所扩散炉温度加热控制分享
两步扩散工艺
两步扩散工艺一、概述两步扩散工艺是半导体工业中常用的一种工艺，主要用于制造晶体管、集成电路等器件。
该工艺通过控制材料的扩散深度和浓度，来实现对器件性能的调控和优化。
该工艺主要分为两步进行，第一步是在硅片表面形成氧化层，并在氧化层上加热扩散掺杂剂，使其渗透到硅片内部形成P型或N型区域；第二步是在已经形成掺杂区域的硅片上再次进行加热扩散，使得掺杂剂进一步扩散并形成更深的P型或N型区域。
本文将详细介绍两步扩散工艺的具体操作流程和注意事项。
二、准备工作1. 硅片清洗：将待处理的硅片放入去离子水中浸泡10-15分钟，然后取出并用氮气吹干。
2. 氧化处理：将硅片放入氧化炉中，在高温下形成约1000Å左右的氧化层。
需要注意的是，在氧化过程中要避免产生结晶缺陷和氧化层厚度不均匀等问题。
3. 掺杂剂制备：根据所需的掺杂类型和浓度，将掺杂剂与稀释剂混合，制备出相应的掺杂溶液。
需要注意的是，掺杂剂在制备过程中要充分溶解，以确保后续扩散过程中的均匀性。
4. 掺杂前处理：将硅片放入清洗槽中，在去离子水中浸泡10-15分钟，然后取出并用氮气吹干。
接着，将硅片放入盐酸和氢氟酸混合液中浸泡5-10秒钟，以去除氧化层表面的污染物质。
三、第一步扩散1. 控制温度：将硅片放入扩散炉中，并加热到所需的温度。
通常情况下，P型区域需要在1000℃左右进行扩散，而N型区域则需要在1200℃左右进行扩散。
2. 加入掺杂剂：在硅片表面滴加一定量的掺杂溶液，并保持一定时间使其渗透到硅片内部形成P型或N型区域。
需要注意的是，掺杂剂的浓度和加入时间需要根据实际情况进行调整。
3. 冷却处理：在扩散结束后，将硅片从扩散炉中取出，并放入冷却槽中进行快速冷却。
这样可以避免掺杂剂进一步扩散，从而保证掺杂层的深度和浓度。
四、第二步扩散1. 控制温度：将已经形成掺杂区域的硅片放入扩散炉中，并加热到所需的温度。
通常情况下，第二步扩散需要比第一步更高的温度和更长的时间。
扩散炉体工作原理
扩散炉体工作原理
扩散炉是一种用于在半导体工艺中进行扩散过程的设备。
它通过控制温度和浓度梯度，使材料中的杂质扩散到所需深度，从而改变材料的电学性质。
扩散炉的工作原理可以分为以下几个步骤：
1. 温度控制：首先，扩散炉通过加热器将炉体内的温度提高到所需的操作温度。
扩散过程通常需要高温，因为高温有利于杂质在晶格中的扩散。
2. 杂质供应：在扩散炉的某个位置，通常是在炉底的特定区域，添加杂质源。
杂质源可以是液体、气体或固体态的物质，根据材料的不同选取不同的杂质源。
杂质源中的杂质会在高温下挥发或溶解，并通过炉体内的气流传递到待处理的材料表面。
3. 扩散过程：一旦杂质被供应到待处理材料的表面，扩散过程将开始。
在高温下，杂质原子会从高浓度（杂质源）向低浓度（待处理材料）的区域扩散。
扩散的速度取决于杂质和材料的性质，以及温度和时间等因素。
4. 控制参数：在整个扩散过程中，控制温度是非常重要的。
温度的控制可以通过炉体内的加热器和传感器来实现。
此外，炉体内的气氛也需要控制，以保持适当的氧化还原性。
这些参数的控制是为了确保扩散过程的准确性和一致性。
通过控制温度、时间和杂质浓度等参数，扩散炉可以实现不同
类型的扩散过程，如掺杂-扩散（Doping-Diffusion）、氧化、
化学气相沉积等。
扩散炉在半导体器件制造中起着重要的作用，可用于制备各种器件，如晶体管、太阳能电池和传感器等。
管式扩散炉
1软件操作1.1 软件启动登录启动软件后，程序进入登录界面，选择用户名，输入密码，即可登陆。
如果修改密码，则先输入原密码，再在相应的恶框内输入新密码，按确认后就可完成修改。
手动操作正确输入密码登录后，进入手动操作界面。
温度设置界面上有三个模拟温度控制器图形，分别对应扩散炉的三端温度控制器。
温度控制器图形中第一行三个绿色的示值为左、中、右三个温区的控温热电偶测量值。
三个热电偶之间的区域正是该设备的恒温区。
第二行的三个红色示数为温度控制器的温度设定值（SV值）。
三个点的SV值可以单独设置，主要供调试和维护所用，在自动运行界面中，没有开放。
温度设定值在本窗口可以修改。
修改方法：点击温度控制器上的SET按钮，ＳＶ值的颜色改变，通过＂＋１＂等按钮进行修改数值，然后再次点击SET按钮，该端点的ＳＶ值将得到修改。
手动界面的温度曲线和流量曲线显示在手动操作界面中有一个记录并描叙温度的曲线图。
横坐标为时间轴，起始长度为１小时，记录到一小时时，时间区域长度自动翻倍，依次类推，一直记录，在两种情况下将自动停止：ａ）点击“退出系统”按键，退出工作程序；ｂ）进入程序工艺运行（此时将启动运行状态下的温度曲线记录）。
温度曲线是控制热电偶ＰＶ的温度记录，左端温度记录曲线显示为白色线条，中点温度记录为红线条，右端温度记录为绿线条。
见面右上角显示有系统时间，每月要注意将其与标准时间核对。
本界面还有流量曲线显示，操作同温度曲线显示，通过手动操作间界面上的“温度曲线／流量曲线”进行温度曲线显示和流量曲线显示的装换。
阀动作设置在手动操作界面的中上部有系统的气路总图和气路简图的显示，两者可以通过“气路总图／气路简图）按钮进行切换。
在窗口的右下侧，有一个“设置区域”，在该区域可对电磁阀状态和气体流量进行设置。
设置键为右侧中部的“＋１”等按键。
在设置O2阀、N2阀、小N2阀气体阀门及流量时，相应的气体阀门将会打开，反映在屏幕上是气体简图中的阀门将会改变颜色（绿色为开，红色为关）。
工业加热炉温度控制方法
工业加热炉温度控制方法
工业加热炉的温度控制方法主要是通过空气/煤气比自寻优模型来实现煤气流量和空气流量的最佳配比控制，使燃烧达到最充分的状态，从而可以准确地控制温度。
炉温控制是加热炉的核心控制部分，它由执行器自动调节，再配以空燃比等各项辅助控制以提高炉子的加热效率。
每一个燃烧段的上部和下部炉温由安装在左右两侧炉墙上的热电偶来检测。
在正常生产中，控制系统可以自动选择温度较高的热电偶作为炉温控制的设定值；操作人员也可以选择其中任何一侧的热电偶作为炉温控制的设定值。
此外，当一只热电偶出现故障时，可以自动切换到另一支热电偶进行温度测量。
热电偶实际测量的温度可以给温度控制器提供参考，使其产生一个信号，这个信号可以作为空气流量和煤气流量控制器的设定值，达到控制空气和煤气的流量的目的。
通过这种方法，可以精确地控制加热炉内的温度，实现高质量的加热效果。
扩散炉温度控制
1．温度控制
2.1温度串级控制方式原理简述
所谓串级控制系统一般由主、副两个回路构成，被控量的反馈形成主回路，另外一个对被控量起主要影响的变量选做辅助变量形成副回路。
串级控制与单回路的区别在于副回路的给定值不是常量，而是变量，它的变化情况由被控量通过主调节回路来自动校正。
扩散炉设备采用电阻炉加热，以三个温区的扩散炉为例，其温度串级控制系统见图2，置于炉壁处的外热偶（aˊ、bˊ、cˊ）、副PID、触发电路以及功率部件组成副回路，用来控制炉丝加热电流的大小，而置于炉膛内的内热偶(a、b、c)将侧得的温度与设定值比较后，与主PID、副PID、触发电路以及功率部件一起组成主回路，监控炉膛内恒温区的温度变化。
图2 串级温度控制示意图
2.2温度串级控制方式系统优点
引入串级控制后，其优点如下：
1)提高温控系统的响应速度，提高了系统的抗干扰能力；
2)有效的缩短工艺片进入石英管后的回温时间；
3)工艺中设置的温度均为石英管内的实际工艺温度，取消校正恒温区工作；
4)实时检测并控制石英管内温度，为工艺提供更加精确的科学数据；
5)串级控制的双回路温度控制特性，对环境温度、冷却抽风速度、炉体保温层老化等一系列可能对温度产生干扰的因素有很好的自动响应，一旦工艺调试结束之
后，片间方块电阻的波动很小，无需再手动调节温度来应对方块电阻的波动。
1。
扩散炉串级温度控制系统
扩散炉串级温度控制系统1 引言随着石油，煤炭等不可再生能源的大量使用，这些一次能源在不久的几十年至百年后会在地球上消失。
能源是人类社会之所以能够飞速发展的原因，随着石油，煤炭等一次能源的日益枯竭，能源危机也不断的向人类敲响了警钟。
人类急需一种替代能源，而且这种能源能够取之不竭，用之不尽。
太阳能无疑成为了首选，它有着别的能源很多所不具有的优势，所以近几十年来太阳能电池从实验室到工厂的大规模流水线生产，都说明太阳能是未来人类所赖以生存和发展的新能源！随着国内太阳能产业的不断发展壮大，国内太阳能设备的生产也变得越来越成熟。
整个电池片生产环节中扩散环节是形成P–N 结的过程，是整个电池片生产过程的核心环节。
对扩散过程的严格要求无疑是对扩散设备性能的严格要求。
扩散工艺过程中温度控制系统能否按照工艺过程良好的控温直接关系到扩散整个反应过程的质量好坏。
因此扩散设备的温度控制系统的优劣是衡量扩散设备性能的关键。
而衡量扩散设备优劣的关键则是其温度控制的性能。
2扩散炉温度控制系统2.1温度串级控制单元系统控制框图如下图Fig.1，Fig.2所示，工控机采用研华IPC610P计算机，显示器为工业一体化15〞触摸显示器，通讯接口为RS485，温度控制为SDC45A山武串级温控仪，触发器采用过零触发电路，功率部件由特种变压器，空气开关，交流接触器，熔断器，可控硅，等组合而成，加热炉为进口直径8mm电热线材绕制而成。
Fig.12.2控温原理炉腔中反应管内温度的稳定要靠调节炉管外炉丝的加热功率来控制。
就扩散炉的控温方式而言，炉壁上的热电偶测得的温度不能实时反应出反应管内的温度变化。
因此，相对于炉腔中温度的变化，温度调节系统的动作会有很大的滞后性。
为了提高回温及温度稳定的速度和温区稳定性，设备温度控制环节选用了控温性能好，响应速度快的双回路串级温度调节系统。
如图Fig.2所示，外热偶与炉腔垂直，五个温区分别用5支直径为0.5mm长130mm的S型热电偶。
光伏电池磷扩散炉工艺温度
光伏电池磷扩散炉工艺温度光伏电池磷扩散炉是光伏电池制造过程中的一个重要设备，用于向硅片表面扩散磷元素，形成P-N结。
工艺温度是磷扩散炉中最为关键的参数之一，对于光伏电池的性能和效率有着重要影响。
在磷扩散炉工艺中，温度是一个至关重要的因素。
适当的温度可以保证磷元素与硅片表面有效地相互作用，形成均匀、致密的P-N结。
而过高或过低的温度都会对电池性能产生不利影响。
一般来说，磷扩散炉的工艺温度通常在800°C到950°C之间。
具体的温度选择取决于硅片的类型、厚度和制造工艺等因素。
在常规的硅片制造中，常用的工艺温度为850°C左右。
较低的温度会导致磷元素的扩散速率较慢，无法达到预期的效果，P-N结的形成不完整，影响光伏电池的性能。
而较高的温度则可能导致硅片表面的磷元素过度扩散，形成厚度不均匀的磷扩散层，从而影响电池的光电转换效率。
在磷扩散炉工艺中，除了温度外，还需要考虑磷源的浓度和扩散时间等因素。
这些参数之间存在相互影响，需要在实际制造过程中进行综合考虑。
一般来说，较高的磷源浓度和较长的扩散时间可以弥补较低的温度对扩散速率的影响，但同时也会增加产品的制造成本。
磷扩散炉工艺温度的控制也需要考虑设备本身的性能和稳定性。
炉温的均匀性和稳定性对于扩散过程的控制至关重要，需要通过先进的温度控制技术和设备来实现。
总的来说，光伏电池磷扩散炉工艺温度是影响光伏电池性能和效率的重要因素之一。
合适的工艺温度可以保证磷元素与硅片的有效扩散，形成均匀、致密的P-N结。
在实际制造中，需要综合考虑硅片的类型、厚度和制造工艺等因素，选择适当的温度参数。
同时，还需要考虑磷源浓度、扩散时间和设备的性能稳定性等因素。
通过合理控制工艺温度，可以提高光伏电池的性能和效率，推动光伏产业的发展。
扩散炉操作规则扩散炉操作规则
20. 在温区-SV“数据录入” 界面上点击“炉体保 温”，再点击“确定”按 钮，完成温度600℃设定 。
开机操作（十一）
21.按下各管操作面板的“加热开”
12
按钮，“加热开”的指示灯亮， 开始升温。
注意
单台扩散只能两 管同时加热！
开机操作（十二）
22.将气柜内恒温水槽的黑色
13
开关由“切”拨为“入”， 启动恒温水槽。
关机操作（四）
7. 按下各管操作面板
的“加热关”按钮， “加热关”的指示 灯亮，开始降温。
8 关闭源瓶阀门，依 次松开进、出气口 的螺母，拔出进出 气管，并分组包扎 捆好。
关机操作（五）
9. 将内恒温水槽的黑色 开关由“入”拨为 “切”，关闭恒温水槽。
10.在“状态设置”界面点击“退 出”按钮，弹出“操作提示” 界面。
M511-4W/UM闭管扩散炉 开机、关机培训
2009.06.10
开机操作（一）
1. 打开墙壁面板上压缩空气相
2
应的手动阀，并调节相应的 调压阀使其压力为： 0.7±0.1MPa。
2. 打开墙壁面板上氮气相应的 手动阀，并调节相应的调压 阀使其压力为0.4±0.1MPa。
开机操作（二）
3. 打开墙壁面板上氧气相应的 手动阀，并调节相应的调压 阀使其压力为0.4±0.1MPa。
23.检查并设定温度20℃，按
下“启动”按 钮，启动 恒温水槽 。
24.设备炉温升值设定值，待
生产。
二：关机操作
关机操作（一）
1. 检查并确定各管 工艺已运行结束。
2. 在状态界面上点 击“推舟速度”显 示框，弹出“数据 录入”界面。
关机操作（二）
3. 在“数据录入”界
扩散炉加热系统及pid控制分析
围大概是５００℃～８７０℃，期间不停的有
升温、降温和恒温的步骤，如何能有效快 速的实现温度控制的精确性呢，这就用到 了ＰＩＤ控制。ＰＩＤ控制是一种线性控制．
它将给定值与实际输出值的偏差ｅ（１）的比
例（Ｐ）、积分（Ｉ）和微分（Ｄ）进行线性组合，
形成控制量ｕ（１）输出，其公式如下所示：
Ｕ（１）＝Ｋｐ［ｅ（１）＋］ 该扩散炉选用带有两组ＰＪＤ调节功能
四、结束语
综上所述，电气施工工程中漏电保护 技术是非常关键的，本文对于电气施工工 程中的漏电保护技术，以及一些关键的要 点进行了进一步的总结，明确了今后如何 更好地进行施工。希望能够为今后的施工 工作提供一些参考。
参考文献：
…韩国强，刘运宝建筑电气工程 施工中漏电保护技术分析Ｕ】决策与信 息，２ｆ）１７（０８）．４５．
【３】王浩宇，张云生，张果．管式加热 炉ＰＩＤ算法改进及其在虚拟仪器中的应用
Ｕ】自动化仪表，２０１）９，（５卜５４）
温瞬＝
温区四
温区五
８１１
８０７
７９５
８３４
８０８
７９５
２３ Ｏ．３３０２ ９８
１ ０ ３ ４２０ ８０
０ ０．４ ２８５ ７１
（上接第２０４页） 保护，避免电气供电与漏电保护之间出现 问题。最后是漏电保护技术中的等电位联 结，通过导线连接保护接零总线和建筑物， 主要是连接建筑物的金属管、煤气管等装 置，平衡建筑电位。
［２１韩磊．建筑电气工程施工中的 漏电保护技术Ｕ】建筑工程技术与设 计，２０１玎３０）．１２．
· ２０５ ·
智能电力与应用
区域治理
扩散炉加热系统及ＰＩＤ控制分析
吕歌翔
西安黄河光伏科技股份有限公司，陕西 西安７１００４３
控制软件操作(扩散炉带机械手)
DS-300A扩散炉控制软件操作一、系统设置1. < 系统设置> 画面2. 各部分功能2.01 温控方式设置2.01.01 根据温控表类型，若是山武的温控表，则选择“SDC串级控制”；若是RKC HA900的温控表，则选择“HA900串级控制”。
安装机器时设定2.01.02 若勾选【启用工艺运行升降温斜率跟踪】，则在勾选此项之后的时间内，可生成温度随时间向设定温度变化的曲线2.01.03 因扩散炉正常使用时所使用的温度在800~1050 o C，则在“最大温度设置”中设置1100。
安装机器时设定2.02 流量设置12.02.01 【大氮流量计初始化】将大氮流量计信号初始化。
在和流量计连接均正常的时候，点击此按钮，则无论是哪个流量计，均将此流量计的通讯地址初始化为大氮流量计。
流量计通讯紊乱时使用2.02.02 【小氮流量计初始化】参照上述【大氮流量计初始化】。
流量计通讯紊乱时使用2.02.03 【小氧流量计初始化】参照上述【大氮流量计初始化】。
流量计通讯紊乱时使用2.02.04 注意事项2.02.04.01 在N（N<=3）个流量计的电源线和通讯线均未断开的情况下，错误点击某个流量计（M流量计）初始化按钮，则将此N个流量计均初始化为M流量计2.02.04.02 点击工控机上的流量计初始化按钮时只能有其对应的流量计的通讯线接上。
当流量计通讯紊乱时，需要将流量计初始化时，先将所有的流量计断电，并将通讯线断开，然后将所有流量计上电，待流量计预热完成（依次亮灯：红-黄-红-黄），然后将某个流量计的通讯线接上，点击工控机上对应的流量计初始化，接着拆掉此流量计的通讯线，接另外一个流量计的通讯线，并点击其对应的流量计初始化按钮，依次类推。
当各个流量计分别初始化通讯正常后再将所有流量计的通讯线接上。
2.03 舟位置设置2.03.01 【舟平移起点】设置推舟的平移原点位置。
当推舟处于平移原点位置时，炉口传感器不能检测到有舟（即PLC的X31始终显示有信号输入）。
工业加热炉温度控制方法
工业加热炉温度控制方法工业加热炉是工业生产中常见的设备，用于加热各类原材料，以便进行加工或生产。
在工业生产中，加热炉的温度控制对产品质量和生产效率具有重要影响。
因此，有效的温度控制方法对于保障生产过程稳定性和产品质量至关重要。
工业加热炉温度控制涉及多种方面的知识和技术，其中包括传热学、控制工程、材料学等。
在实际应用中，人们通常采用多种手段来实现对加热炉温度的控制，以满足不同生产工艺的要求。
本文将围绕展开研究，探讨其中的关键技术和应用现状，以期为相关行业提供参考和借鉴。
首先，在工业生产中，传统的加热炉温度控制方法主要依靠经验和人工操作。
在这种情况下，操作人员需要根据生产工艺和产品要求手动调节加热炉的加热功率或加热时间，从而实现对温度的控制。
然而，这种方法存在着一定的局限性，一方面易受操作人员水平和主观因素的影响，另一方面无法满足复杂生产工艺对温度控制精度的要求。
为了提高加热炉温度控制的精度和稳定性，研究人员提出了多种自动控制方法。
其中，PID控制是应用较为广泛的一种方法。
PID控制器可以根据系统反馩信号的变化自动调节控制器的输出，从而实现对加热炉温度的闭环控制。
通过对PID参数的调优和系统的建模，可以有效提高加热炉的温度控制精度和稳定性。
除了PID控制外，模糊控制、神经网络控制等新型控制方法也逐渐应用于工业加热炉温度控制领域。
模糊控制通过模糊化处理输入和输出变量，将模糊规则映射为控制规则，以实现对加热炉温度的精确控制。
神经网络控制则通过神经元之间的连接和学习算法，模拟人脑的思维过程，从而实现对加热炉温度的自适应控制。
针对工业加热炉温度控制中的特殊需求，人们还可以结合温度传感器、控制阀门等自动化设备，构建完整的温度控制系统。
通过实时监测加热炉内部温度和外部环境温度，以及对系统参数进行实时调节，可以实现对加热炉温度的精确控制和实时监测。
让我们总结一下本文的重点，我们可以发现，工业加热炉温度控制方法涉及多种技术和手段，需要结合具体的生产工艺和产品要求进行选择和应用。
扩散炉控制系统介绍2006324185133
我公司设计开发的扩散炉控制系统，采用进口可编程序控制器（PLC）做控制核心，进口人机界面（触摸屏）作人机对话窗口，实时显示扩散炉状态，可通过屏幕操作设备，设定参数以及各类提示信息。
该控制系统是目前国内智能化程度最高的一种扩散炉智能控制系统。
控制系统结构框图如下：PLC为整个控制系统的核心元件，触摸屏为系统的显示，设定，操作界面；温控仪通过数字通讯接口和PLC连接，实现温度的控制和检测；质量流量计和电磁阀在PLC的控制之下实现气路的控制和检测；送料推拉舟装置在PLC的控制之下实现自动运行。
第 1 页 / 共4页系统的主要部件及部件功能简述如下：人机界面（触摸屏）：扩散炉控制系统的人机对话界面，用于输入和显示温控曲线，气路设定、实时显示炉体实际温度、炉体各相关设备的实际状态、实时报警信息、设定和修改各工艺控制参数、推拉舟的设定及运行操作、系统测温传感器偏差的修正和补偿……，都可以通过触摸屏来完成查看，设定，操作等功能。
可编程程序控制器（PLC）：系统的智能控制核心单元，负责系统的工艺运行控制，温度检测，热偶故障检测，超温报警，温控仪参数设定，推拉舟控制，气路质量流量计控制，气路故障检测，工艺要求各种的联锁控制，实时报警等。
温控仪：采用进口温度控制仪表，透过数字通讯接口与控制核心（PLC）进行实时数据交换，在PLC 的控制之下实现精确稳定的温度控制。
推拉舟送料系统：在PLC的控制之下，根据工艺设定自动控制推拉舟进舟，出舟和速度变化。
气路控制（质量流量计和电磁阀）：通过PLC的模拟量控制，进行质量流量控制器的设定和气路的实时检测反馈，操作人员通过触摸屏可设定流量大小并查看实际流量（系统根据反馈值与设定值来判断气路流量偏差，并提供声光报警，同时完成气路与气路，气路与温度等之间的联锁要求）。
功率器件：温控系统的加热控制部件，在PLC与温控仪的控制之下负责调整加热输出功率。
炉管：系统的工作部件，在控制系统的控制之下，按照设定的工艺曲线实现加工工艺流程。
多路高精度扩散炉温度控制系统的设计
扩 散炉 是集 成 电路 生产 工序 的重要 设 备之 一 ， 它 的 主要 用 途是对 半导体进 行掺 杂 ， 它 与 半 导 体 工 艺 互 相 依
存 、 互 相促 进 、 共 同发展 ＿ Ｊ Ｉ 。在 扩散 炉工 艺 参数 中 ， 温 度 的控 制 精 度 不 仅 直 接 影 响 着 产 品 质 量 ， 也 影 响 着 扩 散 炉
模 块 和按 键 组 成 人 机 交互 界 面 。
关 键 词 ：单 片 机 ； 扩散 炉； 温度 控 制 ； 热 电偶 ； Ｓ ｍｉ ｔ ｈ预 估 器
中 图 分 类 号 ：Ｔ Ｐ ２ ７ １ 文 献 标 识 码 ：Ａ 文 章 编 号 ：１ ６ ７ ４ — ７ ７ ２ ０（ ２ ０ １ ３） １ ７ — ０ ０ ８ ３ — ０ ３
ａ ｎ ｄ ｃ ｏ ｎｓ ｔ ｉ ｔ ｕｔ ｉ ｎ ｇ ｔ ｈｅ ｈ ｕｍ ａ ｎ－ｃ ｏ ｍｐｕ ｔ ｅ ｒ ｉ ｎ ｔ ｅ ｒ ａ ｃ ｔ ｉ ｏ ｎ ｉ ｎｔ ｅ ｒ ｆ ａ ｃｅ ｖ ｉ ａ ＬＣＤ ａ ｎ ｄ ｋｅ ｙ ｂｏ ａ ｒ ｄ ．
Ｋｅ ｙ ｗｏ ｒ ｄ ｓ：ｓ ｉ ｎ ｇ ｌ ｅ ｃ ｈ ｉ ｐ ｍｉ ｃ ｒ ｏ ｃ ｏ ｍｐ ｕ ｔ ｅ ｒ ；ｄ ｉ ｆ ｆ ｕ ｓ ｉ ｏ ｎ ｆ ｕ ｒ ｎ ａ ｃ ｅ ；ｔ ｅ ｍｌ ；ｔ ｈ ｅ ｒ ｍｏ ｃ ｏ ｕ ｐ ｌ ｅ ；ｓ ｍｉ ｔ ｈ ｐ ｒ ｅ ｄ ｉ ｃ ｔ ｉ ｖ ｅ ａ ｌ ｇ ｏ ｉ ｒ ｔ ｈ ｍ
Ｚｈ ａ ｎｇ ｔ ｉ ａ ｎ ｗｅ ｎ， Ｚｈ ａ ｎ ｇ Ｂｏ， Ｄｕ Ｙａ ｎ， Ｌｉ Ｄｏ ｎ ｇ， Ｍｅ ｎ ｇ Ｇｕ ｏ ｙ ｉ ｎ ｇ
（ Ｓ ｃ ｈ ｏ ｏ ｌ ｏ ｆ ’ Ｍｅ ｃ ｈ ａ ｎ ｉ ｃ ａ ｌ Ｅ ｌ ｅ ｃ ｔ ｒ ｏ ｎ ｉ ｃ ａ ｎ ｄ Ｉ ｎ ｆ ｏ ｒ ｍａ ｔ ｉ ｏ ｎ Ｅ ｎ ｇ ｉ ｎ ｅ ｅ ｉ ｒ ｎ ｇ ｏ ｆ Ｃ Ｕ ＭＴ ． （ Ｂ ｅ ｉ ｊ ｉ ｎ ｇ ） ， Ｂ ｅ ｉ ｊ ｉ ｎ ｇ １ ０ ０ ０ ８ ３， Ｃ ｈ ｉ ｎ ａ ）
《所扩散炉温度加热控制分享》PPT模板课件
变压器次级端
蓝色为低 压控制部分
输出给可控硅
380V交流电通过 熔断体输入变压
变压器
器初级端
4
扩散炉加热控制系统常见故障分析（一）
故障现象一
某一管,某一温区的 温度突然下降或者爬升缓慢
第一 第二 第三 第四 第五
检查设定 温度有无 异常,如果 有改正设 定温度
5
将炉体接线卸下,测
无电压,
量炉体内阻,有断丝
有电流,但是太小 (不在75A-100A 范围内)调整电阻, 直至电流正常
紧固温控仪 接线,问题仍 存,更换温控 仪
出电压,(正 常0-5V) YES
更换触发板
有电压,更换接触器
扩散炉加热控制系统常见故障分析（二）
故障现象二
某一管,某一温区的 温度突然上升很快,不受控制.
这类故障发生,,通常为可控硅 击穿,更换可控硅后正常
热电偶
测炉体 温度
温控仪
将实际温度和设定温度进行对 比根据温差输出触发电压0-5V
触发板
根据触发信号控制变 压器输出的加热电流
输出给炉体
可控硅
触发板根据温控仪 输出的触发电压值 给出相应输出信号 可控硅对加热电流 进行调节
按下加热开 (按纽)接触 器吸合,输 入380V交 流电给熔断 体
熔断体
加热炉体
3.调整大小
选择您要用到的图标单击右键选择“ 取消组 合”
右键单击您要使用的图标选择“填充 ”，选 择任意 颜色
拖动控制框调整大小
商务
图标元素
商务
图标元素
商务
图标元素
商务
图标元素
所扩散炉温度加热控制分享
（Excellent handout training template）
北方华创立式扩散炉使用手册
北方华创立式扩散炉使用手册
立式扩散炉是北方华创生产的一种高温电炉，可以应用于各种金属材料，玻璃，陶瓷等材料的高温氧化气氛处理。
立式扩散炉使用手册是立式扩散炉使用的最重要的参考资料之一1.炉膛温度：当扩散炉温度高于900°C时，炉膛内的高温气体（通常为空气）需要在冷却条件下排除。
2.电极：在使用立式炉管时，可以直接把电极插入石墨管中进行加热。
3.加热方式：用电-热电方式对金属材料进行加热，可以实现对不同元素的选择性氧化。
4.操作规程：1 •操作人员必须熟悉本设备的工作原理，并掌握必要的操作技能。
2- 为了保证设备正常运转和安全操作，应经常检查设备各部位（特别是电热元件）及加热器绝缘情况并作好记录；对于易损坏处应及时更换；发现设备有异常现象应及时处理。
3•当发现设备出现烧损、开裂等现象。
工业加热炉温度控制方法
工业加热炉温度控制方法工业加热炉是一种用来加热工件的设备，广泛用于多种工业领域中，例如冶金、机械制造、化工等。
对于加热炉的温度控制非常重要，因为温度过高或者过低都可能会影响加热效果和工件的质量。
在工业生产中，通常采用的温度控制方法有PID控制、模糊控制、遗传算法控制等多种方式，下面将详细介绍几种常用的。
1.PID控制方法PID控制是一种经典的控制方法，它通过比例、积分和微分三个部分来控制温度。
在PID控制方法中，比例作用是根据当前温度与设定温度之间的偏差来调整控制量；积分作用是根据过去的偏差来调整控制量，以消除偏差积累；微分作用是根据偏差的变化率来调整控制量，以提高控制系统的响应速度。
PID控制方法具有稳定性好、响应速度快等优点，因此在工业加热炉的温度控制中被广泛应用。
2.模糊控制方法模糊控制是一种基于人类的模糊逻辑思维的控制方法，其原理是根据模糊规则来调整输出控制量。
在模糊控制方法中，通过建立模糊规则库和模糊推理系统，将输入变量与输出变量之间的关系模糊化，然后根据这些规则来确定输出控制量。
模糊控制方法具有适应性强、易于实现等优点，因此在工业加热炉的温度控制中也得到了广泛应用。
3.遗传算法控制方法遗传算法是一种模拟生物进化过程的优化算法，它通过模拟生物的进化机制来搜索最优解。
在遗传算法控制方法中，首先建立一个适应度函数来评估每个解的好坏，然后通过选择、交叉和变异等操作来生成新的解，并逐步优化得到最优解。
遗传算法控制方法具有全局搜索能力强、适应性好等优点，可以克服传统优化方法的局部最优问题，在工业加热炉的温度控制中也有一定的应用价值。
在实际工业生产中，以上几种温度控制方法可以根据具体的工艺要求和控制对象的特点选择合适的方法。
同时，在温度控制过程中，还需要注意以下几个方面：1.准确测量温度：在加热炉中安装合适的温度传感器来准确测量温度是保证控制效果的前提。
2.设定合理的目标温度：根据工件的热处理工艺要求设定合理的目标温度，以保证工件的加热效果和质量。
半导体扩散炉颗粒度控制
半导体扩散炉颗粒度控制引言：半导体扩散炉是半导体工业中常用的设备，用于在半导体材料表面进行杂质掺入或薄膜沉积。
而扩散炉颗粒度控制是确保扩散过程中颗粒尺寸的均一性，从而保证产品质量和性能的重要环节。
本文将从颗粒度控制原理、方法和应用角度探讨半导体扩散炉颗粒度控制的相关知识。
一、颗粒度控制原理半导体扩散炉颗粒度控制的原理主要基于热扩散过程中颗粒的运动和扩散效应。
在扩散过程中，杂质或薄膜会通过扩散炉中的载气传输到半导体材料表面。
而颗粒度控制的目的是使扩散过程中颗粒的尺寸保持均一，避免颗粒聚集或分散导致的质量问题。
二、颗粒度控制方法1. 温度控制：扩散炉中的温度是颗粒度控制的关键因素之一。
通过精确控制扩散炉的温度，可以确保杂质或薄膜的扩散速度均匀，从而实现颗粒度的控制。
2. 气氛控制：扩散炉中的气氛对颗粒度的控制也起到重要作用。
合理的气氛组成和流速可以调节扩散过程中的气氛浓度分布，从而影响颗粒的扩散速度和均一性。
3. 材料控制：扩散炉中使用的材料也会对颗粒度产生影响。
选择高纯度的扩散材料和载气可以减少杂质的引入，提高颗粒度的控制精度。
4. 设备控制：扩散炉的设备参数和操作方式也会对颗粒度产生影响。
合理的设备设计和操作流程可以减小颗粒度的波动，提高控制效果。
三、颗粒度控制的应用1. 半导体器件制造：在半导体器件制造中，颗粒度控制是确保器件性能和一致性的重要环节。
通过精确控制扩散炉颗粒度，可以保证器件中杂质分布的均匀性，提高器件的可靠性和性能。
2. 光伏产业：太阳能电池是光伏产业的核心产品，而颗粒度控制是确保太阳能电池性能的关键因素之一。
通过控制扩散炉颗粒度，可以提高太阳能电池的光吸收效率和转化效率，从而提高光伏产业的竞争力。
3. LED制造：LED是照明行业的新兴技术，而颗粒度控制对于提高LED的亮度和色彩一致性至关重要。
通过控制扩散炉颗粒度，可以提高LED芯片的发光效率和色彩还原能力，实现高质量照明产品的制造。
一种提高扩散氧化炉温度控制精度的方法
一种提高扩散氧化炉温度控制精度的方法
徐朝军;肖可
【期刊名称】《微电子学》
【年(卷),期】2009(39)3
【摘要】针对半导体制造流程中氧化、扩散、退火炉的Profile温度控制方法存在温度过冲大的问题,提出了Profile控制+前馈方式控制管内温度的新方法。
将该方法应用于Thermco9000扩散炉,使温度过冲由5℃左右减小到0.5℃以下,且恒温时间从25min减小到20min。
【总页数】4页(P438-441)
【关键词】半导体设备;比例积分微分;Profile温度控制;扩散氧化炉
【作者】徐朝军;肖可
【作者单位】中国电子科技集团公司第二十四研究所
【正文语种】中文
【中图分类】TN305
【相关文献】
1.粗铜无氧化掺氮还原火法精炼工艺/适用于铝电解槽用炭块的加热装置/紫杂铜一步电解生产阴极铜的方法/电流直热式铝型材加热装置/铝合金型材表面涂装方法及专用设备/大型钨单晶/一种铜连铸熔炼炉的保温炉密封炉盖/高密度钨合金/铝冷轧机板型控制新技术/从含钨废料中回收钨的新工艺/铜阳极炉还原氧化铜的还原剂和还原方法/碳化钨涂覆金刚石的新方法/制造钛细粉末的新工艺/阳极杆矫直技术开
发成功/国内最大直径多晶硅/数字成像传感器/熔融金属取样器/铝基稀土合金研制成功 [J],
2.提高温度冲击试验设备控制精度的方法 [J], 刘平
3.提高数显温度调节仪控制精度的方法 [J], 王新山
4.浅析提高池炉压力和液位控制精度的方法 [J], 李平安;武圣欣
5.提高脉冲式热处理炉炉温控制精度的一种控制方法 [J], 卢权观
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高阻晶体硅电池扩散炉温度控制的研究
系统 控 制 的难 点 ，控 制 效果 对 恒温 段 的控 制 有 直
接的影响 ， 时一般要做特殊处理 ， 根据主 、 此 即 副 回 路 的 Ｐ Ｓ ＭＶ 的 相 互 关 系 对 副 回 路 的 Ｓ Ｖ、 Ｖ、 Ｖ 进 行 限制 或修 正 ，进 而 达 到 控制 副 回路 ＭＶ 在 所 要 求 的范 围 内 。 样可 以限制 超 调 或欠 调 幅度 ， 这 还 可 以缩 短恒 温 段 的稳 定 时 间 。确 定 升温 段 与 拐 点
随着 晶 体硅 电池 产 业 的快 速 发 展 ， 电池 片 生 产 厂家 为 了提 高 电池 片 的转 换 效率 ，对 电池 生 产 设 备 的要 求 也 不 断 提 高 。扩 散 设 备 作 为 生产 光 伏 电池 的主 要 设 备 ，其 性 能 和 生产 效 率 尤其 受 到 广 大 光伏 电池 生 产 厂 家 的 关 注 ， 电池 生 产 厂 家要 求
（） ３ 能有 效 地缩 短 回 温 时 间 ， 少 烦 琐 的工 艺 减
段 的 分割 点 ， 制 方式 发 生 变化 ， 控 由单 级 ＰＤ 转 换 Ｉ
为 串级 ＰＤ。 Ｉ
恒 温 段 为 长 时 间保 持 温 度 在 固定 值 的 阶 段 ， 受 拐 点段 效 果 影 响 。该 段 主要 保 证 ａ ｂ ｃ ｄ ｅ这 、、、 、
Ｍ ＡＯ ａ ｂｉ ＣＨＥＮ ｃ ａ ＬＩＫｅ Ｚｈ ｏ ｎ， Ｔｅ ｈ ｏ， ，ＬＩ Ｂｏｑ Ｎ ｉ
（ｈ ８ ｅｅｒｈＩｓ ｔｔ ｏ Ｃ Ｔ Ｃ ａ ｇｈ １ １ １ Ｃ ｉａ Ｔ ｅ ｔ Ｒ ｓａｃ ｔｕｅ ｆ Ｅ Ｃ， ｈ ｎ ｓａ ０ １ ， ｈｎ ） ４ｈ ｎｉ ４
中 图分类 号 ： Ｍ９ ４４１ Ｔ １．
文 献标识 码 ： Ｂ
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检查接触器 NO 是否吸合
紧固接 线,检查
接线
YES
检查接触器 线圈电压
NO
(正常220V)
更新换炉体
用钳型表测量 炉体有无加热 NO
电流
YES
NO
无电流, 测量温控 仪,有无输
检查接触器输出端 相间电压和对地电 YES 压,分别是380V和 220V,如果不正常 更换接触器
有电流,但是太小 (不在75A-100A 范围内)调整电阻, 直至电流正常
48所扩散炉培训 温度、加热控制
目录 2
• 扩散炉加热系统的组成元件 • 扩散炉加热控制系统的工作原理 • 扩散炉加热控制系统常见故障分析
组成元件图片
3
San Francisco
熔断体
热电偶 Wa可sh控in硅gton
London Munich
温控仪
Tokyo Wuxi Shenzhen
交流接触器
变压器
Sydney
触发板
3
扩散炉加热系统的工作原理 4
工作原理分两部分: 1:低压控制部分. 2:高压主电路部分.
他们之间是通过 232-485转接口连 接进行通讯
工控机
彩色为高压 主电路部分
380V 电源
交流接触器
将测得炉体的 温度信号传输 给温控仪
热电偶
测炉体 温度
温控仪
将实际温度和设定温度进行对 比根据温差输出触发电压0-5V
在拆卸前,先将加热关掉(按下 加热关按纽),先卸下阻容板,再 拆下散热片,接着拆下可控硅
可控硅
在安装可控硅时,注意夹板要 夹紧,固定螺丝要拧紧.
散热片
7
THE END !
7
触发板
根据触发信号控制变 压器输出的加热电流
输出给炉体
可控硅
触发板根据温控仪 输出的触发电压值 给出相应输出信号 可控硅对加热电流 进行调节
按下加热开 (按纽)接触 器吸合,输 入380V交 流电给熔断 体
熔断体
加热炉体
变压器次级端
蓝色为低 压控制部分
输出给可控硅
380V交流电通过 熔断体输入变压
变压器
器初级端
4
扩散炉加热控制系统常见故障分析（一） 5
故障现象一
某一管,某一温区的 温度突然下降或者爬升缓慢
第一 第二 第三 第四 第五
检查设定 温度有无 异常,如果 有改正设 定温度
5
将炉体接线卸下,测
无电压,பைடு நூலகம்
量炉体内阻,有断丝
按下加热关 (红色按纽),取 下对应的熔断 体进行测量将 损坏的熔断体 更换,
紧固温控仪 接线,问题仍 存,更换温控 仪
出电压,(正 常0-5V) YES
更换触发板
有电压,更换接触器
扩散炉加热控制系统常见故障分析（二） 6
故障现象二
某一管,某一温区的 温度突然上升很快,不受控制.
这类故障发生,,通常为可控硅 击穿,更换可控硅后正常
阻容板
在拆卸和安装时注意安 全不要碰到带电电缆.和 临管的带电元件.