材料表面技术 第四讲 电镀及化学镀新技术

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电镀和化学镀-资料

电镀和化学镀-资料
• 国内电镀工业发展分成三个阶段: 解放前(1949年以前):空白 解放后至改革开放(1949-1978):开始拥有自 己的电镀厂 改革开放后:电镀水平得到大幅度的发展,但与 发达国家相比还有很大差距。
2020/4/5
我国电镀工业的发展趋势主要有以下几个方面: • 装饰性(仿金)和高耐蚀性将不断发展。 • 一些传统装饰性电镀可能被喷涂、物理气相沉积
3、修复金属零件尺寸。例如轴、齿轮等重要机械 零件使用后磨损,可采用镀铁、镀铬等修正其尺寸。
4、电镀还可赋予某种制品或零件某种特殊的功能。 例如镀硬铬可提高其耐磨性能等。
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第一章 绪论பைடு நூலகம்
2、镀层应具备的基本条件 : 1)具有良好的结合力; 2)镀层均匀、光滑、完整和致密,且具有一定的光亮度; 3)具有较低的孔隙率和较好的抗蚀性;
2020/4/5
第一章 绪论
三、按镀层组合分类
• 简单镀层,单金属镀层就可满足性能要求; • 组合镀层,单金属的不同组合;或镀层中夹
带不溶性的微粒-复合镀层,Ni-P,Ni-SiC。
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1.3 电镀工业的发展状况及展望
• 国外1800年就公布了镀银的文献,到目前为止电 镀工业逐步成为完整的工业体系。
五 Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc RuRhPd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe

Cs Ba La Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn
汞齐
区域1
合金
可电沉积 区域2
氰化物中可以电沉积 区域3
非金属
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2 金属的电沉积
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电镀及化学镀新技术详解

电镀及化学镀新技术详解

按镀层与基体间的电化学性质可分为:
❖ 阳极性镀层:镀层相对于基体金属的电位为负, 如钢上的镀锌层。
❖ 阴极镀层:镀层相对于基体金属的电位为正,如 钢上的镀镍层、镀锡层等。
按镀层的组合形式可分为:
❖ 单 层 镀 层 ( Zn 或 Cu ) 、 多 层 金 属 镀 层 ( CuSn/Cr,Cu/Ni/Cr)、复合镀层( Ni-A2O3, Co-SiC)。
3) 镀锡:腐蚀产物无害,易于钎焊,用于食品罐头包 装制品、饮具、餐具及电子工业中很多需要钎焊的 零件。
4) 镀铜:其他镀层的中间层,提高镀层和基 体的结合力。 5) 镀镍:应用面广,防护装饰性(钟表、家用 电器等)和功能性(易磨损件修复电镀)两方面。
全自动高轨龙门式挂镀生产线
适用于大量产、大工件和工艺经常变化的生产。
按镀层功能:
❖ 防护性合金电镀 ❖ 装饰性合金电镀 ❖ 耐磨性合金电镀 ❖ 减摩性合金电镀 ❖ 钎焊性合金电镀 ❖ 电学性能合金电镀 ❖ 磁学性能合金电镀 ❖ 光学性能合金电镀 ❖ 其他性能合金电镀
❖ 习惯上,也常按合金镀 层中的主要金属元素为 基进行分类,如锌基合 金电镀、铜基合金电镀、 镍基合金电镀、锡基合 金电镀等等。
镀层按使用性能可分为:
① 防护性镀层:如锌、锌-镍、镍、镉、锡等镀层, 作为耐大气及各种腐蚀环境的防腐蚀镀层。
② 防护-装饰性镀层:如 Cu-Ni-Cr镀层等,既有装饰 性,亦有防护性。
③ 装饰性镀层:如Au及Cu—Zn仿金镀层、黑铬、黑 镍镀层等。
④ 耐磨和减摩镀层:如硬铬,Ni—SiC,Ni-石墨等。 ⑤ 电性能镀层: 如Au,Ag镀层等,既有高的导电率,
电镀及化学镀新技术
本节主要内容
一、电镀新技术 二、化学镀新技术

电镀、电刷镀与化学镀

电镀、电刷镀与化学镀

4.基体金属的影响
基体金属的化学性质与其和镀层之间结合力密 切相关。在某些电解液中,如果基体金属的电 位负于镀层金属,若不用其它镀层过渡,就不 容易获得结合力良好的镀层。 铸造件和粉末冶金件的表面往往是凹凸不平且 多孔的,零件内孔易积留预处理的溶液,镀件 表面经过一段时间会出现黑色的斑点。 此外,零件在电镀前的脱脂、除锈是否彻底, 也将严重影响镀层的性能。
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二、电镀反应
图 6-1 是电镀过程原理图,被镀 的零件为阴极,与直流电源的 负极相连,金属阳极与直流电 源的正极联接。阳极与阴极均 浸入镀液中。 当在阴阳两极间施加一定电压 时,则在阴极发生还原反应: 即从镀液内部扩散到电极和镀 液界面上的金属离子Mn+从阴极 上获得n个电子,被还原成金属 M。
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主盐浓度的影响
镀液中的主盐浓度高时,电沉积过程中的 浓差极化小,晶核形成速度降低,长大速 度快;所得镀层晶粒较粗。这种影响在简 单盐镀液中尤为明显。 主盐浓度过低时,尽管对提高镀液的分散 能力有利,但镀液允许的电流密度小。此 时、镀液中的导电盐可提高其导电性,增 加阴极极化,对获得结晶细致的镀层有利。
碱性镀液有氰化物镀锌、锌酸盐镀锌、焦 磷酸盐镀锌等。 中性或弱酸性镀液有氯化物镀锌、硫酸盐 镀锌等; 酸性镀锌有硫酸盐镀锌、氯化物镀锌等。 其中以氰化物镀锌、锌酸盐镀锌、氯化物 镀锌、硫酸盐镀锌最为常用。
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镀锌层的钝化处理
为了进一步提高镀锌层的防护能力,同时 使其外观更具装饰性,通常要在其表面人 为地形成一层致密的氧化膜,这一过程即 称之为钝化处理(或称铬酸盐处理)。 钝化处理的溶液以六价铬为主要成分,辅 之以其它的无机酸或其盐。改变钝化溶液 的辅助成分及其浓度,可以得到白色或蓝 白色、彩色、黑色、绿色等色调的钝化膜。

《化学化学镀》PPT课件

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1.4.6 解胶
镀件基体经过胶体钯活化后,表面吸附 的是以钯原子为核心的胶团,为使金属 钯能起催化作用,需要将吸附在钯原子 周围的二价锡胶体层去除以显露出活性 钯位置,即进行解胶处理。解胶处理一 般采用体积浓度100mL/L的盐酸在40~ 45℃处理0.5~1min,或用20~25g/L的醋 酸钠溶液常温下处理10min。
1.2.6 表面活性剂
加人表面活性剂可提高镀液对基体的浸 润效果,使粉末、颗粒、纤维状镀件很 好地分散于镀液中,形成比较稳定的悬 浮液。表面活性剂的浓度在一定程度上 直接影响粉末、颗粒、纤维状镀件表面 上金属镀层的性能。
1.3 化学镀与电镀的区别
➢ 化学镀不使用电源,以还原剂与被镀金属离子的电位 差为动力,为了得到致密的镀层,使用络合剂阻滞还 原过程,并形成一定程度的极化,同时也为了控制反 应速度。
1.2.4 缓冲剂
缓冲剂的作用是维持镀液的pH 值,防止 化学镀过程中由于大量析氢所引起的pH 值下降。
1.2.5 稳定剂
稳定剂的作用是提高镀液的稳定性,防 止镀液在受到污染、存在有催化活性的 固体颗粒、装载量过大或过小、pH 值过 高等异常情况下发生自发分解反应而失 效。稳定剂加入量不能过大,否则镀液 将产生中毒现象失去活性,导致反应无 法进行,因此需要控制镀液中稳定剂的 含量在最佳添加量范围。
1.2.1 主盐
主盐即含镀层金属离子的盐。一般情况 下,主盐含量低时沉积速度慢、生产效 率较低;主盐含量高时沉积速度快,但 含量过大时反应速度过快,易导致表面 沉积的金属层粗糙,且镀液易发生自分 解现象。
1.2.2 还原剂
还原剂是提供电子以还原主盐离子的试剂。 在酸性镀镍液中采用的还原剂主要为次磷酸 盐,此时得到磷合金;用硼氢化钠、胺基硼 烷等硼化物作还原剂时可得硼合金;用肼作 还原剂,可获得纯度较高的金属镀层。正常 情况下,次磷酸钠的加人量与主盐存在下列 关量系增ρ大(N时i2,+)/其ρ(H还2原PO能2-)力=0增.3强~,1.0使。得还溶原液剂的含反 应速度加快;但是含量过高则易使溶液发生 自分解,难于控制,获得的镀层外观也不理 想。

材料表面技术

材料表面技术

电镀应用
§2 电镀和化学镀
(8)耐蚀镀: ①镀Zn,如镀Zn钢板;还可电镀Zn合金,如Zn-Ni(13%), Ni4Zn3金属间化合物。 ②镀Sn,美丽的光泽,对含果实类耐有机酸耐蚀能力很好,对 Sn的钎焊性能好,用于食品罐头盒、无线电接插件及引线等 元件。 ③镀Ni,常存在孔隙,需多层电镀,用于汽车、仪表等。 ④镀Cu,用于多层电镀的底层或中间层。 ⑤镀Mn,用于海水中混凝土钢筋。
材料表面技术§1 材料表面技术述§2 电镀和化学镀§3 化学转化膜技术
§4 表面涂敷技术 §5 气相沉积技术 §6 高能束表面技术简介
§1 材料表面技术概述
表面工程是利用物理的、化学的、物理化学的以及机械 的等工艺方法,使工件表面获得可要求的成分、组织和性能, 以提高产量质量的工程。始于20世纪80年代 。 主要包括: (1)热处理,表面淬火、化学热处理等,以提高表面强度、硬度、
(10)复合镀:在金属基体上分布一些高硬度氧化物、碳化物 质点,常以Ni、Co为主体金属,如化学镀Ni-P、Ni-B为主体 金属,分散硬颗粒是SiC等,Ni-P-SiC复合镀层的耐磨性比镀 Ni层高70%,已用于汽车发动机。
电镀应用
硬币的设计
§2 电镀和化学镀
第五套人民币硬币 1元硬币 白铜、钢芯镀镍 5角硬币 黄铜、钢芯镀铜 1角硬币 不锈钢
电镀实验演示视频
电镀生产实例视频 1 2
电镀应用
§2 电镀和化学镀
(1)镀Mo显著提高发动机QT缸体的耐磨性。 (2)汽油机铸铝活塞裙部外表面镀Sn。 (3)活塞环用合金ZT,第一道环镀Cr,第二道环镀Sn或P化。 (4)拉伸钢质零件,毛坯表面需镀Cu或P化,使毛坯表面形成 一层隔离层,能储存润滑剂,具有自润性能。 (5)电镀黄铜(仿金电镀),如Cu-Zn、Sn-Cu-Zn,可能到 18K~24K黄颜色仿金电镀层,可用于:灯饰、日用五金制品;汽 车轮胎子午线钢丝的电镀,提高橡胶与钢丝的结合强度;节约Au, 在镀Au前先镀黄铜。 (6)减摩镀—轴承电镀,电镀软金属如Sn、Pb、In等,在摩擦 表面上改善磨合性能。

电镀和化学镀

电镀和化学镀

化学镀镍
用还原剂将镀液中的镍离子还原为金 属镍并沉积到基体金属表面上去的方法称 为化学镀镍。
1. 化学镀镍机理
➢ 原子氢态理论 ➢ 氢化物理论 ➢ 电化学理论
原子氢态理论
H2PO2- + H2O → HPO3- + 2H + H+ ➢ Ni2+ + 2H → Ni + 2H+ ➢ H2PO2- + H → H2O + OH- + P
一、什么是化学镀? 化学镀是指在没有外电流通过的情况下,利
用化学方法使溶液中的金属离子还原为金属并沉积 在基体表面,形成镀层的一种表面加工方法。
化学镀与电镀相比的优点
➢ 化学镀不需要外电源,设备简单、操作容易,可用于 各种基体,如:金属(钢、铝、镁等)、非金属(陶 瓷、塑料、木材等)及半导体等。
➢ 均镀能力和深镀能力好,无论工件如何复杂(深孔、 凹槽、盲孔等),只要采取适当的技术措施,均可得 到均一的镀层。
化学镀镍磷零件
医学资料
• 仅供参考,用药方面谨遵医嘱
化学还原镀
还原镀是在金属的催化作用下,通过可控制的氧 化还原反应而产生金属沉积的过程。这种方法不是通 过金属的溶解,而是依靠还原剂的化学反应:
Rn+ + MZ+ → R(n+z)+ + M 在这里还原剂Rn+被氧化成R(n+z)+,而自由电子 使MZ+还原,还原剂的电位应该显著低于沉积金属的 电位。
活化可将金属表面的氧化物、盐加以去除, 使金属表面容易与后续电镀金属紧密结合。
需要慎重选择合适的酸液及缓蚀剂,避免过 度浸蚀底材。
镀后处理
➢ 钝化处理 是指在一定的溶液中进行化学处理﹐在镀层上形

现代表面工程技术-电镀和化学镀

现代表面工程技术-电镀和化学镀

电镀的电源发展介绍
• 电镀电源经历了四个发展阶段: (1) 直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声 大, 已经被淘汰。 (2) 硅整流阶段是直流发电机的换代产品, 技术十分成 熟, 但效率低, 体积大, 控制不方便。目前, 仍有许多企业使 用这种电镀电源。 (3) 可控硅整流阶段是目前替代硅整流电源的主流电源, 具有效率高、体积小、调控方便等特点。随着核心器件— ——可控硅技术的成熟与发展, 该电源技术日趋成熟, 已获 得广泛应用。 (4) 晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是 当今最为先进的电镀电源, 它的出现是电镀电源的一次革 命。这种电源具有体积小、效率高、性能优越、纹波系数 稳定, 而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是 发展的方向, 现已开始在企业中使用。
• • • • • 电镀概念 电镀原理 电源发展介绍 镀层 电镀作用 电镀方式 几种电镀技术 • • • • • • • 化学镀综述 化学镀概念 化学镀特点 仪器与流程 化学镀预处理 化学镀的镀液 化学镀工艺参数的影 响
一、电镀技术
电镀概念
• 电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某 些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金 的过程,是利用电解作用使金属或其它材 料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而 起到防止腐蚀,提高耐磨性、导电性、反光 性及增进美观等作用。
电镀的检验
• 镀端子的检验是电镀完成后不可缺少的工 作,只有检验合格的产品才能交给下一工 序使用。通常驻的检验项目为:膜厚 (thickness),附着力(adhesion),可焊性 (solderability),外观(appearance),包 装(package).盐雾实(salt spray test), 对于图纸有特别要求的产品,有孔隙率测 试(30U”)金使用硝酸蒸气法,镀钯镍产 品(使用凝胶电解法)或其它环境测试。

化学镀与电镀技术讲解

化学镀与电镀技术讲解

沉铜覆盖能力(%)图1:沉铜的覆盖能力及气孔发生率活化处理时间(分)图2:处理条件及金属钯的吸附量⊙清净处理:基板的表面脱脂与孔内壁表面调整同时进行,使铜的表面氧化物、油污除去,促进表面对金属钯的吸附量(见图3)。

增加孔内壁润湿性的处理溶液采用碱性表面活性剂。

⊙酸洗:经过彻底清洗干净后,再进行中和处理保持界面活性状态。

通常酸洗采用硫酸、盐酸。

⊙表面腐蚀处理:主要目的是除去铜焊盘与内层铜表面上的氧化物,确保沉积铜层的密着性和均匀性,增加其可靠性。

采用腐蚀剂有过硫酸铵、过硫酸钠、硫酸-双氧水系。

⊙硫酸:经腐蚀后,表面存有残留的硫酸盐被处理掉,获得洁净的铜表面。

一般采用5%(体积比)的硫酸。

⊙预处理:活化处理前,先在低浓度的预浸催化液中进行处理,以防止对活化液的污染。

曾采用过以盐酸系列工艺方法进行处理,但由于对内层铜表面影响而产生晕圈现象。

现采用盐基系处理溶液进行处理。

⊙活化处理:沉积速度(μm) 0.35-0.5 0.35-0.5 1.5-2.5 2.0-2.5 1.0-3.0时间 (分钟) 20-30 20-30 30 30 60三、电镀多层印制电路板制造工艺规程中,采用的电镀液的种类很多,其中有:□焦磷酸盐镀铜电解液:⊙全板镀铜工艺方法;⊙图形电镀工艺方法。

□硫酸镀铜电解液:⊙全板镀铜工艺;⊙图形镀铜工艺。

□锡焊料电镀液:⊙图形电镀工艺方法□镀镍电解液:⊙插头镀镍;□镀金电解液:⊙插头镀金。

(1)镀铜电解液:在多层印制电路板制造过程对电镀铜层的物理性要求是很高的。

特别对小孔径和高孔径与板厚比,要求铜层厚度均匀性、铜层的物理性能要优越,以确保在热冲击时不发生质量缺陷。

基板表面与孔内壁经过预处理后,要特别注意的清洁处理时,小孔径(高纵横尺寸比)与孔壁内部状态,确保通孔内被溶液浸润性(孔内气泡全部除去)和催化处理后内孔壁吸附金属钯量,并依次进行处理,特别要保持清洁调节器内的表面活性剂的含量,这是解决铜层致密性不良的十分重要的对策。

电镀电刷镀与化学镀课件.ppt

电镀电刷镀与化学镀课件.ppt
析出的氢有时会进入镀层或基体金属体内,使 金属的晶格歪扭,内应力增大,从而导致镀层 脱落或使镀件脆裂。
吸附在基体金属内的氢,在镀件的存放或使用 过程中,由于环境温度的升高,会慢慢从基体 中释放出来而导致镀层鼓泡。
而氢气在阴极上析出时,经常呈气泡状粘附在 阴极的表面,从而阻止金属在这些地方的沉积, 产生针孔。
在工业化生产中,为了降低零件的造价, 节约生产成本,提高金镀层的装饰性效果 如光亮度、整平性等,一般在镀金前需镀 上一层或多层底层。作为镀金层的底层, 使用最多的是光亮镍层。
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三、合金镀层及其应用
迄今为止,国内外已研究的电镀合金已超 过240种,但在生产上实际应用的还不到 40种。
根据合金镀层的特性及其应用范围,合金 镀层一般被分为防护性合金镀层、装饰性 合金镀层和功能性合金镀层三大类。
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二、电镀反应
图6-1是电镀过程原理图,被镀 的零件为阴极,与直流电源的 负极相连,金属阳极与直流电 源的正极联接。阳极与阴极均 浸入镀液中。
当在阴阳两极间施加一定电压 时,则在阴极发生还原反应: 即从镀液内部扩散到电极和镀 液界面上的金属离子Mn+从阴极 上获得n个电子,被还原成金属 M。
电镀具有工艺设备简单、操作方便、 加工成本低、操作温度低等特点, 是表面工程技术中最常用的方法之 一。
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不同溶液和工艺参数下得到的镀层,性能和 用途也不同。按镀层的性能可将其分为三类:
1、防护性镀层 在大气或其它环境下,可 延缓基体金属发生腐蚀的镀层。如:钢铁 基体上的锌和锌合金镀层、镉镀层等。
该镀铬层广泛应用于仪器、仪表、日用五 金、家用电器、飞机、汽车、摩托车、自 行车等的外露部件上 。
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功能性镀铬
功能性镀铬则包括镀硬格、松孔铬(多孔铬)、 黑铬、乳白铬等。

化学镀与电镀技术模板.pptx

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2019-7-3
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印制板在电子设备中的功能如下:
1
提供集成电路 等各种电子元 器件固定、组 装和机械支撑 的载体
2019-7-3
2
3
实现集成电路 等各种电子元 器件之间的电 器连接或电绝 缘。提供所要 求的电气特性, 如特性阻抗等
为自动锡焊提 供阻焊图形。 为元器件安装 (包括插装及 表面贴装)、 检查、维修提 供识别字符和 图形
Back Fang
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(2) PCB实用期:1960年代(新材料:GE基材登场)
在1960年前后,印制电路的“双面板”、 “孔金属化双面板”相继投入生产。同时, 多层板也开发出来
大约在1968年前后, “孔金属化双面板“逐 渐取代了单面板。而且柔软、能折叠、弯曲 的“挠性印制电路”也开发出来了。
2019-7-3
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在二次世界大战中,美国人应用制造印制板,用 于军事电子装置中,并获得巨大成功。
到了上世纪50年代初,铜箔腐蚀法成为了最为实 用的印制板制造技术,开始广泛应用,因此, Eisler博士也被人们称为“印制电路之父”。
2019-7-3
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印制线路板(PCB)技术50年间的发展
下料→钻孔→孔金属化→全板电镀铜→贴光 敏掩蔽干膜→图形转移→蚀刻→去膜→电镀 插头→外形加工→检测→网印阻焊剂→焊料 涂敷→网印文字符号
2019-7-3
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5.超薄铜箔快速蚀刻工艺
主要工艺与 “图形电镀蚀刻工 艺“相似。只是在图形电镀铜 后,电路图形部分和孔壁金属 铜的厚度约30μm以上,而非 电路图形部分的铜箔仍为超薄 铜箔仍为超薄铜箔的厚度 (5μm)。

化学镀与电镀技术ppt课件

化学镀与电镀技术ppt课件
1) 镀液添加剂失调 2) 镀液太脏 3) Cl-含量太少 4) 电流过大 5) 有机物分解过多
纠正方法
1) 补充硫酸铜到规定量 2) 适当降低电流密度 3) 适当提高液温 4) 稀释镀液,使酸含量到规定值 5) 如用空气搅拌,增加空气流量,如用阴极移动
,应 保持在15-20次/分 6) 赫尔槽实验来确定 7)阳极比阴极短7-8cm,使阳极面积/阴极面积为
电镀液
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名称成分
硫酸铜(克/升) 硫酸(克/升) 氯离子(毫克/升)
添加剂
普通硫酸盐镀液
180-240 45-60 20-100 适量
表6-1 硫酸盐型镀液
高分散能力镀液
60-100 180-220 20-100
适量
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❖ 没有添加剂的硫酸盐镀铜液,不可能达到使用的 要求。
❖ 我国对光亮酸性镀铜添加剂的研制始于七十年代, 具有代表性的添加剂产品有电子部15所的LC153 和SH-110等。
❖ 改革开放以来,从国外引进了大量印制板生产线, 同时也引进了很多先进的电镀添加剂,用于高分 散能力的镀铜液的添加剂及其工艺见表6-3
12
6-2
名称配方及工艺条件
硫酸铜(克/升)
表 硫酸(克/升)
氯离子(毫克/升)
国 SH-110(毫克/升)
产 镀
HB(毫克/升)
铜 OP-21(克/升) 添
加 LC153起始(毫克/升)
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❖3. 对镀铜液的基本要求
(1).镀液具有良好的分散能力和深镀能力,以保证 在印制板比较厚和孔径比较小时,仍能达到 Ts:Th接近1:1.
(2).镀液在宽的电流密度范围内,都能得到均匀, 细致,平整的镀层。
(3).镀液稳定,便于维护,对杂质的容忍度高。
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Ni合金。 ❖ 可获得热熔相图没有的合金,δ-铜锡合金。 ❖ 容易获得组织致密、性能优异的非晶态合金,如
Ni-P合金。 ❖ 在相同合金成分下,电镀合金与热熔合金比,硬
度高,延展性差。
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--与单金属镀层相比: ❖ 结晶更细致,镀层更平整、光亮。 ❖ 非晶结构镀层。 ❖ 特殊物理性能,如导磁性、减摩性、钎焊性。 ❖ 更耐磨、耐蚀、耐高温,有更高硬度和强度。延
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4) 镀铜:其他镀层的中间层,提高镀层和基 体的结合力。 5) 镀镍:应用面广,防护装饰性(钟表、家用 电器等)和功能性(易磨损件修复电镀)两方面。
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全自动高轨龙门式挂镀生产线
适用于大量产、大工件和工艺经常变化的生产。
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❖ 电镀是一种用电化学方法在镀件表面上沉积 所需形态的金属覆层工艺。目的是改善材料 的外观、提供材料的各种物理化学性能,赋 予材料表面特殊的耐蚀性、耐磨性、装饰性、 焊接性及电、磁、光学性能等。镀层一般为 几微米到几十微米厚。
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镀层按使用性能可分为:
① 防护性镀层:如锌、锌-镍、镍、镉、锡等镀层, 作为耐大气及各种腐蚀环境的防腐蚀镀层。
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按镀层功能:
❖ 防护性合金电镀 ❖ 装饰性合金电镀 ❖ 耐磨性合金电镀 ❖ 减摩性合金电镀 ❖ 钎焊性合金电镀 ❖ 电学性能合金电镀 ❖ 磁学性能合金电镀 ❖ 光学性能合金电镀 ❖ 其他性能合金电镀
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⑥ 磁 性 能 镀 层 : 软 磁 性 能 镀 层 (Ni-Fe , FeCo),硬磁性能(Co-P,Co-Ni)等。
⑦ 可焊性镀层:Sn-Pb,Cu,Sn,Ag等。 ⑧ 耐热镀层:Ni-W,Ni,Cr镀层。 ⑨ 修复用镀层:造价高易磨损件,加工超差
件,电镀修复尺寸,节约成本,延长寿命。 可电镀Ni,Cr,Fe层进行修复。
2.1 电镀溶液
① 主盐 ② 配合剂 ③ 导电盐 ④ 缓冲剂 ⑤ 阳极活化剂 ⑥ 镀液稳定剂 ⑦ 特殊添加剂
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2.2 金属的电电解镀液过:H程2SO4+NiSO4+H2O
①阴极上的反应:
Ni2++2e→Ni(形成镀层)
2H++2e→H2↑
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②阳极上的反应:
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按镀层与基体间的电化学性质可分为:
❖ 阳极性镀层:镀层相对于基体金属的电位为负, 如钢上的镀锌层。
❖ 阴极镀层:镀层相对于基体金属的电位为正,如 钢上的镀镍层、镀锡层等。
按镀层的组合形式可分为:
❖ 单 层 镀 层 ( Zn 或 Cu ) 、 多 层 金 属 镀 层 ( CuSn/Cr,Cu/Ni/Cr)、复合镀层( Ni-A2O3, Co-SiC)。
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2、电沉积的基本原理
❖ 金属电沉积是指在直流电的作用下,电解液 中的金属离子还原,并沉积到零件表面形成 有一定性能的金属镀层的过程。
︸ ❖ 电解液有水溶液、有机溶液和熔融盐。 湿法电镀 熔融盐电镀
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电沉积原理示意图
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带材连续电镀生产线
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4、合金电镀
❖ 两种或两种以上的元素共沉积所形成的镀层 为合金镀层。通常其最小组分应大于1%,而 某些镀层,合金含量虽少于1%,但对镀层性 能影响大,也可称为合金镀层。
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4.1 电镀合金的特点
--与热冶金合金相比: ❖ 容易获得高熔点与低熔点金属组成的合金,如Sn-
② 防护-装饰性镀层:如 Cu-Ni-Cr镀层等,既有装饰 性,亦有防护性。
③ 装饰性镀层:如Au及Cu—Zn仿金镀层、黑铬、黑 镍镀层等。
④ 耐磨和减摩镀层:如硬铬,Ni—SiC,Ni-石墨等。 ⑤ 电性能镀层: 如Au,Ag镀层等,既有高的导电率,
又可防氧化,避免增加接触电阻。
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展性和韧性通常有所降低。 ❖ 单金属难镀的W,Mo,Ti,V等,可与铁族元素
(Fe,Co,Ni)共沉积形成合金。 ❖ 不同色调的合金镀层,如银合金、彩色镀镍及仿
金合金,具有更好的装饰效果。
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4.2 合金共沉积的条件及方法
除需具备单金属沉积的基本条件外: 1. 两种金属中至少有一种金属能从其盐的水溶液中
沉积。 2. 共沉积的两种金属的沉积电位必须十分接近。
实现共沉积的方法: 1. 改变镀液中金属离子的浓度比; 2. 采用适当的配合剂; 3. 采用特定的添加剂。
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4.3 合金共沉积的类型
按镀液和工艺参量对沉积层的影响:
正常共沉积特征是:电位较正的金属优先析出。包 含正则共沉积、非正则共沉积、平衡共沉积。 非正常共沉积特征是:电位较负的金属反而优先析 出(称为异常共沉积),或是难以从水溶液中单独沉 积出的金属,如钛、钼、钨等,在铁族金属诱导下 发生共析(称为诱导共沉积)。
Ni -2e→Ni2+(阴极溶解)
4OH--4e→2H2O+O2↑
2Ni+3[O]→Ni2O3
2Cl--2e→Cl2↑
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金属沉积过程
溶液中的金属离子 传质步骤
双电层的金属离子 前置化学步骤
放电金属离子 电荷转移步骤
平面晶面上吸附离子/原子 表面扩散
结点处的吸附离子/原子 脱水去分子
原子进入晶格
结晶步骤
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界面 反应 步骤
3、电镀单金属
1) 镀锌:钢铁零件上镀锌主要作用是防腐蚀,用量占 全部电镀零件的1/3至1/2。
2) 镀铬:钢铁零件上镀铬,在海洋和湿热大气环境中, 保护性能比锌好,航空、航海中大多采用镀铬。但 有毒,受限制。
3) 镀锡:腐蚀产物无害,易于钎焊,用于食品罐头包 装制品、饮具、餐具及电子工业中很多需要钎焊的 零件。
第四讲
电镀及化学镀新技术
本节主要内容
一、电镀新技术 二、化学镀新技术
一、电镀
电镀铜
镀铜应用:装饰性、打底层提高结合力、耐腐性 广泛应用于电子器件、装饰业等方面。
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电镀镍
镀铜应用:装饰性、耐磨、耐腐性 广泛应用于电子器件、装饰业等方面。
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1、概述
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