表面磁光科尔效应

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磁光克尔效应及其应用

磁光克尔效应及其应用

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【专题研讨】
积极参与科技实践活动 提高大学生毕业设计质量
刘三明 (上海电机学院,上海 200240)
摘要:毕业设计(论文)是学生综合运用所学的基础理论、专业知识和基本技能进行科学研究的初步训练,是 掌握科学研究的基本方法,培养创新精神和独立工作能力的重要环节,直接反映了高校教学水平、人才培养质量 和科研水平。本文分析了当前影响本科毕业设计(论文)质量的主要因素,并结合实践,从选题、毕业实习、建立开 题报告、中期检查、毕业设计(论文)答辩等方面,详细阐述了提高本科毕业设计(论文)质量的工作思路和方法,提 出了有针对性的措施。
摘要:磁光效应指的是光与处于磁化状态的物质之间发生相互作用而引起的各种光学现象。这些效应都起自 物质的磁化,反映了物质磁性和光间的联系。本文介绍了磁光克尔效应的基本原理和主要的应用。
关键词:磁光效应;应用;克尔效应
磁光效应指的是光与处于磁化状态的物质之间发 生相互作用而引起的各种光学现象。包括克尔磁光效 应、科顿- 穆顿效应(磁双折射效应)和塞曼效应、法拉 第效应等。物质的磁化都是这些效应起源的重要条件, 这些效应反映了物质磁性与光间的联系。这些都被广 泛用于探索研究与技术相关的磁材料。目前研究和应 用最广泛的磁光效应为法拉第效应和克尔效应。1845 年,英国物理学家法拉第首次发现了线偏振光透过放 置磁场中的物质,沿着磁场方向传播时,光的偏振面发 生旋转的现象,后来被称为法拉第效应[1]。受到了法拉 第效应的启示,1876年,克尔发现了线偏振光入射到磁 化媒质表面反射时偏振面发生旋转的现象,即克尔效 应[2]。直到1985年,Moog和Bader两位学者提出用SMOKE 来作为表面磁光克尔效应 (surface magneto- optic Kerr effect)的缩写,以此表示应用磁光克尔效应在表面磁学 上的研究,成功地得到一原子层厚度磁性物质的磁滞 回线,开启了超薄磁性物质与界面磁性材料研究的大 门[3]。近年来,许多有趣的现象都是通过克尔效应实验 发现的。接下来,我们主要介绍磁光克尔效应的原理及 主要应用。

磁光克尔效应 定义

磁光克尔效应 定义

磁光克尔效应定义磁光克尔效应是指在磁场作用下,光在介质中传播时,光的偏振方向会发生旋转的现象。

这一效应的发现和研究对于光学和磁学领域的发展具有重要的意义,并在实际应用中也有着广泛的应用。

磁光克尔效应最早是由法国物理学家克尔(Verdet)在19世纪发现和研究的。

当光线通过透明的磁性介质时,如玻璃、液体或气体等,若外加磁场沿着光的传播方向,就会引起光的偏振面旋转一个角度,这个角度与磁场的强度和介质的性质有关。

这种现象被称为磁光克尔效应。

磁光克尔效应的产生机制是基于光的电磁性质和磁性介质的相互作用。

当光通过磁性介质时,光的电场和磁场与介质中的电子和磁矩相互作用,从而导致光的偏振面的旋转。

这种旋转是由于光的电场和磁场引起介质中的电子和磁矩的运动,从而改变了光的传播方向。

磁光克尔效应的大小与磁场的强度和介质的性质有关。

一般来说,当磁场越强,克尔常数越大,光的偏振面的旋转角度也就越大。

而不同的介质对于磁光克尔效应的响应也是不同的,克尔常数可以用来描述介质的磁光性质。

光的波长也会对磁光克尔效应产生影响,不同波长的光在介质中所受到的磁光克尔效应也是不同的。

磁光克尔效应在实际应用中有着广泛的应用。

其中最常见的应用就是磁光器件,如光偏转器、光调制器和光开关等。

利用磁光克尔效应可以实现对光的调控和控制,使得光的传输和处理更加灵活和高效。

此外,磁光克尔效应还可以应用于磁光存储技术、光纤通信和激光器等领域。

磁光克尔效应是光学和磁学领域中一种重要的现象和效应。

它的发现和研究不仅对于科学研究具有重要的意义,而且在实际应用中也有着广泛的应用前景。

磁光克尔效应的研究和应用将有助于推动光学和磁学领域的发展,为我们的生活和科技进步带来更多的可能性。

表面磁光柯尔效应原

表面磁光柯尔效应原

實驗一 表面磁光柯爾效應原理與操作一、磁光柯爾效應原理在1845年,Michael Faraday首先發現了磁光效應,他發現外加磁場在玻璃樣品上,入射光的偏極化面有旋轉的現象,隨後他在金屬表面上外加磁場做光反射的實驗,但實驗結果不能使人信服,因為當時他的表面不夠平整。

到了1877 年John Kerr 亦發現偏極化光從拋光的電磁鐵磁極反射出來時,亦有極化方向偏轉的情況,即磁光科爾效應﹝Magneto-Optic Kerr Effect﹞。

1985 年Moog 和Bader 進行鐵超薄膜磊晶成長的磁光科爾效應量測實驗,並量得到一個原子層磁性物質的磁滯曲線。

由於此測量方法之靈敏度可達一原子層厚度,配合現在超高真空系統之技術,因此成為表面磁學研究重要的一環。

所謂磁光效應或法拉第效應之原理為:因自身磁化產生異向性的折射率導致了不同的相位,並且吸收了不同的振幅。

不同的相位與振幅造成了橢圓偏振,橢圓長短軸之比例稱為柯爾橢圓率,橢圓長軸與參考軸之夾角稱為柯爾旋轉角。

待測樣品若為透明且等向性的介質置於一強磁場內﹝見圖一﹞圖一則當線性偏極光沿磁場方向穿透此晶體時,其極化方向將旋轉一角度Δψ,此角度Δψ與所加的磁場強度B和介質長度L成正比,寫成:Δψ=B.L.V對於不透光材料﹝即表面磁光效應﹞,當光行進方向的任一分量與磁性材料的磁化量成平行時,其反射﹝或穿透﹞光的偏振方向將與原偏振光的方向產生一相對的旋轉角,即稱科爾旋轉角﹝Kerr rotation angle,θk﹞,如圖二所示﹝如為穿透光則稱為法拉第旋轉角﹞。

假設垂直於材料的磁化方向向上所產生的科爾旋轉角是“+θk",;則磁化方向向下的磁化量所產生的旋轉角將會是“-θk"。

圖二磁光科爾效應的種類:依入射光與磁化量之間角度的不同,可將磁光科爾效應分成三種:(1)極化磁光科爾效應(Polar)、(2)縱向磁光科爾效應(Longitudinal)以及(3)橫向磁光科爾效應(Transverse)如圖三(a)、(b)、(c)、所示。

磁光克尔效应研究

磁光克尔效应研究

磁光克尔效应研究摘要:当光电子技术日益在新兴高科技领域获得广泛应用的同时,以磁光效应原理为背景的磁光器件显示了其独特的性能和广阔的应用前景,引起了人们的浓厚兴趣。

表面磁光克尔效应,作为测量材料磁光特性特别是薄膜材料的物性的一种有效方法,已被广泛应用于磁有序、磁各向异性、多层膜中的层间耦合以及磁性超薄膜的相变行为等问题的研究。

本文简单介绍了什么是磁光克尔效应、磁光克尔效应的发展、以及表面磁光克尔效应作为一种测量方法的原理、实验装置和发展。

关键词:磁光克尔效应;磁光特性;表面磁光克尔效应1.引言1845年,Michael Faraday发现当给玻璃样品加一磁场时,透射光的偏振面将发生旋转,首次发现磁光效应。

随后他在处于外加磁场中的金属表面做反射实验,但由于他所谓的表面不够平整,因而实验结果不能使人信服。

1877年John Kerr在观察偏振光从抛光过的电磁铁磁极反射出来时,发现了磁光克尔效应(magneto-optic Kerr effect)。

1985年Moog和Bade r两位学者对铁超薄膜磊晶成长在金单晶(100)面上的磁光克尔效应做了大量实验,成功得到一原子层厚度磁性物质的磁滞回线,并提出SMOKE作为表面磁光克尔效应(surface magneto-optic Kerr effect)的缩写,用以表示应用磁光克尔效应在表面磁学上的研究。

由于此方法磁性测量灵敏度达一原子层厚度,且此装置可配置于超高真空系统上面工作,所以成为表面磁学的重要研究方法。

2.磁光克尔效应图1 克尔效应示意图一束线偏振光从具有磁矩的介质表面反射时,反射光将是一束椭圆偏振光,而且偏振方向将发生产生旋转。

相对于入射的线偏振光(以椭圆的长轴为标志)的偏振面方向有一定的偏转,偏转的角度为克尔转角,短轴与长轴的比为椭偏率,如图1所示。

复磁光克尔角定义为:,其大小正比于样品的磁化强度。

表1给出了常见的磁性物质在室温下的磁光克尔转角的数值。

表面磁光科尔效应与超薄膜磁性性质

表面磁光科尔效应与超薄膜磁性性质

表面磁光科爾效應與超薄膜磁性性質文/蔡志申摘要表面磁光科爾效應其磁性解析靈敏度達一原子層厚度,且儀器配置合於超高真空系統之工作,為奈米級超薄膜磁性研究之一大利器。

本文以實驗者角度介紹表面磁光科爾效應原理,並簡介超薄膜之磁滯曲線特性、磁異向性、磁性相變與合金之磁性性質。

一、簡介在1845年,Michael Faraday首先發現了磁光效應[1,2],他發現當外加磁場在玻璃樣品上時,透射光的偏極面發生旋轉的效應,隨後他在外加磁場之金屬表面上做光反射的實驗,但由於他所謂的表面並不夠平整,因而實驗結果不能使人信服。

1877年John Kerr在觀察偏極化光從拋光過的電磁鐵磁極反射出來時,發現了磁光科爾效應(magneto-optic Kerr effect)[2,3]。

1985年Moog 和Bader兩位學者進行鐵超薄膜磊晶成長在金單晶(100)面上的磁光科爾效應量測實驗,成功地得到一原子層厚度磁性物質之磁滯曲線,並且提出了以SMOKE來作為表面磁光科爾效應(surface magneto-optic Kerr effect)的縮寫,用以表示應用磁光科爾效應在表面磁學上的研究[4,5]。

由於此方法之磁性解析靈敏度達一原子層厚度,且儀器配置合於超高真空系統之工作,因而成為表面磁學的重要研究方法。

隨著科學技術的發展,應用元件的科技研發方向正快速朝向輕、薄、短、小推展,控制在奈米層次所製造出來的奈米電子元件其元件密度、速度、耗能及成本效益將遠超過現有的半導體技術;在元件製作過程中,能成長高品質的薄膜與精準地控制其物性,才能保證接續之微形蝕刻之成功,因而厚度僅約幾個原子層之超薄膜的相關研究在電子工業元件尺寸奈米化的技術中更顯得重要;由於在磁性感測器、磁光記憶元件、磁性記憶體等之工業應用與磁性自旋電子元件的可能性,帶來了億兆美元的商機,磁性超薄膜的物性研發,不但可帶動相關科學知識之突破,更可有效地提升工業技術,因而世界各科技先進國家無不投入大量資源。

表面磁光克尔效应实验

表面磁光克尔效应实验

2. 实验原理--橫向克尔效应
图4 横向克尔效应 如图4所示,磁化方向在样品膜面内,并且垂直于 入射面。横向克尔效应中反射光的偏振状态没有变化。 这是因为在这种配置下,光电场与磁化强度矢积的方 向永远没有与光传播方向相垂直的分量。横向克尔效 应中,只有在偏振光(偏振方向平行于入射面)入射 条件下,才有一个很小的反射率的变化。
1. 历史背景
3.SMOKE测量到的信息来源于介质上的 光斑照射的区域。由于激光光束的束斑可用聚 焦到1mm以下,这意味着SMOKE可以进行局 域磁性的测量。这一点是其他磁性测量手段诸 如振动样品磁强计和铁磁共振所无法比拟的。
在磁性超薄膜的研究中,样品的制备是一 个周期较长而代价昂贵的过程。有人已经实现 在同一块样品上按生长时间不同而制备出厚度 不等的锲形磁性薄膜。这样从一块样品上就能 够得到磁学性质随薄膜厚度变化的信息,可以 大大提高实验效率。无疑,SMOKE的这种局 域测量的特点使它成为研究这类不均匀样品的 最好工具。
2的光线有一个本底光强。 反射光偏振面旋转方向和
同向时,则光强增大,反向
时,则光强减小,因此,样 品的磁化方向可以通过光强 的变化来区分。
2. 实验原理--SMOKE的数学推导
在图2的光路中,假设取入射光为 p 偏振(电场矢量 Ep
平行于入射面),当光线从磁化了的样品表面反射时 由于克尔效应,反射光中含有一个很小的垂直于 Ep 的电场分量 Es ,通常 Es << Ep 。在一阶近似下有:
两个偏振棱镜的设置状态 主要是为了区分正、负克尔 旋转角。
若两个偏振方向设置在消 光位置,无论反射光偏振面 是顺时针还是逆时针旋转, 反映在光强的变化上都是强 度增大。
这样,就无法区分偏振面 的正负旋转方向,也就无法 判断样品的磁化方向。

表面磁光克尔效应

表面磁光克尔效应

表面磁光克尔效应(物教101林晗)摘要克尔磁光效应:入射的线偏振光在已磁化的物质表面反射时,振动面发生旋转的现象,1876年由J.克尔发现。

克尔磁光效应的最重要应用是观察铁磁体的磁畴(见磁介质、铁磁性)。

不同的磁畴有不同的自发磁化方向,引起反射光振动面的不同旋转,通过偏振片观察反射光时,将观察到与各磁畴对应的明暗不同的区域。

用此方法还可对磁畴变化作动态观察。

利用磁光克尔效应测量磁性薄膜的磁信号和磁滞回线,确定磁性薄膜的磁各向异性随薄膜厚度的影响。

研究铁磁(FM)/反铁磁(AFM)双层膜的交换偏置(Exange bias)现象。

关键词:偏振光;振动面;磁畴目录摘要 (1)序论 (3)1表面磁光克尔效应原理 (3)1.1 表面磁光克尔效应 (4)1.2 交换偏置 (4)2三种克尔效应分析 (4)2.1极向克尔效应 (5)2.2纵向克尔效应 (5)2.3横向克尔效应 (5)3实验光路图 (5)3.1光路图的连接 (5)3.2光路图的特点 (6)4克尔信号分析 (7)4.1磁滞回线原理 (7)4.2磁化原理 (8)5表面克尔磁光效应的实际应用 (8)5.1磁性材料的开发 (9)5.2提高器件的速率. (9)结语 (9)参考文献 (9)附件一 (10)序论磁光效应指的是光与处于磁化状态的物质之间发生相互作用而引起的各种光学现象。

包括克尔磁光效应、科顿-穆顿效应(磁双折射效应)和塞曼效应、法拉第效应等。

物质的磁化都是这些效应起源的重要条件,这些效应反映了物质磁性与光间的联系。

这些都被广泛用于探索研究与技术相关的磁材料。

目前研究和应用最广泛的磁光效应为法拉第效应和克尔效应。

1845年,英国物理学家法拉第首次发现了线偏振光透过放置磁场中的物质,沿着磁场方向传播时,光的偏振面发生旋转的现象,后来被称为法拉第效应[1]。

受到了法拉第效应的启示,1876年,克尔发现了线偏振光入射到磁化媒质表面反射时偏振面发生旋转的现象,即克尔效应[2]。

表面磁光克尔效应实验

表面磁光克尔效应实验

当两个偏振方向之间有一个小角度时,通过 偏振棱镜2的光线有一个本底光强。反射光偏振面 旋转方向同向时光强增大,反向时光强减小,这 样样品的磁化方向可以通过光强的变化来区分。
表面磁光克尔效应实验扫描图样
克尔信号分析
虽然表面磁光克尔效应的测量结果是克尔 旋转角或者克尔椭偏率,并非直接测量磁 性样品的磁化强度。但是在一阶近似的情 况下,克尔旋转角或者克尔椭偏率均和磁 性样品的磁化强度成正比。表面磁光克尔 效应实际上测量的是磁性样品的磁滞回线, 因此可以获得矫顽力、磁各向异性等方面 的信息。
磁性材料可分为顺磁质、抗磁质、铁磁质等, 磁性材料可分为顺磁质、抗磁质、铁磁质等,它们 的磁化机制各不相同在这里不作详细介绍。 的磁化机制各不相同在这里不作详细介绍。 磁性材料又可分为硬磁材料、软磁材料、 磁性材料又可分为硬磁材料、软磁材料、矩磁材料 等等,它们的磁滞回线是各有特点的 等等,它们的磁滞回线是各有特点的
B
B
B
O
H
H
O
H
硬磁材料 软磁材料 矩磁材料
磁化原理
(1)、一般材料的磁化原理 )、一般材料的磁化原理 B0
(a)无外磁场时
B/
(b)有外磁场时
(2)、铁磁质的磁化原理 )、铁磁质的磁化原理B0Fra bibliotek(a)无外磁场时
(b)有外磁场时
课后问题
如何判断是哪种克尔效应?
如何判断正负克尔效应?正负克尔效应的产 生与什么因素有关?
2.纵向克尔效应:磁化方向在样品膜面内, 并且平行于入射面。纵向克尔信号的强度 一般随光的入射角的减小而减小,在零入 射角时为零。
3.横向克尔效应:磁化方向在样品膜面内, 并且垂至于入射面。横向克尔效应中反射 光的偏振状态没有变化。

表面磁光Kerr效应装置搭建-复旦大学物理教学试验中心

表面磁光Kerr效应装置搭建-复旦大学物理教学试验中心

表面磁光Kerr效应装置搭建王祯钰田传山殷立峰魏大海王煜复旦大学物理系摘要:本文简要介绍了磁光Kerr效应的原理及分类,较为详细地介绍了表面磁光Kerr效应(SMOKE)测量系统的搭建,并对所搭建的系统进行了测试。

关键词:表面磁光Kerr效应(SMOKE)磁滞回线一引言磁光效应有两种:Faraday效应和Kerr效应[1]。

1845年,Michael Faraday首先发现介质的磁化状态会影响透射光的偏振状态,这就是Faraday效应。

1877年,John Kerr发现铁磁体对反射光的偏振状态也会产生影响,这就是Kerr效应。

Kerr 效应在表面中的应用,即为表面磁光Kerr效应(Surface Magneto-Optic Kerr Effect,简称SMOKE),它作为一种探测薄膜的磁性的技术始于1985年。

单考虑磁性的贡献。

当一束偏振光打到样品表面时,铁磁性会导致反射光偏振面转过一个小角度,这个小角度叫做Kerr旋转角θk。

同时,铁磁性会导致椭偏率也有一个小变化,这个变化叫做Kerr椭偏率εk。

由于Kerr旋转角θk和Kerr 椭偏率εk都是磁化强度M的函数,因此,可以通过测量θk或εk的变化,而反映M的变化。

用SMOKE来进行磁性测量,有下述五个主要优点:(1)灵敏度高。

SMOKE可以测得亚单层的磁性。

(2)原位(in situ)测量。

通过和超高真空(UHV)设备相连接,利用SMOKE 对样品进行原位测量,可以得到所要研究的样品的性质,免去对样品加保护层时可能引入的各种影响。

(3)局域测量。

通过聚焦,可以使光斑直径在1毫米至几百微米,从而测量样品上不同点的信号。

因此,可以通过生长锲形样品(wedge),从而研究样品性质随厚度的变化,或是样品性质随组分的变化,给出相变点的位置[2],大大加快测量速度,减少系统误差。

(4)装置简单,容易搭建。

(5)无损测量。

由于测量用的是光探针,因此不会对样品造成任何破坏。

表面磁光克尔效应实验Ver2.0

表面磁光克尔效应实验Ver2.0
I E p ( k i k )
2 2
(4) 整理得到:
I E p ( 2 2 k )
2
(5) 无外加磁场时:
I0 E p 2
2
(6) 所以有:
I I 0 (1 2 k / )
(7) 于是在饱和状态下的克尔旋转角 k 为:
k
I ( M S ) I ( M S )
样品
k
起偏器
检偏器
图1
表面磁光克尔效应原理
根据磁场相对于入射面的相对方位不同,磁光克尔效应可以分为极向克尔 效应、纵向克尔效应和横向克尔效应三种类型。如图 2 所示,当磁化方向垂至于 样品表面时,此时的克尔效应称作极向克尔效应。通常情况下,极向克尔信号的 强度随光的入射角的减小而增大,在零度入射角(垂直入射)时,克尔信号的强度 最大。如图 3 所示,当磁化方向在样品膜面内,并且平行于入射面时,此时的克 尔效应称作纵向克尔效应。纵向克尔信号的强度一般随光的入射角的减小而减 小,在零度入射角时,克尔信号的强度为零。通常情况下,纵向克尔信号中,无 论是克尔旋转角还是克尔椭偏率都要比极向克尔信号小一个数量级。 因此纵向克 尔效应的探测远比极向克尔效应困难。但对于很多薄膜样品,易磁轴往往平行于 样品表面,因而只有在纵向克尔效应配置下样品的磁化强度才容易达到饱和,故 纵向克尔效应对于薄膜样品的磁性研究来说十分重要。如图 4 所示,当磁化方向 在样品膜面内,并且垂至于入射面时,此时的克尔效应称作横向克尔效应。横向 克尔效应中,反射光的偏振状态不发生变化,仅在 p 偏振光(偏振方向平行于入 射面)入射时,反射率有很小的变化。
4 I0

I
4 I0
(8)
I ( M S ) 和 I ( M S ) 分别是正负饱和状态下的光强。从式(8)可以看出,光强

克尔效应——精选推荐

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表面磁光克尔效应实验1877年John Kerr在观测偏振光通过抛光过的电磁铁磁极反射时,发现了偏振面旋转的现象,此现象称磁光克尔效应.1985年Moog和Bader进行铁磁超薄膜的磁光克尔效应测量,首次成功地测得了1个原子层磁性薄膜的磁滞回线,并提议将该技术称为SMOKE ( surface magneto 2optic Kerr effect)从此这种探测薄膜磁性的先进技术开始在科研中得到大量的应用.材料表面磁性以及由数个原子层所构成的超薄膜和多层不同材料膜磁性,是当今凝聚态物理领域中的较为重要的研究热点. SMOKE的磁性解析灵敏度达到1个原子层厚度,并可配置于超高真空系统中进行超薄膜磁性的原位测量,从而成为表面磁学的重要研究方法,已被广泛应用于纳米磁性材料、磁光器件、巨磁阻、磁传感器元件等磁参量测量. 现这一重要的前沿性技术已成为高校近代物理实验中的重要研究性实验.实验原理当线偏振光入射到不透明样品表面时,如果样品是各向异性的,反射光将变成椭圆偏振光且偏振方向会发生偏转.而如果此时样品为铁磁状态,还会导致反射光偏振面相对于入射光的偏振面额外再转过一小角度,这个小角度称为克尔旋转角θK ,即椭圆长轴和参考轴间的夹角, 如图1所示. 同时,一般而言, 由于样品对p偏振光和s偏振光的吸收率不同, 图1 表面磁光克尔效应原理图即使样品处于非磁状态,反射光的椭偏率也要发生变化,而铁磁性会导致椭偏率有一附加的变化,这个变化称为克尔椭偏率εK ,即椭圆长短轴之比.按照磁场相对入射面的配置状态不同, 表面磁光克尔效应可以分为3种:a. 极向克尔效应,其磁化方向垂直于样品表面并且平行于入射面;b. 纵向克尔效应, 其磁化方向在样品膜面内,并且平行于入射面;c. 横向克尔效应,其磁化方向在样品膜面内,并且垂直于入射面.对于磁性薄膜,通常纵向克尔效应较明显.待测物的极向、纵向、横向克尔旋转角的强弱由其磁易向轴的方向决定.以下以极向克尔效应为例详细讨论SMO KE系统,原则上完全适用于纵向克尔效应和横向克尔效应. 激光器发射的激光束通过起偏棱镜后变为线偏振光,然后从样品表面反射,经过检偏棱镜进入探测器. 检偏棱镜的偏振方向要与起偏棱镜设置成偏离消光位置很 ( 如图2 所示) ,这主要是为了区分正负克尔旋转角. 若检偏棱镜方向设置小的角度在消光位置,无论反射光偏振面是顺时针还是逆时针旋转, 反映在光强的变化上都是强度增大. 这样就无法区分偏振面的正负旋转方向, 也就无法判断样品的磁化方向. 当2个偏振方向之间有小角度δ时,通过检偏棱镜的光线有本底光强0I .反射光偏振面旋转方向和δ同向时光强增大,反向时光强减小,这样样品的磁化方向可以通过光强的变化来区分.图2 偏振器件配置方位样品放置在磁场中, 当外加磁场改变样品磁化强度时, 反射光的偏振状态发生改变. 通过检偏棱镜的光强也发生变化. 在一阶近似下光强的变化和被测材料磁感应强度呈线性关系, 探测器探测到光强的变化就可以推测出样品的磁化状态和磁性参量.在图1 的光路中,假设取入射光为P 偏振光,其电场矢量P E 平行于入射面,当光线从磁化了的样品表面反射时,由于克尔效应反射光中含有很小的垂直于P E 的电场分量S E ,如图2 所示,通常P S E E <<. 在一阶近似下有:K K PS i E E εθ+= (1) 通过检偏棱镜的光强为:2|cos sin |δδS P E E I += (2) 将(1) 式代入(2) 式得到:22|cos )(sin |||δεθδK K P i E I ++= (3)通常δ较小,可取,1cos ,sin ≈≈δδδ得到:22|)(||K K P i E I εθδ++= (4)一般情况下,δ虽然很小,但K θδ<<,而K θ和K ε在同一数量级上,略去二阶项后,考虑到探测器测到的是(4) 式实数部分, (4) 式变为:)2(||22K P E I δθδ+= (5) 无外加磁场下:220||δP E I = (6)所以有:⎪⎭⎫ ⎝⎛+=δθKI I 210 (7) 由(7) 式得在样品达磁饱和状态下K θ为:002I I I K -=δθ (8) 实际测量时最好测量磁滞回线中正向饱和时的克尔旋转角+K θ和反向饱和时的克尔旋转角-K θ ,则004)()(4)(01I I I B I B I S S K K K ∆=--+=-=-+δδθθθ (9) (9) 式中, )(S B I +和)(S B I -分别是正负磁饱和状态下的光强. 从式(9)可以看出, 光强的变化ΔI 只与K θ有关,而与K ε无关. 说明在图1 光路中探测到的克尔信号只是克尔旋转角.当要测量克尔椭偏率εK 时,在检偏器前另加1/ 4 波片,它可以产生π/ 2 的相位差,此时检偏器看到的是K K K K i i i εεεθ+-=+)(,而不是K K i εθ+,因此测量到的信号为克尔椭偏率.经过推导可得在磁饱和情况下K ε为004)()(4)(21I I I B I B I S S K K K ∆-=+--=-=+-δδεεε (10)式中+K ε表示正向饱和磁场时测得的椭偏率, -K ε表示负向饱和磁场时测得的椭偏率.【实验装置】自制的表面磁光克尔效应实验系统(图3) 由以下几部分组成:1) 光学减震平台.2) 光路系统,包括输入光路与接收光路. 其起偏和检偏棱镜使用格兰2汤普逊棱镜,光电检测装置由孔状可调光阑、干涉滤色片和硅光电池组成.3) 励磁电源主机和可程控电磁铁. 励磁电源主机可选择磁场自动和手动扫描.4) 前置放大器和直流电源组合装置.a. 将光电检测装置接收到的克尔信号做前置放大,并送入信号检测主机中.b. 将霍尔传感器探测到的磁场强度信号做前置放大并送入检测装置.图3 SMOKE 系统简图c. 为激光器提供精密稳压电源.5) 信号检测主机. 将前置放大器传来的克尔信号及磁场强度信号做二级放大,分别经A/ D 转换后送计算机处理,同时数字电压表显示克尔信号及磁场强度信号. D/ A 提供周期为20 s ,40 s ,80 s 准三角波,作为励磁电流自动扫描信号.6) 控制系统与计算机. 由Visual C ++编写的控制程序通过计算机实现自动控制和测量.根据设置的参量,计算机经D/A 卡控制磁场电源和继电器进行磁场扫描.从样品表面反射的光信号以及霍尔传感器探测到的磁场强度信号分别由A/D 卡采集经运算后作图显示,在屏幕上直接呈现磁滞回线的扫描过程.实验可选用铁磁性金属材料如Fe ,Co,Ni 及坡莫合金等薄膜样品.4 实验内容及实验方法要描绘磁滞回线,需要采集2 组数据. 一组是反映加在样品上磁场强度H 的大小,另一组数据为样品在不同磁场下的磁感应强度B. 本仪器用霍尔传感器探测电磁铁两磁极之间的磁感应强度,以反射光强I 的变化来代表克尔旋转角或克尔椭偏率的变化. 对一般的铁磁性材料,克尔旋转角K θ和椭偏率K ε又正比于材料被磁化时的磁感应强度B ,所以可以通过测量光强的变化,得到磁感应强度B 的相对值. 虽然实验测得的是I ——H 关系曲线,但曲线形状与B ——H 曲线是一致的, 只须用已知B ——H 曲线样品对坐标轴标定,就可以准确得到B ——H 曲线.实验内容如下:1) 磁场强度的校准. 测得的磁场强度必须是样品待测点的磁场强度值,但霍尔传感器的探头并不可能准确放在该位置,因而必须进行校准.校准的方法是将样品移开,把CT5A 特斯拉计的探头放在样品待测点,并与本仪器霍尔传感器在各种励磁电流时读数值进行对比,从而校准磁场强度H 值.2) 格兰——汤普逊棱镜上螺旋测微装置的定标. 起偏棱镜和检偏棱镜同为格兰——汤普逊棱镜,机械调节结构由角度粗调和螺旋测角组成,将测微头的线位移转变为棱镜转动的角位移. 测微头分度值为0.01mm ,转盘分度值为1°,具体测量的精度须通过测微头线位移的角位移定标才能得到.3) 确定格兰2汤普逊棱镜的垂直轴方向和1/4波片的轴向方向. 实验时,要通过调节起偏棱镜使入射光为p 光,即偏振面平行于入射面,而进行椭偏率测量时还要使1/4波片轴向和起偏棱镜方向一致. 所以实验前要通过观察消光现象来确定格兰——汤普逊棱镜垂直轴方向和1/4波片上的轴向方向.4) 光路的调整与系统稳定性的测量.首先按光学实验的常规要求调整好光路,然后将硅基铝膜(玻璃反射镜)样品置于样品台上,观察其SMOKE 曲线是否为直线,以此来判断光路、磁路是否稳定.5) 电磁铁退磁. 若电磁铁存在剩磁,应退磁后再做实验.6) 坡莫合金薄膜的纵向克尔旋转角测定.入射光为p 光,而检偏器首先调整成消光位置,记录此时螺旋测微装置的螺旋刻度读数,然后设置检偏棱镜稍微偏离消光位置,再次记录螺旋刻度读数.根据2 次读数差及格兰——汤普逊棱镜上螺旋测微装置的定标求出δ.在通讯正常的情况下,开始克尔信号的采集.观测坡莫合金薄膜磁滞回线的形成过程,并通过控制软件的“寻找峰值”功能找到两峰值,,即找到了)(S B I +和)(S B I -,则由 2)()(0S S B I B I I -++=,)()(S S B I B I I --+=∆。

表面磁光科尔效应

表面磁光科尔效应

表面磁光克尔效应(SMOKE)一、磁光效应简介1845年,Michael Faraday首先发现了磁光效应,即当外加磁场在玻璃样品上时,透射光的偏极面发生旋转的效应(法拉第效应);随后他在外加磁场之金属表面上做光反射的实验,但由于他所谓的表面并不够平整,因而实验结果不能使人信服。

1877年John Kerr在观察偏振光从拋光过的电磁铁磁极反射出来时,发现了磁光科尔效应(magneto-optic Kerr effect)。

1985年Moog和Bader 两位学者研究了生长在Au单晶(100)面上的Fe单晶超薄膜的磁光克尔效应测量实验,成功地得到一个原子层厚度磁性物质的磁滞曲线,并且提出了以SMOKE 来作为表面磁光克尔效应(surface magneto-optic Kerr effect)的缩写,用以表示磁光克尔效应在表面磁学上的研究。

这是SMOKE首次被用于研究在Au(0 0 1)表面外延生长的Fe超薄膜的磁学性质。

由于SMOKE所表现出的亚原子单层的磁性探测灵敏度和易于与超高真空系统结合的特点,使它在近些年已经发展成为一种重要的和常规的研究薄膜磁学性质的技术。

它被广泛应用于研究表面超薄膜的磁有序、磁性相变、磁各向异性,以及层间耦合等多种磁学现象。

同时SMOKE在商业上还被应用于商用高密度的磁光存储技术。

SMOKE的优点:和别的磁性测量手段相比,SMOKE具有四个优点:1) SMOKE的灵敏度极高。

国际上现在通用的SMOKE测量装置其探测灵敏度可以达到亚原子层的磁性,这一点使得SMOKE在磁性超薄膜的研究中有着重要地位。

2) SMOKE测量是一种无损伤测量。

探测用的“探针”是可见光束,因此不会对样品造成任何破坏,对于需要做多种测量的实验样品来说,这一点非常有利。

3) SMOKE 可以测量局域磁性。

由于SMOKE测量到的信息来源于被测介质上的光斑照射点,这意味着SMOKE可以对样品上最小的光斑尺寸范围作局域磁性测量。

表面磁光克尔效应 2

表面磁光克尔效应 2

深圳大学实验报告课程名称:近代物理实验实验名称:表面磁光克尔效应学院:物理科学与技术学院组号指导教师:报告人:学号:实验地点:实验时间:实验报告提交时间:五、数据处理5.1、纵向克尔效应:图1、纵向实验图纵向克尔效应是指磁化方向在样品膜面内,并且平行于入射面。

因此信号的强度会随光的入射角的减小而减少。

当信号垂直入射时强度为零。

当样品被纵向磁化时,当外部磁场增强,原本不带磁的样品上的磁场强度也随着增强,则接受的信号会越强。

而当外部磁场消失,样品上的磁场也不会消失,而接受的信号强度会一直保持在最大值。

直到外部加上一个反向磁场时,样品上带的磁场才会消失,而此时的信号会减少到初始状态。

由实验中得出,当磁性样品的磁性增大时,会出现克尔旋转角,从而使激光再次打入探测仪。

因而出现了能量的变化。

图1为测得的信号,虽变化不明显,但是基本上与理论相符。

5.2、极向克尔效应:图2极向实验图图3、极向克尔效应理想图极向克尔效应是指磁化方向垂至于样品表面并且平行于入射面。

极向克尔信号的变化与纵向相反,其强度随光的入射角的减小而增大,若信号垂直入射则其强度最大。

样品上的磁场大小随外加磁场的变化而变化。

当外加磁场增大时,样品被磁化并其磁场强度增大。

而外加磁场消失样品上的磁场也消失了。

图3为极向克尔效应的理想图,而图2为实验图。

从图2发现接受的信号强度随着外加磁场的增大而减小,与理论相反。

极向克尔信号极弱,在调整电路时除了问题,没有找准消光点,而是光强最大点,导致在实验中当磁性样品的磁性增大时,会出现克尔旋转角,信号强度反而减小。

六、实验结论本次实验的操作较为困难,主要是调节仪器光路,不仅需严格的按照光路调节的步骤进行,并且还要非常的仔细,否则会造成信号的衰减。

老师教我们一个小的技巧,就是拿一张白纸来判断激光是否对准各个仪器的中心。

一开始我们在调节仪器光路时很粗心,各个仪器之间没有保持平行,而激光没有对准仪器中心,虽然光线有透过仪器,但那个光线是由仪器内部反射出来的,结果接受的信号及其不精确。

法拉第效应和表面磁光克尔效应实验

法拉第效应和表面磁光克尔效应实验

克尔椭偏率:在检偏器前加上1/4玻片即可测得:
k -
I
4 I

实验装置
光路系统:光源、起 检偏镜 励磁系统:电源、电 磁铁 法拉第效应
探测系统:光电探测 器
数据采集系统:接受 电压信号
表 面 磁 光 克 尔 效 应
实验方法及内容

标定磁场
Байду номын сангаас
法拉第效应
调整光路—记录不同磁场下的偏转角—测量 三块样品—计算菲尔德常数
z
DBe dn 2me d
表面磁光克尔效应原理

三种磁光克尔效应 极向:B S 样 // S 入 纵向:B(in)S 样 // S 入 横向: B(in)S 样 S 入
磁光效应:同法拉第效应 克尔椭偏率:介质对左旋圆偏振光和右旋 圆偏振光的吸收的不同
表面磁光克尔效应计算
克尔旋角的大小可 以通过比较有无磁 场时光强变化来体 现: I k 4 I
法拉第效应和表面磁光克尔效应实验
1
效法 拉 应第
2
3
4
偏克 尔 率椭
5
装实 置验
6
方内 法容
旋法 效光表 转拉 克面 角第 应尔磁
法拉第效应
EL
ER
法拉第旋转角计算
磁场B下,电子磁矩的势能V
吸收光量子角动量后
eB eB eB V L ( ) 2m 2m 2m 由于 n n() eB dn V dn V n ( ) n n( ) n( ) 2m d d
表面磁光克尔效应
调整光路—测量样品的磁滞回线—计算纵向 克尔转角
加入1/4玻片—测量磁滞回线—克尔椭偏率
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表面磁光克尔效应(SMOKE)一、磁光效应简介1845年,Michael Faraday首先发现了磁光效应,即当外加磁场在玻璃样品上时,透射光的偏极面发生旋转的效应(法拉第效应);随后他在外加磁场之金属表面上做光反射的实验,但由于他所谓的表面并不够平整,因而实验结果不能使人信服。

1877年John Kerr在观察偏振光从拋光过的电磁铁磁极反射出来时,发现了磁光科尔效应(magneto-optic Kerr effect)。

1985年Moog和Bader 两位学者研究了生长在Au单晶(100)面上的Fe单晶超薄膜的磁光克尔效应测量实验,成功地得到一个原子层厚度磁性物质的磁滞曲线,并且提出了以SMOKE 来作为表面磁光克尔效应(surface magneto-optic Kerr effect)的缩写,用以表示磁光克尔效应在表面磁学上的研究。

这是SMOKE首次被用于研究在Au(0 0 1)表面外延生长的Fe超薄膜的磁学性质。

由于SMOKE所表现出的亚原子单层的磁性探测灵敏度和易于与超高真空系统结合的特点,使它在近些年已经发展成为一种重要的和常规的研究薄膜磁学性质的技术。

它被广泛应用于研究表面超薄膜的磁有序、磁性相变、磁各向异性,以及层间耦合等多种磁学现象。

同时SMOKE在商业上还被应用于商用高密度的磁光存储技术。

SMOKE的优点:和别的磁性测量手段相比,SMOKE具有四个优点:1) SMOKE的灵敏度极高。

国际上现在通用的SMOKE测量装置其探测灵敏度可以达到亚原子层的磁性,这一点使得SMOKE在磁性超薄膜的研究中有着重要地位。

2) SMOKE测量是一种无损伤测量。

探测用的“探针”是可见光束,因此不会对样品造成任何破坏,对于需要做多种测量的实验样品来说,这一点非常有利。

3) SMOKE 可以测量局域磁性。

由于SMOKE测量到的信息来源于被测介质上的光斑照射点,这意味着SMOKE可以对样品上最小的光斑尺寸范围作局域磁性测量。

这一点是其它磁性测量手段,诸如振动样品强度计、超导量子干涉磁强计、铁磁共振等无法比拟的。

在磁性超薄膜的研究中,样品的制备是一个周期较长而代价昂贵的过程。

人们曾经实现在同一块样品上根据生长时间不同制备出厚度不等的契型磁性薄膜,这样从一块样品上就能得到不同厚度样品的磁学信息,从而大大提高实验效率。

无疑,SMOKE的局域测量特点使它成为研究这类不均匀样品的最好工具。

4) SMOKE系统的结构比较简单,易于实现样品原位制备和测量一体化。

相对其它的磁性测量手段,SMOKE系统的结构比较简单,易于和别的实验设备诸如超高真空设备相连,这一点有助于提高它的功能并扩展其研究领域。

克尔效应(Kerr effect)的应用:1.磁化行为测量(由纵向、横向和极向三种测量位形)2.原位磁畴结构观测(用磁光克尔显微镜)3.动态磁化过程4.磁光存储器读头5.磁光隔离器(反射型)6.磁场强度测量二、表面磁光克尔效应原理一束线偏振光入射到磁化了的介质表面时,反射光一般是椭圆偏振光, 以椭圆的长轴来标记反射光的 “偏振面”, 这偏振面相对入射光的偏振面会旋转一定的角度, 这转角与介质的磁化有关,这就是磁光克尔(Kerr)效应,其中转角叫做克尔角。

磁光克尔(Kerr)效应可用电磁学知识定性地解释如下:假设真空中的电子在电场作用下沿x 方向,在z 方向加一个磁场,在洛伦兹力的作用下,该电子将产生沿y 方向的运动.光线是一种频率很高的周期变化的电磁场.因此,对于固体材料来说,当一束沿x 方向偏振的光线入射到固体的表面,同时在z 方向加一个磁场,使固体受到磁化,那么原本在外电场作用下作周期运动的电子就会产生一个微小的沿y 方向运动的分量.这时,如果仔细测量反射光的偏振态,就会发现除了有原来很纯的x 方向的偏振外,还多了一个y 分量,即偏振方向有一个微小的旋转,旋转角(克尔角)可近似表示为y 和x 分量的比值.通常,只有易于磁化的材料,即含有稀土和过渡金属元素的材料才显现出较强的磁光效应.在进行超薄膜磁性量测时,磁光克尔效应有三种常用测量位形:外加磁场沿样品表面且平行激光入射面称为纵向(longitudinal)磁光克尔效应;外加磁场(沿样品表面)垂直于入射面称为横向(transverse )磁光克尔效应;外加磁场垂直样品表面(平行激光入射面)称为极向(polar)磁光克尔效应。

如图一所示。

图一 Kerr 效应的三种情况下面定量介绍磁光克尔效应信号的测量原理。

在此将以一膜面在xy 平面上的磁性超晶格薄膜为例加以介绍。

物质的介电性质可由一个3x3张量ε~表示,薄膜介电张量ε~可写为 []ε~ =ε0⎥⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎢⎣⎡---111x y x zy z iQ iQ iQ iQ iQ iQ (1),其中ε0为介电常数,Q=(Q x , Q y , Q z )为磁光Voigt 向量,或称Voigt 向量,在一阶近似情况下,Q 与铁磁性物质的磁化强度M 成正比,而非铁磁性物质的Q 为零。

假设E p (i)为p 波入射光,经由适当的变换,可以求得磁光效应中的重要参数r pp =E p (r)/E p (i)与r sp =E s (r)/E p (i),定义复数克尔旋转角为ψp ≡ r s p /r p p = E s (r )/E p (r )=(2),其中n i、n f为折射率,θi、θf为起始介质的入射角与后来介质的折射角,由公式(2)可知ψp是由磁性层厚度d m与Voigt常数Q m相乘后叠加而来,而与其中的非磁性层无关,所以在磁性超薄膜研究中可以得到当磁性物质Q值不变的情况下,磁光克尔效应信号与磁性层厚度成正比。

由于可见光在金属中的趋肤深度λ(skin depth)约为2、3百埃左右,对于厚度仅几个原子层的超薄膜而言,磁光克尔效应信号确与磁性层厚度成正比,但是当薄膜厚度超过此深度λ时,磁光克尔效应信号则需要考虑趋肤深度修正(~e-d/λ)。

由理论部份我们得知克尔旋转角θK及克尔椭圆率εK正比于样品的磁化强度,藉由测量克尔旋转角或克尔椭圆率与外加磁场间的函数关系,便可画出磁滞曲线(magnetic hysteresis loop)。

实验上常会使用检偏器在一小偏转角情况下,测量反射光强度变化,以求得克尔旋转角与椭圆率。

定义检偏器转至平行s波方向时的角度为0o,然后调整一小角度δ (δ≈0o),由于克尔旋转角很小,因此反射光在s波方向的分量远小于在p波方向的分量,所以E S<<E P,此时反射光的强度I可以用下式表示=(3),其中为光电探测器所测量到的未磁化样品的反射光强度,式(3)移项后可得(4)。

由式(4)可知θK与反射光的强度变化∆I成正比,所以实验上是以反射光的强度变化来代表克尔旋转角的变化,并将∆I与外加磁场作图以求得磁滞曲线。

当要测量克尔椭圆率εK时,只要在检偏器前方放置一个四分之一玻片(quarter-wave plate),它可以产生π/2的相位差,所以检偏器看到I(θK+ iεK)= -εK+ iθK,而不是θK+ iεK,因此测量到的信号是克尔椭圆率。

两个偏振棱镜的设置状态主要是为了区分正负克尔旋转角,若两个偏振方向设置在消光位置(如一),无论反射光偏振面是顺时针旋转还是逆时针旋转,反映在光强的变化上都是强度增大,这样无法区分偏振面的正负旋转方向也就无法判断样品的磁化方向。

当两个偏振方向之间有一个小的角度Ø时(如二),通过检偏棱镜的光线有一个本底光强Io,反射光偏振面旋转方向和Ø同向时光强增大,反向时光强减小,这样样品的磁化方向可以通过光强的变化来区分。

图二 起偏器与检偏器的相对位置三 实验仪器装置简介图三 表面磁光科尔效应仪器架构图起偏器偏振方向 正克尔旋转角 负克尔旋转角 两偏振方向夹角Ø正克尔旋转角起偏器偏振方向负克尔旋转角 检偏器偏振方向 检偏器偏振方向 一 二我们选用的是He-Ne激光器,产生波长为6328埃的激光,激光束首先通过偏振棱镜(起偏器)。

SMOKE 系统对偏振棱镜的要求一般体现在两个指标上,首先是消光比。

事实上绝对的偏振光是不存在的,无论怎样的偏振片,产生的都是一个椭圆偏振光,只不过椭圆的短轴较长轴短的多,一般情况下可以近似看作线偏振光,这个短长轴之比称为消光比,消光比越小说明偏振片产生的偏振光越接近线偏振光,smoke系统一般要求偏振片消光比不大于10-5,否则克尔信号产生的光强就会变得很小,增加探测难度,另一个指标就是主透射比,偏振片对光的吸收越小越好,否则最后出射的激光光强太弱,另外,仪器的通光孔径也是一个重要因素,直接决定光路调节的难度。

光束经过起偏器后就近似变成了线偏振光,通过凸透镜聚焦到样品表面上,并反射到另一方向。

在这里,决定入射角的因素是和信号强度有关的,在纵向克尔效应下,入射角为45度时克尔信号是最强的,但是由于磁场磁铁的限制,我们这里选取的入射角为30度左右。

反射到另一方向的光束经过检偏棱镜, 再经凸透镜聚焦打到探测器上。

光强信号经转换放大,被记录在实验操作系统,并以数据和图像的形式显示出来。

光路的建立除了上面的描述外,通常还有三点需要注意:1.光具座的选取。

由于所有光学元件都靠光具座固定在光学导轨上,因此光具座的选择是光路建设中一个重要组成部分,无论怎样的光学元件在实际使用中或多或少都需要调节,光具座的选择需要考虑所固定的光学元件的调解范围2.应注意光学元件的固定。

本系统中所有光学元件及光具座都和导轨刚性连接,光学实验中由于光放大的效应,使其对外界震动很敏感,任何固定不当引起的小振动经激光束长距离放大后都会导致最后实验结果中的大误差。

3.光路的准直。

系统中无论反射光光束还是入射光束都平行于导轨中央,这样做可以减少激光束所经过的光学元件的的调节幅度;同时,由于应力等原因,光学晶体中央部分的质量一般优于边缘部分,激光束还应当尽量从中心处通过棱镜和透镜等光学元件。

四.实验步骤一. 检查仪器设备(附仪器结构图)。

要保证探测器处于被保护状态(用盖子盖住);根据每个组成元件在实验中的作用,检查是否连接完好。

二. 打开氦氖激光器、光探测器电源(包括转换放大器和光强计数计)、电磁铁电源、高斯计、计算机电源。

正式测量之前,氦氖激光器最好稳定半小时以上。

三. 把样品置于电磁铁磁场正中间位置,使磁场与样品表面平行。

此时要注意,霍尔探头要与样品尽量接近,但不能接触。

如果仪器已经调整好了,在激光器、样品、探测器整个光路上都能看到光线,且在探测器的盖子中央应该能看到微弱的光点。

这时,可直接跳到步骤六。

四. 检查并调整光路(注:安装好的仪器,这一步调节已完成,初学者不需要这样做)。

在调节的过程中,要保证探测器始终处于被保护状态(用盖子盖住),避免探测器接触强光烧毁或减小使用寿命。

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