GaAs太阳电池减反射膜的设计
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2010年第1期漳州师范学院学报(自然科学版)No. 1. 2010年(总第67期) Journal of Zhangzhou Normal University(Nat. Sci.)General No. 67 文章编号:1008-7826(2010)01-0070-04GaAs太阳电池减反射膜的设计黄生荣1,2(1. 厦门大学物理系, 福建厦门361005; 2. 厦门三安电子有限公司, 福建厦门 361005)摘要: 利用实际测量的光谱响应结果来对GaAs单结太阳电池减反射膜进行设计优化. 先初步设计单结GaAs太阳电池SiN减反射膜厚度,然后太阳电池片样品进行光谱响应测量. 利用实际测量的光谱响应结果推算电池样品在AM1.5条件下的无反射时光谱响应,根据计算的结果来对GaAs单结太阳电池减反射膜厚度进行设计优化. 优化结果表明83nm为GaAs单结太阳电池单层减反射膜厚度的最优值.关键词: GaAs ; 太阳电池;减反射膜;光谱响应中图分类号: O472+.8文献标识码: ADesign of Anti-reflection Coating for GaAs Solar CellsHUANG Sheng-rong1,2(1.Department of Physics, Xiamen University, Xiamen, Fujian 361005, China; 2.Xiamen San'an Electronics Co. Ltd, Xiamen,Fujian 361005, China)Abstract:According to the measurement results of spectral response, the anti-reflection coating for GaAs single-junction solar cells is designed. Firstly, the anti-reflection coating of SiN was fabricated but the thickness of anti-reflection coating was not optimized. Then the spectral response of the solar cell sample was measured. The no-reflection spectral response of AM 1.5 condition was calculated using the measurement results of spectral response. According to the calculation results, the optimized thickness of anti-reflection coating was designed.The optimized thickness of anti-reflection coating for GaAs single-junction solar cells is 83nm.Key words: GaAs ; Solar Cell ; anti-reflection ; spectral response1 引言传统的燃料能源正在一天天减少,对环境造成的危害日益突出,全世界都把目光投向了可再生能源,希望可再生能源能够改变人类的能源结构,维持长远的可持续发展. 在这之中太阳能以其独有的优势而成为人们重视的焦点. 丰富的太阳辐射能是重要的能源,是取之不尽、用之不竭的、无污染、廉价、人类能够自由利用的能源,而其中太阳能发电是目前利用太阳能的热点研究领域. 太阳电池是把光能转换为电能的光电子器件. 相对于硅太阳电池,GaAs太阳电池具有更高的光电转换效率、更强的抗辐射能力、更好的耐高温性能,是国际公认的新一代高性能长寿命空间主电源和极具潜力的民间新能源. 为了减少GaAs 太阳电池表面反射损失以提高太阳电池的转换效率,在太阳电池表面窗口层上制备减反射膜是经常采用的方法. 国内外有许多研究机构对太阳电池单层、双层甚至三层减反射膜进行了理论计算和实际的设计应用,明显的提高了太阳电池的转换效率[1-6]. 本文利用实际测量的相对光谱响应结果来对GaAs单结太阳电池减反射膜进行设计优化,用于指导实际的太阳电池制备工艺.虽然单层减反射膜很难实现宽谱域上理想的减反射效果,但是相对双层甚至更多层减反射膜的设计和制备工艺来说,单层减反射膜设计简单、制备工艺稳定;而且通过实际测量单结GaAs太阳电池的相对光收稿日期: 2009-05-20作者简介: 黄生荣(1978-), 男, 江西省上高县人, 博士后, 高级工程师.第1期 黄生荣:GaAs 太阳电池减反射膜的设计 71谱响应,发现单结GaAs 太阳电池光谱响应的光谱较窄,优化设计单层减反射膜基本可以满足需要. 本文通过实际测量的光谱响应从而来对单结太阳电池单层减反射膜进行设计优化,这种方法同样可以适用于太阳电池多层减反射膜的设计优化.2 样品相对光谱响应测量单结GaAs 太阳电池窗口层采用的是GaInP 材料,选用SiN 作为减反射膜的材料,SiN 材料折射率在2左右,其折射率和GaInP 材料折射率平方根接近,致密性好. GaAs 材料禁带宽度约1.43eV ,我们先初步设计SiN 减反射膜厚度90nm ,通过PECVD 沉积,实际测量约92nm. 光谱响应测量光源选用250W 溴钨灯,利用ARC 公司光栅单色仪进行分光. 图1为实际测量样品的光谱响应曲线,纵座标的高度表示不同波长的光在同样光谱辐照度下电流响应的相对大小. 从图中可以看出600nm ~860nm 的波段电流相对响应较大. 考虑到地面实际应用的情况,目前地面一般采用的测量标准是在AM1.5的情况下进行测量,根据实际测量的光谱响应我们取AM1.5条件下350nm ~1000nm 波段范围内光谱辐照度分布如图2所示[7].300400500600700800900100011000.00.20.40.60.81.0S p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)300400500600700800900100020040060080010001200140016001800S p e c t r a l i r r a d i a n c eWavelength(nm)图1 样品实际测量光谱响应 图2 AM1.5光谱辐照度分布(350nm ~1000nm )把实际测量的相对光谱响应和AM1.5条件下不同波长光谱辐照度分布相乘,即可以得到电池样品在AM1.5条件下的响应如图3所示,谱峰的高低反映AM1.5情况下电池在某一波长响应电流相对值的大小,从图中可见560nm ~870nm 之间的电流响应较大.3004005006007008009001000200400600800100012001400R e l a t i v e s p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)40050060070080090010000.000.050.100.150.200.250.30R e f l e c t i v i t yWavelength(nm)图3 样品AM1.5下响应 图4 样品减反射膜反射率随波长变化的情况3 减反射膜优化设计考虑到实际测试的样品已经制备上了减反射膜,进行优化设计时首先要先去除这一部分因素对光谱响应的影响,即希望得到完全无反射时样品的光谱响应. 单层减反射膜的反射率为[8]:72 漳州师范学院学报(自然科学版) 2010年∆+++∆++=cos 21cos 2212221212221R R R R R R R R R (1) 式中:R 1、R 2分别为外界介质——膜和膜——电池窗口上的菲涅尔反射系数;∆为膜层厚度引起的位相角. 其中:n n n n R +−=001 , sisin n n n R +−=2, 0/4λπnd =∆ (2)0n 为空气折射率;n 为SiN 折射率;si n 为GaInP 折射率;d 为减反射膜厚度;0λ为波长. 代入实际数值可以得到测量样品减反射膜反射率随波长变化的情况如图4所示,从600nm ~900nm 波段之间反射率很小.由反射率和测量所得光谱响应曲线可以计算得到样品无反射时光谱响应曲线如图5所示,从图中可以看出550nm ~870nm 波段之间电流响应较大,结合前面计算的单层减反射膜反射率随波长变化的情况,优化设计单层减反射膜基本可以满足需要,而不一定需要制备双层甚至三层的减反射膜.30040050060070080090010000.00.20.40.60.81.0S p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)3004005006007008009001000200400600800100012001400R e l a t i v e s p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)图5 样品无反射时光谱响应 图6 样品AM1.5下无反射时响应同样把无反射时光谱相对响应和AM1.5条件下不同波长光谱辐照度分布相乘,即可以得到电池样品在AM1.5条件下的无反射时的响应如图6所示,从图中可见550nm ~870nm 波段之间的电流响应较大.考虑到实际AM1.5条件下太阳光谱分布、减反射膜反射率和相对光谱响应,则总的各波长电流响应可以表示为:12()[1()]()I Q R S d λλλλλλ=−∫ (3))(λQ 为AM1.5不同波长光谱辐照度,)(λR 为太阳电池对不同波长反射率,)(λS 为太阳电池无反射时光谱响应,21,λλ为太阳电池吸收光谱的上、下限,本文中对于单结GaAs 电池取nm nm 900,35021==λλ.减反射膜厚度主要影响短路电流的变化而对开路电压的影响忽略不计,最佳的减反射膜厚度必须使得相对电流响应最大,即优化的减反射膜必须使得总的相对电流响应I 值最大. 显然AM1.5不同波长光谱辐照度)(λQ 和无反射时相对光谱响应)(λS 在各个波长是确定值,式中的变量是反射率)(λR ,而反射率)(λR 的变化是通过调节减反射膜的厚度来实现的. 考虑到实际制备的工艺条件,计算时厚度变化的间隔第1期 黄生荣:GaAs 太阳电池减反射膜的设计 73为1nm ,结合图4样品减反射膜厚度为92nm 时反射率随波长变化的情况和图6 样品AM1.5下无反射时光谱相对响应的情况,取变化的区间为70nm ~100nm.图7为减反射膜在70nm ~100nm 范围变化时,I 相对值的情况,可得减反射膜厚度为83nm 时,I 值最大,即83nm 为GaAs 单结太阳电池单层减反射膜厚度的最佳值. 通过优化制备的单结GaAs 太阳电池AM1.5条件下光电转换效率约为20.8%.4 讨论和结论本文首先初步设计单结GaAs 太阳电池SiN 减反射膜厚度,制备出太阳电池片. 然后对太阳电池片样品进行相对光谱响应测量. 利用实际测量的相对光谱响应结果推算电池样品在AM1.5条件下的相对光谱响应,进而推算电池样品在AM1.5条件下的无反射时相对光谱响应,根据计算的结果来对GaAs 单结太阳电池减反射膜厚度进行设计优化. 优化结果表明,当减反射膜厚度为83nm 时,AM1.5条件下总的相对电流响应最大,即83nm 为GaAs 单结太阳电池单层减反射膜厚度的最优值.当然首先在计算过程中我们没有考虑减反射厚度条件变化对太阳电池开路电压的影响;其次没有考虑太阳电池窗口层材料和减反射膜材料折射率的色散效应;再次进行理论优化设计时只考虑太阳光垂直入射的情况,因此,我们的优化设计结果和设计最优化值之间存在一定的误差,在实际制备工艺时应该考虑在理论设计最优化厚度值附近进行调整,从而找到最佳的实际厚度值. 本文通过实际测量相对光谱响应来对单结太阳电池单层减反射膜进行设计优化,这种方法同样可以适用于太阳电池多层减反射膜的设计优化.参考文献:[1] 杨文华, 吴鼎祥, 李红波. 空间高效硅太阳电池减反射膜设计与数值分析[J]. 半导体学报, 2004 , 25(9): 1118.[2] 袁海荣, 向贤碧, 常秀兰, 等. Al x Ga 1-x As/ GaAs 太阳电池MgF 2/ZnS 双层减反射膜的研究[J]. 太阳能学报, 2000, 21(4): 371.[3] 王永东, 崔荣强, 徐秀琴. 太阳电池减反射膜系统的研究[J]. 太阳能学报, 2001, 22 (3): 317.[4] Bouhafs D, Moussi A, Chikouche A, et al. Design and simulation of anti-reflection coating systems for optoelect ronicdevices: application to silicon solar cells[J]. Solar Energy Materials and Solar Cells, 1998, 52(1-2): 79.[5] Lee S E ,Chio S W,Yi J. Double-layer anti-reflection coating using MgF 2 and CeO 2 films on a crystalline siliconsubstrate[J].Thin Solid Films, 2000, 376(1-2): 208.[6] Cid M, Stem N, Brunetti C, et al. Improvements in anti-reflection coatings for high efficiency silicon solar cells[J]. Surfaceand Coatings Technology, 1998, 106(2-3): 117.[7] 地面用太阳电池标定的一般规定. 中华人民共和国国家标准, 1987, GB 6497—86. [8] Heavens O S. Optical proper of thin solid films[M]. London, 1965.[责任编辑: 喻玉萍]65707580859095100IThickness of AR (nm)图7 I 相对值随AR 厚度变化。
GaAs基底TiO2,SiO2减反射膜的反射率性能分析

GaAs基底TiO2/SiO2减反射膜的反射率性能分析肖祥江, 涂洁磊(教育部可再生能源材料先进技术与制备重点实验室,云南省农村能源工程重点实验室,云南师范大学太阳能研究所,昆明,云南,650092 中国)摘要:本文设计并制备了适用于砷化镓(GaAs)多结太阳电池的TiO2/SiO2双层减反射膜,通过实测反射谱来验证了理论设计的正确性。
工作中,利用编程分析了TiO2、SiO2单层膜的厚度及其折射率对双层膜系反射率的影响。
结果显示,在短波范围(300nm~600nm),TiO2膜厚对反射率的影响要大于SiO2,而SiO2折射率对反射率的影响比TiO2大;在中波范围(600nm~900nm),随着单层膜的厚度和折射率的增加,双层膜系反射率存在一个最小值,变化趋势是先降低,而随后增加。
同时,计算结果得到SiO2和TiO2的最优物理膜厚分别为78.61nm和50.87nm,此时在短波段中心波长λ1=450nm处最小反射率为0.0034%,在中波段中心波长λ2=750nm处最小反射率为0.495%。
采用电子束蒸发法在GaAs基底上淀积TiO2/SiO2双层膜,厚度分别为78nm和50nm。
实测短波和中波相应的反射率极小值分别为0.37%和2.95%,与理论结果吻合较好。
关键词:薄膜光学;GaAs多结太阳电池;TiO2/SiO2双层减反射膜;电子束蒸发;折射率Analysis of reflectance performance of TiO2/SiO2 antireflection coating on GaAsSubstrateXiao Xiang-jiang , Tu Jie-lei(Education Ministry Key Laboratory of Renewable Energy Advanced Materials and Manufacturing Technology, Yunnan provincial key Laboratory of Renewable Energy Engineering, Solar Energy Research Institute, YunnanNormal University , Kunming Yunnan, 650092 , CHINA)Abstract: TiO2/SiO2double-layer antireflection coatings of GaAs multi-junction solar cells was designed and fabricated in this paper. And the validity of theoretical design was further verified .At work, influence of TiO2 and SiO2 layer thickness and the refractive index on the reflectance of film system was analyzed. The results show film thickness of TiO2is greater than SiO2 on the reflectance in the short wavelength(300nm~600nm),but the refractive of SiO2 is greater than TiO2 on the reflectance.At center wavelength(600nm~900nm), with increase of the single-layer film thickness and refractive index , reflectivity of bilayer system has a minimum, the trend is to reduce and to increase subsequently. Simultaneously, the optimal physical thickness of SiO2 and TiO2 is 78.61nm and 50.87nm respectively by programming calculation. And then the minimum reflectance of 0.0034%is obtained at center wavelength λ1=450nm in the short wavelength and the minimum reflectance of 0.495%is obtained at center wavelength λ2=750nm in the middle wavelength. TiO2/SiO2 double-layer coatings were deposited on GaAs substrate by electron beam evaporation and the physical thickness is 78.61nm and 50.87nm respectively.Practical minimum reflectance is 0.37%at λ1=449nm and 2.65%at λ2=748nm ,which is close to theoretical value.Key words:thin film optics; GaAs multi-junction solar cells;TiO2/SiO2 double-layer anti-reflection coating; electron beam evaporation; refractive index0 引言太阳辐射能是重要的能源,是取之不尽用之不竭的、无污染的、廉价的、人类能够自由利用的能源,基金项目:云南省重点基金项目(2009CC012)、云南省中青年学术技术带头人后备人才(2008PY054)、长江学者和创新团队发展计划资助作者简介:肖祥江(1987-),男,云南省人,硕士。
太阳电池减反射膜设计与分析

第10卷第1期2004年2月上海大学学报(自然科学版)JOURNAL OF SHAN GHAI UN IV ERSIT Y (NA TURAL SCIENCE )Vol.10No.1Feb.2004收稿日期:2003206208 作者简介:杨文华(1979~),男,安徽芜湖人,硕士生,主要从事半导体光电器件方面的研究. 文章编号:100722861(2004)0120039204太阳电池减反射膜设计与分析杨文华1, 李红波2, 吴鼎祥1(1.上海大学理学院,上海200436;2.上海空间电源研究所,上海200233)摘要:根据光学薄膜原理,利用计算机程序对太阳电池减反射膜进行模拟仿真,得到反射率R (λ)与波长λ的关系曲线,并利用曲线对减反射膜进行优化.设计出几种常用材料制备单、双、三层减反射膜时的最佳膜系参数,为太阳电池减反射膜的制备提供理论依据.分析了电池封装和电池表面钝化对反射曲线的影响,并验证了实验结果.关键词:太阳电池;减反射膜;反射率曲线中图分类号:TN 305 文献标识码:ADesign and Analysis of Anti 2R eflection Coating for Solar CellsYAN G Wen 2hua 1, L I Hong 2bo 2, WU Ding 2xiang 1(1.School of Sciences ,Shanghai University ,Shanghai 200436,China ;2.Shanghai S pace Power Institute ,Shanghai 200233,China )Abstract :According to the theory of optical films ,a computer program is developed to simulate the anti 2reflection coatings for solar cells.Reflection curves are obtained using the program.Optimization of several anti 2reflection structures is realized by using the reflection curves.Parameters of single layer ,double layer and three 2layer anti 2reflection coatings are designed.These theoretical parameters can be used to guide experiments.The influence of encapsulation and surface passivation on the reflection curves is discussed ,and theoretical reflection curves have verified the experimental results.K ey w ords :solar cells ;anti 2reflection coatings ;reflection curves 太阳电池是把光能转换为电能的光电子器件.它的光电转换效率定义为总输出功率与入射到太阳电池表面的太阳光总功率的比值.为提高电池的光电转换效率,应减少电池表面光的反射损失,增加光的透射.目前主要采用两种方法[1~4]:(1)将电池表面腐蚀成绒面,增加光在电池表面的入射次数;(2)在电池表面镀一层或多层光学性质匹配的减反射膜.减反射膜的设计直接影响着太阳电池对入射光的反射率,对太阳电池效率的提高起着非常重要的作用.本文将以硅太阳电池为例,根据光学薄膜原理[5],对硅太阳电池减反射膜进行计算机仿真模拟,模拟出反射率R (λ)与波长λ的关系曲线,并利用太阳光谱和硅的光谱响应[6]选定中心波长对曲线进行优化,得到反射最小时的最佳膜系参数,为高效硅太阳电池减反射膜的制备提供了理论上的指导.文中还给了出几种常用的减反射膜材料制备单、双、三层膜时的膜系参数,并对太阳电池封装和太阳电池表面钝化对反射率变化曲线的影响进行了讨论,应用到实际生产中,取得了较好的效果.1 原 理单层减反射膜是利用光在减反射膜的两侧处反射光存在位相差的干涉原理而达到减反射效果,可利用菲涅耳公式求得反射率.对于多层膜系,可以用一个等效界面来表示,只要求得等效导纳Y ,就可以求得膜系的反射率.反射率R 的计算方法如下:已知m 层膜系的各层膜材料的折射率和厚度分别为n k ,d k (k =1,2,……,m ),入射介质和电池基底材料折射率分别为n 0、n m +1,光波入射角θ0,ηk 为光学导纳.第m 层的干涉矩阵为M =7mk =1M k ,其中,M k 为第k 层的干涉矩阵M k =cos δk i (sin δk )/ηki ηk sin δk cos δk,式中,δk =2πn k d k cos θk /λ(k =0,1,……,m )为位相厚度,ηk =ηk /cos θk P 分量,ηk cos θk S 分量, k =0,1,……,m ,而θk 可由下式逐次求出:n 0sin θ0=n k sin θk ,k =1,2,……,m ,m +1,一般,膜系的干涉矩阵是一个2×2的干涉矩阵,M =M 11M 12M 21M 22,令B C=M3 1ηm +1,则等效导纳Y =CB,对波长λ的光整个膜系的反射率为R (λ)=η0-Yη0+Y η0-Yη0+Y. 膜系的反射率R 取决于上面的膜系参数.一般情况下,入射角和入射光光谱分布是已知的,因此膜系的反射率可通过调整层数m 和各层膜的光学厚度n i d i (i =1,2,…,k )来得到最佳的反射率曲线.在设计中,为简化设计的复杂性,作了以下的基本假定:(1)由于硅的吸收系数较小,可忽略消光系数的影响[7];(2)把材料的折射率看作是恒定值,不随波长变化,即忽略材料的色散效应;(3)只考虑了入射光垂直入射到电池表面的情况.由于硅的光谱响应范围为300~1200nm ,所以只考虑波长在300~1200nm 范围的光的减反射.为了使硅能够吸收更多的光子,并将这些光能转换为电能,我们在设计时尽量使有最小反射率的光的波长接近电池材料的光谱响应峰值,同时也要兼顾太阳光的光谱特性.我们考虑了太阳光谱及硅的光谱响应,把550nm 确定为中心波长,欲使反射率最小,就要使在中心波长550nm 附近的光反射率尽可能的小,同时还要兼顾在300~1200nm 范围内其它波长点光的减反射,以使得在此波长范围内光的整体反射率达到最小.2 模拟及实验结果2.1 在空气中反射率的变化曲线以MgF 2(n =1.38)、SiO 2(n =1.46)、Al 2O 3(n =1.9)、TiO 2(n =2.3)材料为例,由计算机仿真得到在空气中的反射率变化曲线(图1~4).由图1可以看出,波长一定时,随着厚度的变化反射率R 也有较大的变化,折射率大的材料的反射率对厚度的变化更敏感,而折射率小的材料对厚度变化的依赖性要小一点.对于不同的材料,都有一个最佳的厚度值,对应着最小的反射率.由图2可以看出,对于单层膜,采用Al 2O 3(n =1.9),厚度d =72nm 时,减反射效果比较好.但仅仅对中心波长附近的光的减反射效果较好,对远离中心波长的光的减反射效果不太理想,不能在电池的光谱响应的最大波长范围内降低反射率.图3为4种双层减反射膜的反射曲线.比较图2、3可以看出,优化后的双层膜在很大的波长范围内都有较小的反射率,在300~1200nm波长范围内,双层膜比单层膜的减反射效果要好.此外,还设计了几种三层膜系(如图4).由图可见,三层减反射膜在较宽波长范围内有较低的反射率,与单层膜相比,三层膜系也有较好的减反射效果.由上图1 单层膜反射率R 随膜厚d 的变化曲线(波长为550nm)Fig.1 R eflection as a function of thickness (single 2layer ,λ=550nm)4 上海大学学报(自然科学版)第10卷 图2 单层膜反射率R 随波长λ的变化曲线Fig.2 R eflection as a function of w avelength(single 2layer)图3 双层膜反射率R 随波长λ变化曲线Fig.3 R eflection as a function of w avelength(double 2layer)图4 三层膜反射率R 随波长λ的变化曲线Fig.4 R eflection as a function of w avelength(three 2layer)图可知,双层膜材料折射率一般要满足n 0<n 1<n 2<n 3(n 0、n 3分别为入射介质折射率、基底折射率,n 1、n 2分别为双层膜材料的折射率)关系时,才会有较好的减射效果.对于三层膜系,与基底相邻的材料的厚度较小时,会取得较好的减反射效果.2.2 封装后的反射率曲线的变化一般情况下,电池都要在封装后使用.封装后,与减反射膜相邻的入射介质为玻璃和减反射膜之间的硅胶(n =1.43),这时反射率曲线将发生变化.这里分别给出了SiO 2/TiO 2双层膜系在电池封装前后的反射率曲线的变化(如图5).显然,封装后SiO 2/TiO 2双层膜的反射曲线和单层膜的反射曲线比较相似,只在中心波长点附近有较低的反射率,不能在整个波长范围内降低反射率,减反射效果不太理想.这是因为第一层膜SiO 2的折射率与入射介质硅胶的折射率相当,这使得该双层膜退化为近似的单层膜.因此,考虑封装后,双层膜的第一层的折射率应远大于硅胶的折射率,第二层的折射率也应该增大,才会有较好的减反射效果.结合现有的减反射膜材料,我们分别采用了MgO (n =1.74)、CeO 2(n =2.4)作为双层膜的顶层和底层材料.考虑封装进行优化,得到了MgO (80nm )/CeO 2(60nm )双层膜系,反射曲线如图5.显然,与SiO 2/TiO 2双层膜相比,优化后的MgO (80nm )/CeO 2(60nm )双层膜反射曲线更为理想,在整个硅的光谱响应范围内有较好的减反射效果.图5 封装前、后双层膜反射率R 随波长λ的变化曲线Fig.5 Comparision of reflections versus w avelength betw eenencapsulation and without encapsulation (double layer)2.3 钝化层对反射率曲线的影响大多数太阳电池都进行表面钝化,在电池基底和减反射膜之间有一层10~20nm 厚的钝化层,因此原先设计的SiO 2/TiO 2双层减反射膜难以达到预14 第1期杨文华,等:太阳电池减反射膜设计与分析 定的减反射效果.针对这一现象,对原来的减反射膜系进行了优化.实验发现,适当降低第二层TiO2厚度时,减反射效果得到改善.表1为经上海空间电源研究所测试的镀膜前、后及考虑钝化层优化后太阳电池电性能的变化.由表1可看出,与镀膜前相比,分别镀上两种参数的减反射膜后,开路电压提高了1.7%,短路电流I SC分别提高了42.1%、45.1%,效率η分别提高了45%、47%.考虑钝化层后设计的膜系与没考虑钝化层设计的膜系相比,电池的短路电流I SC提高了2.1%,效率η提高了1.4%.表1 有钝化层时减反射膜优化前后电池电性能的变化 T ab.1 The performance variations of solar cells withpassivation betw een antireflection coatingsand without antireflection coatingsV OC/mV I SC/mA FFη/%镀膜前6002350.78210.2镀膜后(优化前)6103340.78214.8镀膜后(优化后)6103410.78215.图6 钝化层对反射曲线的影响Fig.6 The influence of passivation on reflection 根据这一实验结果,我们利用计算机程序对有钝化层电池的减反射膜重新进行了理论上的优化设计,可以把双层减反射膜看作是三层膜(钝化层为膜系的第三层)重新进行设计,调整原先的双层膜膜系参数,这与一般的三层膜设计的不同在于第三层膜的参数(折射率n、厚度d)已经确定.设计中,根据所测电池的实际情况,钝化层取为SiO2(n=1.46, d=15nm),故原来的SiO2/TiO2双层膜变为SiO2/ TiO2/SiO2(15nm)三层膜.图6中曲线a为SiO2 (94nm)/TiO2(60nm)双层膜应用在无钝化层的电池上的反射率曲线.对于有钝化层的电池,SiO2 (94nm)/TiO2(60nm)双层膜实际上变为SiO2 (94nm)/TiO2(60nm)/SiO2(15nm)三层膜,此时反射率曲线为曲线b,显然,减反射效果不太理想.于是我们改变了原来的SiO2/TiO2双层膜的参数得到SiO2(94nm)/TiO2(40nm)/SiO2(15nm)三层膜曲线c.由曲线b、c可以看出,当把第二层膜TiO2厚度由60nm降低到40nm时,反射率有所下降.这与实验中的适当降低第二层膜厚度会改善减反射效果的结果一致.3 结 论本文对硅太阳电池减反射膜进行了优化设计.利用计算机对硅太阳电池的减反射膜进行了仿真模拟,根据反射率曲线得到了最佳的减反射膜膜系参数,解决了封装和钝化层对减反射膜的影响.考虑封装后,优化得到MgO(80nm)/CeO2(60nm)双层减反射膜有较好的减反射效果.有钝化层时,把SiO2/ TiO2双层减反射膜看作SiO2/TiO2/SiO2(15nm)三层减反射膜重新进行优化设计,给出了优化的膜系参数,为实验结果提供了理论的依据.此外,本文所设计的程序和减反射膜的优化设计方法,对于其它材料的太阳电池也是适用的.参考文献:[1] Pierre Vcrlinden,et al.The surface texturization of so2lar cells:A new mitled using V2grooves with contro2llable side2wall angles[J].Solar Energy M aterials andSolar Cells,1992,26(1/2):71-78.[2] Zhao J,Green M A.Optimized antireflection coatingsfor high2efficiency silicon solar cells[J].I EEE T ransactions on Elect ron Devices,1991,38(8):1925-1934.[3] Chakravarty B C,Vinod P N,Singh S N.Design andsimulation of antireflection coationg for application tosilicon solar cells[J].Solar Energy M aterials&SolarCells,2002,73(1):59-66.[4] Lee S E,Choi S W,Y i J.Double2layer anti2reflectioncoating using MgF2and CeO2films on a crystallinesilicon substrate[J].Thin Solid Fil ms,2000,376:208-213.[5] 林永昌,卢维强.光学薄膜原理[M].北京:国防工业出版社,1990.35-40.[6] 刘恩科,等.光电池及其应用[M].北京:科学出版社,1989.106-107.[7] 王履芳,陈庭金.半导体太阳电池减反射膜的最佳光学匹配[J].云南师范大学学报,1992,12(2):71-74.(编辑:陈海清)24 上海大学学报(自然科学版)第10卷 。
GaAs太阳电池中减反射薄膜的梯度折射率调控

GaAs太阳电池中减反射薄膜的梯度折射率调控
吴昊;涂洁磊;杨宇羽;谢雨岑;杨艳云;徐章洋;张琪鑫
【期刊名称】《云南师范大学学报(自然科学版)》
【年(卷),期】2024(44)2
【摘要】使用溶胶凝胶法制备了TiO_(2)和SiO_(2)两种材料,结合梯度折射率的结构设计将不同比例的TiO_(2)/SiO_(2)沉积在GaAs太阳能电池上实现宽带减反射效果,最终制备的6层减反射薄膜在200~1 800 nm的波长范围内平均反射率为8.7%,同时确定了300℃的退火温度和1 000μm/s的提拉速度为制备薄膜的最佳工艺条件.
【总页数】5页(P13-17)
【作者】吴昊;涂洁磊;杨宇羽;谢雨岑;杨艳云;徐章洋;张琪鑫
【作者单位】云南师范大学云南省农村能源工程重点实验室;官渡区第一中学【正文语种】中文
【中图分类】O484.41
【相关文献】
1.梯度折射率宽带减反射光伏玻璃研究
2.梯度折射率减反射光伏玻璃的相关研究
3.溶胶-凝胶法制备GaInP/GaAs/Ge三结太阳能电池梯度折射率减反膜
4.硅太阳电池用MgF2/ZnS双层减反射薄膜的制备及表征
5.硅纳米颗粒薄膜对硅太阳电池的减反射作用分析
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一种空间用GaAs太阳电池叠层减反射膜及其制备方法与应用[发明专利]
![一种空间用GaAs太阳电池叠层减反射膜及其制备方法与应用[发明专利]](https://img.taocdn.com/s3/m/a7520e1fba0d4a7303763aa0.png)
专利名称:一种空间用GaAs太阳电池叠层减反射膜及其制备方法与应用
专利类型:发明专利
发明人:李小强,吴立宇,杨立栋,王令姣,屈盛官
申请号:CN202011016178.7
申请日:20200924
公开号:CN112259615A
公开日:
20210122
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种空间用GaAs太阳电池叠层减反射膜及其制备方法与应用。
所述减反射膜由TiO层、SiN层及SiO层多次交替堆叠而成,TiO层、SiN层及SiO层的光学厚度分别为各层对应材料参考波长的0.1~0.25倍;其中TiO层的折射率为2.5~2.7,SiN层的折射率为1.8~2.0,SiO层的折射率为1.4~1.6。
所述减反射膜在宽光谱范围内与太阳光谱有较好的匹配性(300~1400nm范围内平均反射率低至6.71%),同时对GaAs太阳电池表面有较好的钝化作用,减反射效果较常规的减反射膜体系有所提升。
申请人:华南理工大学
地址:510640 广东省广州市天河区五山路381号
国籍:CN
代理机构:广州市华学知识产权代理有限公司
代理人:殷妹
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以自组装纳米球作为 GaAs 太阳电池表面减反射层的制备方法[发明专利]
![以自组装纳米球作为 GaAs 太阳电池表面减反射层的制备方法[发明专利]](https://img.taocdn.com/s3/m/b9f6d29e1711cc7930b716c2.png)
专利名称:以自组装纳米球作为 GaAs 太阳电池表面减反射层的制备方法
专利类型:发明专利
发明人:彭银生,姚明海
申请号:CN201710398025.5
申请日:20170531
公开号:CN107393973A
公开日:
20171124
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明涉及一种以自组装纳米球作为GaAs太阳电池表面减反射层的制备方法,其步骤如下:步骤1:先将苯乙烯单体、聚苯乙烯微珠、十六醇和辛基酚聚氧乙烯(10)按一定比例相混合搅拌之后,再向其中加入适当水继续搅拌,得到混合液;步骤2:将混合液超声后得到细乳液;步骤3:向细乳液中通入氮气数分钟后,再向其中加入过硫酸钾进行聚合反应,制得单分散聚苯乙烯纳米球;步骤4:稀释聚苯乙烯;步骤5:取一GaAs太阳电池所用的外延片,对外延片进行清洗;步骤6:将分散好的溶液滴涂到外延片上,并使其均匀分布在延片上,干燥后获得具有光子晶体结构的纳米球减反射层。
本发明增强了太阳电池对光子的吸收作用,提高了太阳电池的光电转换效率。
申请人:浙江工业大学
地址:310000 浙江省杭州市下城区潮王路18号浙江工业大学科技处
国籍:CN
代理机构:杭州赛科专利代理事务所(普通合伙)
代理人:尹建民
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2010年第1期漳州师范学院学报(自然科学版)No. 1. 2010年(总第67期) Journal of Zhangzhou Normal University(Nat. Sci.)General No. 67 文章编号:1008-7826(2010)01-0070-04GaAs太阳电池减反射膜的设计黄生荣1,2(1. 厦门大学物理系, 福建厦门361005; 2. 厦门三安电子有限公司, 福建厦门 361005)摘要: 利用实际测量的光谱响应结果来对GaAs单结太阳电池减反射膜进行设计优化. 先初步设计单结GaAs太阳电池SiN减反射膜厚度,然后太阳电池片样品进行光谱响应测量. 利用实际测量的光谱响应结果推算电池样品在AM1.5条件下的无反射时光谱响应,根据计算的结果来对GaAs单结太阳电池减反射膜厚度进行设计优化. 优化结果表明83nm为GaAs单结太阳电池单层减反射膜厚度的最优值.关键词: GaAs ; 太阳电池;减反射膜;光谱响应中图分类号: O472+.8文献标识码: ADesign of Anti-reflection Coating for GaAs Solar CellsHUANG Sheng-rong1,2(1.Department of Physics, Xiamen University, Xiamen, Fujian 361005, China; 2.Xiamen San'an Electronics Co. Ltd, Xiamen,Fujian 361005, China)Abstract:According to the measurement results of spectral response, the anti-reflection coating for GaAs single-junction solar cells is designed. Firstly, the anti-reflection coating of SiN was fabricated but the thickness of anti-reflection coating was not optimized. Then the spectral response of the solar cell sample was measured. The no-reflection spectral response of AM 1.5 condition was calculated using the measurement results of spectral response. According to the calculation results, the optimized thickness of anti-reflection coating was designed.The optimized thickness of anti-reflection coating for GaAs single-junction solar cells is 83nm.Key words: GaAs ; Solar Cell ; anti-reflection ; spectral response1 引言传统的燃料能源正在一天天减少,对环境造成的危害日益突出,全世界都把目光投向了可再生能源,希望可再生能源能够改变人类的能源结构,维持长远的可持续发展. 在这之中太阳能以其独有的优势而成为人们重视的焦点. 丰富的太阳辐射能是重要的能源,是取之不尽、用之不竭的、无污染、廉价、人类能够自由利用的能源,而其中太阳能发电是目前利用太阳能的热点研究领域. 太阳电池是把光能转换为电能的光电子器件. 相对于硅太阳电池,GaAs太阳电池具有更高的光电转换效率、更强的抗辐射能力、更好的耐高温性能,是国际公认的新一代高性能长寿命空间主电源和极具潜力的民间新能源. 为了减少GaAs 太阳电池表面反射损失以提高太阳电池的转换效率,在太阳电池表面窗口层上制备减反射膜是经常采用的方法. 国内外有许多研究机构对太阳电池单层、双层甚至三层减反射膜进行了理论计算和实际的设计应用,明显的提高了太阳电池的转换效率[1-6]. 本文利用实际测量的相对光谱响应结果来对GaAs单结太阳电池减反射膜进行设计优化,用于指导实际的太阳电池制备工艺.虽然单层减反射膜很难实现宽谱域上理想的减反射效果,但是相对双层甚至更多层减反射膜的设计和制备工艺来说,单层减反射膜设计简单、制备工艺稳定;而且通过实际测量单结GaAs太阳电池的相对光收稿日期: 2009-05-20作者简介: 黄生荣(1978-), 男, 江西省上高县人, 博士后, 高级工程师.第1期 黄生荣:GaAs 太阳电池减反射膜的设计 71谱响应,发现单结GaAs 太阳电池光谱响应的光谱较窄,优化设计单层减反射膜基本可以满足需要. 本文通过实际测量的光谱响应从而来对单结太阳电池单层减反射膜进行设计优化,这种方法同样可以适用于太阳电池多层减反射膜的设计优化.2 样品相对光谱响应测量单结GaAs 太阳电池窗口层采用的是GaInP 材料,选用SiN 作为减反射膜的材料,SiN 材料折射率在2左右,其折射率和GaInP 材料折射率平方根接近,致密性好. GaAs 材料禁带宽度约1.43eV ,我们先初步设计SiN 减反射膜厚度90nm ,通过PECVD 沉积,实际测量约92nm. 光谱响应测量光源选用250W 溴钨灯,利用ARC 公司光栅单色仪进行分光. 图1为实际测量样品的光谱响应曲线,纵座标的高度表示不同波长的光在同样光谱辐照度下电流响应的相对大小. 从图中可以看出600nm ~860nm 的波段电流相对响应较大. 考虑到地面实际应用的情况,目前地面一般采用的测量标准是在AM1.5的情况下进行测量,根据实际测量的光谱响应我们取AM1.5条件下350nm ~1000nm 波段范围内光谱辐照度分布如图2所示[7].300400500600700800900100011000.00.20.40.60.81.0S p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)300400500600700800900100020040060080010001200140016001800S p e c t r a l i r r a d i a n c eWavelength(nm)图1 样品实际测量光谱响应 图2 AM1.5光谱辐照度分布(350nm ~1000nm )把实际测量的相对光谱响应和AM1.5条件下不同波长光谱辐照度分布相乘,即可以得到电池样品在AM1.5条件下的响应如图3所示,谱峰的高低反映AM1.5情况下电池在某一波长响应电流相对值的大小,从图中可见560nm ~870nm 之间的电流响应较大.3004005006007008009001000200400600800100012001400R e l a t i v e s p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)40050060070080090010000.000.050.100.150.200.250.30R e f l e c t i v i t yWavelength(nm)图3 样品AM1.5下响应 图4 样品减反射膜反射率随波长变化的情况3 减反射膜优化设计考虑到实际测试的样品已经制备上了减反射膜,进行优化设计时首先要先去除这一部分因素对光谱响应的影响,即希望得到完全无反射时样品的光谱响应. 单层减反射膜的反射率为[8]:72 漳州师范学院学报(自然科学版) 2010年∆+++∆++=cos 21cos 2212221212221R R R R R R R R R (1) 式中:R 1、R 2分别为外界介质——膜和膜——电池窗口上的菲涅尔反射系数;∆为膜层厚度引起的位相角. 其中:n n n n R +−=001 , sisin n n n R +−=2, 0/4λπnd =∆ (2)0n 为空气折射率;n 为SiN 折射率;si n 为GaInP 折射率;d 为减反射膜厚度;0λ为波长. 代入实际数值可以得到测量样品减反射膜反射率随波长变化的情况如图4所示,从600nm ~900nm 波段之间反射率很小.由反射率和测量所得光谱响应曲线可以计算得到样品无反射时光谱响应曲线如图5所示,从图中可以看出550nm ~870nm 波段之间电流响应较大,结合前面计算的单层减反射膜反射率随波长变化的情况,优化设计单层减反射膜基本可以满足需要,而不一定需要制备双层甚至三层的减反射膜.30040050060070080090010000.00.20.40.60.81.0S p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)3004005006007008009001000200400600800100012001400R e l a t i v e s p e c t r a l r e s p o n s eWavelength(nm)图5 样品无反射时光谱响应 图6 样品AM1.5下无反射时响应同样把无反射时光谱相对响应和AM1.5条件下不同波长光谱辐照度分布相乘,即可以得到电池样品在AM1.5条件下的无反射时的响应如图6所示,从图中可见550nm ~870nm 波段之间的电流响应较大.考虑到实际AM1.5条件下太阳光谱分布、减反射膜反射率和相对光谱响应,则总的各波长电流响应可以表示为:12()[1()]()I Q R S d λλλλλλ=−∫ (3))(λQ 为AM1.5不同波长光谱辐照度,)(λR 为太阳电池对不同波长反射率,)(λS 为太阳电池无反射时光谱响应,21,λλ为太阳电池吸收光谱的上、下限,本文中对于单结GaAs 电池取nm nm 900,35021==λλ.减反射膜厚度主要影响短路电流的变化而对开路电压的影响忽略不计,最佳的减反射膜厚度必须使得相对电流响应最大,即优化的减反射膜必须使得总的相对电流响应I 值最大. 显然AM1.5不同波长光谱辐照度)(λQ 和无反射时相对光谱响应)(λS 在各个波长是确定值,式中的变量是反射率)(λR ,而反射率)(λR 的变化是通过调节减反射膜的厚度来实现的. 考虑到实际制备的工艺条件,计算时厚度变化的间隔第1期 黄生荣:GaAs 太阳电池减反射膜的设计 73为1nm ,结合图4样品减反射膜厚度为92nm 时反射率随波长变化的情况和图6 样品AM1.5下无反射时光谱相对响应的情况,取变化的区间为70nm ~100nm.图7为减反射膜在70nm ~100nm 范围变化时,I 相对值的情况,可得减反射膜厚度为83nm 时,I 值最大,即83nm 为GaAs 单结太阳电池单层减反射膜厚度的最佳值. 通过优化制备的单结GaAs 太阳电池AM1.5条件下光电转换效率约为20.8%.4 讨论和结论本文首先初步设计单结GaAs 太阳电池SiN 减反射膜厚度,制备出太阳电池片. 然后对太阳电池片样品进行相对光谱响应测量. 利用实际测量的相对光谱响应结果推算电池样品在AM1.5条件下的相对光谱响应,进而推算电池样品在AM1.5条件下的无反射时相对光谱响应,根据计算的结果来对GaAs 单结太阳电池减反射膜厚度进行设计优化. 优化结果表明,当减反射膜厚度为83nm 时,AM1.5条件下总的相对电流响应最大,即83nm 为GaAs 单结太阳电池单层减反射膜厚度的最优值.当然首先在计算过程中我们没有考虑减反射厚度条件变化对太阳电池开路电压的影响;其次没有考虑太阳电池窗口层材料和减反射膜材料折射率的色散效应;再次进行理论优化设计时只考虑太阳光垂直入射的情况,因此,我们的优化设计结果和设计最优化值之间存在一定的误差,在实际制备工艺时应该考虑在理论设计最优化厚度值附近进行调整,从而找到最佳的实际厚度值. 本文通过实际测量相对光谱响应来对单结太阳电池单层减反射膜进行设计优化,这种方法同样可以适用于太阳电池多层减反射膜的设计优化.参考文献:[1] 杨文华, 吴鼎祥, 李红波. 空间高效硅太阳电池减反射膜设计与数值分析[J]. 半导体学报, 2004 , 25(9): 1118.[2] 袁海荣, 向贤碧, 常秀兰, 等. Al x Ga 1-x As/ GaAs 太阳电池MgF 2/ZnS 双层减反射膜的研究[J]. 太阳能学报, 2000, 21(4): 371.[3] 王永东, 崔荣强, 徐秀琴. 太阳电池减反射膜系统的研究[J]. 太阳能学报, 2001, 22 (3): 317.[4] Bouhafs D, Moussi A, Chikouche A, et al. Design and simulation of anti-reflection coating systems for optoelect ronicdevices: application to silicon solar cells[J]. Solar Energy Materials and Solar Cells, 1998, 52(1-2): 79.[5] Lee S E ,Chio S W,Yi J. Double-layer anti-reflection coating using MgF 2 and CeO 2 films on a crystalline siliconsubstrate[J].Thin Solid Films, 2000, 376(1-2): 208.[6] Cid M, Stem N, Brunetti C, et al. Improvements in anti-reflection coatings for high efficiency silicon solar cells[J]. Surfaceand Coatings Technology, 1998, 106(2-3): 117.[7] 地面用太阳电池标定的一般规定. 中华人民共和国国家标准, 1987, GB 6497—86. [8] Heavens O S. Optical proper of thin solid films[M]. London, 1965.[责任编辑: 喻玉萍]65707580859095100IThickness of AR (nm)图7 I 相对值随AR 厚度变化。