结 晶体、气体等。
一、金属电沉积步骤和稳态过程
二、传质控制步骤
影响沉积金属的质量。 若电极反应为浓差极化控制,说明电子传递反
应的速度比离子扩散到电极的速度要快的多,因此
种还原后的金属原子没有足够的时间按品格点阵排
列,所得到的常是疏松、海棉状或粗糙的镀层,因
此可以说,纯粹的浓差极化控制的电沉积是得不到 质量好的镀层的。
三、电化学反应控制步骤
1、阴极电位的改变对阴极反应速度的影响
三、电化学反应控制步骤
必有
i Dk 等式才能成立,所以
0
k
折 平 0 i i
a
阴极反应近似为可逆反应,此时电化学不可能成
为控制步骤。
②当电化学极化很大时, 0.12V 即i0十分小, 0 且 Dk i 或 i i
k
a
三、电化学反应控制步骤
纯浓度极化,由于外加电流极易超过DL,常出
现树枝状疏松镀层,加强搅拌提高许用电流密度,
如酸性镀锌,镀镉便是一例,要使镀层细致均匀, 必须提高电化学极化,常用络合剂或加入表面治性 剂等方法。但在实际电镀过程中,络合剂或表面治 性剂加入,往往是传质步骤和电化学步骤联合控制
为多。
三、电化学反应控制步骤
3、传质步骤和电化学步骤联合控时的极化特征
当用大电流密度电镀时,可能使DK接近DL, 此时,必须考虑电极表面离子浓度的影响,其形 式: Cis 0 nF Dk 0 ia exp k Ci RT
Cis Dk 1 0 D Ci l
Dk C C (1 ) Dl
s i 0 i
Dl RT 扩 ln nF Dl Dk
二、传质控制步骤
(1)按上式所得曲线右图
二、传质控制步骤
(2)当 Dk Dl 时,说明阴极电位的负值稍有增 加,即可引起反应速度的迅速增大; (3)当 Dk Dl 时,说明DK的微小变化,会使 阴极电位迅速变负,此时已达到完全浓差极化,即 使再增加DK ,阴极的电沉积量已达到了以DL为代表 的恒定值。若阴极电位变负能使其它离子析出所需 电位,将出现虚线表示的阴极反应,同时还将大大
Ci0 0时
使用较高的DK;
二、传质控制步骤
② C 0 0时 D nFKC0 / , 则电流密度达到 L i i 极限值,此时的电流密度称为极流电流密度, 以DL表示,这表示以扩散传质为控制步骤的
电沉积时,DK不能太大,否则很易达到DL而
使镀层质量下降。
二、传质控制步骤
当施于强烈搅拌时,此时扩散层厚度δ搅为:
说明:
(1)Dk∝K2/3 由于搅拌,Dk受扩散系数影响程 1 度下降。 2 (2) Dk u0 由于搅拌,可得到提高,是增加扩散 电流的行之有效的方法。
二、传质控制步骤
3、扩散控制时的阴极极化特征
Dk RT rt s 0 0 扩 ln Ci ln[ci (1 )] nF nF Dl
3)扩散:溶液中某一组分自高浓度向低浓度 传递的过程称为扩散,动力是浓度梯度引起。 在电沉积过程中,阴极表面不断进行反应粒子 的放电反应,使阴极表面的液层中反应粒子不 断消耗,与液体主部相比,产生浓度梯度,扩 散传质便会发生。当由扩散传质方式传递到电
二、传质控制步骤
极表面液层的流量足以补偿由于金属电沉积而
三、电化学反应控制步骤
得:
Dk Dk 1 D l nF k , i0 exp RT
Dl RT RT Dk ln i0 ln nF nF Dl Dk
式中: ①为电化学控制部分对阴极极化的贡献, ②为浓差极化控制部分对阴极极化的贡献, 要注意它不是由电化学极化控制和浓差极化控制的 机械加和,第②部分多了一个“α”。
如:
M xH2O M ( x m)H 2O x m Zn(CN ) 4OH Zn(OH ) 4CN
Zn(OH ) Zn(OH )2(吸
2 4 2OH
2
mH 2O
2
2 4
2 4

一、金属电沉积步骤和稳态过程
2、稳态过程 以上4个步骤的反应速度不一致,但因串联进行, 因此整体反应速度就由四个步骤中最慢的决定,称 该过程中各个步骤的反应速度趋于相等时的状态为 稳态过程,而决定整个反应过程的速度最后的一步 称为“控制步骤”。不同的控制步骤对电沉积的结 果是不相同的,因此掌握“控制步骤”对分析整
0
Dk RT RT 0 ln Ci ln(1 ) nF nF Dl Dk RT 平 ln(1 ) nF Dl
0
二、传质控制步骤
扩散过电位:
扩 平 扩
Dk RT ln(1 ) nF Dl
注:
Dk (Ci0 Cis ) Cis 1 0 0 Dl Ci Ci
三、电化学反应控制步骤
2、电化学极化特征:
Dk RT k 平 折 ln 0 nF i
三、电化学反应控制步骤 ①在DK较小时,便出现阴极的较大极化度 (△/△D)所得镀层分散能力较好。 ②电化学极化时, Dk Dl ,即可得到较大的阴极 极化,所以为取得细晶的电镀层,只能依靠电极的 电化学极化,而不能依靠提高电极的纯浓差极化来 获得。 当体系的n=1,y在25~100mv之间, 和 此时 均不能忽略,也无法近似计 i i 算,极化曲线形成比较复杂,因此一般可用体系 i0大小来估计体系的极化性能。
四、表面转化步骤为控制步骤
①图中曲线I表示表面转化速度很慢,在①处所对应的阴极 电位下,只有转化离子(或)能在电极上放电还原,并达 到完全浓度极化,转化离子引起的极限扩散电流为DL(I), 若此时阴极电子负到②所对应的位置,则转化离子MXq (或Myq)与溶液中金属离子的原存在形式MXp均可在电 极上还原,DL(Ⅱ)表现为两种离子同时还原时的极限电流 之和: l I I I l I l MXp 电与扩比数: ①极化曲线形式;②搅拌的影响; ③电极材料及表面状态影响;④反应速度的温度系数。

根据法拉弟定律:
I Q nFM Dk nFV 扩 M 反应物摩尔数 S S t S t
二、传质控制步骤
Dk nFK
C C
0 i
s i
该式即表示电沉积为稳态扩散控制时,反应粒子 浓度对电流密度的影响,即对反应速度的影响。 说明: ① Ci0↑ Dk


,表明较高的反应离子浓度,可
Butler—Volmer公式:( M
0
n
ne
ik ia
)M
nF nF Dk — i exp k exp k ik ia RT RT
式中: io—交换电流密度,是当电极反应处平衡时的电 流密度;
电镀理论及工艺
第二章 金属电沉积过程中的极化
一、金属电沉积步骤和稳态过程
实现金属离子在阴极上的电沉积过程,必须对其过程有
深刻了解,分析其影响因素。
1、电沉积步骤 1)传质步骤:电解液中金属离子(或其络离子)向阴 极界面传递。 2)表面转化步骤:反应粒子在电化学反应前处于阴极
表面或表面液层中的转化步骤,通常包括简单金属离子水
式中:
1 2
1 2 0
K—反应离子扩散系数 v—溶液动力学粘度系数, x—距冲击点的距离 u—溶液沿电极平行方向的流速(搅拌强度);
二、传质控制步骤
u
D k
1 2 0
2 3
即搅拌越强,δ越小。
1 1 6 2 0 1 2 0 i s i
Dk nFK u v x (C C )
k a
Dk i exp( ik
0
nF
RT
k )
三、电化学反应控制步骤
Dk RT k 平 ln 0 nF i
2.3RT 2.3RT k lg i0 ln Dk nF nF
a lg Dk
该式为塔费尔公式,该式可求出电极参数i0和α, 是研究金属电沉积反应机理的重要实验手段, V时,此时阴极反应不再可造,电化学 在 k 0.12 步骤成为过程的控制步骤。
四、表面转化步骤为控制步骤
2、极化特征
当表面转化步骤进行得比较慢时,可成为金属电沉
积过程的控制步骤。计算由MXp转化为MXg的反
应速度及由此而产生的极限电流,试先要计算表示
液层中MXg的浓度分布,这是比较复杂问题。这方 面的数学处理不介绍,仅讨论转化反应进行速度有 所不同时的极化曲线特征。
四、表面转化步骤为控制步骤
二、传质控制步骤 在电镀中,由于大量导电盐的加入或其它不 参加电极反应的荷电粒子的存在,一般沉积金属 离子的电迁移可忽略不计。 2)对流:溶液中的反应粒子(或组分)随液体
流动同时进行传递的过程称为对流。
此时液体与物质粒子之间不存在相对运动,电解
液流动的主要原因为:
二、传质控制步骤
①密度差异;
②温度不同;
③搅拌。
当不考虑搅拌所产生的强制对流时,其电极
表面的液流速度很小,近似于静止状态,
这是流体力学中的一个基本概念。可见,对
二、传质控制步骤
流也不是反应粒子向电极表面传质的主要方式,
但搅拌形成的对流是不能忽略,它将严重影
响扩散层的厚度。
综上所述,对流分为自然对流(温度、密度
引起)和强制对流(搅拌)。
相关文档
最新文档