半导体物理第10章半导体的光学性质和光电与发光现象
《半导体物理学》课程教学大纲
《半导体物理学》课程教案大纲一、课程说明(一)课程名称:《半导体物理学》所属专业:物理学(电子材料和器件工程方向)课程性质:专业课学分:学分(二)课程简介、目标与任务:《半导体物理学》是物理学专业(电子材料和器件工程方向)本科生的一门必修课程。
通过学习本课程,使学生掌握半导体物理学中的基本概念、基本理论和基本规律,培养学生分析和应用半导体各种物理效应解决实际问题的能力,同时为后继课程的学习奠定基础。
本课程的任务是从微观上解释发生在半导体中的宏观物理现象,研究并揭示微观机理;重点学习半导体中的电子状态及载流子的统计分布规律,学习半导体中载流子的输运理论及相关规律;学习载流子在输运过程中所发生的宏观物理现象;学习半导体的基本结构及其表面、界面问题。
(三)先修课程要求,与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接:本课程的先修课程包括热力学与统计物理学、量子力学和固体物理学,学生应掌握这些先修课程中必要的知识。
通过本课程的学习为后继《半导体器件》、《晶体管原理》等课程的学习奠定基础。
(四)教材与主要参考书:[]刘恩科,朱秉升,罗晋生. 半导体物理学(第版)[]. 北京:电子工业出版社. .[]黄昆,谢希德. 半导体物理学[]. 北京:科学出版社. .[]叶良修.半导体物理学(第版)[]. 上册. 北京:高等教育出版社. .[]. . , ( .), , , .二、课程内容与安排第一章半导体中的电子状态第一节半导体的晶格结构和结合性质第二节半导体中的电子状态和能带第三节半导体中电子的运动有效质量第四节本征半导体的导电机构空穴第五节回旋共振第六节硅和锗的能带结构第七节族化合物半导体的能带结构第八节族化合物半导体的能带结构第九节合金的能带第十节宽禁带半导体材料(一)教案方法与学时分配课堂讲授,大约学时。
限于学时,第节可不讲授,学生可自学。
(二)内容及基本要求本章将先修课程《固体物理学》中所学的晶体结构、单电子近似和能带的知识应用到半导体中,要求深入理解并重点掌握半导体中的电子状态(导带、价带、禁带及其宽度);掌握有效质量、空穴的概念以及硅和砷化镓的能带结构;了解回旋共振实验的目的、意义和原理。
半导体的光学性质
半导体的能带结 构:具有导带和 价带导带中的电 子可以自由移动 价带中的电子被 束缚在原子核周
围
半导体的载流子: 包括电子和空穴 电子是导电的主 要载流子空穴是
辅助载流子
半导体的电导率: 与温度、光照、 磁场等因素有关 可以通过改变这 些因素来调节半
导体的电导率
半导体的光学性 质
半导体的光吸收
半导体太阳能电池的发展 趋势
半导体显示技术
半导体显示技术是利用半导体材料 制作显示器的技术
半导体显示技术具有高亮度、高对 比度、低功耗等优点
添加标题
添加标题
添加标题Biblioteka 添加标题半导体显示技术包括LCD、OLED、 LED等
半导体显示技术广泛应用于手机、 电视、电脑等电子产品
半导体光学性质 的研究进展
半导体的光学性质
汇报人:
目录
添加目录标题
01
半导体的基本特性
02
半导体的光学性质
03
半导体光学性质的应用
04
半导体光学性质的研究进 展
05
添加章节标题
半导体的基本特 性
半导体的定义
半导体是一种介 于导体和绝缘体 之间的材料
半导体的导电性 能可以通过掺杂 来控制
半导体的导电性 能受温度、光照 等环境因素影响
半导体的光吸收特性:半导体对光的吸收能力与其材料性质、结构、尺寸等因素有关 光吸收原理:半导体中的电子吸收光子能量后从价带跃迁到导带形成电子-空穴对
光吸收应用:半导体的光吸收特性在光电转换、太阳能电池、光电探测器等领域有广泛应用
光吸收效率:半导体的光吸收效率与其材料、结构、尺寸等因素有关可以通过优化设计提高光吸收效率
光电导效应:半导体在光照 下产生电流的现象
半导体物理第十章半导体的光学性质
吸收 自发吸收
受激辐射:
当处于激发态(E2)的原子收到另一个能量为(E2-E1)的光子 作用时,受激原子立刻跃迁到基态E1,并发射一个能量也 为(E2-E1)的光子。这种在光辐射的刺激下,受激原子从激 发态向基态跃迁的辐射过程,成为受激辐射。 受激辐射光子的全部特性(频率,位相,方向和偏振态等 与入射光子完全相同。 受激辐射过程中,一个入射光子能产生两个相位,同频率 的光子
透过一定厚度d的媒质(两个界面):
T = (1− R)2 e−αd
如:玻璃,消光系数k=0 T=(1-R)2=0.962~92%
10.2 半导体的光吸收
本征吸收 直接跃迁,间接跃迁 其他吸收过程
10.2.1 本征吸收
本征吸收: 电子吸收光子由价带激发到导带的过程
条件:
hω ≥ hω0 = Eg
反射系数
R = ( n1 − n2 )2 n1 + n2
= ( n −1− ik )2 n +1− ik
=
(n −1)2 + k 2 (n +1)2 + k 2
玻璃折射率为 n~1.5,k~0, 反射率R~4% 如某一材料 n~4, k~0, 反射率为 R~36%
透射系数,透过某一界面的光的能流密度比值: T=1-R
把处于激发态E2的原子数大于处于基态E1的原子数的这种 反常情况,成为“分布反转”或“粒子数反转”。
要产生激光,必须在系统中造成粒子数反转。
粒子数反转条件
为了提高注入效率 异质结发光: PN结两边禁带宽度不等,势垒不对称。 空穴能注入N区,而电子不能注入P区。 P区为注入区,N区为发光区。
半导体物理复习资料
第一章 半导体中的电子状态1.导体、半导体、绝缘体的划分:Ⅰ导体内部存在部分充满的能带,在电场作用下形成电流;Ⅱ绝缘体内部不存在部分充满的能带,在电场作用下无电流产生; Ⅲ半导体的价带是完全充满的,但与之上面靠近的能带间的能隙很小,电子易被激发到上面的能带,使这两个能带都变成部分充满,使固体导电。
2.电子的有效质量是*n m ,空穴的有效质量是*p m ;**np m m -=,电量等值反号,波矢k 与电子相同 能带底电子的有效质量是正值,能带顶电子的有效质量是负值。
能带底空穴的有效质量是负值,能带顶空穴的有效质量是正值。
3.半导体中电子所受的外力dtdkh f ⋅=的计算。
4.引进有效质量的意义:概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。
第二章 半导体中杂质和缺陷能级1.施主能级:被施主杂质束缚的电子的能量状态称为施主能级E D ;施主能级很接近于导带底;受主能级:被受主杂质束缚的空穴的能量状态称为受主能级E A ;受主能级很接近于价带顶。
施主能级图 受主能级图2.浅能级杂质:杂质的电离能远小于本征半导体禁带宽度的杂质,电离后向相应的能带提供电子或空穴。
深能级杂质:能级位于禁带中央位置附近,距离相应允带差值较大。
深能级杂质起复合中心、陷阱作用;浅能级杂质起施主、受主作用。
3.杂质的补偿作用:半导体中同时含有施主和受主杂质,施主和受主先相互抵消,剩余的杂质发生电离。
在Ⅲ-Ⅴ族半导体中(Ga-As )掺入Ⅳ族杂质原子(Si ),Si 为两性杂质,既可作施主,亦可作受主。
设315100.1-⨯=cm N A ,316101.1-⨯=cm N D ;则316100.1-⨯=-=cm N N n A D 由p n n i ⋅=2,可得p 值;①p n ≈时,近似认为本征半导体,i F E E =;②p n μμ=时,本征电导p n σσ=; p n >>时,杂质能级靠近导带底;第三章 半导体中载流子的统计分布1.费米分布函数(简并半导体)⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛⋅-+=Tk E E E f F 0exp 11)((本征);⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛⋅-+=T k E E E f F 0exp 2111)((杂质);玻尔兹曼分布函数(非简并半导体) ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛⋅-=T k E A E f B0exp )(;2.费米能级:TF N F E ⎪⎭⎫⎝⎛∂∂==μ;系统处于热平衡状态,也不对外界做功的情况下,系统中增加一个电子所引起系统自由能的变化,等于系统的化学势,也就是等于系统的费米能级。
半导体物理-第10章-半导体的光学性质
光电导的弛豫时间越短,光电导的定态值也越小(即灵敏 度越低)
10.2.3 复合中心和陷阱对光电 导的影响
高阻光电材料中典型的 复合中心对光电导的影响。 这样的材料对光电导起决定 作用的是非平衡多数载流 子,因为非平衡少数载流子 被陷在复合中心上,等待与 多数载流子的复合。
复合中心和多数载 流子陷阱作用。延 长了光电导的上升 和下降的驰豫时间, 降低了定态光电导 灵敏度。
4. 晶格吸收
半导体晶格热振动也可引起对光的吸收,光子能量直接 转变为晶格热振动的能量,使半导体的温度升高,这样的 光吸收过程称为晶格吸收。晶格吸收光谱在远红外范围, 对于离子晶体或离子性晶体具有较明显的晶格吸收作用
10.2 半导体的光电导 10.2.1 光电导的描述
光照射半导体,使其电导率改变的现象为光电导效应。 (1)本征光电导:本征吸收引起载流子数目变化。 (2)杂质光电导:杂质吸收引起载流子数目变化。
这种自由载流子吸收光子之后,实际上是在同一能带中发 生不同状态之间的跃迁,因此吸收的光子能量不需要很大, 所以吸收光谱一般在红外范围
3. 杂质吸收
当温度较低时,半导体施主能级上束缚的电子(或受 主能级上束缚的空穴)没有电离,被束缚的电子(或被 束缚的空穴)吸收光子的能量之后,可激发到导带(或 价带)中去,这样的光吸收过程称为杂质吸收。
2 光电池的电流-电压特性
金属和p型半导体接触阻挡层的光致电流为
IL
qAN0
1
Ln
exp
d
式中:A为接触面积;N0为在单位时间内单位接触面 积从表面到扩散区内产生的电子-空穴对数;λ为入 射光平均深入的距离;d为耗尽宽度
P-n结光致电流表示
IL qQA Lp Ln
半导体物理-刘恩科-第10章第2节
10.2.3.2 自由载流子吸收
对于一般半导体材料,当入射光子的频率丌 够高,丌足以引起本征吸收或激子吸收时,仍有 可能观察到光吸收,而且其吸收强度随波长增大 而增加。这是自由载流子在同一带内的跃迁引起 的,称为自由载流子吸收。 这种跃迁同样必须满足能量守恒和动量守恒 关系。和本征吸收的非直接跃迁相似,电子的跃 迁也必须伴随着吸收或发射一个声子。自由载流 子吸收一般是红外吸收。
1.可参见《光电导物理及其应用》,应根裕编著,电子工业出版社,P1112; 2.可参见《半导体物理学》第二版,上册,叶良修编著,高等教育出版社, P531-537;
10.2.3.2 自由载流子吸收
以右图所示的Ge的价带为例, 该价带由三个独立的能带组成, 每一个波矢k对应于分属三个带 的三个状态。价带顶实际上是由 两个简并带组成,空穴主要分布 在这两个简并带顶的附近,第三 个分裂的带则经常被电子填满。 在p-Ge的红外光谱中观测到的三 个波长分别为3.4,4.7和20m 的吸收峰,分别对应于右图中的 c、b和a跃迁过程。这个现象是 确定价带重叠的重要依据。
10.2.3.3 杂质吸收
束缚在杂质能级上的电子或空穴也可以引起光的吸 收。杂质能级上的电子可以吸收光子跃迁到导带;杂质能 级上的空穴也同样可以吸收光子跃迁到价带。这种光吸收 称为杂质吸收。 由于束缚状态并没有一定的准动量,这样的跃迁过程 丌受选择定则的限制。因此电子(空穴)可以跃迁到任意的 导带(价带)能级,从而引起连续的吸收光谱。杂质吸收的 最低的光子能量hν 0等于杂质上电子或空穴的电离能Ei (见 下图中a和b的跃迁);因此,杂质吸收光谱的长波吸收限 ν 0由杂质电离能Ei=hν 0决定。 一般情况下,电子向导带底以上的较高能级跃迁,或 空穴向价带顶以下的较低能级跃迁的概率都比较小,因此, 杂质吸收光谱主要集中在吸收限Ei附近。由于Ei小于禁带 宽度Eg,杂质吸收一般在本征吸收限以外的长波区域形成 吸收带。
第十章-半导体的光学性质和光电_.....
杂质吸收
杂质可以在半导体的禁带中引入杂质能级,例 如Ge和Si中的III族和V族杂质。占据杂质能级 的电子或空穴的跃迁可以引起光吸收,这种吸 收称为杂质吸收,可以分为下面三种类型: 吸收光子可以引起中性施主上的电子从基 态到激发态或导带的跃迁; 中性受主上的空穴从基态到激发态或价带 的跃迁; 电离受主到电离施主间的跃迁; 由于杂质能级是束缚态,因而动量没有确定的 值,所以不必 满足动量守恒的要求,因此跃迁 几率较大。
在半导体中。最主要的吸收过程是电子由价带 向导带的跃迁所引起的光吸收,称为本征吸收 或基本吸收.这种吸收伴随着电子-空穴对的产 生,使半导体的电导率增加,即产生光电导。 显然,引起本征吸收的光子能量必须等于或大 于禁带宽度,即
h h 0 = E g
对应的波长称为本征吸收限。根据上式,可得 出本征吸收长波限的公式为
I = I 0e
半导体的光吸收吸收
半导体材料中的电子吸收光子的能量,从能量较低 的状态跃迁到能量较高的状态。这种跃迁可以发生 在: 1、不同的能带之间; 2、同一能带的不同状态之间; 3、禁带中的分立能级之间; 4、禁带中的分立能级和能带之间。 以上各种吸收引起不同的吸收过程。
本征吸收
1.242 c = ( mm) Eg (eV )
Burstein-Moss effect
吸收谱与吸收边
吸收系数对光子能量(或波 长)的依赖关系称为吸收谱。 本征吸收限可在吸收谱中明 显地表现出来。吸收系数曲 线在短波端陡峭地上升,是 半导体吸收谱突出的一个特 点。它标志着本征吸收的开 始。 通常把吸收限附近的吸收谱 称为吸收边。它相应于电子 由价带顶附近到导带底附近 的跃迁。
E g E P w E g E p w < E g
半导体的光学性质和光电与发光现象
束缚在杂质能级上的电子或空穴也可以引起光的吸收。
电子可以吸收光子跃迁到导带能级;光电导灵敏度一般定义为单位光照度所引起的光电导。
复合和陷阱效应对光电导的影响少数载流子陷阱作用多数载流子陷阱作用本征光电导的光谱分布指对应于不同的波长,光电导响应灵敏度的变化关系。
杂质光电导对于杂质半导体,光照使束缚于杂质能级上的电子或空穴电离,因而增加了导带或价带的载流子浓度,产生杂质光电导。
4半导体的光生伏特效应当用适当波长的光照射非均匀半导体(pn结等)时,由于内建电场的作用(不加外电场),半导体内部产生电动势(光生电压);如将pn结短路,则会出现电流(光生电流)。
这种由内建场引起的光电效应,称为光生伏特效应。
pn结的光生伏特效应由于pn结势垒区内存在较强的内建场(自n区指向p区),结两边的光生少数载流子受该场的作用,各自向相反方向运动:p区的电子穿过pn结进入n区;n区的空穴进入p区,使p端电势升高,n端电势降低,于是pn结两端形成了光生电动势,这就是pn结的光生伏特效应。
光电池的电流电压特性5半导体发光1.处于激发态的电子可以向较低的能级跃迁,以光辐射的形式释放能量。
也就是电子从高能级向低能级跃迁,伴随着发射光子。
这就是半导体的发光现象。
2.产生光子发射的主要条件是系统必须处于非平衡状态,即在半导体内需要有某种激发过程存在,通过非平衡载流子的复合,才能形成发光。
3.发光过程:电致发光(场致发光)、光致发光和阴极发光。
其中电致发光是由电流(电场)激发载流子,是电能直接转变为光能的过程。
辐射跃迁从高能态到低能态:1.有杂质或缺陷参与的跃迁2.带与带之间的跃迁3.热载流子在带内跃迁上面提到,电子从高能级向较低能级跃迁时,必须释放一定的能量。
如跃迁过程伴随着放出光子,这种跃迁称为辐射跃迁。
半导体物理第10章半导体的光学性质和光电与发光现象
二、激子吸收
激子可以在整个半导体材料中运动,由于它是电中性的,因 此,激子的运动并不形成电流。
对于常用的半导体材料,其禁带宽度都比较小,因而激子能 级都靠的很近,所以,激子吸收必须在低温下用分辨率极高的仪 器设备才能观测到。
随着超晶格、量子阱结构的出现,室温下在量子阱结构中观 测到了稳定的二维激子,并利用量子阱激子的纵向电场效应,已 制备出了光学双稳态器件和光调制器件。
二、激子吸收
激子中电子与空穴之间的关系,类似于氢原子中电子与质子的关系,因 此,激子具有和孤立氢原子相同的量子化能级。
根据氢原子的能级公式,激子的束缚能为:
Eenx
=
−
q4
8ε02ε2 rh2n2
mr*
mr*
=
m*p ⋅ mn* m*p + mn*
为电子、空穴的折合质量。
n = 1,2,L, ∞
n = 1 时,为激子的基态能级 Ee1x ;
间接跃迁(非竖直跃迁): 不遵守选择定则的跃迁。电子不仅与电磁波作用而吸收光子,同时还和晶
格交换一定的振动能量,即发射或吸收一个声子。显然,间接跃迁是电子、光 子和声子三者同时参与的过程。其能量关系为:
hv0 ± Ep = 电子能量差△E
式中Ep为声子的能量,“+” 表示吸收声子,“—” 表示发射声子。通常声子的 能量非常小,可忽略不计,即有:
在实际中,发生间接跃迁的几率比直接跃迁的几率小的多。 间接跃迁 的光吸收系数比直接跃迁的光吸收系数小很多。 直接跃迁的光吸收系数约 为104~106/cm,而间接跃迁的光吸收系数约为1~103/cm。
一、本征吸收
对于直接带隙半导体GaAs,当 hv ≥ hv0
α
GaAs
(完整版)半导体物理第十章习题答案
第10章 半导体的光学性质和光电与发光现象补充题:对厚度为d 、折射率为n 的均匀半导体薄片,考虑界面对入射光的多次反射,试推导其总透射率T 的表达式,并由此解出用透射率测试结果计算材料对光的吸收系数α的公式。
解:对上图所示的一个夹在空气中的半导体薄片,设其厚度为d ,薄片与空气的两个界面具有相同的反射率R 。
当有波长为λ、强度为I 0的单色光自晶片右侧垂直入射,在界面处反射掉I 0R 部分后,其剩余部分(1-R)I 0进入薄片向左侧传播。
设材料对入射光的吸收系数为α ,则光在薄片中一边传播一边按指数规律exp(-αx )衰减,到达左边边界时其强度业已衰减为(1-R)I 0exp(-αd )。
这个强度的光在这里分为两部分:一部分为反射光,其强度为R(1-R)I 0exp(-αd );另一部分为透出界面的初级透射光,其强度为(1-R)2I 0exp(-αd )。
左边界的初级反射光经过晶片的吸收返回右边界时,其强度为R(1-R)I 0exp(-2αd ),这部分光在右边界的内侧再次分为反射光和透射光两部分,其反射光强度为R 2(1-R)I 0exp(-2αd ),反射回到左边界时再次被衰减了exp(-αd )倍,即其强度衰减为R 2(1-R)I 0exp(-3αd )。
这部分光在左边界再次分为两部分,其R 2(1-R)2I 0exp(-3αd )部分透出晶片,成为次级透射光。
如此类推,多次反射产生的各级透射光的强度构成了一个以 (1-R)2I 0exp(-αd )为首项,R 2exp(-2αd )为公共比的等比数列。
于是,在左边界外测量到的总透过率可用等比数列求和的公式表示为()22211d id i Re T T R e αα---==-∑由上式可反解出用薄片的透射率测试值求材料吸收吸收的如下计算公式410ln()2A d Tα-+=- 式中,薄片厚度d 的单位为μm ,吸收系数α的单位为cm -1,参数A ,B 分别为21R A R -⎛⎫= ⎪⎝⎭;21R B =空气 薄片 空气入射光I 0 反射光I 0R1.一棒状光电导体长为l ,截面积为S 。
半导体物理第十章1详解
−1
, Eg
−
Ep
<
hv
≤
Eg
+
Ep
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20
2007-12-13
21
伯斯坦移动
重掺杂半导体,如n型半导体,由于费米能 级进入导带,导带底的电子能级被电子占 满,价带电子只能跃迁到费米能级以上,所 以本征吸收的长波限向短波方向移动;
第十章
半导体光学性质和光电与发光现象
光与半导体相互作用的一般规律, 并用光子与晶体中电子、原子的相 互作用来研究半导体的光学过程。
内容: 半导体光学常数
光吸收;
光电导;
光生伏特效应;
半导体发光;
半导体激光;
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1
半导体的光学常数
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2
折射率和吸收系数
电磁波在不带电的各向同性的均匀 介质中传播时应满足如下方程:
⎫ ⎪ ⎪⎪
⎬
k2
=
−
1 2
εr
⎡ ⎢1 − ⎢⎣
⎛⎜1 + ⎝
σ2
ω
2ε
r
2ε
2 0
⎞1/ 2 ⎟ ⎠
⎤⎪ ⎥⎪ ⎥⎦ ⎭⎪
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8
导电媒质中平面波传播的波动方程为:
Ey
=
E0
exp
⎡⎢⎣iω
⎛ ⎜⎝t− NhomakorabeaNx c
⎞⎤ ⎟⎠⎥⎦
对于电介质,N为实数,对于导电媒质,N为
复数,其实数部分为一般折射率,其虚数部分
半导体吸收谱的特点:为连续的吸收带!
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13
本征吸收
电子由能带与能带之间跃迁所形成的吸收过程;
《半导体物理学》【ch10】 半导体的光学性质和光电与发光现象 教学课件
半导体的光吸收
01 本征吸收
10. 2.1 本征吸收 hw0是能够引起本征吸收的最低限度光子能量,也即,对应于本征吸收光谱, 在低频方面必然存在 一个频率界限ω0(或者说在长波方面存在一个波长界限λ0)。当角频率低于ω0或波长大于λ0时, 不可能产生本征吸收,吸收系数迅速减小。这种吸收系数显著减小的特定波长λ0(或特定角频率ω0) 称为半导体的本征吸收限。图10- 4 给出几种半导体材料的本征吸收系数和波长的关系,曲线短波 端陡峻地上升标志着本征吸收的开始。根据式(10-26 ),并应用关系式w= 2πc/λ ,可得出本征 吸收限的公式为
半导体的光学常数
01 折射率和吸收系数
10. 1. 1 折射率和吸收系数 代入式(10 -10 ) , 得
半导体的光学常数
01 折射率和吸收系数
10. 1. 1 折射率和吸收系数 这说明,当光波在媒质中传播时, H0与§0的数值不同, 且两者之间有一相差θ=arctan k/n,从 式(10- 14a)得知,当σ≠0 时,光波以c/n的速度沿x方向传播,其振幅按exp (-wkx/c) 的形式 减小。这里n 是通常的折射率,而是则是表征光能衰减的参量, 称为消光系数。既然光波的电矢量 和磁矢量都按指数exp (-wkx/ c) 衰减,而能流密度( 以坡印廷矢量表示)正比于电矢量和暗矢量 振幅的乘积, 其实数部分应该是光强度I 随传播距离Z 的变化关系。因此,光强度按exp ( -2wkx/ c ) 衰减,即 用透射法测定光的衰减〈见图10 -1 )时,发现媒质中光的衰减与光强度成正比, 引入比例系数的 得
半导体的光吸收
01 本征吸收
10. 2.1 本征吸收 根据半导体材料不同的禁带 宽度,可算出相应的本征吸 收限。例如,目的Eg=1. 12eV, λ0 ≈ 1.1μm; GaAs的 Eg=1. 43eV , λ0≈0. 867μm,两者吸收限都在红 外区; CdS 的Eg=2. 42eV, λ0≈ 0.513μm,在可见光区。
半导体物理第十章1
2
(n − 1) + k R= 2 2 (n + 1) + k
2 2
10
透射系数
RI 0
d
R(1 − R) I 0 e−α d
透射系数和反 射系数满足:
(1 − R) I 0
I0
(1 − R) I 0e−α d
(1 − R) 2 I 0e−α d
T = 1− R
光透射一定厚度的媒质: (假设两个界面反射系数 均为R,吸收系数为α )
杂质能级上的电子吸收光子跃迁到导带,价带 电子吸收光子能量跃迁到空着的杂质能级(空 穴吸收能量由杂质能级发射到价带); 杂质吸收谱长波限:
c f a e d b
hv0 ≥ EI
(a,b,c,d)
电离杂质吸收谱长波限:
hv ≥ Eg − EI (f,e)
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2007-12-13
相对光电导:
Δσ
σ0
=
Δnμn + Δp μ p n0 μn + p0 μ p
对于本征光电导:
Δσ
Δn = Δp
μn 其中: b = μ p
(1 + b)Δn = σ 0 bn0 + p0
当n0,p0较小时,可获得高的相对光电导, 所以光敏电阻一般由高阻材料制成;
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虽然本征光吸收中激发的电子和空穴数相 等,但通常是作为多数载流子的光生载流 子具有较长的自由时间,而另一种载流子 则往往被一些陷阱所束缚,从而使得:
2007-12-13 6
透射法测得光衰减规律为:
媒质中的光衰减与光强成正比;
dI = −α I dx
I = I0e
半导体物理学[第十章半导体的光学性质]课程复习
第十章半导体的光学性质10.1 理论概要与重点分析(1)半导体与光的相互作用可以用一些光学常数来描写。
①光进入半导体要发生折射,用折射率来描写,定义其复折射率跃迁前后,电子有各自的波矢,设跃迁前电子在价带中的波矢为k,跃迁后在导带中为k'。
如果k'=k (10.10) 即跃迁前后的准动量不发生变化的跃迁,在能带图上是竖直的称为直接跃迁,这种跃迁对直接带隙半导体(如GaAs)一开始本征吸收就是直接跃迁。
由于它仅限于电子和光子的相互作用,而不需要第三者参与,所以其吸收效率是很高的,吸收系数可达104~106cm-1。
如果吸收前后电子的波矢不等,在吸收光子能量达到能量守恒的同时,必须吸收或发射一个声子,即k'-k=±q (10.11) 以达到动量守恒。
其中q为格波声子波矢。
这种跃迁在能带图上是非竖直的,因而称为间接跃迁。
发生间接跃迁,必须要声子参与,是一个二级过程。
因此它的吸收效率要低一些,吸收系数一般在1~103cm-1的量级,例如Ge,Si等间接带隙半导体,刚达长波限的光子发生的本征吸收必须声子参与才能实现这种跃迁。
式(10.10)和式(10.11)分别是直接和间接跃迁的选择定则。
本征吸收的特点是:电子一空穴成对产生,要产生附加光电导,有明显的长波限,吸收短于长波限的连续光谱,吸收满足选择定则。
②激子吸收。
吸收λ以外长波方向的线状谱,不产生附加光电导,在低温、高纯半导体中才能观察到。
③自由载流子吸收。
在同一能带中,电子吸收光子从低能级跃迁到高能级。
发生在红外长波方面,波长越长吸收系数越大,电子的波矢要发生改变。
熟知的半导体,Ge、Si、GaAs等,价带有三个重叠的能带组成。
对p型半导体,自由载流子红外吸收光谱,有三个直接跃迁的吸收峰,对这种现象的分析,实际上是确定价带具有重叠结构的重要依据。
④杂质吸收。
在杂质能级上的电子吸收光子跃入导带,价带电子跃入杂质能级,受主电子跃入电离施主等多种形式。
半导体物理 半导体的光学性质
的物理意义:光在介质中传播距离为 1 时,光的强度
衰减到原来的 1 e 。
➢ 反射率与透射率的关系:
T 1-R
R:反射率 T:透射率
(10.11)
§10.2 本征吸收
一、光在电介质中传播时强度衰减的现象,称 为光吸收
电子吸收光子能量后 将跃迁
(即能量状态改变)
1.不同能带的状态之间; 2.同一能带的不同状态之间; 3.禁带中能级与能带之间。
2.间接禁带半导体中,仍可能发生直接跃迁。Ge吸收谱 的肩形结构的解释,P306,图10.8。
3.重掺杂半导体(如n型),Ef进入导带,低温时,Ef以 下能级被电子占据,价带电子只能跃迁到Ef以上的状态,因而 本征吸收长波限蓝移,即伯斯坦移动(Burstein-Moss效应)。
4.强电场作用下,能带倾斜,小于Eg的光子可通过光子 诱导的隧道效应发生本征跃迁,既本征吸收长波限红移,即弗 朗兹-克尔德什(Franz-Keldysh)效应。
A
矢保持不变,则原来在价带中的状态A的电子
只能跃迁到导带中的状态B。A与B在E(k)曲线
0
k 上位于同一垂线上,因而这种跃迁称为直接跃
迁。在A到B直接跃迁中所吸收光子的能量与图
中垂直距离AB相对应。显然,对应于不同的k,垂直距离各不相
等。即,相当于任何一个k值的不同能量的光子都有可能被吸收,
而吸收的光子最小能量应等于禁带宽度Eg。由此可见,本征吸收
电子、光子和声子共同参与跃迁过程。
能量守恒:h E p E f Ei Eg 动量守恒:h / q k f ki
E
0
S Ef
声子角频率:
:
p
10
13
Hz,E p
半导体的光学性质
半导体的光学性质如果用适当波长的光照射半导体,那么电子在吸收了光子后将由价带跃迁到导带,而在价带上留下一个空穴,这种现象称为光吸收。
半导体材料吸收光子能量转换成电能是光电器件的工作基础。
光垂直入射到半导体表面时,进入到半导体内的光强遵照吸收定律:()01x x I I r e α-=-式中,x I 表示距离表面x 远处的光强;0I 为入射光强;r 为材料表面的反射率;α为材料吸收系数,与材料、入射光波长等因素有关.1 本征吸收半导体吸收光子的能量使价带中的电子激发到导带,在价带中留下空穴,产生等量的电子与空穴,这种吸收过程叫本征吸收.要发生本征光吸收必须满足能量守恒定律,也就是被吸收光子的能量要大于禁带宽度g E ,即g h E ν≥,从而有:00 1.24g g g E h hc E m eV E νλμ≥⇒≤=⋅其中h 是普朗克常量,ν是光的频率.c 是光速,ν0:材料的频率阈值,λ0:材料的波长阈值,下表列出了常见半导体材料的波长阀值。
几种重要半导体材料的波长阈值电子被光激发到导带而在价带中留下一个空穴,这种状态是不稳定的,由此产生的电子、空穴称为非平衡载流子。
隔了一定时间后,电子将会从导带跃迁回价带,同时发射出一个光子,光子的能量也由上式决定,这种现象称为光发射。
光发射现象有许多的应用,如半导体发光管、半导体激光器都是利用光发射原理制成的,只不过其中非平衡载流子不是由光激发产生,而是由电注入产生的。
发光管、激光器发射光的波长主要由所用材料的禁带宽度决定,如半导体红色发光管是由GaP 晶体制成,而光纤通讯用的长波长(1。
5μm )激光器则是由Ga x In 1-x As 或Ga x In 1-x As y P 1—y 合金制成的。
2非本征吸收非本征吸收包括杂质吸收、自由载流子吸收、激子吸收和晶格吸收等.2.1杂质吸收杂质能级上的电子(或空穴)吸收光子能量从杂质能级跃迁到导带(空穴跃迁到价带),这种吸收称为杂质吸收。
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二、激子吸收
激子可以在整个半导体材料中运动,由于它是电中性的,因 此,激子的运动并不形成电流。
对于常用的半导体材料,其禁带宽度都比较小,因而激子能 级都靠的很近,所以,激子吸收必须在低温下用分辨率极高的仪 器设备才能观测到。
随着超晶格、量子阱结构的出现,室温下在量子阱结构中观 测到了稳定的二维激子,并利用量子阱激子的纵向电场效应,已 制备出了光学双稳态器件和光调制器件。
△E = hv0
一、本征吸收
间接跃迁的动量关系为:
( ) hkr′
−
r hk
± hqr = 光子动量
光子动量与电子动量相比较非常小,可忽略不计,即有:
( ) hkr′
−
r hk
= mhqr
式中 “-” 表示发射声子,“+” 表示吸收声子。上式说明,间接跃迁过程 既要考虑电子与电磁波的相互作用,还要考虑电子与晶格的相互作用。
hv ≥ Eg
kr′
−
r k
=
0
或
kr′
=
r k
E
0'
我们把遵守选择定则的跃迁称为直
接跃迁(或竖直跃迁);
把不遵守选择定则的跃迁称为间接
0
跃迁(或非竖直跃迁)。
Eg
k
一、本征吸收
直接跃迁(竖直跃迁): 遵守选择定则的跃迁。在直接跃迁过程中,电子只与电磁波相互作用,与
晶格不发生相互作用,即只有电子和光子参与,没有声子参与的跃迁。
⎩ 1+R
半导体中的光吸收
光在导电媒质中传播时有光衰减现象,即产生了光的吸收,半导体材 料也能强烈的吸收光能。
产生光吸收的机理:入射光子与导体或半导体材料中的载流子相互作 用的结果。
当一束光照射到半导体上时,照射光子与半导体中电子的相互作用有 以下四种形式:
光子与内壳层电子 光子与价电子 光子与自由载流子 光子与束缚在杂质中心或晶格缺陷上的电子
Eg=1.12eV Eg=0.67eV Eg=1.43eV Eg=2.45eV Eg=2.42eV
λ0 = 1.1μm λ0 = 1.85μm λ0 = 0.867μm λ0 = 0.506μm λ0 = 0.513μm
红外波段 可见光波段
一、本征吸收
2、直接跃迁和间接跃迁
当一定波长的光照射半导体材料,电子吸收能量从价带跃迁入导带产生 的光吸收时,必须遵守能量守恒和动量守恒(或者说遵守选择定则),即:
E0
e
−ωk c
x
是光波电分量的振幅。
一、折射率和吸收系数
在光学理论中:
I = I0e−α x
其中:
α = 2ωk
C
α 称为介质对光的吸收系数
物理意义:α 标志着光透入介质的平均深度,即 xd,或者说,光在媒质中传
播 x=1/a 距离时,光能量减弱为原来的 1/e 。所以:
α = 2ωk = 2ω
n = ∞, Ee∞x = 0 对应导带底能级。
n=3
n=2 n =1
吸 收
n=1
Ec
Ee2x
E
1 ex
Ev
n=2 n>3
hν
二、激子吸收
根据激子中电子和空穴之间平均距离的大小,可以将激子分为两种: 一种为弗兰克尔(Frenkel)激子,电子—空穴对的存在范围与晶格常数相近,而且, 激子与所属晶格结合得很强,所以, 弗兰克尔激子在晶体中运动困难。 一种为汪尼尔(Wannier)激子,电子—空穴对的存在范围为晶格常数的几倍以至几十 倍,激子和所属原子间的束缚比较弱,所以, 汪尼尔激子易于在晶体中运动。 激子在运动过程中可以通过两种途径消失: 其一是通过热激发或其它能量的激发使激子分离成为自由电子和空穴; 其二是激子中的电子和空穴通过复合,使激子消失,同时放出能量。
在实际中,发生间接跃迁的几率比直接跃迁的几率小的多。 间接跃迁 的光吸收系数比直接跃迁的光吸收系数小很多。 直接跃迁的光吸收系数约 为104~106/cm,而间接跃迁的光吸收系数约为1~103/cm。
一、本征吸收
对于直接带隙半导体GaAs,当 hv ≥ hv0
α
GaAs
后,一开始就有强烈的吸收,即吸收系数
一、折射率和吸收系数
对 ① 式求旋度,得:
∇
2
r E
− σμr μ0
r ∂E ∂t
− μr μ0ε rε 0
∂
2
r E
∂t 2
=
0
只考虑波沿 x 方向传播,上式可简化为一维形式,即:
∂
2
r E
∂x 2
−
μr μ0σ
∂Er ∂t
−
μr μ0ε rε 0
∂
2
r E
∂t 2
=
0
上式的解为:
( ) iω(t− x )
所以
σ 2 << 1
ω
2ε
r2ε
2 0
可得到
α = 2ω
C
εr [1+ 1 σ 2 −1] = σ
2
2
ω
2ε
r2ε
2 0
Cεr ε0
εr
显然 α ∝ σ
二、反射系数和透射系数
1、反射系数
R
=
反射光强度 入射光强度
,R的大小与入射角有关。
垂直入射时:
R
=
(n −1)2 (n +1)2
+ k2 + k2
二、激子吸收
激子中电子与空穴之间的关系,类似于氢原子中电子与质子的关系,因 此,激子具有和孤立氢原子相同的量子化能级。
根据氢原子的能级公式,激子的束缚能为:
Eenx
=
−
q4
8ε
02ε
2 r
h
2
n
2
mr*
mr*
=
m*p ⋅ mn* m*p + mn*
为电子、空穴的折合质量。
n = 1,2,L, ∞
n = 1 时,为激子的基态能级 Ee1x ;
本章讨论光和半导体相互作用的规律。
第十章 Part 1 10.1 半导体的光学常数 10.生伏特效应 10.5 半导体发光
半导体的光学常数
一、折射率和吸收系数
1、折射率和吸收系数
∇
×
r E
=
−
∂Br
①
∇×
r H
=
r J
∂t +
r ∂D
三、自由载流子吸收
当入射光的频率 v 低于本征吸收限v0,且不足以形成激子时, 仍有吸收存在,而且其吸收强度随着波长的增大而增加(或频率的 降低而增大),这是同一能带中的电子受电磁波加速运动时,由于 散射而引起的吸收,是自由载流子在同一带内的跃迁所引起,称为 自由载流子吸收。
三、自由载流子吸收
自由载流子吸收与本征吸收的区别在于:电子从低能态到较高能态的跃迁 是在同一能带中进行。但它们仍然遵守能量守恒和动量守恒。
陡峻上升,对应于直接跃迁过程。
α
Ge
Si
0
hv
对于间接带隙半导体 Si、Ge,当 hv0 = Eg 时,本征吸收开始。随着光子能量的增加,
吸收系数上升到一段较平缓的区域,对应于
间接吸收,当 hv 进一步增大时,吸收系数
0
hν 陡增,对应于直接跃迁过程。
二、激子吸收
由光激发产生的电子,一部分发生带间跃迁成为自由电子,一 部分则无法到达导带,与留在价带中的空穴通过库仑力结合在一起 ,形成一种处于激发状态的新系统,新系统中的电子和空穴不能单 独移动,且呈电中性,把这种状态的电子—空穴对称为激子,这样 的光吸收称为激子吸收。
其中,内壳层电子的光吸收以及对色散的影响都在X射线波段,与半导体 的性质没有直接关系。
在半导体中,根据能带结构的特征,其光吸收可分为以下几类:
1、带内吸收 2、带间吸收
自由载流子吸收
谷间跃迁吸收
本征吸收
直接跃迁吸收 间接跃迁吸收
较高能量带间跃迁吸收
杂质吸收
3、能带与局部能级间的吸收
等电子陷阱吸收 激子吸收
CC
εrμr [
2
1
+
ω
σ 2ε
2
r2ε
2 0
−1]
一、折射率和吸收系数
讨论:
<1>对于绝缘体σ = 0,所以α = 0,这说明绝缘体对于光是透明的。
注意:α = 0,是指自由载流子对光的吸收系数,而其他因素对于光的吸收不见 得等于零。另外,α 除与材料本身有关外,还随光的波长变化。
<2>对于半导体:σ =1~103s/cm,ω ≈1015/s,μr = 1,
4、局部能级间的吸收 D — A 对吸收
一、本征吸收
电子在价带与导带之间的跃迁所形成的吸收过程称为本征吸收。 本征吸收的特点:
伴随着电子从价带到导带的跃迁,在半导体中出现了电子—空穴 对。
产生本征吸收的条件:
hν
EC
hv ≥ Eg
Eg
EV
一、本征吸收
1、半导体的本征吸收限
产生本征吸收的光子能量下限:
等于杂质能级上电子或空穴的电离能 ΔEI 。
所以杂质吸收也存在一个长波吸收限,即:
hv0 = ΔEI < Eg
四、杂质吸收
显然,杂质能级越深,要求的光子能量也就越大,吸收峰也 越靠近本征吸收限。
对于大多数半导体材料,其施 主和受主杂质能级都靠近导带和 价带,即△EI 很小,与之对应的 杂质吸收出现在远红外区,且吸 收也非常微弱。因此,对杂质吸 收的观测是比较困难的。
Ey x, t = E0e v
式中 Ey 为电场 E 的一个分量。
一、折射率和吸收系数