850 nm窄带低通滤光片性能指标管控
850nm-1W芯片规格书
电话：0311-83933091
传真：0311-83933092-802
中国电子科技集团公司第十三研究所
850nm-1W 半导体激光二极管芯片
1、产品特点 精确波长控制 低阈值电流 高可靠腔面镀膜
2、应用方向 泵浦 Nd:YAG 固体激光器 红外照明
3、极限参数
芯片照片
参数
符号 范围
工作温度范围
T
-15～+40
存储温度范围
Tst
-55～+125
最大输出功率
Pmax
1200
Type. 80 500 1200 120
Max. 85 525 1210 130
单位 μm μm μm μm
地址：河北省石家庄市鹿泉开发区昌盛大街 21 号
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中国电子科技集团公司第十三研究所
芯片外形结构示意图（单位：μm）
6、典型测试曲线
最大正向电流*
IF
1500
*超过最大正向电流将可能导致芯片烧毁。
单位 ℃ ℃ mW mA
4、光电参数
参数 输出功率 工作波长** 光谱半宽 阈值电流 工作电流 工作电压 快轴发散角(FWHM) 慢轴发散角(FWHM)
符号 Pop λ FWHM Ith Iop Vop θ⊥ θ∥
Min. — 830 — — — — — —
7、使用注意事项和说明 （1）对芯片的任何机械损伤及沾污可能造成芯片性能下降甚至 失效。 （2）工作波长与封装热阻、环境温度以及注入电流有关。 （3）激光对人眼可能造成伤害，测试及应用本产品请参阅相关 安全标准和法规。 （4）本规格书版本 2013-7，如有更改不另行通知。
850nm光缆参数
850nm光缆参数1.引言1.1 概述本文将介绍850nm光缆参数的相关内容。
随着信息技术的快速发展，光纤通信技术已广泛应用于各个领域，并逐渐成为主流传输介质。
在光纤通信中，光缆是不可或缺的组成部分之一。
光缆参数是评估光缆性能和适用范围的重要指标，能够直接影响光信号的传输质量和距离。
本文将重点讨论850nm光缆参数，因为850nm 波长是目前常用的多模光纤通信中最常见的波长。
在850nm光缆参数中，主要包括衰减、带宽和模式耦合等指标。
衰减是衡量光信号强度衰减程度的参数，其低值表示光信号的传输损耗小，传输距离更远。
带宽表示传输信号的频带宽度，是确定光缆传输能力的重要参数。
模式耦合是指光纤中的多个传输模式之间的耦合损耗，它会导致信号失真和传输距离的限制。
光缆参数的优劣直接影响到光信号的传输性能和系统稳定性。
在选择850nm光缆时，需要根据具体应用需求和系统性能要求，对光缆参数进行综合评估。
同时，合理设计光缆的布线和连接，可以有效提高光信号的传输质量和可靠性。
总之，本文将详细介绍850nm光缆参数的相关内容，包括衰减、带宽和模式耦合等指标，并从实际应用的角度出发，探讨其在光纤通信中的重要性和应用前景。
通过深入了解光缆参数，读者将能更好地选择和应用850nm光缆，提高光信号的传输质量和可靠性。
1.2文章结构文章结构是指文章的整体组织架构。
在本文中，我们将从引言、正文和结论三个主要部分来构建我们的850nm光缆参数文章。
引言部分是文章的开端，它提供了一个概述，说明了文章涉及的主要内容。
在此部分，我们将简要介绍850nm光缆的基本知识和应用领域。
接下来，我们将描述本文的组织结构，即各个章节的内容和安排。
最后，我们明确阐明本文的目的，即在整个文章中要解决的问题和展开的主题。
正文部分是文章的核心，我们将在这里详细分析850nm光缆的参数。
在2.1光缆参数1一节中，我们将介绍850nm光缆的一些重要参数，例如传输速率、带宽、损耗等。
850nm带通滤光片
850nm带通滤光片
850nm 带通滤光片优点
1）适用于有太阳光等强光干扰下工作；
2）透过率最高达90％以上，光信号衰减率小，有效提升工作距离和光强度；
3）可直接在可见光截止红外透过玻璃上镀膜或胶合，迅速提高截止率高，垂直入射时在强红外灯下无穿透现象，透光率小于0.2%。
并且确保在大角度下工作，波长短移现象减弱。
4）10多年的光学滤光片生产经验，进口镀膜机制作，IAD离子辅助镀膜技术，确保低温飘，膜层牢固度更强。
850nm 带通滤光片规格
BP850 FWHM=60nm
CWL：850nm±15nm
FWHM：60nm ±10nm
Tpeak：>85%
Blocking：Tmax<3%,Tave<1% @400-790 & 910-1100nm
Surface：80/50
Substrate：Float glass,B270
Circle：φ6.5-φ64mm
Square：3×3-55×55mm
Thickness：0.55-5mm
850nm 带通滤光片光谱曲线。
850nm标准光源
850nm标准光源是一种用于照明和颜色评估的重要工具，它能够提供稳定、可靠的光源，以确保在850nm波长下进行准确的颜色比较和评估。
在使用850nm标准光源时，我们需要了解其特点和用途，并掌握正确的使用方法和注意事项。
以下是对850nm标准光源的详细介绍和使用说明。
一、特点与用途850nm标准光源的特点在于其波长准确、稳定性高，能够为颜色评估提供可靠的环境。
它的用途广泛，包括但不限于：1. 用于化妆品、食品、玩具、纺织品、纸张等行业的颜色评估，以确保在850nm波长下颜色的一致性和准确性。
2. 在光学测量和颜色编码应用中使用，如机器视觉、扫描仪、色度计等设备的校准和验证。
3. 用于实验室和研究机构中的颜色分析和标准化工作，以确保在不同条件下颜色评估的可靠性和可比性。
二、使用方法在使用850nm标准光源时，我们需要按照以下步骤进行操作：1. 打开光源：打开850nm标准光源前，请先确认电源是否已经接通。
确认后，按下开关即可打开光源。
2. 调整色温：850nm标准光源提供了多种色温选择，可以根据需要进行调整。
一般来说，我们使用默认的“标准”色温即可。
3. 使用比色板：在使用850nm标准光源进行颜色评估时，建议使用厂家提供的比色板或标准色板。
这些比色板包含了各种颜色的样本，可以帮助我们进行颜色对比和评估。
4. 观察颜色：使用850nm标准光源进行颜色评估时，需要观察样本在光源下的颜色表现。
如果发现样本与比色板上的颜色有明显差异，可以调整光源的色温或进行其他必要的调整。
5. 关闭光源：完成颜色评估后，关闭850nm标准光源即可。
注意不要随意触碰或移动光源，以免影响其稳定性和准确性。
三、注意事项在使用850nm标准光源时，我们需要特别注意以下几点：1. 避免强烈的光线直射眼睛，以免对眼睛造成伤害。
在进行颜色评估时，请佩戴护目镜或其他防护设备。
2. 使用过程中，请保持环境整洁，避免灰尘和杂质对光源的污染和损坏。
窄带滤光片在人脸识别中的应用
窄带滤光片在人脸识别中的应用上海兆九光电技术汤兆胜博士人脸识别技术是对人的脸部特征信息进展识别，它是一种生物识别技术。
用图像采集装置采集含有人脸的图像或视频流，并根据图像自动检测和跟踪人脸，并对人脸进展特征定位、提取，通过比对辨识到达识别不同人身份的目的。
人脸识别的运算是非常宏大的，而初始图像质量的好坏以及算法优劣对识别效率有决定性的影响。
这里，我们主要针对人脸识别系统中的图像采集装置所用到的窄带滤光片进展分析，目的是帮助使用者更好地理解窄带滤光片的作用和使用方法，以便正确选择窄带滤光片的技术指标。
由于人脸识别的计算量很大，目前都是基于黑白灰度图像进展识别的。
其图像采集的构造示意图如图1所示。
图1人脸识别图像采集示意图1.光源特点人脸识别的图像采集装置中，光源一般采用高功率的红外二极管，波长以850nm和940nm居多。
为进步识别效率以及进步光的利用率，从光源选择开始就要考虑到整体设计。
虽然市面上购置的LED标称值都是850nm或940nm，但在测量详细的LED产品中心波长时发现还是有不少偏向的。
以850nm的LED为例，其实际中心波长有835nm的，也有865nm的。
由于人脸识别系统中采用的光源为多颗大功率LED阵列，假设各个LED的中心波长不一致，所有LED的光谱在叠加之后，综合的光谱带宽会展宽。
单个850nm的LED带宽在50nm左右，假设由于中心波长不一致，多个LED叠加后的光谱带宽将会变成很宽。
这对后续的窄带滤光片带宽的选择、能量利用率以及信噪比的进步都是非常不利的。
所以要求在选择LED光源时，中心波长要一致。
另外，LED光源随着工作温度的升高，其中心波长是向长波漂移的，每升高10℃，LED的中心波长向长波漂移1nm左右。
而且随着工作温度的升高，LED的发光效率快速下降，当升高到85℃左右时，LED的输出效率降到50%左右。
因此要求LED光源的散热效果良好。
还有，在选择LED发光管的发散角时，以较小的发散角为好，这样可以进步光源的能量利用率。
滤光片的技术详解和应用参数
什么是OLPF光学低通滤光片OLPF全名是Optical lowpass filter,即光学低通滤光片，主要工作用来过滤输入光线中不同频率波长光讯号，以传送至CCD，并且避免不同频率讯号干扰到CCD对色彩的判读。
OLPF对于假色（false colors）的控制上有显著的影响，假色的产生主要来自于密接条纹、栅栏或是同心圆等主体影像，色彩相近却不相同，当光线穿过镜头抵达CCD时，由于分色马赛克滤光片仅能分辨25%的红与蓝色以及50%的绿色，再经由色彩处理引擎运用数据差值运算整合为完整的影像。
因为先天上色彩资料短缺，CCD根本无法判断密接条纹相邻色彩的参数，终于导致引擎判断错误输出错误的颜色。
由于细条纹的方向不同，需用相对应角度的光学低通滤波晶片加以消除，又因为不同型号的CCD摄像机与 CMOS图象传感器在规格上有些差异，为针对不同的型号及同时兼顾不同方向所产生的干扰杂音，需用不同厚度、片数、角度组合的OLPF的设计，以提高取象品质。
IR-CUT双滤光片切换的作用IR-CUT双滤光片的使用可以有效解决双峰滤光片产生问题。
IR-CUT双滤光片由一个红外截止滤光片和一个全光谱光学玻璃构成，当白天的光线充分时红外截止滤光片工作，CCD还原出真实彩色，当夜间光线不足时，红外截止滤光片自动移开，全光谱光学玻璃开始工作，使CCD充分利用到所有光线，从而大大提高了低照性能。
IR CUT双滤光片专为CCD摄影机修正偏色、失焦的问题，促使撷取影像画面不失焦、不偏色,红外夜视更通透，解决红外一体机，日夜图像偏色影响，能够过滤强光让画面色彩纯美更柔和、达到人眼视觉色彩一致。
普通日夜型摄象机使用能透过一定比例红外光线的双峰滤片，其优点是成本低廉，但由于自然光线中含有较多的红外成份，当其进入CCD后会干扰色彩还原，比如绿色植物变得灰白，红色衣服变成灰绿色等等（有阳光室外环境尤其明显）。
深圳纳宏光电技术有限公司是一家专业生产精密光学滤光片的厂家。
滤波器主要参数与特性指标-滤波器的主要性能参数
资料范本本资料为word版本，可以直接编辑和打印，感谢您的下载滤波器主要参数与特性指标-滤波器的主要性能参数地点：__________________时间：__________________说明：本资料适用于约定双方经过谈判，协商而共同承认，共同遵守的责任与义务，仅供参考，文档可直接下载或修改，不需要的部分可直接删除，使用时请详细阅读内容滤波器的主要参数（Definitions）：中心频率（Center Frequency）：滤波器通带的频率f0，一般取f0=（f1+f2）/2，f1、f2为带通或带阻滤波器左、右相对下降1dB或3dB边频点。
窄带滤波器常以插损最小点为中心频率计算通带带宽。
截止频率（Cutoff Frequency）：指低通滤波器的通带右边频点及高通滤波器的通带左边频点。
通常以1dB或3dB相对损耗点来标准定义。
相对损耗的参考基准为：低通以DC处插损为基准，高通则以未出现寄生阻带的足够高通带频率处插损为基准。
通带带宽（BWxdB）：指需要通过的频谱宽度，BWxdB=（f2-f1）。
f1、f2为以中心频率f0处插入损耗为基准，下降X（dB）处对应的左、右边频点。
通常用X=3、1、0.5 即BW3dB、BW1dB、BW0.5dB 表征滤波器通带带宽参数。
分数带宽（fractional bandwidth）=BW3dB/f0×100[%]，也常用来表征滤波器通带带宽。
插入损耗（Insertion Loss）：由于滤波器的引入对电路中原有信号带来的衰耗，以中心或截止频率处损耗表征，如要求全带内插损需强调。
纹波（Ripple）：指1dB或3dB带宽（截止频率）范围内，插损随频率在损耗均值曲线基础上波动的峰-峰值。
带内波动（Passband Riplpe）：通带内插入损耗随频率的变化量。
1dB带宽内的带内波动是1dB。
带内驻波比（VSWR）：衡量滤波器通带内信号是否良好匹配传输的一项重要指标。
高清成像用光学低通滤波片标准
高清成像用光学低通滤波片1 范围本标准规定了高清成像用光学低通滤波片的术语和定义、产品结构、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和质量承诺。
本标准适用于单反相机、工业相机、摄像机等高清成像设备用光学低通滤波片(以下简称“滤波片”)。
2 规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。
凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。
凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB/T 191 包装储运图示标志GB/T 1185 光学零件表面疵病GB/T 2423.1 电工电子产品环境试验第2部分：试验方法试验A：低温GB/T 2423.2 电工电子产品环境试验第2部分：试验方法试验B：高温GB/T 2423.3 环境试验第2部分：试验方法试验Cab：恒定湿热试验GB/T 2423.22 环境试验第2部分：试验方法试验N：温度变化GB/T 2423.24 环境试验第2部分：试验方法试验Sa：模拟地面上的太阳辐射及其试验导则GB/T 2828.1 计数抽样检验程序第1部分：按接收质量限（AQL）检索的逐批检验抽样计划GB/T 2831 光学零件的面形偏差GB/T 7896 人造光学石英晶体试验方法GB/T 11164 真空镀膜设备通用技术条件GB/T 15488 光学玻璃GB/T 15489.1 光学玻璃测试方法光学性能GB/T 19142 出口商品包装通则GB/T 28786 真空技术真空镀膜层结合强度测量方法胶带粘贴法GB/T 32988 人造石英光学低通滤波器晶片GB 50472 电子工业洁净厂房设计规范JB/T 8226.1 光学零件镀膜减反射膜JB/T 8226.8 光学零件镀膜截止滤光膜3 术语和定义GB/T 1185和GB/T 32988界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1反射膜anti-reflectance coating为降低表面反射率、提高光的透过率，在滤波片表面所镀的光学薄膜。
940 nm窄带低通滤光片性能指标管控
客户指标940 nm窄带低通滤光片性能指标管控940nm窄带内部管控指标1）原材料：HWB830黑玻璃，直径8.0mm公差要求-0.1mm，厚度：3.5mm公差要求+/-0.1mm表面质量：双面抛光，抛光面光洁度达到60-40以上最好是40-20标准，无肉眼可视砂眼，划伤，印渍，侧面无抛光印渍，崩边小于0.1mm,倒边小于0.2mm光谱质量：300nm~800nm T<0.1%, 850nm T>70%, 880nm~1100nm T>85%,重点是中心波长管控T=50%处要求在827nm~836nm之间。
2）浮法玻璃：0.55mm，最好采用白板0.5mm的玻璃，玻璃公差在+/-0.05mm之间3）S1面940窄带镀膜管控标准：镀膜后冷却1小时测量，中心波长在931nm~938nm之间，峰值透过大于83~92%之间，且在中心波长+/-5nm附近（即10nm）左边与右边波长所对应的透过率的波纹误差值应在6%以内（这样可确保胶合后产品光谱不变形）,假如中心波长为936nm,左边930nm处T=80%,右边942nm 处T=90%，当黑玻璃与膜面胶合后，930nmT=66%左右，942nmT=85%左右，这样940nm处的透过率即有可能跑到75%以下，只要波长有一点变化就会不合格，透过率越高衰减比率越小。
（产生这种现象主要是原因是：镀膜膜系设计时入射介质是玻璃折射率为1.518,出射介质是空气ns=1.0，当膜面与黑玻璃胶合后，胶的折射率约为1.38~1.51之间，即入射与出射介质都将成为Ns=1.51左右。
其结构下的光谱曲线就完全不一样。
因此要求镀膜做这款产品时的膜系结构每次调整幅度不能太大，若变化太大也会影响透过比率的变化。
品保在遇到胶合产品，特别是多片胶合产品过程要记住，但金属膜如镀铬的衰减片是影响不大。
胶合前也可让镀膜人员先进行模拟该膜系的等效折射率，以确认将胶合产品的透过率）4）若发现镀膜做出来的产品透过率很平，但透过率都只有在80%-85,这时需要考虑玻璃面与玻璃面胶合。
窄带滤光片指标
窄带滤光片是一种光学元件，它允许特定波长范围内的光通过，而阻止其他波长的光。
这种滤光片通常用于光谱分析、激光应用、光纤通信、医疗诊断和其他需要精确控制光波长的场合。
窄带滤光片的指标包括以下几个方面：1. 中心波长（Central Wavelength, CWL）：- 这是滤光片透过率最高的波长。
窄带滤光片的中心波长通常非常精确，可以在很小的范围内调整。
2. 透过带宽度（Bandwidth）：- 这是指滤光片允许通过的光波长范围，通常以全宽半高（Full Width Half Maximum, FWHM）来表示。
窄带滤光片的带宽很窄，通常在几纳米到几十纳米之间。
3. 透过率（Transmittance）：- 这是滤光片对特定波长光的传输效率。
理想的窄带滤光片在中心波长附近的透过率非常高，通常可以达到90%以上。
4. 截止深度（Blocking）：- 这是滤光片阻止非透过带光的能力。
窄带滤光片的截止深度通常很高，可以达到OD6（光学密度6）或更高，这意味着它能够非常有效地阻止非目标波长的光。
5. 波前质量（Wavefront Quality）：- 这是指滤光片输出光的波前形状。
高质量的窄带滤光片应该产生尽量平滑的波前，以减少光学系统的像差。
6. 偏振依赖性（Polarization Dependence）：- 某些滤光片可能会对光的偏振状态有特定的要求，这可能会影响其性能。
7. 环境稳定性（Environmental Stability）：- 滤光片在不同温度、湿度和压力条件下的性能稳定性。
对于窄带滤光片，环境稳定性通常非常重要，因为它们用于精确的光学应用。
8. 机械稳定性（Mechanical Stability）：- 滤光片在物理安装和操作中的稳定性，包括其对温度变化的抵抗能力。
9. 抗反射涂层（Anti-Reflection Coatings）：- 为了减少滤光片表面的反射损失，通常会在其表面涂覆抗反射涂层。
850窄带滤光片温度漂移
850窄带滤光片温度漂移
在光学领域，窄带滤光片是一种非常重要的光学元件，它可以
选择性地透过一定波长范围内的光线，而将其他波长的光线阻挡。
然而，随着温度的变化，窄带滤光片的性能也会发生变化，其中温
度漂移是一个重要的影响因素。
850窄带滤光片是一种波长为850纳米的窄带滤光片，通常用
于光通信、激光雷达等领域。
然而，随着环境温度的变化，850窄
带滤光片的性能可能会发生漂移，影响其准确性和稳定性。
温度漂移是指在温度变化的情况下，窄带滤光片的中心波长和
透过率发生变化的现象。
这种漂移可能会导致光学设备的性能下降，从而影响到系统的正常工作。
因此，研究和解决850窄带滤光片温
度漂移问题具有重要意义。
为了减小850窄带滤光片的温度漂移，可以采取一些措施。
首先，可以通过优化材料的选择和工艺制备来提高窄带滤光片的稳定性；其次，可以设计温度补偿系统，通过控制温度来减小温度对窄
带滤光片性能的影响；另外，也可以采用特殊的包装材料和结构来
提高窄带滤光片的抗温度漂移能力。
总之，850窄带滤光片温度漂移是一个需要重视的问题，解决这一问题对于提高光学设备的性能和稳定性具有重要意义。
通过科学的研究和技术的创新，相信可以找到更好的解决方案，为窄带滤光片的应用提供更可靠的保障。
超窄带滤光片光谱特性测试与修正
超窄带滤光片光谱特性测试与修正超窄带滤光片是一种光学元件，它可以过滤掉光谱中特定波长的光线，而将其余波长的光线通过。
这种滤光片具有高光谱分辨率、高透过率和窄带滤波特性等优点，因此广泛应用于光谱分析、激光调制和光学通信等领域。
然而，由于制造工艺和材料的限制，超窄带滤光片存在一定的色散和波长漂移问题，需要进行光谱特性测试与修正，以保证其滤波效果和性能稳定性。
本文将对超窄带滤光片的光谱特性测试与修正进行探究。
一、超窄带滤光片的光谱特性测试超窄带滤光片的光谱特性测试主要包括透过率测试、带通宽度测试、波长漂移测试和色散测试等方面。
透过率测试是指在不同波长下测试滤光片透过率的变化，并将其绘制成透过率曲线，以评估滤波效果。
带通宽度测试是指测定滤光片的半峰全宽，即在透过率曲线上找到峰值位置，并测量峰值处两侧透过率达到峰值一半时的波长差，以确定滤波带宽。
波长漂移测试是指测定不同温度下滤光片的透过率曲线，以评估滤光片在温度变化下的性能。
色散测试是指测定波长相差较大的两个波长下的透过率，以确定滤波器的色散量。
二、超窄带滤光片的光谱特性修正超窄带滤光片的光谱特性修正主要应用于滤光片制造过程中的误差校正和滤波器在使用过程中的校正。
误差校正主要包括材料选择、膜层厚度控制和膜层结构优化等方面。
材料选择是指选择合适的滤光片材料，包括硅、锗、铌酸锂等材料。
膜层厚度控制是指控制膜层厚度误差，以保证滤波器的带通宽度、透过率等性能稳定。
膜层结构优化是指采用优化的膜层结构，以减小色散和波长漂移等误差。
在滤光片使用过程中，由于环境温度、湿度等因素的影响，滤波器的性能可能会发生变化，需要进行校正。
校正方法包括调整温度、调整光路和使用校正配件等。
调整温度是一种通用的校正方法，通常可以使用恒温箱或温度控制器将温度控制在一定范围内。
调整光路是指调整光路中各光学元件的位置和方向，以保证滤波器的光学性能。
使用校正配件是指利用性能稳定的光学元件，如标准滤光片、光纤光谱仪等进行校正，以提高滤波器的直线度和稳定性。
810nm窄带率光片带宽4
810nm窄带率光片带宽4810nm窄带滤光片的带宽是4nm，其中心波长为810±3nm。
此外，该滤光片的透过波段为825nm-1100nm，截止波段为190nm-795nm，最低透过率为T>90%，中心波长为810nm±3nm，截止深度为T<1%。
除了上述提到的带宽和透过/截止波段外，窄带滤光片还有一些其他重要的参数和应用。
以下是关于810nm窄带滤光片的进一步说明：应用领域由于其窄带特性，810nm窄带滤光片在多种科学和工程领域中有广泛的应用。
以下是一些常见的应用场景：光学通信：在光纤通信中，窄带滤光片用于滤除背景噪声，提高信号质量。
光谱学：在光谱分析中，窄带滤光片用于分离和测量特定波长的光。
生物成像：在荧光显微镜和共聚焦显微镜中，窄带滤光片用于选择性地通过特定波长的荧光，从而提高图像的对比度和分辨率。
激光技术：在激光加工和激光雷达等应用中，窄带滤光片用于控制和调节激光的波长。
参数特性除了带宽和波长范围外，窄带滤光片的性能还由以下几个参数决定：透射率（Transmittance）：表示光通过滤光片的程度。
理想的窄带滤光片应该有高透射率和低散射。
波长选择性（Wavelength selectivity）：表示滤光片对特定波长的敏感程度。
选择性越强，滤光片对波长的变化越敏感。
光学稳定性（Optical stability）：表示滤光片在长时间使用或温度变化时的性能稳定性。
机械稳定性（Mechanical stability）：表示滤光片的结构强度和使用寿命。
生产工艺窄带滤光片的生产工艺涉及到精密的光学设计和加工技术。
主要工艺步骤包括：光学镀膜：在光学元件表面涂覆一层或多层特定材料，以形成所需的反射和透射特性。
精密机械加工：确保滤光片的光学表面达到所需的光洁度和几何精度。
质量检测和控制：通过严格的质量检测和控制，确保每个滤光片都能达到预定的性能参数。
维护与保养窄带滤光片是精密的光学元件，需要妥善维护和保养。
滤波器主要参数与特性指标
滤波器的主要参数(Definitions）：中心频率（Center Frequency)：滤波器通带的频率f0，一般取f0=（f1+f2）/2,f1、f2为带通或带阻滤波器左、右相对下降1dB或3dB边频点。
窄带滤波器常以插损最小点为中心频率计算通带带宽。
截止频率(Cutoff Frequency）:指低通滤波器的通带右边频点及高通滤波器的通带左边频点.通常以1dB或3dB相对损耗点来标准定义。
相对损耗的参考基准为：低通以DC处插损为基准,高通则以未出现寄生阻带的足够高通带频率处插损为基准。
通带带宽（BWxdB）：指需要通过的频谱宽度,BWxdB=（f2—f1）。
f1、f2为以中心频率f0处插入损耗为基准，下降X（dB）处对应的左、右边频点.通常用X=3、1、0.5 即BW3dB、BW1dB、BW0。
5dB 表征滤波器通带带宽参数。
分数带宽（fractional bandwidth）=BW3dB/f0×100[％],也常用来表征滤波器通带带宽.插入损耗(Insertion Loss）：由于滤波器的引入对电路中原有信号带来的衰耗，以中心或截止频率处损耗表征，如要求全带内插损需强调。
纹波（Ripple）：指1dB或3dB带宽（截止频率）范围内，插损随频率在损耗均值曲线基础上波动的峰-峰值。
带内波动（Passband Riplpe）：通带内插入损耗随频率的变化量.1dB带宽内的带内波动是1dB。
带内驻波比(VSWR)：衡量滤波器通带内信号是否良好匹配传输的一项重要指标。
理想匹配VSWR=1：1，失配时VSWR〈1.对于一个实际的滤波器而言，满足VSWR〈1 BWdBBWdBdiv〉在入射波和反射波相位相同的地方，电压振幅相加为最大电压振幅Vmax ，形成波腹；在入射波和反射波相位相反的地方电压振幅相减为最小电压振幅Vmin ，形成波节。
其它各点的振幅值则介于波腹与波节之间。
这种合成波称为行驻波。
各种滤光片的类型和关键指标,滤光片的主要参数
各种滤光⽚的类型和关键指标,滤光⽚的主要参数⽬前，以滤光⽚的滤光原理来看，吸收滤光⽚和⼲涉滤光⽚是⽬前应⽤范围最⼴，产品最成熟的，此外还有应⽤较⼩的双折射滤光⽚、⾊散滤光⽚。
本⽂主要对各种滤光⽚进⾏了介绍和划分，并且指出了滤光⽚的主要关键指标、尺⼨参数和表⾯规格。
从原理上上，滤光⽚可以分为多个类型，下⾯分别对这些不同类型的滤光⽚进⾏介绍。
1、吸收滤光⽚(Barrier filter)是在树脂或玻璃材料中混⼊特殊染料制成，根据对不同波长光吸收的能⼒不同，就可以起到滤波的作⽤效果。
带颜⾊的玻璃滤光⽚在市场上的普及最⼴，其优点是稳定、均匀、具有良好的光束质量，⽽且制造成本低廉，但是它的存在通带⽐较⼤的缺点，通常很少有低于30nm的。
2、⼲涉滤光⽚（Bandpass interference filters）它采⽤了真空镀膜的⽅法，在玻璃的表⾯镀了⼀层具有特定厚度的光学薄膜，通常⼀块玻璃要由多层薄膜叠加⽽成，利⽤⼲涉原理从⽽让特定光谱范围的光波透过。
⼲涉滤光⽚的种类繁多，它们应⽤领域也不同，其中应⽤⽐较多的⼲涉滤光⽚有带通滤光⽚、截⽌滤光⽚、⼆向⾊滤光⽚。
(1)带通滤光⽚（Bandpass Filters）只可以使某个特定波长或窄波段的光透过，通带之外的光不能够透过。
带通滤光⽚光学指标主要是：中⼼波长（CWL）、半带宽（FWHM)。
根据带宽⼤⼩分为：带宽＜30nm为窄带滤光⽚；带宽＞60nm以上的为宽带滤光⽚。
(2)截⽌滤光⽚（Cut-off filter）可以将光谱分为两个区域，⼀个区的光不能通过称此区为截⽌区，⽽另⼀个区的光能够充分通过称为通带区，典型的截⽌滤光⽚有长波通滤光⽚和短波通滤光⽚。
长波通滤光⽚: 是指特定的波长范围内，长波⽅向是透过的，⽽短波⽅向是截⽌的，起到隔离短波的作⽤。
短波通滤光⽚: 短波通滤光⽚是指特定的波长范围内，短波⽅向是透过的，⽽长波⽅向是截⽌的，起到隔离长波的作⽤。
(3)⼆向⾊滤光⽚(Dichroic filter)可以根据需要选择想要通过光的⼀⼩范围颜⾊，并且对其他颜⾊进⾏反射。
中心波长14_95_m超窄带滤光片的研制_张麟
在入射滤光片的半 锥 角 达 １８°时，从（１）式 可 以 判 断
得出其无法满足我国星载大气垂直探测红外分光辐
射计第１通道滤 光 片 设 计 要 求。。
为满 足 第 １ 通 道 滤 光 片 技 术 指 标 要 求，带 通 滤
光片的半 功 率 带 宽 小 于 ３ｃｍ－１。 在 目 前 仅 有 上 述
面没有采用国外的 消 像 差 厚 透 镜 方 案，而 是 利 用 非
成像技术设计的复 合 曲 面 反 射 聚 光 器，因 此 入 射 滤
光 片 光 束 的 半 锥 角 达 １８°。
超窄带滤光片设计采用全介质法布里 珀罗滤
光片设计原理。当入射光束是具有半锥角 Φ 的圆
锥形时，滤光片的性 能 由 遍 及 所 有 入 射 角 对 透 射 率
式中ｎＨ ，ｎＬ 为 膜 系 中 高、低 折 射 率 材 料 层 的 折 射 率；ｎｓ 为 基 片 折 射 率（Ｇｅ基 片）；ｘ 为 反 射 膜 内 高 折 射率膜层数；ｍ 为谐振腔干涉级次，与间隔层厚度的 关系为 ｍ ＝２ｎｄ／λ０。
从带 宽 估 算 公 式 中 可 以 看 出，要 设 计 长 波 红 外 超窄带滤光片可以提高干涉级次 ｍ，或增加 ｘ 为 反 射 膜 内 高 折 射 率 膜 层 数 ，反 射 膜 层 数 越 多 ，带 宽 越 窄 宽。
０７３１００３－１
光 学 学 报
间 比 较 研 究 。 同 时 ，为 提 高 该 滤 光 片 的 信 噪 比 ，对 通 带外截止区域深度进行测量分析及评估。星载大气 垂直探测红外分光辐射计在轨运行反馈数据表明， 使用所研制的第１通道长波红外超窄带滤光片获得 温 度 灵 敏 度 为０．８Ｋ（等 效 噪 声 温 度 差 ）与 ＮＯＡＡ 系列 ＨＩＲＳ／３仪器中第１通道获得数据相当。
850nm窄带滤光片
850nm窄带滤光片引言850nm窄带滤光片是一种光学器件，被广泛应用于红外光谱分析、生物医药、热成像等领域。
它可以选择性地传递或阻挡特定波长的光线，以达到特定的光学效果。
透过率与半波宽度850nm窄带滤光片的光学性能取决于其透过率和半波宽度。
透过率指的是滤光片透过的光子数与入射光子数之比，通常用百分比表示。
半波宽度则是指滤光片能够透过的光线波长范围，其定义为透过率下降到峰值的一半时的波长差。
制备方法850nm窄带滤光片的制备方法主要分为光学镀膜和金属控制渗透法两种。
光学镀膜法在光学镀膜法中，通过在基底上涂覆多层膜和空气层，来产生显著的干涉和反射效果。
具体来说，可以使用两种类型的材料，即高折射率和低折射率的材料，来制作多层膜，并且交替着沉积在一起。
高折射率材料用于产生相位反转，低折射率材料则用于产生干涉，从而实现对850nm波长的透过率选择性。
金属控制渗透法金属控制渗透法是通过将金属氧化物沉积在基底上，并且通过控制其形态和厚度来实现窄带滤光片的制备。
具体来说，金属氧化物会形成固态电解质体系，这会产生一个有效的折射率，从而控制透过光线的频率。
应用850nm窄带滤光片的应用非常广泛，有以下几个方面：红外检测850nm窄带滤光片可以用于红外检测器的输出波长选择，具有选择性地控制红外辐射的能力。
例如，在智能家居和工业控制领域中，850nm滤光片可以帮助检测到更精确的目标温度。
生物医药850nm窄带滤光片也可以用于生物医药领域。
在近红外光学成像中，850nm窄带滤光片可以用于选择性地传播透过的血液成分，从而实现更好的图像质量。
此外，850nm滤光片也是典型的多光子显微镜技术的筛选波长。
热成像在热成像中，850nm滤光片可以帮助控制红外成像的温度分布，从而在夜视、无人机、无人车等领域中具有广泛的应用。
结论总之，850nm窄带滤光片作为一种光学器件，具有众多的应用，包括红外检测、生物医药、热成像等领域。
掌握其制备方法和光学性能将有助于更好地理解和优化其应用。
850 nm窄带低通滤光片性能指标管控
客户成品指标850 nm窄带低通滤光片性能指标管控参考波形激埃特光电ZK850窄带内部管控指标1）原材料：HWB830黑玻璃，直径8.0mm公差要求-0.1mm，厚度：3.5mm公差要求+/-0.1mm表面质量：双面抛光，抛光面光洁度达到60-40以上最好是40-20标准，无肉眼可视砂眼，划伤，印渍，侧面无抛光印渍，崩边小于0.1mm,倒边小于0.2mm光谱质量：300nm~800nm T<0.1%, 850nm T>70%, 880nm~1100nm T>85%,重点是中心波长管控T=50%处要求在827nm~836nm之间。
2）浮法玻璃：0.55mm玻璃公差在+/-0.05mm之间3）S1面850窄带镀膜管控标准：镀膜后冷却1小时测量，中心波长在839nm~846nm之间，峰值透过大于80~90%之间，在80%以上的透过必须有5nm以上的空间（即5nm内的波长所对应的透过率应大于80%以上，以确保波长稳定后的合格率），半带宽FWHM控制：若中心波长在839nm半带宽可以放宽到22~25nm之间，若中心波长在846nm半带宽只能在19nm~21nm.截止区700nm~820nm T<0.5%,880nm~1100nm T<0.5%4）S2面分光膜面镀膜管控：只测试S1+S2双面情况下数值。
若S1面镀得峰值透过率大于90%镀完分光膜后，透过率要比只镀一面分光膜的高。
即单面镀膜分光54%，S1+S2后由于不受背面4。
2%的玻璃反射，将会达到56%左右。
遇这种情况，要求高透过的窄带镀分光膜时透过要控制低点。
比如53%(这个情况要求品保再做实验以确认实际情况)相反的若窄带透过率只有70%左右，同样镀54%的分光膜后，将会下降个1%~3%.5）品保管控：胶合前在投大片材料时，要把S1+S2双面已镀的窄带产品控制在50%~54%之间，需要考虑到分光膜面跟黑玻璃胶合后会有将5%个点的上浮。
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客户成品指标850 nm窄带低通滤光片性能指标管控
参考波形
激埃特光电ZK850窄带内部管控指标
1）原材料：HWB830黑玻璃，
直径8.0mm公差要求-0.1mm，厚度：3.5mm公差要求+/-0.1mm
表面质量：双面抛光，抛光面光洁度达到60-40以上最好是40-20标准，无肉眼可视砂眼，划伤，印渍，侧面无抛光印渍，崩边小于0.1mm,倒边小于0.2mm
光谱质量：300nm~800nm T<0.1%, 850nm T>70%, 880nm~1100nm T>85%,重点是中心波长管控T=50%处要求在827nm~836nm之间。
2）浮法玻璃：0.55mm玻璃公差在+/-0.05mm之间
3）S1面850窄带镀膜管控标准：镀膜后冷却1小时测量，中心波长在839nm~846nm之间，峰值透过大于80~90%之间，在80%以上的透过必须有5nm以上的空间（即5nm内的波长所对应的透过率应大于80%以上，以确保波长稳定后的合格率），半带宽FWHM控制：若中心波长在839nm半带宽可以放宽到22~25nm之间，若中心波长在846nm半带宽只能在19nm~21nm.
截止区700nm~820nm T<0.5%,880nm~1100nm T<0.5%
4）S2面分光膜面镀膜管控：只测试S1+S2双面情况下数值。
若S1面镀得峰值透过率大于90%镀完分光膜后，透过率要比只镀一面分光膜的高。
即单面镀膜分光54%，S1+S2后由于不受背面4。
2%的玻璃反射，将会达到56%左右。
遇这种情况，要求高透过的窄带镀分光膜时透过要控制低点。
比如53%(这个情况要求品保再做实验以确认实际情况)
相反的若窄带透过率只有70%左右，同样镀54%的分光膜后，将会下降个1%~3%.
5）品保管控：胶合前在投大片材料时，要把S1+S2双面已镀的窄带产品控制在50%~54%之间，需要考虑到分光膜面跟黑玻璃胶合后会有将5%个点的上浮。
同时中心波长也会有1~3nm左右的向长波方向移动现象。
若把850多层膜面跟黑玻璃胶合透过率会下降5~15%个百分点，且不稳定。
务必不能把S1面和S2面相反胶合，否则后果很难确认。
品保对双面镀膜后的中心波长管控：
中心波长：845nm~847nm之间的峰值透过率在50~55%且850nm透过率必须在50%以上。
半带宽在20nm~25nm之间。
中心波长：848nm~852nm之间的峰值透过率在50~55%且850nm透过率必须在50%以上。
半带宽在19nm~21nm之间。
中心波长：853nm~855nm之间的峰值透过率在50~55%且850nm透过率必须在50%以上。
半带宽在20nm。
测试点一个大片至少要测试5个点，距边缘10mm处的且距离档边角20mm处测一个点，再转90度相同情况下测一次，转三次后再测度最中心区域点。
若遇到第四圈特别注意，第四圈靠最外边的边缘15mm内与其它的波长和透过率将变化非常大，要特别测试。
并划分出来再投料。
其余圈，圈与圈之间一般会渐变偏长或波长偏短，透过率上也只是渐变化。
也有可能遇到因为镀膜操作人员放置玻璃时有斜面现象，造成某圈中的某片镜片变化非常大，要特别跟踪。
6)成品光谱曲线管控：
最高峰值透过率不得高于60%。
850nm处透过率在50~59.5%之间。
（这时可以不考滤中心波长位置）
半带宽在18nm~23nm之间，若透过率低半带宽可以宽，透过率高半带宽要窄点。
截止区350nm~820nm T<0.5%, 880~1100nm T<0.5%(在1000-1100nm处可放宽，因为我们检测仪器有误差)
1）我们采用的是HWB830黑玻璃，在850nm处大约有73%左右透过，从800nm开始到880nm 之间黑玻璃的光谱是呈斜线上升。
2）HWB830黑玻璃，通产讲T=50%位置是830nm但因为玻璃在炉内熔化时，不均匀可能部份掺杂的吸收体不一样，会导致同一大块玻璃切割后有波长长的有波长短的现象。
相同厚度下有波长会在825nm，有的波长会在835nm等。
3）HWB830这类型的有色玻璃，会因为玻璃厚度的变化，玻璃厚0.1mm波长就会偏长，薄0.1mm 波长就会偏短，这些偏长偏短看起来都在830nm左右变化，但实际上这个参数会影响850nm 处的透过率，若直径8*3.5mm在850nm处透过率是73%,返工后抛光会抛薄了，抛后厚度是直径8*3.26mm厚，在850nm处的透过率就变成了78%。
4）关于HWB830黑玻璃在850nm处的透过率高低对我们镀了850窄带加分光膜起到的影响力。
我们通过试验来证明。
5）拿M型BP850未镀分光，中心透过在72%，左边低，右边高达87%双山峰形状，采用镀膜面与黑玻璃胶合后，测试M型状未改变，但发现，左边原本透过低的偏得更低，左右透过高的最后只有71%透过。
测试黑玻璃在这位置的原本透过有74%。
因此最高点相差3%，左边相差高达20%。
也就是我们说的没有规律可言，使镀膜无法正常生产。
6）拿M型BP850未镀分光，中心透过72%的，左边低右边高达86%双山峰形状，采用未镀膜与黑玻璃胶，测试M型状未改变，但发现，左边853nmT75%降到T64%（相差11%）,右边863nmT86%降到T76%（相差10%）。
因此可得结果是玻璃面相胶合，峰值下降是有一定的规律，当然，我们刚才选的中心波长是858nm，这时黑玻璃的透过率相对比较高，都有72%~78%之间的透过，因此下降有规律性。
7）采用镀膜分光膜和BP850的产品，拿BP850多层膜面与黑玻璃胶合，胶合前中心透过51%，曲线呈抛物线状，胶合后，曲线也类同抛物线，但在右边已略微感觉到此产品曲线变成M型，是左边高右边低现象。
中心位置没有变化仍在849nm，透过率却只有41%，跟胶合前比较相差10%左右。
由于黑玻璃在850左边是斜下来的曲线，因此胶合后再看BP850左边带变窄了。
也就是把胶合前的缺点再明显的暴光出来。
8）采用镀了分光膜和BP850的产品，拿分光膜面与黑玻璃胶合，胶合前中心透过53%，胶合后中心透过49%(前后相差4%左右)，胶合前中心波长在844nm，胶合后中心波长在847nm（前后相差3nm），这个的偏差重点是因为黑玻璃在做怪，黑玻璃是斜线曲线，被压掉之后就产生了这现象。
黑玻璃的透过率越高中心位置的偏移就越不明显，胶合前的中心波长越靠近850nm中心波长也相对偏移少。
因此，我们不要太在意胶合前的中心波长。
重点要知道哪些参数影响我们胶合后的产品。
9）采用直径8*0.55mm测试，放置的角度总会有偏，因此波长总感觉与黑玻璃胶合后会有偏短，及胶合的发现波长偏长了3-5个纳米。
因为黑玻璃胶合后，相对垂直于台面，但一样也会左右偏角，导致波长偏短现象。
10）胶合前的中心波长若在843nm要确保当时850nm处透过有54%以上的透过，
总结：
1，针对NBP850窄带工艺难度性，内部生产过程中，将镀膜窄带时的带宽放宽到25nm,最窄不能低于20nm，即按23nm做为控制点。
2，镀S2面分光膜面,镀前一定要做实验，定片定坑定取放（要做实验陪镀的BP850放在哪个圈哪个框，镀前要测试大片的五个点透过并记录，镀后再同时测试这五个点并记录。
）3，镀膜后，待稳定后，品保投料应按如下分开产品。
首先所有将投料产品确保850nm 处透过至少在54%以上，第二中心波长若在843~846之间的产品要求半带宽一定要超过23nm。
4，黑玻璃选择，首先要对所有的黑玻璃的厚度进行测试，3.50~3.45mm，
3.40~3.44mm,3.35~3.39mm,3.30~3.34mm,3.25~3.29mm分五个档分类，按不同分类测出
850nm处的透过率是否在73%左右，超过部份需要做试胶合实验.要确保850nm处透过率等于73%正负1%的偏差，统一挑选。