光学微腔的原理及制作研究

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回音壁模式光学微腔磁传感matlab数据处理

回音壁模式光学微腔磁传感matlab数据处理

回音壁模式光学微腔磁传感1. 引言光学微腔是一种能够在其内部存储和增强光的器件,具有高品质因子和小模式体积的特点。

回音壁模式光学微腔是一种常见的光学微腔结构,其内部的光可以在腔壁上来回反射,形成驻波模式。

这种结构在传感、通信等领域具有重要应用价值。

本文将介绍回音壁模式光学微腔磁传感的相关内容,并使用Matlab进行数据处理。

首先,我们将介绍回音壁模式光学微腔的基本原理和特点。

然后,我们将详细讨论如何利用该结构实现磁传感,并给出相应的数据处理方法。

2. 回音壁模式光学微腔基本原理回音壁模式光学微腔是一种采用全反射原理工作的器件。

其结构通常由两个平行的反射面组成,其中一个反射面上有一定数量的高反射率点缀物(通常是周期性排列的)。

当入射光进入该结构时,会在高反射率点缀物上发生多次反射,形成回音壁模式。

这种模式可以使光在微腔内部长时间存留,并与微腔中的样品相互作用。

回音壁模式光学微腔的特点包括高品质因子、小模式体积和高灵敏度。

高品质因子意味着光在微腔中的寿命长,能够增强样品与光的相互作用。

小模式体积可以使微腔更加紧凑,便于集成化和实际应用。

高灵敏度是由于回音壁模式对微腔内部折射率变化非常敏感,可以用来检测样品的性质和环境参数。

3. 回音壁模式光学微腔磁传感原理回音壁模式光学微腔磁传感是一种利用微腔对外界磁场变化的响应进行测量的方法。

当外界磁场改变时,会引起样品中磁性粒子的运动和重新排列,从而导致样品折射率发生变化。

这种折射率变化将影响到回音壁模式中光的传播特性,进而改变微腔的透射光谱。

具体来说,当微腔中的光与样品相互作用时,会发生透射和反射。

通过检测透射光谱的变化,可以获取到微腔内部折射率的变化信息。

而这种折射率的变化与外界磁场强度之间存在一定的关系,通过合适的数据处理方法可以实现对外界磁场的测量。

4. 数据处理方法在回音壁模式光学微腔磁传感中,数据处理是非常重要的一步。

下面将介绍一种常用的数据处理方法。

光学回音壁空芯微腔的透射谱线与传感特性研究

光学回音壁空芯微腔的透射谱线与传感特性研究

研究展望
进一步研究不同材质和表面处理的微腔对透射谱线和 传感特性的影响。
将该微腔应用于实际传感系统中,并与现有技术进行 对比和分析。
探索在高温、高压等极端环境下微腔的稳定性和可靠 性。
基于该微腔的其他光学特性,探索其在光学通信、光 学传感等领域的应用潜力。
THANK YOU.
于折射率传感。
02
温度传感
微腔的透射谱线也对其周围环境的温度变化敏感,因此它可以用于温
度传感。
03
压力传感
微腔的透射谱线还可以用于压力传感,因为压力变化会导致微腔的形
状和尺寸发生变化,从而影响其透射谱线。
04
光学回音壁空芯微腔的传感特性研究
基于光学回音壁空芯微腔的传感原理
光学回音壁空芯微腔的传感技术原理是利用光在微腔中形成 谐振模式,通过检测谐振波长或频率的变化来感知周围环境 的变化。
为高灵敏度光学传感和低阈值微腔激光器等应 用提供实验支持和参考。
有助于推动光学微腔领域的发展,为光学通信 、生物医学检测等领域提供新的解决方案。
02
光学回音壁空芯微腔的基本原理
光学回音壁空芯微腔的构造及工作原理
光学回音壁空芯微腔是一种特殊的光学微腔,其基本 构造包括一个空芯波导和一个反射面。
光在波导中传输时,会受到芯层和包层折射率的影响 ,从而在芯层和包层之间形成倏逝波。
2023
光学回音壁空芯微腔的透 射谱线与传感特性研究
目录
• 研究背景及意义 • 光学回音壁空芯微腔的基本原理 • 光学回音壁空芯微腔的透射谱线研究 • 光学回音壁空芯微腔的传感特性研究 • 研究结论与展望
01
研究背景及意义
研究背景
01
光学回音壁空芯微腔是一种具有高Q值和低模式体积的光学微腔,具有广泛的 应用前景。

光学微腔特性研究及其应用

光学微腔特性研究及其应用
光学微腔
光学微腔概述
光学微腔是一种能够把光场限制在微米量级区域中的光学谐振腔。它利用在介电 常数不连续的材料界面的反射、散射或衍射,将光能量限制在很小的区域内来回 振荡,从而增加光子寿命,减少光场模式数目。当增益介质(偶极子)置于微腔中, 它的自发辐射性质受到局域真空场的显著调制,因此产生低阈值的激光。
(2 n2eff 2 / c2 ) 0
式中 2 c / , 是谐振模式在真空中的波长 , 是真空中的光传播速度 neff 是回音壁模式的有效折射率。在二维的情况下,我们不考虑垂直方向的 电磁波,在柱坐标下Helmholtz方程可以写为:
c
(2r , n2eff 2 / c2 ) (r, ) 0
腔量子电动力学
自1916 年爱因斯坦首次提出自发辐射概念后,很长一段时间内,人们都认为 自发辐射是原子的固有性质,不可改变。实际上,自发辐射是原子与真空电磁量 子涨落的相互作用过程。当原子处于尺度在波长量级的微腔中,由于腔内真空的 量子起伏受到腔体边界条件的制约,原子的自发辐射特性发生改变。腔量子电动 力学就是要研究微腔中原子与光场的量子相互作用过程,对量子光学的发展具有 十分重要的意义。当原子体系与腔内电磁场相互作用处于弱耦合状态下时,谐振 腔内的自发辐射会产生增强或抑制等效应。当两者处于强耦合状态下时,此时系 统处在非经典的状态下,在这种状态下出现了单原子激光、光子阻塞、真空Rabi 劈裂以及Rabi 振荡等一系列量子现象。基于这些现象,新型灵敏光电子器件、纠 缠操控以及可控单光子源都得到了快速发展。
谢谢!

2 M M 1 2 neff R
如果用 Reff 表示模式的有效半径,则有:
2 2 nReff
回音壁式微腔(WG型微腔)

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》范文

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》范文

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》篇一一、引言随着科技的不断进步,光学微腔作为光子学领域的重要研究课题,在光子集成、光通信、光子计算机等领域有着广泛的应用前景。

其中,回音壁模式光学微腔(Whispering Gallery Mode Optical Microcavity,简称WGM微腔)以其高Q值、小体积、高稳定性等优点,在光子存储、激光器、光学传感器等方面表现出极大的潜力。

本文将详细介绍高Q值回音壁模式光学微腔的研究与实现过程。

二、高Q值回音壁模式光学微腔的基本原理回音壁模式光学微腔是一种具有高反射特性的微型光学谐振腔。

其基本原理是利用特定形状的微腔结构,使光在微腔内部发生多次反射和干涉,形成稳定的回音壁模式。

高Q值则是衡量微腔性能的重要指标,Q值越高,表示微腔的能量损耗越小,谐振效果越好。

三、高Q值回音壁模式光学微腔的设计与制备为了实现高Q值回音壁模式光学微腔,需要从设计、制备两方面入手。

首先,设计阶段需要选取合适的材料和结构,如使用高折射率差材料制备的球形或环形微腔结构。

其次,制备过程中需要严格控制工艺参数,如热处理温度、掺杂浓度等,以保证微腔的尺寸精度和表面质量。

此外,还需要对微腔进行优化设计,如减小散射损耗、提高光场与物质相互作用等。

四、高Q值回音壁模式光学微腔的实验研究实验部分主要关注如何通过实验手段验证微腔的高Q值特性。

首先,需要搭建一套光学测试系统,包括光源、光谱仪、光功率计等设备。

然后,通过实验测量微腔的谐振频率和Q值,分析其性能特点。

此外,还需要对微腔进行稳定性测试和寿命测试,以评估其在实际应用中的表现。

五、高Q值回音壁模式光学微腔的应用实现高Q值回音壁模式光学微腔在光子存储、激光器、光学传感器等领域有着广泛的应用前景。

在光子存储方面,可以利用其高Q值特性实现光子存储和传输;在激光器方面,可以利用其谐振特性实现低阈值激光输出;在光学传感器方面,可以利用其高灵敏度实现对物理量(如温度、压力等)的精确测量。

qled光学微腔原理

qled光学微腔原理

QLED光学微腔原理一、QLED技术概述QLED,全称为Quantum Dots LED,是一种新型的显示技术,它结合了量子点技术和LED技术,旨在提供更高的色彩纯度、更高的亮度和更长的寿命。

QLED显示屏通过使用量子点材料,能够显示更广的色域,提供更生动的颜色表现。

其工作原理是利用量子点受光后发射特定波长光线的特性,实现精准的光谱调控和色彩管理。

二、光学微腔原理光学微腔是一种在微纳米尺度上对光进行限制和共振的器件。

其主要工作原理是通过精确设计微腔的形状、大小和折射率,使光在特定条件下在腔内共振,从而增强光的局域场强度并实现有效的光能局域化。

这种结构可以显著提高光的利用效率和发光器件的亮度。

三、QLED与光学微腔的结合将QLED技术与光学微腔原理相结合,可以实现一种新型的高效、高亮度的显示技术。

这种结合可以进一步提高QLED的色彩饱和度和亮度,同时降低能耗。

在QLED光学微腔结构中,量子点被置于微腔的共振器中,光在微腔内产生共振,使得QLED的发射光谱变得狭窄且稳定。

此外,这种结构还能通过调控微腔的参数,实现对QLED发射波长的精确调控。

四、QLED光学微腔的优点与挑战优点:1.高色彩饱和度:由于光学微腔的作用,QLED的光谱变得狭窄,从而提高了色彩纯度和饱和度。

2.高亮度:通过共振效应,QLED的光强得到增强,实现了高亮度的显示效果。

3.低能耗:由于光谱窄化和共振效应,QLED的光利用率得到提高,从而降低了能耗。

4.长寿命:QLED本身就具有较长的寿命,结合光学微腔结构后,其稳定性进一步提高。

挑战:1.工艺难度:在制造过程中,需要高度精确地控制微腔的结构参数和量子点的性质,这增加了制造难度和成本。

2.温度稳定性:在实际应用中,温度变化可能会影响QLED和光学微腔的性能,因此需要解决温度稳定性问题。

3.光学损耗:在某些情况下,光学微腔可能会产生额外的光学损耗,这需要进一步研究和优化。

五、未来展望随着科技的不断进步和应用需求的提高,QLED光学微腔技术在未来有望取得更多的突破和发展。

新型光学微腔的设计及应用研究

新型光学微腔的设计及应用研究

新型光学微腔的设计及应用研究光学微腔是一种具有极高品质因子(Q值)的微型光学元件,其可以将光嵌入腔内引起能量积累,从而提高光与物质相互作用的效率。

近年来,随着纳米技术的发展和微纳制造技术的进步,新型的光学微腔不断涌现,其在光子学、量子光学、生物医学等领域的应用研究得到了广泛的关注。

本文将从光学微腔的基本结构、设计与制备方法以及应用研究等方面探讨其发展现状和未来前景。

一、光学微腔的基本结构光学微腔通常采用两个高反射率的反射镜将光嵌入到腔内,其形状可以是球形、圆盘形、梳齿形等不同形态。

其中,球形微腔是最为常见的一种形式,其具有通用性和可制备性的优势。

在球形微腔中,光线会被内表面的反射作用限制在微腔内部运动而不流失,从而形成驻波模式。

驻波模式中的光子密度很高,散射噪声很小,可以引起光子-物质耦合现象、色散效应等。

二、光学微腔的设计与制备方法对于微腔的设计来说,主要需要考虑的因素是腔的几何形态、介质材料选取、反射镜的反射率等。

典型的制备步骤包括微晶固态反应、溶胶-凝胶法、光子晶体制备等。

其中,微晶固态反应法是一种最古老的制备方法,其通过尿素与硫酸相互作用产生的慢性物质难以溶解的特点,可制备出Q值较高的多晶微腔。

溶胶-凝胶法是将铝、矽等金属离子与偏硅酸盐、三乙醇胺等溶胶混合,在玻璃基片上进行成膜、退火,最终形成微腔的制备方法。

光子晶体制备则是在光子晶体的制备过程中,采用完美的平坦的腔和反射镜,从而得到Q值高达10万以上的光子晶体微腔。

三、光学微腔的应用研究在光子学领域,微腔的大量制备和测量技术的进步,使得人们可以更深入地研究微腔场中光子的行为,例如驻波、模式耦合、非线性效应等。

除此之外,微腔还可以被用于单个光子的储存、量子加密、量子计算等研究。

在生物医学领域,微腔可以被用于生物传感器、分子检测、细胞成像等方面。

通过将特定的靶分子引入腔内,微腔可产生独特的光谱响应,进而确定微环境中的成分和浓度。

四、展望与结论随着技术不断进步,光学微腔的发展前景越来越广阔。

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》篇一一、引言光学微腔作为一种微型化、高度集成的光子器件,近年来在光通信、光子集成电路、量子信息等领域得到了广泛的应用。

其中,回音壁模式(Whispering Gallery Mode,WGM)光学微腔因具有高Q值、小模体积等优点,成为了一个重要的研究方向。

本文将就高Q值回音壁模式光学微腔的研究与实现进行详细的探讨。

二、回音壁模式光学微腔概述回音壁模式光学微腔是一种基于微米级尺寸的光学谐振腔,其特点在于光在微腔内部进行多次反射,形成类似于回音壁的传播模式。

这种模式的光学微腔具有高Q值(品质因数)、小模体积等优点,使得其在光通信、光子集成电路、量子信息等领域具有广泛的应用前景。

三、高Q值回音壁模式光学微腔的研究1. 制备工艺研究高Q值回音壁模式光学微腔的制备需要采用先进的微纳加工技术。

目前,制备方法主要包括激光直写法、电子束刻蚀法、飞秒激光加工法等。

这些方法各有优缺点,如激光直写法制备工艺简单,但精度较低;电子束刻蚀法精度高,但制备成本较高。

因此,在实际应用中需要根据具体需求选择合适的制备方法。

2. 理论模型研究为了更好地理解回音壁模式光学微腔的特性和优化其性能,需要建立相应的理论模型。

目前,常用的理论模型包括耦合模理论、有限元法等。

这些模型可以有效地描述光在微腔内部的传播过程,为优化微腔结构提供理论依据。

3. 性能优化研究为了提高回音壁模式光学微腔的Q值,需要对其进行性能优化。

主要包括减小光散射损耗、提高材料品质、优化微腔结构等方面。

此外,还可以通过引入新材料、新结构等方法进一步提高Q值。

四、高Q值回音壁模式光学微腔的实现1. 实验装置与材料选择实验中需要选择合适的材料和实验装置。

常用的材料包括二氧化硅、氮化硅等高透光性材料。

实验装置主要包括激光器、光谱仪、显微镜等设备。

2. 实验过程与结果分析在实验过程中,首先需要制备出回音壁模式光学微腔。

然后通过调整微腔结构、材料等参数,优化其性能。

光学微腔特性研究及其应用_图文_图文

光学微腔特性研究及其应用_图文_图文
光学微腔特性研究及其应用_图文_图文.ppt
光学微腔是一种能够把光场限制在微米量级区域中的光学谐振腔。它利用在介电 常数不连续的材料界面的反射、散射或衍射,将光能量限制在很小的区域内来回 振荡,从而增加光子寿命,减少光场模式数目。当增益介质(偶极子)置于微腔中, 它的自发辐射性质受到局域真空场的显著调制,因此产生低阈值的激光。
(r, )

0
上式中的变量 r, 是不相关的,因而上式可以分离变量成为以下两个方程:
r2
d2 dr 2
R(r)
r
d dr
R(r)(k2r2 源自N2 ) R(r)
0
d2 d 2
( )

M
2(
)

0
k neff / c
(r, ) AM ,N JM ,N (rneff / c) eiM
光学微腔分类
依据工作介质不同
1.有源微腔:“有源”是指腔内的工作介质具有增益,这类微腔在外部光激
励或者电激励的时通过谐振腔的模式选择产生激光出射
2.无源微腔:“无源”指腔内工作介质无增益,这种微腔主要通过微腔的本 征光学模式选择对入射光进行调制,主要应用于信号处理中的滤波器、光开 关、或者传感器等。
解回音壁模式。如图所示,光线从A点沿微腔边缘传播,入射角为 。由于旋转
对称性,光线在腔内能够以同一入射角持续全反射。在有限次反射之后,光线会 回到原点A。当满足相位匹配条件,在谐振腔内会形成等间距的共振模,这种模 式就称为回音壁模式。
回音壁式微腔(WG型微腔)
理论分析
无论是三维的微盘还是二维的微环,它们的回音壁模式分析都可以通过有效折 射率法和不同的边界条件设定简化为二维的微盘的本征模式分析。二维的微盘 的回音壁模式在柱坐标下可以严格地分解成横电模(TE)和横磁模(TM)两 者都可以通过Maxwell方程得到对应的Helmholtz方程:

光学微球腔及其应用

光学微球腔及其应用

光学微球腔及其应用前言前言::光学微球腔因其极高的品质因数和极小的模式体积,在非线性光学、腔体量子电动力学以及窄带光学滤波、高灵敏度运动传感器、极低阈值激光器等许多研究与应用领域具有广泛的应用前景.文章对光学微球腔的谐振原理、特点、耦合、制备和应用进行了综述.一、一、球形光学微腔发展背景球形光学微腔发展背景光学微腔是一种尺寸在微米量级或者亚微米量级的光学谐振腔,它利用在折射率不连续的界面上的反射、全反射、散射或者衍射等效应,将光限制在一个很小的区域。

基于回音壁模式(Whispering Gallery Mode,简称WGM [1])的光学微腔成为了近年来研究的热点。

首先它作为一种尺寸可与光波长相比拟的光学谐振腔,使得凝聚态中的一些量子电动力学现象得以研究[2];其次作为一种低阈值激光微腔,在集成光学、信息光学等诸多应用领域有很好的应用前景。

目前光学介质微腔的形状也多种多样,主要有微球腔[3]、微盘腔[4]、微环腔[5]、微芯环腔[6]几种。

本文主要总结了近年来国内外光学微腔的一些研究现状及成果,并分析了未来的发展趋势。

目前信息与通信技术正以前所未有的速度发展,根据摩尔定律的预测,大约每18个月处理器的速度和内存的大小就会翻倍,而且这个速度还将持续十年。

如果光学能够在信息与通信领域发挥重大的作用,无疑它将以飞快的速度发展。

全光信号处理技术,由于不需要进行光-电-光转换,逐渐成为全光网络系统中前景广阔的领域之一。

对于全光网络设想的实现更需要一些体积更小,结构简单,性能较稳定的光学器件。

光学谐振腔是一个重要的光学器件,它在光通讯器件、光纤传感等领域里得到了广泛的应用,同时也是激光器的重要组成部分。

所以具有高集成度的微纳米光学谐振腔器件必将成为一个研究的热点。

二、二、微腔的种类及微腔的种类及微腔的种类及发展成果发展成果从应用的角度来看,微腔大致分为三种。

第一种是传统的F-P腔,它是由两个高反射率的腔镜组成的谐振腔[4]。

光学微腔研究进展

光学微腔研究进展

光学微腔研究进展前言基于回音壁模式(Whispering Gallery Mode,简称WGM[1])的光学微腔成为了近年来研究的热点。

首先它作为一种尺寸可与光波长相比拟的光学谐振腔,使得凝聚态中的一些量子电动力学现象得以研究[2];其次作为一种低阈值激光微腔,在集成光学、信息光学等诸多应用领域有很好的应用前景。

目前光学介质微腔的形状也多种多样,主要有微球腔、微盘腔、微环腔、微芯环腔几种。

本文主要总结了近年来国内外光学微腔的一些研究现状及成果,并分析了未来的发展趋势。

一、光学微腔发展背景光通信,顾名思义,即用光作为信息的载体来传递信号。

自从1960年美国科学家梅曼(Maiman)发明了第一台红宝石激光器。

2009年的诺贝尔物理学获得者高琅(Charles K.Kao)和他的同事霍克曼(GA.Hckman)于1966年提出玻璃纤维可传输光信号,并指出通信光纤的要求是每公里衰减小于20分贝(dB)之后。

通信领域进入了一个崭新的时代--光纤通信技术时代。

在光纤通信层出不穷的新技术的推动下,整个通信技术得到了快速的发展。

自DWDM系统首次商用以来,光纤通信的发展速度日益加快。

首先其容量成倍增加。

短短几十年的时间,光纤通信技术得到了迅速的普及和发展,极大地促进了人类社会信息化建设的步伐。

但是随着光纤传输容高,器件尺寸的不断下降,工业上已经很难按照摩尔定律的速度发展了。

传统电信号处理设备面临"电子瓶颈"的限制,这导致了全光网的产生和全光信号处理研究的热潮。

所谓全光通信网络是指信息从源节点到目的节点的传输与交换完全在光域进行,即全部采用光波技术完成信息的传输和交换的宽带网络,可以避免"电子瓶颈"是通信网向宽带、大容量发展的首选方案。

全光通信网络一问世即引起了人们极大的兴趣,很多国家都以关键技术、设备与部件以及材料的研制开发为突破口,通过现场实验来推动其实用化和商用化进程。

回音壁模式光学微腔传感

回音壁模式光学微腔传感

回音壁模式光学微腔传感光学微腔是一种特殊的光学器件,它利用光在内部的反射和干涉,形成一种特殊的光场分布,具有高灵敏度和高分辨率的传感特性。

回音壁模式光学微腔是一种在光学微腔内部形成的特殊模式,具有极高的品质因子和灵敏度,被广泛应用于生物医学、化学分析、环境监测等领域。

本文将介绍回音壁模式光学微腔的基本原理、传感机制和应用前景。

一、回音壁模式光学微腔的基本原理回音壁模式光学微腔是一种基于光在光学微腔内部的反射和干涉形成的特殊模式。

光学微腔是一种具有高品质因子的光学器件,其内部的光场可以在微腔内部反复传播,形成一种特殊的光场分布。

光学微腔一般由两个反射镜和一个介质构成,光在两个反射镜之间反复传播,形成回音壁模式。

回音壁模式的波长和频率受到光学微腔的几何结构、介质折射率和反射镜反射率等因素的影响。

回音壁模式的品质因子Q是衡量光学微腔性能的重要指标,它反映了光在微腔内部的衰减速度,Q值越高,衰减越慢,灵敏度越高。

回音壁模式的品质因子可以达到几万甚至几十万的级别,是其他光学器件难以比拟的。

二、回音壁模式光学微腔的传感机制回音壁模式光学微腔的传感机制基于微腔内部的光场分布和介质的折射率变化。

当微腔内部有介质进入或离开时,微腔内部的光场分布会发生变化,从而导致回音壁模式的波长和频率发生变化。

这种变化可以通过外部的激光光源和光谱分析仪进行测量和分析。

回音壁模式光学微腔的传感机制具有高灵敏度、高分辨率和高选择性的特点,可以用于检测微小的折射率变化和化学物质的浓度变化。

回音壁模式光学微腔的传感机制还可以通过表面修饰和功能化等方法实现对特定分子和生物分子的检测和识别。

三、回音壁模式光学微腔的应用前景回音壁模式光学微腔具有广泛的应用前景,在生物医学、化学分析、环境监测等领域都有着重要的应用。

在生物医学方面,回音壁模式光学微腔可以用于检测生物分子的浓度和识别,例如蛋白质、DNA、细胞等。

在化学分析方面,回音壁模式光学微腔可以用于检测化学物质的浓度和组成,例如气体、液体、药物等。

光学微腔研究进展

光学微腔研究进展

光学微腔研究进展前言基于回音壁模式(Whispering Gallery Mode,简称WGM[1])的光学微腔成为了近年来研究的热点。

首先它作为一种尺寸可与光波长相比拟的光学谐振腔,使得凝聚态中的一些量子电动力学现象得以研究[2];其次作为一种低阈值激光微腔,在集成光学、信息光学等诸多应用领域有很好的应用前景。

目前光学介质微腔的形状也多种多样,主要有微球腔、微盘腔、微环腔、微芯环腔几种。

本文主要总结了近年来国内外光学微腔的一些研究现状及成果,并分析了未来的发展趋势。

一、光学微腔发展背景光通信,顾名思义,即用光作为信息的载体来传递信号。

自从1960年美国科学家梅曼(Maiman)发明了第一台红宝石激光器。

2009年的诺贝尔物理学获得者高琅(Charles K.Kao)和他的同事霍克曼(GA.Hckman)于1966年提出玻璃纤维可传输光信号,并指出通信光纤的要求是每公里衰减小于20分贝(dB)之后。

通信领域进入了一个崭新的时代--光纤通信技术时代。

在光纤通信层出不穷的新技术的推动下,整个通信技术得到了快速的发展。

自DWDM系统首次商用以来,光纤通信的发展速度日益加快。

首先其容量成倍增加。

短短几十年的时间,光纤通信技术得到了迅速的普及和发展,极大地促进了人类社会信息化建设的步伐。

但是随着光纤传输容高,器件尺寸的不断下降,工业上已经很难按照摩尔定律的速度发展了。

传统电信号处理设备面临"电子瓶颈"的限制,这导致了全光网的产生和全光信号处理研究的热潮。

所谓全光通信网络是指信息从源节点到目的节点的传输与交换完全在光域进行,即全部采用光波技术完成信息的传输和交换的宽带网络,可以避免"电子瓶颈"是通信网向宽带、大容量发展的首选方案。

全光通信网络一问世即引起了人们极大的兴趣,很多国家都以关键技术、设备与部件以及材料的研制开发为突破口,通过现场实验来推动其实用化和商用化进程。

研究光学微腔中的光学共振现象

研究光学微腔中的光学共振现象

研究光学微腔中的光学共振现象光学微腔是一种能够在其中储存光子并使其产生共振现象的微型结构。

近年来,光学微腔的研究成为了光学领域的热点之一。

在这篇文章中,我们将探讨光学微腔中的光学共振现象的研究进展以及其在应用中的潜力。

首先,我们来了解一下什么是光学微腔。

光学微腔是一种具有高度反射边界的微型结构,通常由高折射率材料制成,例如二氧化硅或氮化硅。

这种结构能够通过将光子限制在其内部,使其具有长的光学传输路径,并且能够将光子有效地囚禁在其中。

通过调节微腔的尺寸和形状,可以实现不同波长范围内的光子共振。

光学微腔中的光学共振现象是指当入射光频率等于微腔的固有频率时,光子的振荡将得到放大,从而形成共振峰。

这种共振现象类似于弦乐器上的共振,当弦乐器的共振频率与音调匹配时,声音会变得更加响亮。

类似地,当光子的频率与微腔的固有频率匹配时,光强也会得到增强。

这种光学共振现象不仅可以用于增强光的强度,还可以用于增强光与物质的相互作用。

光学微腔中的光学共振现象在光学通信、传感和量子信息等领域有着广泛的应用。

例如,在光学通信中,光学微腔可以用作高速调制器和光放大器,可以实现高速数据传输和光信号处理。

在传感领域,由于光子在微腔中的长传输距离和高增益特性,光学微腔可用于检测微小的物理和化学变化,如生物分子的结合和温度的变化。

在量子信息学中,光学微腔可以作为量子比特和量子存储的载体,用于实现量子计算和量子通信。

光学微腔中的光学共振现象的研究已取得了一系列重要的成果。

目前,国际上已经实现了各种类型的光学微腔,如马氏型光学微腔、球形微腔和光子晶体微腔等。

这些微腔不仅具有高品质因子(Q因子),还能够在不同波长范围内生成共振峰。

通过优化微腔的尺寸和材料,可以实现更高的光子增益和更低的损耗。

此外,近年来,各种新型的光学微腔结构也被提出和研究。

例如,光学陷阱微腔利用光学力将光子限制在微腔中,形成共振现象。

这种结构具有更高的Q因子和更长的光学传输路径,有望在传感和量子信息领域有更广阔的应用前景。

新型氧化硅光学微腔及其应用研究的开题报告

新型氧化硅光学微腔及其应用研究的开题报告

新型氧化硅光学微腔及其应用研究的开题报告一、研究背景光学微腔是一种可以在微米至毫米尺度下锁定光波的微型结构,其高品质因子 (Q-factor) 和能量密度使其在诸多领域有着广泛的应用,例如量子信息、传感、微波光子学和光学振荡器等。

由于其在这些研究领域中的重要性,开发新型的微腔材料和结构成为了至关重要的任务。

氧化硅(SiO2)是一种常见的微腔材料,其具备较高的折射率和光学质量。

然而,现有的氧化硅微腔在Q-factor和微波响应方面仍有瓶颈。

为此,发展新型氧化硅微腔以提高其性能表现成为当前研究的一个主要方向。

二、研究目的本研究旨在开发新型氧化硅光学微腔并对其进行性能分析,以探索其在光通信、微波光子学和量子信息等领域的应用潜力。

具体目标包括:- 设计并制备新型氧化硅微腔结构- 对其光学性质和微波响应进行研究和分析- 探索其在光通信、微波光子学和量子信息等领域的应用潜力三、研究内容和方法(一)研究内容1. 设计氧化硅微腔结构综合相关文献,设计新型氧化硅微腔的结构,包括形状、尺寸、制备工艺等。

2. 制备氧化硅微腔采用物理气相沉积(PECVD)等制备工艺制备氧化硅微腔样品。

3. 实验观测和数据分析利用光谱学、成像学等手段对氧化硅微腔的光学性质和微波响应进行观测和分析,对实验结果进行数据处理和总结。

4. 应用探索和性能验证利用氧化硅微腔的光学和微波特性,探索其在光通信、微波光子学和量子信息等领域的应用潜力,并对其性能进行实验验证。

(二)研究方法1. 设计:综合相关文献,利用计算机辅助设计(CAD)软件进行氧化硅微腔结构的参数设计和优化。

2. 制备:采用物理气相沉积(PECVD)等制备工艺制备氧化硅微腔样品。

3. 实验:利用光谱学、成像学等手段对氧化硅微腔的光学性质和微波响应进行观测和分析,对实验结果进行数据处理和总结。

4. 应用:利用氧化硅微腔在光通信、微波光子学和量子信息等领域的应用潜力,进行性能验证和应用探索。

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》范文

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》范文

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》篇一一、引言随着光学技术的飞速发展,光学微腔作为一种重要的光子器件,在光通信、光子集成电路、量子信息等领域具有广泛的应用前景。

其中,回音壁模式(Whispering Gallery Mode,WGM)光学微腔因具有高Q值、小模式体积、低损耗等优点,受到了研究人员的广泛关注。

本文将介绍高Q值回音壁模式光学微腔的研究与实现,为光学微腔的进一步发展提供理论基础和实践经验。

二、光学微腔基本原理与回音壁模式概述光学微腔是一种用于控制光子运动和传播的微型结构。

其基本原理是通过在微米尺度的空间内形成光子禁闭,使光子在微腔内发生多次反射和干涉,从而实现光子的有效控制和利用。

回音壁模式是光学微腔中的一种特殊模式,其特点是在微腔的边缘处形成稳定的环形光路,使得光子在微腔内进行长时间的传播和循环。

三、高Q值回音壁模式光学微腔的设计与制备高Q值回音壁模式光学微腔的设计与制备是研究的关键环节。

首先,需要根据应用需求和实验条件,选择合适的材料和制备工艺。

目前,常用的制备材料包括二氧化硅、氮化硅等介质材料以及半导体材料等。

其次,需要设计合理的微腔结构,包括微腔的形状、尺寸、折射率等参数。

此外,还需要考虑微腔的表面粗糙度、散射损耗等因素对Q值的影响。

最后,通过精密的制备工艺,将设计好的微腔结构制备出来。

四、高Q值回音壁模式光学微腔的测试与分析制备好的高Q值回音壁模式光学微腔需要进行测试和分析。

首先,需要使用光学测试系统对微腔的光学性能进行测试,包括光谱测试、Q值测试等。

其次,需要对测试结果进行分析和比较,评估微腔的性能和可靠性。

此外,还需要对微腔的稳定性、重复性等性能进行测试和分析。

五、高Q值回音壁模式光学微腔的应用与实现高Q值回音壁模式光学微腔在光通信、光子集成电路、量子信息等领域具有广泛的应用前景。

其中,在光通信领域,可以用于实现高效率的光子传输和光子开关;在光子集成电路中,可以用于实现微型化、集成化的光子器件;在量子信息领域,可以用于实现量子纠缠、量子计算等量子信息处理过程。

光学微腔特性研究及其应用ppt课件

光学微腔特性研究及其应用ppt课件
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光学微腔分类
➢依据工作介质不同 1.有源微腔:“有源”是指腔内的工作介质具有增益,这类微腔在外部光激
励或者电激励的时通过谐振腔的模式选择产生激光出射 2.无源微腔:“无源”指腔内工作介质无增益,这种微腔主要通过微腔的本征 光学模式选择对入射光进行调制,主要应用于信号处理中的滤波器、光开关、 或者传感器等。
普通谐振腔
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光学微腔
光学微腔的研究背景
集成光路包括光波的发射、传输、调制-解调、上载、下载、接收、存储、显 示等一系列的过程。近年来,随着微电子学的薄膜工艺提高,研究者们将微波理 论和激光技术相结合,采用微纳加工技术在各种均匀的光学材料中制备各种波长 尺度的结构来控制光信号的传播或产生新的物理效应,从而创造出新型光子学器 件。微腔型光电子器件正式基于此背景提出的。这类器件具有尺寸小、易于集成、 功耗低以及品质因子高等优点,在信号的发射、处理和传感等方面表现出很大的 前景,例如高性能光源,光存储器、光开关、密集波分复用系统(DWDM)的上下 载滤波器以及生化传感器等。除此之外,由于光学微腔可以在极小的空间内产生 巨大的光强,同时降低了腔内模式数目,影响腔内物质原子的自发福射特性,因 此在揭示物质世界本质的自然科学领域。
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回音壁式微腔制作流程图
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基片准备
第一步包括在基片表面不同成分或者厚度的功能膜层的生成,来得到所需要 的垂直方向结构。膜层的生成可根据选用材料的不同使用不同的膜层生成方式, 例如分子束外延(MBE),化学或物理气相沉积,以及膜层粘接等等。具体如何选 择生成方式与所要得到的微谐振腔结构、材料以及要求的制造精度密切相关。例 如,半导体材料通常要使用几步连续的生长来得到垂直结构,而高分子聚合物层 只需要简单地涂敷在基片上即满足要求。

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》范文

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》范文

《高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现》篇一一、引言随着现代光学技术的飞速发展,光学微腔作为一种重要的光子器件,在光通信、光子集成电路、量子信息处理等领域具有广泛的应用前景。

其中,回音壁模式(Whispering Gallery Mode,简称WGM)光学微腔以其独特的光学特性引起了研究者的广泛关注。

高Q值(Quality Factor)的回音壁模式光学微腔因其能够有效地限制光场在微腔内进行长时间的循环传播,具有高灵敏度、高分辨率等优点,在生物传感、化学检测等领域具有重要应用价值。

本文旨在研究高Q值回音壁模式光学微腔的原理、设计及实现方法。

二、光学微腔的基本原理光学微腔是指具有特定的形状和尺寸的微小空间,能够将光场有效地限制在其中。

而回音壁模式是光学微腔中的一种主要模式,它具有较小的传播损耗和较长的循环传播时间。

在回音壁模式下,光场在微腔内部经过多次反射后仍然能够保持原有的状态,形成一个长时间的驻波。

这种模式的特性使得它非常适合用于光子集成和光学传感等应用。

三、高Q值回音壁模式光学微腔的设计与实现(一)设计原理高Q值回音壁模式光学微腔的设计主要依赖于微腔的形状、尺寸和材料等参数。

设计时需要考虑到微腔的几何形状、表面粗糙度、材料折射率等因素对光场传播的影响。

此外,还需要考虑到微腔的加工工艺和封装技术等因素。

(二)设计方法设计高Q值回音壁模式光学微腔的方法主要包括有限元法(FEM)、时域有限差分法(FDTD)等数值模拟方法。

这些方法可以通过模拟光场在微腔内的传播过程,得到微腔的Q值和模式分布等信息。

同时,还需要考虑到微腔的稳定性、可重复性等因素。

(三)实现方法实现高Q值回音壁模式光学微腔的方法主要包括加工工艺和封装技术等。

加工工艺主要包括激光加工、化学腐蚀等方法,这些方法可以制备出具有特定形状和尺寸的微腔结构。

而封装技术则包括光路设计、光路耦合等技术,用于将微腔与外部光路进行连接,实现光场的输入和输出。

光子晶体光学微腔的制备及光电性能研究

光子晶体光学微腔的制备及光电性能研究

光子晶体光学微腔的制备及光电性能研究第一章:研究背景与意义光子晶体是一种结构规则的介电质材料,具有周期性的电磁场分布,被广泛用于光学等领域的研究。

其中,光子晶体光学微腔是一种高品质因子微腔,其工作原理是利用介电介质中的布拉格反射,将光束限制在空间内,并增强光与物质之间的相互作用。

该技术在微型激光器、光调制器、单光子源和基于量子信息的通信等领域具有很广泛的应用前景。

然而,光子晶体光学微腔的制备与性能研究仍存在较多挑战,因此本文主要从材料的制备、微腔的结构设计和性能测试三个方面对光子晶体光学微腔的制备及光电性能进行综述与探讨。

第二章:光子晶体材料的制备目前,常见的光子晶体材料主要包括有机和无机两种。

对于有机光子晶体材料的制备,主要是采用层层组装的方法,即将带有离子性的聚合物分子或小分子基团通过静电相互作用,一层一层地堆积在基板上,最终形成晶体结构;或者采用柔性自组装技术,通过超分子自组装形成分子基纤维等结构,最后形成晶体结构。

而无机光子晶体材料的制备则主要依靠石墨烯、TiO2等具有对称结构的材料。

例如,可以利用光刻和干法蒸发技术制备具有二维光子晶体结构的TiO2膜;或者采用局部氧化法制备上有元器件的三维光子晶体材料。

第三章:光子晶体光学微腔的结构设计针对不同研究领域和应用需求,光子晶体光学微腔可以采用不同的结构设计。

例如,在微型激光器领域,可以采用具有谐振性的光子晶体微腔,并控制不同的反射面,以调节激光波长和增强能量密度。

在单光子源领域,则需要采用直径较小的微腔结构,以减小能级间隔,实现单光子引发等效振荡。

此外,还可以利用多种工艺手段对光子晶体光学微腔的结构进行改善,如采用微机电加工工艺制备具有微米级高质因子的光子晶体微腔,或者将其与纳米粒子等进行结合,实现多功能性能的拓展等。

第四章:光子晶体光学微腔的性能测试光子晶体光学微腔的性能测试主要涉及微腔的质因子、谐振波长、耦合效率、单光子发射等性能。

其中,微腔的质因子是衡量微腔损耗大小的一个关键参数,质因子越高则代表光子在微腔中传输损耗越小。

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科研实践文献综述
学院物理与信息工程学院
专业应用物理学
学号*********
姓名
指导教师
题目光学微腔的原理及制作研究
光学微腔的原理及制作研究
一、光学微腔发展背景
光学微腔是一种尺寸在微米量级或者亚微米量级的光学谐振腔,它利用在折射率不连续的界面上的反射、全反射、散射或者衍射等效应,将光限制在一个很小的区域。

基于回音壁模式( Whispering Gallery Mode,简称WGM[1])的光学微腔成为了近年来研究的热点。

首先它作为一种尺寸可与光波长相比拟的光学谐振腔,使得凝聚态中的一些量子电动力学现象得以研究[2];其次作为一种低阈值激光微腔,在集成光学、信息光学等诸多应用领域有很好的应用前景。

目前光学介质微腔的形状也多种多样,主要有微球腔[3]、微盘腔[4]、微环腔[5]、微芯环腔[6]几种。

本文主要总结了近年来国内外光学微腔的一些研究现状及成果,并分析了未来的发展趋势。

目前信息与通信技术正以前所未有的速度发展,根据摩尔定
律的预测,大约每18个月处理器的速度和内存的大小就会翻倍,
而且这个速度还将持续十年。

如果光学能够在信息与通信领域发挥重大的作用,无疑它将以飞快的速度发展。

全光信号处理技术,由于不需要进行光-电-光转换,逐渐成为全光网络系统中前景广
阔的领域之一。

对于全光网络设想的实现更需要一些体积更小,结构简单,性能较稳定的光学器件。

光学谐振腔是一个重要的光学器件,它在光通讯器件、光纤传感等领域里得到了广泛的应用,同时也是激光器的重要组成部分。

所以具有高集成度的微纳米光学谐振腔器件必将成为一个研究的热点。

二、光学微腔的常用制备方法
硅基二氧化硅回音壁模式光学微腔具有高品质因子和小模式体积,使得腔内有较高的光场能量密度。

微腔位于硅基之上,与成熟的硅加工工艺相兼容,制作工艺简单,且能够与光纤锥进行高效的耦合,具有可在硅片上单片集成的特点。

基于以上特点,回音壁模式微腔可以广泛应用于光纤通信无源器件、非线性光学、低阈值激光器以及腔量子电动力学方面的研究。

光纤拉锥的基本原理是利用火焰产生高温使得光纤硬度变
小,通过拉伸使光纤的直径变细,通过专门的光纤拉锥机可以容易获得直径大小均匀的超细光纤。

但如果使用自制的拉锥装置则很难获得理想的细光纤,达不到期望的半径大小。

光纤锥是目前耦合效率相对高的近场耦合器件。

与微芯环腔耦合时要得到较高的耦合效率及较低的耦合损耗,光纤锥的锥度及细腰处的直径需要得到良好的控制。

光纤锥的制作通常是熔融拉锥机拉制而成,整体成本很高。

通过制作光纤腐蚀装置,将剥离涂覆层的一小段光纤固定在U型框上,用氢氟酸缓冲溶液作为腐蚀液腐蚀而成。

在光纤一端输入激光,另一端用光功率计测试输出光功率,通过观察光功率的变化来实现对腐蚀情况的监测。

这种方法制得的光纤锥的最高传输效率可达98%,其制作工艺简单、成本低廉、可重复性高。

湿法腐蚀工艺技术是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术;它是在具有高选择比掩蔽膜的保护下对介质膜或半导体材料进行腐蚀而得到所需图案的技术。

湿法腐蚀具有各向同性腐蚀与各向异性腐蚀之分,还有选择性腐蚀与非选择性腐蚀之分。

二氧化硅的湿法腐蚀常用HF、NH4F作为腐蚀液。

三、光学微腔的应用
由于其极高的品质因数、极低的模式体积以及易制备和易操纵性,光学微球腔已经在许多领域得到了初步应用. 这里限于篇幅,只选一例作一简单介绍.
1.腔体量子电动力学中的应用及极低阈值激光器
在腔体量子电动力学中,需要高品质因数和低模式体积的谐振腔,以获得极高的能量密度,从而观测各种量子光学效应,或者实现低阈值的激光发射.以前的多层半导体激光器和光学微介质
盘激发阈值低,但工作于低品质因数的方式下. 而高品质因数的Fabry2Perot 微谐振腔又需要特殊的超高反射膜以及极精确的加工和定位装置,技术上实现较难. 相比之下,WG模式下的光学微球腔既具有高品质因素,又易于制备和操纵,因而是更理想的谐振腔. Norris 等
使用微球腔成功地实现了对球腔表面单分子的激发,揭示了单分子腔体量子电动力学现象.在低阈值的激光发射方面,含有不同掺杂物的
极低阈值的微球腔激光器已由多人实现[13 ,14 ,16 ,17 ] .例
如,1996 年,Sandoghdar 与其合作者实现了吸收抽运功率为
200nW的激光器[14 ] . 图3 是其激光器原理图. 该激光器使用了掺钕离子的二氧化硅介电微球,直径在50μm 至80μm 之间,品质因数为108 数量级.
两个二极管激光器LD1 和LD2 发出的807nm 和1080nm光束,在介电微球内激发出WG模式. 光电二极管PD1 检测被吸收的功率,PD2 检测出钕离子能级跃迁时产生的1060 —1090nm 的激光.
实验中通过逐步增加入射功率来探测该激光器的阈值. 当入射到棱镜面上的抽运功率为1mW,而PD1 检测到的吸收抽运功率为200nW 时,PD2 检测到了激光输出. 由于激光从微球耦合到棱镜的效率仅有5 % ,并且探测路径上的能量损失为90 % ,因此在吸收抽运功率为200nW至800nW时,PD2 检测到激光输出功率为10pW至150pW. 理论计算表明,在该实验参数下,单个WG模式下激发出激光时的吸收抽运功率可以降为2nW,而实验中由于同时激发出60 至80 个模式,因而实测阈值为200nW. 该阈值比传统的钕离子光纤激光器的阈值低三个数量级.而且近一步计算表
明,若将实验温度从室温降低到液氦温度,由于线宽的进一步减小,可以制成无阈值的激光器. 在该激光器中,激光激发仅需要一个钕离子和很少量的几个光子.
他们还通过改变耦合间距来观测激光器阈值与微球腔的品
质因数的关系. 实验结果表明,阈值随Q- 1的增加而线性增长,与理论相符合.
参考文献
[1]Gorodetsky M L et al .Opt.Lett. ,1996 ,21 (7) :453
[2]Ilchenko V S et al m. ,1998,145:86
[3 ] SchillerS,ByerRL.Opt.Lett. ,1991,16 (15):1138
[ 4 ] Braginsky V B et al.Phys.Lett.A. ,1989,137:393
[5] Norris D J et al.Appl. Phys.Lett. ,1997 ,71 (3) :297
[ 6 ] LittleB E et al.J.Lightwave Technol. ,1999 ,17 (4) :704 Ishikawa H et al.Opt.Lett. ,1999 ,24 (10) :643。

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