第3章 场效晶体管及场效晶体管放大电路
场效应管原理及放大电路
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图6-47 分压式偏置电路
/info/flashshow/0079614.html(第 8/10 页)2010-9-6 19:00:12
场效应管原理及放大电路
图6-47为分压式偏置电路,RG1和RG2为分压电阻。 栅-源电压为(电阻RG中并无电流通过) (6-24) 式中,UG为栅极电位。对N沟道耗尽型场效应管,UGS为负值,所以RSID>UG;对N沟道增强型场效应管,UGS为正值,所以RSID<UG。 当有信号输入时,我们对放大电路进行动态分析,主要是分析它的电压放大倍数及输入电阻与输出电阻。图6-48是图6-47所示分压式偏置放大电路的交流通 路,设输入信号为正弦量。 在图6-47的分压式偏置电路中,假如RG= 0,则放大电路的输入电阻为
故其输出电阻是很高的。在共源极放大电路中,漏极电阻RD和场效应管的输出电阻rDS是并联的,所以当rDS ro≈RD (6-26)
RD时,放大电路的输出电阻
这点和晶体管共发射极放大电路是类似的。 输出电压为 (6-27) 式中 ,由式(6-23)得出 。
电压放大倍数为
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场效应管原理及放大电路
图6-43 N沟道耗尽型场效应管的输出特性曲线
图6-44 N沟道耗尽型场效应管的转移特性曲线 以上介绍了N沟道绝缘栅场效应增强型和耗尽型管,实际上P沟道也有增强型和耗尽型,其符号如图6-45所示。
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场效应管原理及放大电路
(6-28) 式中的负号表示输出电压和输入电压反相。 【例6-7】 在图6-47所示的放大电路中,已知UDD=20 V,RD=10 kΩ,RS=10 kΩ,RG1=100 kΩ,RG2=51 kΩ,RG=1 MΩ,输出电阻为RL=10 kΩ。场效应管的 参数为IDSS=0.9 mA,UP= 4 V,gm=1.5 mA。试求:(1)静态值;(2)电压放大倍数。 解:(1) 由电路图可知
第3章场效应管
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0
放大区
10
20
截止区
电子技术基础
各区的特点:
6
可
变
① 可变电阻区
电4
阻
区2
a. uDS较小,沟道尚未夹断
0
10
b. uDS < uGS- |UGS(th)|
c.管子相当于受uGS控制的压控电阻
2020年4月13日星期一
第 3章
20
电子技术基础
第 3章
② 放大区(饱和区、恒流区)
a. 沟道予夹断
2020年4月13日星期一
电子技术基础
第 3章
2. N沟道增强型管的工作原理
由结构图可见,N+型漏区和N+型源区之间被P型
衬底隔开,漏极和源极之间是两个背靠背的PN结。
S
D
当栅源电压UGS = 0 时, 不管漏极和源极之间所 加电压的极性如何,其 中总有一个PN结是反向 偏置的,反向电阻很高, 漏极电流近似为零。
8(1
UGS 4
)2
C1 +
+
T
ui _
RG
+UGS_ RS
uo IS +CS _
解出 UGS1 = –2V、UGS2 = –8V、ID1=2mA、ID2=8mA 因UGS2 <UGS(off) 故舍去 ,
所求静态解为UGS = –2V ID=2mA、 UDS= 20 – 2( 3 + 1 )= 12 V
–
S
–
+G
+
D
iD>0
N+
N+
2020年4月13日星期一
uDS
P
集成电路科学与工程导论 第三章 集成电路晶体管器件
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发展趋势-摩尔定律
「按比例缩小定律」(英文:Scaling down)“比例缩小”是指,在电场 强度和电流密度保持不变的前提下,如果MOS-FET的面积和电压缩小到 1/2,那么晶体管的延迟时间将缩短为原来的1/2,功耗降低为原来的1/2。 晶体管的面积一般为栅长(L)乘以栅宽(W),即尺寸缩小为原来的0.7倍:
仅变得越来越小,在器件结构和材料体系上也经过了多次重大变革
集成电路器件发展趋势
国际半导体技术蓝图(International Technology Roadmap for Semiconductors,ITRS)
目录
一.晶体管器件概述 二.金属-氧化物-半导体场效应晶
体管技术 三.绝缘体上晶体管技术 四.三维晶体管技术 五.其他类型晶体管器件
环栅场效应晶体管
「环栅场效应晶体管」(英文:GAAFET) 技术的特点是实现了栅极对沟道的四面包 裹,源极和漏极不再和基底接触,而是利 用线状或者片状(平板状)的多个源极和 漏极垂直于栅极横向放置,实现MOSFET 的基本结构和功能
栅极G
栅极G
硅
硅 (a)
纳米线
硅 (b)
纳米片
平面型 垂直型
互补场效应管
栅极G
n+
e-
n+
p-衬底 (a)
栅极G
n+
e-
n+
氧化物埋层(BOX)
p-衬底 (b)
优势:氧化物埋层降低了源极和漏极之间的寄生电容,大幅降低了会影响器件 性能的漏电流;具有背面偏置能力和极好的晶体管匹配特性,没有闩锁效应, 对外部辐射不敏感,还具有非常高的晶体管本征工作速度等;
挑战:存在一定的负面浮体效应;二氧化硅的热传导率远远低于硅的热传导率 使它成为一个天然“热障” ,引起自加热效应;成本高昂。
场效应晶体管及其放大电路
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场 效 应 管 放 大
➢结型场效应管为
反极性偏置
电 路
C1 vI RG
TRL vO
➢耗尽型MOS场效
应管两者均可 自给偏压适用于结 型或耗尽型管
自给偏压式偏置(二)
VDD
C1
RD RCD 2 DT
vI RG RGS vs VGSO
B SCS
RL
VDD 在本集级成放大电电路RD中路的,VDD
截止区:vGS VGS (off )
第 一
可变电阻区:
节 :
vGS VGS (off )
场
0 vDS (vGS VGS (off ) )
饱和(恒流)区:
效 应 管
vGS VGS (off ) vDS (vGS VGS (off ) )
iD
kp 2
W L
(vGS
VGS (off ) )2
饱和漏极电流
iD / mA
节 :
结
变 I DSS 电
vGS 0V
恒 1 击
I DSS
型
场
效
阻 区
流 区
2 3
穿 夹断电压 区
应 管
4 vDS /V
VGS (off )
vGS /V 0
场效应管的微变信号模型
源极 栅极 漏极
SGD
g
SiO2
耗尽层
Vgs
N
N
P型衬底 B
g
Vgs
Cgb
s
gmVgs
sb
输入端直流偏置
vO vo
通的必电常要输平CGR由时出移1 G提 动前 加DS供 单级 入B 电 直元,路 流vo v称i 这R种2 偏置RS方式
第3章 半导体三极管及其基本放大电路
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3.2 三极管基本应用电路及其分析 方法
3.2.3图解分析法
1.用图解法确定静态工作点 在分析静态值时,只需研究直流通路,图3-19用图解法分析 电路的步骤如下: 1)作直流负载线
U CE U CC I C RC
上式确定的直线就是直流负载线。 2)确定静态工作点 利用 I BQ (UCC U BEQ ) I RB ,求得IBQ的近似值。在输出特 性曲线上,确定IB=IBQ的一条曲线。该曲线与直线MN的交 点Q就是静态工作点。 上一页 下一页
3.1.5温度对三极管的特性与参数的影响
1.温度对UBE的影响 三极管的输入特性曲线与二极管的正向特性曲线相似,温度 升高,曲线左移,如图3-9所示。 2.温度对ICBO的影响 三极管输出特性曲线随温度升高将向上移动,如图3 -10所 示。 3.温度对β的影响 温度升高,输出特性各条曲线之间的间隔增大,从而β值增 大,如图3-10所示。
上一页
下一页
3.1 双极型半导体三极管
3.1.6三极管的判别及其手册的查阅方法
1.三极管型号的意义 三极管的型号一般由五大部分组成如3AX31A、3DG12B、 3CG14G等。 2.三极管手册的查阅方法 1)三极管手册的基本内容 (1)三极管的型号。 (2)电参数符号说明。 (3)主要用途。 (4)主要参数。 2)三极管手册的查阅方法 (1)已知三极管的型号查阅其性能参数和使用范围。 (2)根据使用要求选择三极管。
3.1.4三极管的主要参数
3.极限参数 1)集电极最大允许电流ICM 2)反向击穿电压U(BR)CEO 3)集电极最大允许功耗PCM 根据给定的PCM值可以作出一条PCM曲线如图3-8所示,由 PCM、ICM和U(BR)CEO包围的区域为三1 双极型半导体三极管
场效应管及其应用
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结构; (b) N沟道 结型场效应管符号;
g 栅极
d 漏极 耗尽层
P
P
g
N
s 源极 (a)
d s (b)
d g
s
(c)
P沟道结型场效应
图 3.1结型场效应管
(3. 1)
01 02 03
图3.2表示的是结型场效应管施加偏置电压后的 接线图。
场效应管的特性曲线分为转移特性曲线和输出特 性曲线。
在uDS一定时, 漏极电流iD与栅源电压uGS之间 的关系称为转移特性。 即
03 2 )
场效应管放大电路的静态工作点可用式(3.4)或式 (3.5)与式(3.7)或式(3.8)联立求出UGSQ和IDQ, 漏源电压UDSQ由下式求得:
图3.12
场效应管 微变等效
id
d
电路
+
g+
uds
ugs
-
-
s
g+ ugs
- s
01
电压放大倍数:
02
(3. 10)
'03
输入电阻:
u iRR guR ( g od
iD d
- UGG
+
g
-
P
uGS +
P N
S
+ Rd
+
uDS
- UDD
-
图3.2 N沟道结 型场效应管工作 原理
图3.3 N沟道结型场效 应管转移特性曲线
iD / m A
IDSS 5 4
3 u DS =1 2 V
2
1 U GS ( of f) -4 -3 -2 -1 0
u GS /V
单击此处添加小标题
u u g R u (1
') 壹
《模拟电子技术基础》第3章 双极型晶体管及其基本放大电路
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3.2 双极型晶体管
3.2.4 晶体管的共射特性曲线
2.输出特性曲线—— iC=f(uCE) IB=const
以IB为参变量的一族特性曲线
(1)当UCE=0V时,因集电极无收集
作用,IC=0;
(2)随着uCE 的增大,集电区收集电
子的能力逐渐增强,iC 随着uCE 增加而
增加;
(3)当uCE 增加到使集电结反偏电压
电压,集电结应加反向偏置电压。
3.2 双极型晶体管
3.2.3 晶体管的电流放大作用
1. 晶体管内部载流子的传输
如何保证注入的载流
子尽可能地到达集电区?
P
N
IE=IEN + IEP
IEN >> IEP
IC= ICN +ICBO
ICN= IEN – IBN
IEN>> IBN
ICN>>IBN
N
IEP
IE
3. 晶体管的电流放大系数
(1) 共基极直流电流放大系数
通常把被集电区收集的电子所形成的电流ICN 与发射极电流
IE之比称为共基电极直流电流放大系数。
ത
I CN
IE
由于IE=IEP+IEN=IEP+ICN+IBN,且ICN>> IBN,ICN>>IEP。通常ത
的值小于1,但≈1,一般
ത
为0.9-0.99。
ത
3.2 双极型晶体管
3.2.3 晶体管的电流放大作用
3. 晶体管的电流放大系数
(2) 共射极直流电流放大系数
I C I CN I CBO I E I CBO ( I C I B ) I CBO
场效应管及其基本电路详解
![场效应管及其基本电路详解](https://img.taocdn.com/s3/m/472eadd3d1d233d4b14e852458fb770bf68a3b44.png)
uGS uGSo(ufG f S)thuGS uGSo(ufG f S)th
P - F E TuGD uGSo (ufG f S)thuGD uGSo (ufG f S)thuGS uGSo(ufG f S)th
uDS
(a)输出特性
图3―8输出特性
01 恒流区
02 uGS>UGSth 预夹断后所对应的区域。
03
uGD<UGSth(或uDS>uGS-UGSth) ○ 曲线间隔均匀,uGS对iD控制能力强。 ○ uDS对iD的控制能力弱,曲线平坦。
三、转移特性
iD≥0
当uGS<UGSth时,iD=0。
01
P沟
UGS /V
结型 P沟
iD
结型
MOS N沟
N 沟 耗尽型 增强型
UGS /V
0 -1
3 2
9 8
-2 1 7
-3 0 6
-4 -1 5
-5 -2 4
-6 -3 3
0
uDS
线性可变电阻区
uDS uG SuGS(o uG ff S)th
(b)输出特性
图3―12各种场效应管的转移特性和输出特性对比
2024/8/28
一、简介
二、分类
0 1
MOSFE T
0 2
N沟道
0 7
增强型
0 8
耗尽型
0 3
P沟道
0 4
增强型
0 5
NEMOSF
ET
0 9
NDMOS
FET
1 0
PEMOSF
ET
1 1
DMOS FET
0 6
耗尽型
2024/8/28
第3章 场效晶体管及场效晶体管放大电路
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3.3 场效晶体管的比较
场效晶体 管的分类
FET 场效晶体管
JFБайду номын сангаасT 结型
MOSFET (IGFET) 绝缘栅型
N沟道 P沟道 增强型
(耗尽型)
N沟道 P沟道
耗尽型
N沟道 P沟道
3.3 各种场效晶体管的比较
N
沟
道
绝增
缘 栅
强 型
场P
效沟
应道 管增
强
型
N 沟 道 耗
绝尽 缘型
栅
场P 效沟 应道 管耗
UDS
UGS
iD
++++ + +++
电沟M道O,SF在EUT是DS的利作用用栅下源形电成压i的D.
----
大 电小荷当,的UG来 多S>改少U变,GS(半从th)导而时体控, 沟表制道面漏加感极厚生电, 沟流道的电大阻小减。少,在相同UDS的作 用下,iD将进一步增加。
反型层
开始时无导电沟道,当在UGSUGS(th)时才形成沟 道,这种类型的管子称为增强型MOS管
iD(mA)
漏极饱和电流,用IDSS表示。
当UGS>0时,将使iD进一步增加。
当UGS<0时,随着UGS的减小漏
极电流逐渐减小,直至iD=0,对应
iD=0的UGS称为夹断电压,用符号
UP表示。
UP
UGS(V)
N沟道耗尽型MOS管可工作在UGS0或UGS>0
N沟道增强型MOS管只能工作在UGS>0
3. N沟道耗尽型MOS场效应管特性曲线
)2
(
UGS(off)
uGS
0)
共源极场效应管放大电路
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模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
3.3.2 交流放大特性
Ri Rg3 ( Rg1 // Rg2 )
模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
Hale Waihona Puke & & & g mU gs RL Uo Au & & & Ui U gs g mU gs RL g m RL 1 g m RL
U GS 2 I D I DO ( 1) (增强型MOS管) U GS(th)
U DS U DD I D ( Rd R)
模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
3.2.3 交流放大特性
共源极场效应管微变等效模型
模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
共源极场效应管放大电路的微变等效电路
式中RL ’ =RS∥RL 。 输出电压与输入电压同相,且gm RL 所以Au小于1,但接近于1。
’
>>1,
模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
Ri RG3 RG1 // RG 2
RO
1 1 gm RS
模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
分析可知,源极输出器的特点: 电压放大倍数小于且接近于1 输入电阻较高 输出电阻较低。
模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
3.2共源极场效应晶体管放大电路
3.2.1 电路结构
模拟电子技术
第3章 场效应管及其应用
3.2.2 直流静态工作点(P84)
U GS U G U S
Rg2 Rg1 Rg2
U DD I D RS
U GS 2 I D I DSS (1 ) (JFET和耗尽型MO S管) U GS(off)
场效应管放大电路
![场效应管放大电路](https://img.taocdn.com/s3/m/0e3386bc8662caaedd3383c4bb4cf7ec4afeb6a4.png)
场效应管放大电路场效应管放大电路与双极型晶体管放大电路类似,也有与之对应的三种基本组态:共源(共射)、共漏(共集)和共栅极(共基极)。
1.直流偏置及静态分析场效应管放大电路有两种常用的直流偏置方式:自给偏压和分压式偏置。
由于耗尽型(包括结型)管子在时就有漏极电流,利用这一电流在源极电阻上产生的电压给管子供应直流偏置,因此自给偏压仅适合于耗尽型管子。
分压式偏置方式,利用分压电阻供应的栅极直流电位和源极电阻上产生的直流压降共同建立栅源间极的直流偏置。
调整分压比可以使偏置电压为正或为负,使用敏捷,适合于各种场效应管。
场效应管放大电路的静态分析有图解法和解析法两种。
图解法与双极型晶体管放大电路的图解法类似,读者可对比学习。
解析法是依据直流偏置电路分别列出输入、输出回路电压电流关系式,并与场效应管工作在恒流区(放大区)漏极电流和的关系联立求解获得静态工作点。
2.动态分析场效应管放大电路的动态分析也有图解法和微变等效电路法两种。
它与双极型晶体管放大电路的分析法类似,读者可对比学习。
在双极型晶体管放大电路动态分析中,通常给出了管子的β值,而在场效应管放大电路分析中则需要利用解析法计算跨导gm。
例如耗尽型管子的由下式求得:上式表明gm与IDQ有关,IDQ越大,gm也就越大。
3.三种基本放大电路的特点场效应管放大电路的组态判别与双极型晶体管放大电路类似此处不再赘述。
三种基本放大电路的性能特点如表1所示。
表1 场效应管三种基本放大电路的性能特点共源极共漏极共栅极输入电阻大大小输出电阻较大小较大电压放大倍数大小于等于1大uo与ui的相位关系反相同相同相。
《场效应晶体管》课件
![《场效应晶体管》课件](https://img.taocdn.com/s3/m/0bce3e6ea4e9856a561252d380eb6294dc88226b.png)
在制造过程中,压力也是一个重要的参数,它能够影响材 料的物理性质和化学反应速度,从而影响晶体管的性能。
时间
时间是制造过程中的另一个重要参数,不同的工艺步骤需 要不同的时间来完成,时间过长或过短都可能影响晶体管 的性能。
气体流量
在化学气相沉积等工艺中,气体流量是关键的参数之一, 它能够影响材料的生长速度和均匀性,从而影响晶体管的 性能。
掌握搭建场效应晶体管放大电路的基本技 能。
05
06
学会使用示波器和信号发生器测试放大电 路的性能。
特性测量实验
实验三:场效应晶体管的 转移特性与输出特性测量
分析测量结果,理解场效 应晶体管的工作机制。
学习测量场效应晶体管频 率响应和噪声特性的方法。
掌握场效应晶体管转移特 性和输出特性的测量方法。
实验四:场效应晶体管的 频率响应与噪声特性测量
了新的可能。
制程技术优化与突破
制程技术
不断缩小晶体管的尺寸,提高集成度和能效比,同时降低制造成本。
突破
探索新型制程技术,如纳米线、纳米孔等新型器件结构,以提高场效应晶体管的性能和 稳定性。
应用领域的拓展与挑战
要点一
应用领域
场效应晶体管的应用领域不断拓展,包括通信、物联网、 智能制造、医疗电子等领域。
要点二
挑战
随着应用领域的拓展,对场效应晶体管的性能要求也越来 越高,需要不断研究和改进以满足市场需求。
Part
06
实验与习题
基本实验操作
实验一:场效应晶体管的认知与检测
01
02
了解场效应晶体管的基本结构和工作原理。
学习使用万用表检测场效应晶体管的方法 。
03
04
实验二:场效应晶体管放大电路的搭建与 测试
场效应晶体管放大电路
![场效应晶体管放大电路](https://img.taocdn.com/s3/m/4858af98a0c7aa00b52acfc789eb172ded63992e.png)
N
N
G
P+ P+
UDS G
P+ P+
UDS
UGS
S
S
第3页/共34页
Sect
3.1.2 JFET特性曲线
1. 输出特性曲线:
iD f (U DS )∣ UGS const
可变电阻区 线性放大区 ID=gm UGS 击穿区
2. 转移特性曲线:
ID
I
DSS
(1
U GS UP
)
2
IDSS:饱和栅极漏极电流,
着源极、栅极的次序焊在电路上; • 电烙铁或测试仪表与场效应晶体管接触时,均
第15页/共34页
各种场效应管所加偏压极性小结
结型
N沟道(uGS<0) P沟道(uGS>0)
场效应管
绝缘栅型
增强型
耗尽型
PN沟沟道道((uuGGSS<>00)) N沟道(uGS极性任意) P沟道(uGS极性任意)
uo
u gs
g m u gs
u ds
S
GD
Id
RG
Ui
Ugs
gm Ugs RD
RL
Uo
R2
R1
S
第26页/共34页
动态分析:
G
电压放大倍数
Id
RL
D
RG
Ugs
Ui R2R1RD g源自 UgsRL Uo•
•
Ui Ugs
S
ri
•
ro
Au gm R'L
•
•
Uo gm Ugs (RD // RL )
ID(mA)
第8页/共34页
UGS=6V
场效应管结合晶体管前置放大电路_概述及解释说明
![场效应管结合晶体管前置放大电路_概述及解释说明](https://img.taocdn.com/s3/m/c87e86890408763231126edb6f1aff00bfd57040.png)
场效应管结合晶体管前置放大电路概述及解释说明1. 引言1.1 概述场效应管和晶体管是电子学中常用的两种器件,它们在现代电路设计中起着重要的作用。
场效应管通过调控栅极电压来控制源极与漏极之间的导通状态,而晶体管则利用控制基极-发射极电压来控制集电极-发射极之间的导通状态。
这两种器件有着不同的工作原理和特性,但都可以被用来实现放大功能。
1.2 文章结构本文将围绕场效应管结合晶体管前置放大电路展开讨论。
首先,我们会介绍场效应管和晶体管的基本原理,包括它们的工作原理、特点和应用领域。
接下来,我们会概述前置放大电路的定义、用途以及常见分类及特点。
最后,我们会详细解析场效应管结合晶体管前置放大电路,包括其结合原理与优势、电路示意图及元件选型说明以及工作过程和信号增益分析。
1.3 目的本文旨在介绍场效应管结合晶体管前置放大电路,并对其原理和特点进行详细说明。
通过阅读本文,读者将能够了解场效应管和晶体管的基本原理、前置放大电路的概述,以及如何设计和分析场效应管结合晶体管前置放大电路。
同时,我们也希望能够展望该技术在未来的发展方向,为读者提供对电子学领域中这一重要电路的深入理解和应用的启示。
2. 场效应管和晶体管的基本原理:2.1 场效应管的工作原理:场效应管,也称为晶体管场效应管(FET),是一种三极电子器件。
它由沟道、栅极和漏源组成。
在工作时,栅极施加的电压可以控制沟道中电子的浓度,从而改变漏源之间的电流流动情况。
场效应管有两种主要类型:增强型(n通道与p通道)和耗尽型(n通道与p通道)。
增强型FET的工作原理如下:当栅极电压低于临界值时,沟道中存在很少数量的载流子;而当栅极电压高于临界值时,会形成一个导电通路并产生大量的载流子。
因此,在增强型FET中,栅极电压对沟道中载流子浓度和导电性能起到关键影响。
2.2 晶体管的工作原理:晶体管是一种用于放大信号和控制电流流动的半导体器件。
它由三个区域组成:发射区(Emitter)、基区(Base)和集电区(Collector)。
场效应管及放大电路
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场效应管是利用电场效应来控制电流 大小,与双极型晶体管不同,它是多子导 电,输入阻抗高,温度稳定性好、噪声低。 场效应管有两种: 绝缘栅型场效应管MOS 结型场效应管JFET
分类:
JFET 结型 MOSFET (IGFET) 绝缘栅型
N沟道
P沟道
(耗尽型) N沟道
FET 场效应管
ID=f(VDS)VGS=const
输出特性曲线
vGS 在恒流区,iD I D 0 ( - 1) 2 VT
I D 0是vGS 2VT时的iD值
输出特性曲线
(1) 截止区(夹断区) VGS< VT以下区域就是截止区 VGS VT ID=0
iD
(2) 放大区(恒流区) 产生夹断后,VDS增大,ID不变的 区域,VGS -VDS VP VDSID不变 处于恒流区的场效应管相当于一 个压控电流源 (3)饱和区(可变电阻区) 未产生夹断时,VDS增大,ID随着增大的区域 VGS -VDS VP VDSID 处于饱和区的场效应管相当于一个压控可变电阻
夹断 电压
在恒流区时 uGS 2 iD I DSS (1 ) Up
uGD=UGS(off)时称为 预夹断
3. 主要参数
① 夹断电压VP (或VGS(off)): 漏极电流约为零时的VGS值 。 ② 饱和漏极电流IDSS: VGS=0时对应的漏极电流。 ③ 低频跨导gm: 低频跨导反映了vGS对iD的控制作用。gm 可以在转移特性曲线上求得,单位是mS(毫西门子)。
2. 静态工作点
Q点: VGS 、 ID 、 VDS 已知VP ,由
vGS = - iDR
VDS = VDD - ID (Rd + R )
场效应管及其基本放大电路
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场效应管及其基本放大电路3.2.3.1 场效应管( FET )1.场效应管的特色场效应管出生于 20 世纪 60 年月,它主要拥有以下特色:①它几乎仅靠半导体中的多半载流子导电,故又称为单级型晶体管。
②场效应管是利用输入回路的电场效应来控制输出回路的电流,并以此命名。
③输入回路的内阻高达 107 -1012Ω;此外还拥有噪声低、热稳固性好、抗辐射能力强、耗电小,体积小、重量轻、寿命长等特色,因此宽泛地应用于各样电子电路中。
场效应管分为结型和绝缘栅型两种不一样的构造,下边分别加以介绍。
2.结型场效应管⑴结型场效应管的符号和N 沟道结型场效应管的构造结型场效应管(JFET)有 N 沟道和 P 沟道两种种类,图3-62(a) 所示为它们的符号。
N沟道结型场效应管的构造如图 3-62(b) 所示。
它在同一块 N型半导体上制作两个高混杂的P 区,并将它们连结在一同,引出电极,称为栅极 G; N 型半导体的两头分别引出两个电极,一个称为漏极 D,一个称为源极 S。
P 区与 N 区交界面形成耗尽层,漏极与源极间的非耗尽层地区称为导电沟道。
(a) 符号(b)N 沟道管的构造表示图图 3-62 结型场效应管的符号和构造表示图⑵结型场效应管的工作原理为使 N沟道结型场效应管正常工作,应在其栅 - 源之间加负向电压(即U GS0),以保证耗尽层蒙受反向电压;在漏- 源之间加正向电压u DS , 以形成漏极电流i D。
下边经过栅-源电压 u GS和漏-源电压 u DS对导电沟道的影响,来说明管子的工作原理。
①当 u DS=0V(即D、S短路)时, u GS对导电沟道的控制作用ⅰ当 u GS=0V时,耗尽层很窄,导电沟道很宽,如图3-63(a)所示。
ⅱ当 u GS增大时,耗尽层加宽,沟道变窄(图(b) 所示),沟道电阻增大。
ⅲ当u GS增大到某一数值时,耗尽层闭合,沟道消逝(图(c) 所示) , 沟道电阻趋于无穷大,称此时u GS的值为夹断电压U GS( off )。
第3章 场效晶体管及场效晶体管放大电路讲解
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3. 1 结型场效应管
一、结构
D 漏极
耗尽层 (PN 结)
符 号
P 型区 栅极 G
N
P+
型 沟
P+
道
N
N型硅棒
S 源极
在漏极和源极之间加 上一个正向电压,N 型半 导体中多数载流子电子可 以导电。
-1
-2
VDD
-3 击穿区
-4
-5 夹--76断区 O UP 8V
uDS /V
漏极特性也有三个区:可变电阻区、恒流区和夹断区。
(1) 输出特性 iD f ( u ) DS uGS const.
(2) 转移特性 iD f ( u ) GS uDS const.
iD
I DSS ( 1
要求:
1、掌握场效应管的分类、特点、特性曲线及参 数,了解其结构、工作原理。
2、掌握场效应管放大电路的分析方法和指标计 算。
场效晶体管分类:
FET 场效晶体管
JFET 结型
MOSFET (IGFET) 绝缘栅型
N沟道 (耗尽型)
P沟道
增强型
N沟道 P沟道
耗尽型
N沟道 P沟道
第3 章 效晶体管及场效晶体管放大电路
根据结构和工作原理不同,场效应管可分为 两大类:结型场效应管(JFET)和绝缘栅型场效应 管(IGFET).
场效应管:一种载流子参与导电,利用输入回路的电场 效应来控制输出回路电流的三极管,又称单极型三极管。
单极型器件(一种载流子导电);
特点
输入电阻高;
工艺简单、易集成、功耗小、体积小、 成本低。
晶体管放大电路
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U CEQ VCC I CQ Rc
列晶体管输入、输出回路方程,将UBEQ作为已知
条件,令ICQ=βIBQ,可估算出静态工作点。
15
阻容耦合共射放大电路的直流通路和交流通路
直流通路
I
=VCC-U
BQ
Rb
BEQ
I CQ I BQ
U CEQ VCC I CQ Rc
当VCC>>UBEQ时,
I BQ
Re起直流负反馈作用,其值越大,反馈越强,Q点越稳定。
32
3. Q 点分析
分压式电流负反馈工作点稳定电路
VBB IBQ Rb U BEQ IEQ Re
VBB
Rb1 Rb1 Rb2
VCC
Rb Rb1 ∥ Rb2
U BQ
Rb1 Rb1 Rb2
VCC
I EQ
U BQ
U BEQ Re
判断方法: Rb1 ∥ Rb2 (1 )Re ?
以N沟道为例
单极型管∶噪声小、抗辐射能力强、低电压工作
场效应管有三个极:源极(s)、栅极(g)、漏极(d),对应于晶体
管的e、b、c;有三个工作区域:截止区、恒流区、可变电阻区,对应于
晶体管的截止区、放大区、饱和区
1. 结型场效应管
结构示意图
3. 通频带
衡量放大电路对不同频率信号的适应能力
由于电容、电感及放大管PN结的电容效应,使放大电路在信号频率较低
和较高时电压放大倍数数值下降,并产生相移。
下限频率
f bw f H f L
上限频率
4. 最大不失真输出电压Uom:交流有效值 5. 最大输出功率Pom和效率η:功率放大电路的参数
6
§2 基本共射放大电路的工作原理
第3章场效应管及其放大电路习题解
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第3章场效应管及其放大电路习题解3.1教学内容与要求本章介绍了场效应管的结构、类型、主要参数、工作原理及其基本放大电路。
教学内容与教学要求如表1.1所示。
表3.1第3章教学内容与要求3.2内容提要3.1.1场效应晶体管1.场效应管的结构及分类场效应管是利用输入电压产生的电场效应来控制输出电流的,是电压控制型器件。
工作过程中起主要导电作用的只有一种载流子(多数载流子),故又称单极型晶体管。
场效应管有两个PN结,向外引出三个电极:漏极D、栅极G和源极S。
(1)栅源控制电压的极性对JFET,为保证栅极电流小,输入电阻大的特点,栅源电压应使PN结反偏。
N沟道JFET:UGS<0;P沟道JFET:UGS>0。
对增强性MOS管,N沟道增强型MOS管,参加导电的是电子,栅源电压应吸引电子形成反型层构成导电沟道,所以UGS>0;同理,P沟道增强型MOS管,UGS<0。
对耗尽型MOS管,因二氧化硅绝缘层里已经掺入大量的正离子(或负离子:N沟道掺入正离子;P沟道掺入负离子),吸引衬底的电子(或空穴)形成反型层,即UGS=0时,已经存在导电沟道,所以,栅源电压UGS 可正可负。
(2)夹断电压UGS(off)和开启电压UGS(th)对JFET和耗尽型MOS管,当|UGS|增大到一定值时,导电沟道就消失(称为夹断),此时的栅源电压称为夹断电压UGS(off)。
N沟道场效应管UGS(off)<0;P沟道场效应管UGS(off)>0。
对增强型MOS管,当UGS增加到一定值时,才会形成导电沟道,把开始形成反型层的栅源电压称为开启电压UGS(th)。
N沟道增强型MOS管UGS(th)>0;P沟道增强型MOS管UGS(th)<0。
(3)栅源电压uGS对漏极电流iD的控制作用场效应管的导电沟道是一个可变电阻,栅源电压uGS可以改变导电沟道的尺寸和电阻的大小。
当uDS=0时,uGS变化,导电沟道也变化但处处等宽,此时漏极电流iD=0;当uDS≠0时,产生漏极电流,iD≠0,沿沟道产生了电位梯度使导电沟道变得不等宽。
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沟道变窄 沟道电阻变大 ID变小 UGS继续减小,沟道继续变窄, G ID继续变小 当沟道夹断时,ID减小至0,此时 对应的栅源电压UGS称为夹断电压 UGS(off) 。
UGS
对于N沟道的JFET,UPGS(off) <0。
S
二、结型场效应管工作原理
② UDS对沟道的控制作用
当UGS=0时, UDS ID G、D间PN结的反向电 压增加,使靠近漏极处的耗 尽层加宽,沟道变窄,从上 至下呈楔形分布。 D ID N G UGS S P+ P+ UDS
iD(mA)
3. N沟道耗尽型MOS场效应管特性曲线
iD(mA)
UP 转移特性曲线
UGS(V) 输出特性曲线
3.2.3 场效应管的主要参数
一、直流参数
1. 开启电压UT:MOS增强型管的参数,栅源电压小于开启 电压的绝对值,场效应管不能导通。 2. 夹断电压UP:是耗尽型FET的参数,当UGS=UP 时,漏极电流 为零。 3. 饱和漏极电流IDSS
UGS(off)
# JFET有正常放大作用时,沟道处于什么状态?
结 型 场 效 应 管
N 沟 道 耗 尽 型
P 沟 道 耗 尽 型
3. 2 绝缘栅型场效应管MOSFE
Metal-Oxide Semiconductor Field Effect Transistor
由金属、氧化物和半导体制成。称为金属-氧化物-半 导体场效应管,或简称 MOS 场效应管。 特点:输入电阻可达1010(有资料介绍可达1014)以上。 增强型 N 沟道 耗尽型 类型 增强型 P 沟道 耗尽型
D DS
uGS/V
iD I D 0 ( uGS 1)2 ( uGS UT ) UT
电阻区
变化。
I D 0是uGS 2UT时的iD
3.2.2 N沟道耗尽型MOS场效应管 1. 结构
耗尽型MOS管存在 原始导电沟道
+++++++
2. N沟道耗尽型MOS场效应管工作原理
第3 章 场效晶体管及场效晶 体管放大电路
场效应管是通过改变外加电压产生的电场强 度来控制其导电能力的半导体器件。 它不仅具有双极型三极管的体积小、重量轻、 耗电少、寿命长等优点,而且还具有输入电阻高、 热稳定性好、抗辐射能力强、噪声低、制造工艺 简单、便于集成等特点。因而,在大规模及超大 规模集成电路中得到了广泛的应用。 根据结构和工作原理不同,场效应管可分为 两大类:结型场效应管(JFET)和绝缘栅型场效应 管(IGFET).
4. 栅源击穿电压U(BR)GS 场效应管工作时,栅源间 PN 结处于反偏状态,若 UGS > U(BR)GS , PN 将 被 击 穿 , 这 种 击 穿 与 电 容 击 穿的情况类似,属于破坏性击穿。
3.3 场效晶体管的比较
场效晶体 管的分类
N沟道
FET 场效晶体管 MOSFET (IGFET) 绝缘栅型 耗尽型 JFET 结型 P沟道
因此称其为单极型器件。
3. 晶体管的输入电阻较低,一般102~104; 场效晶体管的输入电阻高,可达109~1014
场效晶体管与晶体管的应用
均可用于放大电路和开关电路,构成品种繁多的集成电路。
3.4 场效晶体管放大电路
3.4.1 场效晶体管的直流偏置放大电路及静态分析
耗尽型场效应三极管当UGS=0时所对应的漏极电流。
4. 直流输入电阻RGS(DS):栅源间所加的恒定电压UGS与流过栅极 电流IGS之比。结型:大于107Ω,绝缘栅:109~1015Ω。
3.2.3
场效应管的主要参数
二、交流参数
1. 低频跨导gm :反映了栅源压对漏极电流的控制作用。
diD gm duGS
开始时无导电沟道,当在UGSUGS(th)时才形成沟 道,这种类型的管子称为增强型MOS管
另一方面,漏源电压UDS对漏极电流ID的控制作用 当UGS>UGS(th),且固定为某一值时,来分析漏源电压
UDS的不同变化对导电沟道和漏极电流ID的影响。 UDS=UDG+UGS =-UGD+UGS
UGD=UGS-UDS
当UDS为0或较小时,相当UGD >UGS(th) ,此时UDS 基本均匀降落 在沟道中,沟道呈斜线分布。在 UDS作用下形成ID。
漏源电压UDS对漏极电流ID的控制作用
UGD=UGS-UDS
增强型MOS管
当UDS增加到使UGD=UGS(th)时,
这相当于UDS增加使漏极处沟道 缩减到刚刚开启的情况,称为预夹断 。此时的漏极电流ID 基本饱和。 当UDS增加到UGDUGS(th)时, 此时预夹断区域加长,伸向S极。
场效应管:一种载流子参与导电,利用输入回路的电场 效应来控制输出回路电流的三极管,又称单极型三极管。
单极型器件(一种载流子导电); 特点 输入电阻高; 工艺简单、易集成、功耗小、体积小、 成本低。
要求:
1、掌握场效应管的分类、特点、特性曲线及参 数,了解其结构、工作原理。
2、掌握场效应管放大电路的分析方法和指标计 算。
S 源极
二、结型场效应管工作原理
根据其结构,它只能工作在反偏条件下,N沟道管加负 栅源电压, P沟道管加正栅源电压,否则将会出现栅流。 ①
UGS对沟道的控制作用
D ID N P+ P+ UDS
当UGS=0时,沟道最宽,沟道电阻最小,在UDS的 作用下N沟道内的电子定向运动形成漏极电流ID,此 时最大。 当UGS<0时 PN结反偏 耗尽层加厚
比UGS=0时的值要小。
在预夹断处
UGD=UGS-UDS =UP
S
综上分析可知
• 沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电,
所以场效应管也称为单极型三极管。
• JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因
此iG0,输入电阻很高。 • JFET是电压控制电流器件,iD受uGS控制 JFET是利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制,来改变导 电沟道的宽窄,从而控制漏极电流的大小。 • 预夹断前iD与uDS呈近似线性关系;预夹断后,iD趋于 饱和。
当UDS增加到使UGD=UGS(off) 时,在紧靠漏极处出现预夹 断。 此时UDS 夹断区延长 沟道电阻 ID基本不变
二、结型场效应管工作原理
③UGS和UDS同时作用时
当UP <UGS<0 时,
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
D ID N G UGS P+ P+ UDS
导电沟道更容易夹断, 对于同样的UDS , ID的值
场效晶体管分类:
JFET 结型 MOSFET (IGFET) 绝缘栅型 N沟道 P沟道 增强型 N沟道 P沟道 N沟道 P沟道 (耗尽型)
FET 场效晶体管
耗尽型
第3 章 效晶体管及场效晶体管放大电路
3.1 3.2 3.3 3.4 结型场效晶体管 绝缘栅型场效晶体管 各种场效晶体管的比较 场效晶体管放大电路
UDS增加的部分基本降落在随之加长的 夹断沟道上,ID基本趋于不变。
3、N沟道增强型MOS场效应管特性曲线
输出特性曲线 iD=f(uDS)uGS=C iD(mA) 转移特性曲线 iD=f(uGS)uDS=C
uDS(V) 当uGS变化时,R ON将随之 恒流区 (饱和区):uGS一定 变化,因此称之为可变 时,i 基本不随u 变化而
# 为什么JFET的输入电阻比BJT高得多?
三、结型场效应管的特性曲线
1. 转移特性(N 沟道结型场效应管为例) +
mA
iD f (u G S )
iD
U
DS
常 数
G
D
+
VGG
+
V
S V
UDS
VDD
uGS = 0 ,iD 最大; uGS 愈负,iD 愈小; uGS = UP ,iD 0。
G
D S V
+
VGG
+
V
VDD
uGS
O
U P 8V
UGS = 0V -1 -2 -3 -4 -5 -6 夹断区 -7
击穿区
uDS /V
漏极特性也有三个区:可变电阻区、恒流区和夹断区。
(1) 输出特性 i D f ( uDS ) uGS const. (2) 转移特性 i D f ( uGS ) uDS const. uGS i D I DSS ( 1 )2 ( UGS (off) uGS 0 ) UGS (off)
当UGS=0时,UDS加正向电压,产 生漏极电流iD,此时的漏极电流称为 漏极饱和电流,用IDSS表示。 当UGS>0时,将使iD进一步增加。 当UGS<0时,随着UGS的减小漏 极电流逐渐减小,直至iD=0,对应 iD=0的UGS称为夹断电压,用符号 UP表示。 UP N沟道耗尽型MOS管可工作在UGS0或UGS>0 N沟道增强型MOS管只能工作在UGS>0 UGS(V)
2. 极间电容
U DS C
Cgs—栅极与源极间电容 Cgd —栅极与漏极间电容 Csd —源极与漏极间电容
三、极限参数
1.最大漏极电流IDM
2.漏源击穿电压 U(BR)DS 当漏极电流 ID 急剧上升产生雪崩击穿时的 UDS 。 3. 漏极最大允许耗散功率 PDM
由场效应管允许的温升决定。漏极耗散功率转化为 热能使管子的温度升高。
(耗尽型)
N沟道
增强型 P沟道
N沟道
P沟道
3.3 各种场效晶体管的比较
N 沟 道 绝 增 缘 强 型
栅 场 效 应 管
P 沟 道 增 强 型
绝 缘 栅 场 效 应 管