第五章 场致电子发射

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场致发射原理范文

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场致发射原理范文场致发射(Field Emission)是一种利用电场高强度的原理,从密集的金属尖端(例如钨尖、铕尖等)发射出电子的现象。

它是一种重要的电子发射机制,广泛应用于电子显微镜、射频微波器件、荧光显示器等领域。

本文将详细介绍场致发射的基本原理及其应用。

场致发射的原理基于量子力学的隧道效应。

当金属中存在一个极强的电场时,电子将被束缚在金属表面的费米能级附近。

如果金属尖端存在几何形状的尖缘,尖缘周围的电场会进一步增强,使得费米能级在尖端附近弯曲。

当电场强度超过一些阈值(一般为10^7~10^8V/m),电子有足够的能量穿过势垒,从金属尖端逸出发射。

场致发射的电子具有高速、高亮度和稳定性的特点,适用于要求高分辨率和高灵敏度的应用。

场致发射的机理可以通过费米面的形变来解释。

当金属尖端附近的电场强度增加时,费米面在尖端附近形成一个“弯曲”,即费米能级随距离的变化而变化。

这个费米面的弯曲导致了能态在空间上的重叠,即形成了一系列的波函数。

根据波函数的正交性,这些波函数中的一部分将趋向无穷大,使电子能够隧道穿过势垒,从而实现发射。

为了实现场致发射,需要满足一定的条件。

首先,金属尖端的半径应该尽量小,以增大周围的电场强度。

其次,金属尖端的表面应该尽量光滑,以防止电子被表面缺陷散射。

同时,正常的材料表面都会存在气体吸附,吸附的气体会降低电子隧穿经过的概率,因此需要对尖端进行氧化处理等,减少气体吸附。

最后,为了保证金属尖端之间形成足够的电场强度,通常需要对尖端进行高电压的加速。

场致发射在电子技术中有着广泛的应用。

最常见的应用之一是电子显微镜。

电子显微镜利用场致发射的高能电子来替代传统的光学显微镜,可以获得更高的分辨率和放大倍数。

此外,场致发射还用于制造射频微波器件,例如场发射管和冷阴极管。

在场发射管中,电场强度被用于控制电子的发射和加速;而在冷阴极管中,场致发射的电子作为多个发射源之一,被用于激发荧光屏。

此外,场致发射还用于荧光显示器和光电倍增管等领域。

焊接工艺学习题解答

焊接工艺学习题解答

第一章1、解释下列名词:焊接电弧、热电离、场致电离、光电离、热发射、场致发射、光发射、粒子碰撞发射、热阴极型电极、冷阴极型电极。

焊接电弧:由焊接电源提供能量,在具有一定电压的两电极之间或电极与母材之间的气体介质中产生的强烈而持久的放电现象。

热电离:气体粒子受热的作用而产生电离的过程。

场致电离:在两电极间的电场作用下,气体中的带电粒子的运动被加速,最终与中性粒子发生非弹性碰撞而产生电离。

光电离:中性粒子受到光辐射的作用而产生的电离过程。

热发射:固态或者液态物质(金属)表面受热后其中的某些电子具有大于逸出功的动能而逸出表面的现象。

场致发射:当固态或者液态物质(金属)表面空间存在强电场时,会使阴极较多的电子在电场的作用下获得足够的能量而克服电荷之间的静电吸引而发射出表面。

光发射:当固态或者液态物质(金属)表面接受光射线的辐射能量时,电极表面的自由电子能量增加最后飞出电极表面的现象。

粒子碰撞发射:当高速运动的粒子(电子或正离子)会碰撞金属电极表面,将能量传给电极表面的电子,使电子能量增加并飞出电极表面的现象。

冷阴极型电极:当使用钢,铜,铝等材料作为阴极时,其熔点和沸点都较低,阴极温度不可能很高,热发射不能提供足够的电子,这种电弧称为“冷阴极电弧”,电极称为“冷阴极型电极”。

热阴极型电极:当使用钨,碳等材料作阴极时,其熔点和沸点都较高,阴极可以被加热到很高的温度,电弧阴极区的电子可以主要依靠阴极热发射来提供,这种电弧称为“热阴极电弧”,电极称为“热阴极型电极”。

2、试述电弧中带电粒子的产生方式。

答:电弧中的带电粒子指的是电子、正离子和负离子。

赖以引燃电弧和维持电弧燃烧的带电粒子是电子和正离子,这两种带电粒子的产生主要依靠电弧中的气体介质的电离和电极的电子发射两个过程。

气体的电离形式有:热电离,场致电离和光电离。

电子发射方式有:热发射场致发射光发射粒子碰撞发射3、焊接电弧由哪几个区域组成?试述各区域的导电机构。

2011 第五章_场致电子发射

2011 第五章_场致电子发射

∆φ (eV)
阴极电子学 UESTC2011
电场在半导体中的渗透作用(简并情况) 图5-17 电场在半导体中的渗透作用(简并情况)
阴极电子学 UESTC2011
图5-18 半导体表面能态的影响
阴极电子学 UESTC2011
Ⅰ曲线:不考虑场渗透, 曲线:不考虑场渗透, 式(5-68) ) Ⅱ曲线:考虑场渗透,且渗透较深, 曲线:考虑场渗透,且渗透较深, 式(5-71) ) Ⅲ曲线:考虑场渗透和存在表面态, 曲线:考虑场渗透和存在表面态, 式(5-72) ) X点:表面态使势垒增加部分刚好 点 被抵消
阴极电子学
阴极电子学
第五章 场致电子发射
• 本章内容
什么是场致发射
探寻原因 引言
发射机理的探讨
建立模型
§5.1节 节
推导出场致发射电流公式(j=….) 推导出场致发射电流公式( )
应用
§5.1节 节
实例说明(材料、工艺) 实例说明(材料、工艺)
§5.2节+补充 节 补充
阴极电子学 UESTC2011
热发射
场致发射 (隧道效应) 隧道效应)
隧道效应——粒子能穿透比它能量还要高的势垒的现象, 粒子能穿透比它能量还要高的势垒的现象, 隧道效应 粒子能穿透比它能量还要高的势垒的现象 对势垒宽度十分敏感
阴极电子学 UESTC2011
经典力学
量子力学
量子隧穿示意图
阴极电子学 UESTC2011
(1) 微粒性
υ0

单位t,单位 , 方向速度分量在 单位 ,单位A,x方向速度分量在 vx~vx+dvx的电子数
求解步骤: 求解步骤: 1)求出 dvv x 表达式 ) 2)求出e逸出满足的条件 x>vx0 =?) )求出 逸出满足的条件(v 逸出满足的条件 3)积分 j = e ∫ dυ vx )

第七章_场致发射(PDF)

第七章_场致发射(PDF)

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7.3 SED显示技术 FED的分支-SED
SED的全称是“Surface-conduction Electronemitter Display”, 即“表面传导电子发射显 示器“。 SED与当前平板显示器市场上的主流产品LCD、PDP 相比,有着明显的优势。最大的优势是画质好, 达到了CRT的水平。除此之外,SED在暗处对比 度、电力消耗、层次特性的表现上全面胜出现有 的LCD和PDP,而成本又低于LCD和PDP显示器。 发光原理就是高速电子撞击荧光粉发光,这与普 通电视显像管(CRT)的原理是一样的,只是电子 发射阴极不同而已。
6
问题的分析
为了获得可利用的场致发 射电流,阴极表面必须有 相当高的加速电场强 度。
由静电学知识可知,极小 曲率半径的金属针尖表面 容易形成极强的电场,即 “尖端放电”。
因而将场致发射体(阴 极)做成曲率半径很小的 针尖 。
7
7.2 FED的构成及制作工艺
FED的结构
FED平面显示器是一个真空电子器件,它由两块平 板玻璃,周边用特殊的玻璃封接而成。 阳极板上有红、绿、蓝三基色荧光粉条,它们之 间由黑矩阵隔开。 阴极板上有行列寻址的微尖场发射阵列和栅极。 每一个像素由相交的金属带行列的交叉点所选 通,而每一个金属带交叉点像素中包含有大量的 微尖。 阳极板和阴极板之间有支撑结构,以抵抗大气 压。
8
FED结构
9
在FED中,电子是由与荧光屏大小相同的场发射阴极 阵列发出的,每个荧光粉发光点对应一个场发射阴 极。阴极发射电流由行和列电极上的电压控制,发光 是逐行进行的,因此每个阵列阴极的发射电流远远小 于CRT中的电子束流。
通常,由场发射阴极构成行电极,控制栅极(或称门 极)构成列电极。

光电场致发射技术在半导体制造中的应用

光电场致发射技术在半导体制造中的应用

光电场致发射技术在半导体制造中的应用随着科技的不断进步和发展,半导体制造业也迎来了空前的繁荣。

其中,光电场致发射技术在半导体制造中的应用日益广泛,成为了半导体领域中的热门技术之一。

本文将从光电场致发射技术的原理、应用以及未来发展等方面进行探讨,以期更好地了解该技术在半导体领域中的重要性和前景。

一、光电场致发射技术的原理光电场致发射技术(PCSE)是一种基于光电效应的电子发射技术。

该技术利用光子能量激发材料表面的电子,使其克服表面势垒而逸出材料表面并被收集。

其基本原理为:在材料表面附近施加一个外部电场,通过光子能量激发物质表面的电子从而逸出材料表面,最终被收集。

相比传统的热电子发射(THz)技术,PCSE技术具有更高的发射速率和更低的能量消耗,可在低能量下实现高效电子发射。

这一技术成为制备高品质电子材料的强大工具。

二、光电场致发射技术在半导体制造中的应用1.金属印刷在半导体制造中,金属印刷是一种非常重要的工序,它是制备精密电路的关键步骤。

传统的金属印刷技术虽然可以获得高质量的印刷效果,但其生产效率较低,且污染较大。

而采用光电场致发射技术的金属印刷工艺可以实现微米级别的印刷,使生产效率大大提高,且制程污染也大幅减少。

2.微电子加工在微电子加工中,PCSE技术也有着广泛的应用。

通过使用PCSE技术,可以实现微电子元件的高速自行组装和精密加工,无需使用传统的制备工艺,从而大大降低制造成本。

3.集成电路制造在集成电路制造中,PCSE技术可以有效提高集成电路的制造效率和质量,进一步促进半导体行业的发展。

采用PCSE技术对芯片表面进行精密加工,不仅可以使芯片电子元件的尺寸更加精细,还可以降低生产成本和加速工艺流程。

三、光电场致发射技术未来的发展随着半导体材料的不断更新和半导体工艺技术的日新月异,光电场致发射技术在未来还有着更加广阔的应用前景。

未来,PCSE 技术将进一步提高制造效率和精度,并在新型器件制造和芯片规模集成方面发挥重要作用。

阴极电子学重点归纳总结

阴极电子学重点归纳总结
2)E较弱时,T影响很大 3)E很强时,T影响较弱 4)E增强时,右边的虚线向左边
靠近,表明势垒高度降低 5)E增强时,峰左移,表明低能
电子增多
图5-5 温度和场强对场致发射电子能量分布的影响
阴极电子学 UESTC2013
AE:忽略空间电荷效应 BD:空间电荷限制情形 ACD:考虑空间电荷影响情形
图5-6 空间电荷效应对场致发射的影响 阴极电子学 UESTC2013
钨酸盐与ZrH2热分解 BaZrO3与Ba向表面扩散
生成自由Ba 阴极电子学 UESTC2013
浸渍式铝酸盐Ba-W阴极制备工艺
1. 制备活性物质
BaCO3、Al2O3混合压制
2. 制备海绵W基体
W粉粒度分级
压制成型
烧结生成铝酸盐(Ba3Al2O6)
H2或真空中烧结
海绵W
3. 浸盐
铝酸盐和粘结剂混合
阴极电子学 UESTC2013
F(μ)
1 2
-10 0 10 20 30 40
μ
-1
-2
图6-4 福勒函数曲线 阴极电子学 UESTC2013
电子 光
EC
EF E
V
空穴 半导体
光电子
E
χ
0
φ hν0
Eg
1、光子被吸收,产生电子跃迁
2、受激电子向固体-真空界面处 运动
3、电子越过表面势垒向真空逸出
真空
原子薄膜阴极:
逸出功低(2.6~3.0eV), 增大(40~100mA/W)
敷钍钨阴极具有高 的原因:
W表面形成一层钍原子薄膜
阴极电子学 UESTC2013
§2.1 敷钍钨阴极的热发射现象
T3>T2>T1 T3

第五章-1 场致发射平板显示器 2011.12.22

第五章-1 场致发射平板显示器 2011.12.22

Spindt-FEA制作过程
行电极、栅极 蒸发Mo尖
栅极孔光刻
牺牲层Al膜
腐蚀Al、Mo
硅衬底FEA制作流程
n型 导电电极
SiO2硅掩摸 刻蚀硅片
腐蚀
氧化硅层
氧化成硅尖 条状电极
光刻成圆盘
SiO2/金属
硅尖的SEM结果
FED 器件
5.2”Picture of a Color FED
Source: PixTech web site at .
⎡ ⎤ 7 χ n exp ⎢− 6.78 × 10 θ ( y )⎥ Ex ⎣ ⎦
3/ 2
ε −1 y = 3.79 ×10 ( ) ε +1
4
ε—介电常数,χ—电子亲和势,n—导带 电子浓度
微尖阵列场致发射阴极(FEA)
硅基底FEA:硅尖,金属尖 玻璃基底FEA:微尖,薄膜边缘发射体, 碳纳米管(CNT),金刚石薄膜,MIS, MIM TFT-FEA
真空度的维持
发射性能下降——表面气体吸附 使用消气剂: 蒸散型(钡、锶、钙、镁等及合金) 非蒸散型(过渡元素锆、钛等及合金)
荧光粉
低压荧光粉(<500V) 流明效率低、寿命短、容易饱和等问题
Cathode Luminescence
Penetration 5.0μm phosphor depth grain Anode voltage
障壁分割型二极管CNT-FED
驱动电压高
障壁分割型三极管CNT-FED
必须解决障壁的电荷积累问题,大 面积难以实现
栅极在下的CNT-FED
国外FED研发状况
第一代 时间 尺寸 1968-2000 15英寸以下 阴极种类 Spindt,类金刚石薄膜 主流国家 美国,欧洲 代表公司 美国Pixtech 状态 研发 第二代 2001年以后 CNT,印刷型 目标30英寸以上 日本,韩国 伊势,三星,PFE 产业化前夜

场致发射原理

场致发射原理

场致发射原理场致发射原理是指在强电场或强磁场的作用下,材料中的电子受到激发而从固体表面发射出来的现象。

这种发射方式与传统的热发射和光电发射不同,它不需要高温或光照,而只需要外加电场或磁场的作用即可实现电子的发射。

场致发射在电子学、光电子学、材料科学等领域具有重要的应用价值。

场致发射的原理是基于量子力学的电子隧穿效应。

在材料中,电子被束缚在原子核附近的能级中。

当外加电场或磁场达到一定强度时,电子的能量会增加,足以克服束缚力,从而逃逸出来。

这个过程可以用电子隧穿效应来解释,即电子通过量子隧道从材料中逃逸。

在场致发射中,电子的逃逸受到多种因素的影响。

首先是材料的性质,包括禁带宽度、电子亲和能、晶格结构等。

禁带宽度越小,电子逃逸的能量越低,逃逸的电子数目越多。

电子亲和能越小,电子逃逸的能量越低,逃逸的电子数目越多。

晶格结构对电子的逃逸也有一定影响,某些晶格结构能够提供更多的逃逸路径,从而增加逃逸电子数目。

其次是外加电场或磁场的作用强度。

当外加电场或磁场的作用强度越大时,电子逃逸所需的能量越小,逃逸的电子数目越多。

但是当作用强度过大时,可能会引起材料的损坏或失效,因此需要在适当的范围内选择。

温度也会对场致发射产生一定影响。

在一定温度下,材料中的电子具有一定的热运动能量,这会增加电子逃逸所需的总能量。

因此,较高的温度会减弱场致发射的效果。

场致发射具有一些独特的优点。

首先是发射电子的速度非常快,一般在纳秒或皮秒的时间尺度内完成。

这使得场致发射在高速电子学器件中具有重要的应用。

其次,场致发射不需要高温或光照,这样可以减少能量的消耗和材料的损伤。

此外,场致发射还具有很高的空间分辨率,可以实现微米甚至纳米级别的电子发射。

场致发射在许多领域有着广泛的应用。

在电子学中,场致发射被用于产生高速脉冲电子束,用于光电子学器件的驱动和调制。

在光电子学中,场致发射被用于产生高亮度的电子源,用于光阴极和显示器件。

在材料科学中,场致发射被用于研究材料的电子输运性质和表面形貌。

场致发射法[场致发射法]

场致发射法[场致发射法]

场致发射法[场致发射法]场致发射机理及特点场致电子发射也称冷电子发射,是与热电子发射完全不同性质的一种电子发射方式。

热电子发射是靠升高物体温度,给发射体内部的电子以附加能量,使一些电子越过发射体表面势垒逸出而形成的电子发射方式。

这种方式的发射能耗高,同时还有时间的延迟性。

场致发射则不同,它并不需要提供给体内电子以额外的能量,而是靠强的外加电场来压抑物体的表面势垒,使表面势垒的高度降低、宽度变窄,这样发射体内的大量电子由于隧道效应穿透表面势垒逸出形成场致电子发射。

而且它没有时间延迟、功耗低,因而场致发射是一种非常有效的电子发射方式。

场致发射时,随外加电场的增强发射体的表面势垒的高度越来越低、宽度越来越窄,从发射体表面逸出的电子越来越多,这样场致发射电流越来越大。

Fowler-Nordheim利用量子理论研究了场致发射现象,推导出了F-N场致发射公式场致发射法式中:E为外加电场场强的大小,A和B是与发射体的功函数有关的常数。

由上式可见场致发射电流密度大小与外加电场场强和发射体的功函数有密切的关系。

因此利用场致发射时,就应选择合适的材料作发射体,并设计恰当的发射体结构,才能在尽量低的电压得到所需的电子发射量以满足器件工作的要求。

场致发射阴极可分两大类:一类是微尖型。

一般材料功函数较大要形成场致发射时场强应在107V/cm以上,根据场强E与极间电压V成正比的关系:E=βV其中比例因子β,也称场强变换几何因子。

它是由阴极与阳极形状以及极间距离等决定的。

低压下形成场致发射,需要利用尖端效应,将阴极表面作成具有很大曲率的尖端才能获得高场强。

常用的场致发射阴极有通过近代薄膜微电子工艺制作的Spint型[2](金属尖锥)、硅尖锥型、混合型(在金属尖锥表面在镀上一层功函数小的金属薄膜Cs、Ta、Pt等)。

另一类为薄膜场致发射阴极。

近年来金刚石薄膜与类金刚石薄膜作为场致发射阴极的研究正在深入进行,这类材料具有负的电子亲和势,功函数为0.2~0.3eV,因此做场致发射阴极非常合适。

平板显示技术基础—习题答案

平板显示技术基础—习题答案

第一章习题答案一、填空题1. 投影型空间成像型直视型阴极射线管显示器平板显示器2. 主动发光型非主动发光型3. CRT投影技术LCD投影技术数字光处理器表面数字微晶装置4. 阴极射线管电子束电子枪阴罩荧光粉层5. 等离子体气体放电发光6. 半导体硅上的液晶玻璃半导体硅材料7. 头盔显示器全息显示器8. 真空荧光真空荧光管9. 无数个小发光二极管拼接10. 300mm×400mm 2二、名词解释1. 主动发光型显示器是指利用电能使器件发光,显示文字和图像的显示技术。

2. 被动发光型显示器是指器件本身不发光,需要借助于太阳光或背光源的光,用电路控制外来光的反射率和透射率,才能实现显示。

3. 投影型显示器是用显示器显示图像后,再经光学系统放大后投影到屏幕上的一种显示。

4. 空间成像型显示器是空间虚拟图像,也是投影显示的一种,代表技术是头盔显示器5. 电致发光显示器是利用某些材料在外界电场作用下发光实现显示的一种主动发光显示器。

6. 场致发射显示器是一种用冷阴极在高电场作用下发射电子,轰击涂覆在屏幕上的荧光粉发光实现显示的。

7. 发光二极管显示器是采用无数个小发光二极管拼接组成的显示器。

8. 响应时间是指显示器对输入信号的反应时间,如像素由暗转到亮,再由亮转到暗的图像完全显示所用的时间。

9. 亮度是指在单位面积上显示器画面明亮程度。

10. 开口率是像素的有效透光区面积与像素总面积的比值。

11. 对比度是指显示器的最大亮度与最小亮度的比值。

12. 灰度是指在白和黑之间的亮度层次分成几个等级,表示显示亮度不同的反差。

13. 拖尾是显示器在显示动态图像时出现的边缘模糊、看不清细节的现象。

14. 像素是平板显示图像的很多纵横排列的点中最小单位的点。

15. PPI,Pixels per inch,是每英寸所拥有的像素数目。

16. 画面尺寸是指显示区域对角线的长度。

17. 长宽比是显示画面横方向尺寸和纵方向尺寸的比。

场致发射显示技术

场致发射显示技术

麦当劳的应用 • 麦当劳是全世界快餐业的巨无霸。这并不 是创始人麦当劳兄弟的功劳。将麦当劳一手做 大的,是瑞· 克罗克。 • 克罗克是一个一生坎坷的人,年过五十后 还事业无成,一次偶然的机会,发现业务报表 上有一家叫麦当劳的汽车餐厅,这家餐厅的生 意很是红火。克罗克敏锐地意识到,随着社会 生活节奏的加快,麦当劳这样的快餐店会越来 越受到青睐。立即找到了餐厅老板麦当劳兄弟, 要求合伙做生意。克罗克陈述了自己的想法, 要是去别的城市开几家分店的话,将会大大提 高现在的营业额,但麦当劳兄弟并不感兴趣。 因为当时凭着这一个店,一年就已经能够稳赚 25万美元。
图7.3 FED工作原理
FED基本结构和原理
结构: 由阳极基板和阴极基板构成,阳极基板为红绿蓝三色荧光粉粉条 为了保证色纯度,之间用黑矩阵隔开, 阴极基板由可以行列寻址的发射阵列和栅极组成。 两基板之间有支撑以抵抗大气压力,基板之间用低熔点玻璃封接 原理:在栅极和阴极之间有一个电压差形成电场,使得微尖释 出电子,再经过阳极和阴极之间的高压电场加速电子使之轰击 荧光粉而发光。
• 在势垒一边平动的粒子,当动能小于势垒高度 时,按经典力学,粒子是不可能穿过势垒的。 对于微观粒子,量子力学却证明它仍有一定的 概率穿过势垒,实际也正是如此,这种现象称 为隧道效应。对于谐振子,按经典力学,由核 间距所决定的位能决不可能超过总能量。量子 力学却证明这种核间距仍有一定的概率存在, 此现象也是一种隧道效应。
• 克罗克进入快餐店后,很快就掌握了经营快餐 店的一套办法。曾多次建议麦当劳兄弟改善营 业环境,以吸引更多的顾客;并提出配制份饭、 轻便包装、送饭上门等一系列经营方法,以扩 大业务范围,增加服务种类,获取更多的营业 收入。由于克罗克经营有道,为店里招徕了不 少顾客,生意越做越好。 • 与此同时,克罗克不忘做大麦当劳的想法, 建议麦氏兄弟开设连锁店。在克罗克的努力下, 麦当劳在全美国的连锁店达到200多家,克罗 克已经看到了一个快餐帝国的前景。

光电子发光与显示技术 第六章 场致发射显示(FED) PPT课件

光电子发光与显示技术 第六章 场致发射显示(FED) PPT课件
Each crossover has up to 4,500 emitters, 150 nm in diameter. This emitter density assures a high quality image through manufacturing redundancy, and long-life through low operational stress.
❖ 1988年,美国首届国际真空微电子学会议, 标志真空微电子学的正式诞生
❖ 1989年,单色FED研制成功 ❖ 1997年,全色FED研制成功 ❖ 2001年,Sony公司13.2英寸全色FED ❖ 2004年,彩色40英寸碳纳米管FED样机 ❖ 2005年,彩色36英寸SED电视展示
光电子技术精品课程
3、FED的场发射理论
❖ Field Emission Display (or Field Effection Display) 所谓电子发 射是指电子从阴极逸出进入真空或其它气体媒质中的过程。所有 物体都含有大量的电子,常态下不逸出物体,当电子获得足够的 能量,足以克服阻碍其逸出物体表面的力时,便产生了电子发射。
FED主要用途在军事领域方面
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2.发展简史
❖ 1961年,Shouledrs.K.R提出用场发射电子 源的纵向和横向真空微电子三极管的概念
❖ 1968年,斯坦福研究所的Spindt.C.A,利用 薄膜技术和微电子工艺研制成钼微尖锥场发 射阵列阴极。
❖ 1985年,Meyer.R,微尖锥型阴极的矩阵选 址阴极发光平板显示器
❖ 电子发射按照其获得外加能量的方式,即电子的受激发方式分为 以下四种:热电子发射,光电子发射,次级电子发射及场致电 子发射。
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第五章 场致电子发射场致发射:依靠外加强电场压抑物体表面势垒,使势垒高度降低,势垒宽度变窄,这样物体内的电子通过隧道效应穿透过表面势垒而逸出。

优点:电流密度大,107A/cm 2,热发射,几百A/cm 2;冷阴极(无须加热阴极)问题:发射的稳定性,阴极寿命还未完全解决产生强电场的方法:1、 提高电压,发射体做成曲率半径很小的尖端形式。

2、 采用薄膜技术,缩短阴阳极间距离。

5.1 金属场致发射理论一、与经典理论的矛盾 加速场:肖特基效应||'εϕϕke e −=,)||44.0exp(0εT j j a = 1、 E 较强时,实验结果得出的电流大于上式2、 E 较强时,低温时(T<1000K ),电流与温度无关二、场致发射的定性解释 场致发射:)exp(2EB AE j E −= A ,B 是与φ有关的常数 E x 大于Wa 的电子,仍有可能被势垒反射回金属内部 E x 小于Wa 的电子,也可能“穿透势垒”而逸出――隧道效应势垒曲线a :零场,理查生-德施曼方式(势垒无限宽,考虑偶电层力,镜像力) 曲线b : 弱电场,肖特基效应(势垒高度降低,宽度变窄,只考虑了势垒高度的降低,是弱电场的热发射。

温度对发射的影响远大于电场对发射的影响)微粒性 势垒很宽:热反射电子数目》遂穿电子数目曲线c :低温、强电场,隧道效应(势垒高度进一步降低,宽度变窄到电子波长数量级,隧道效应起主要作用,隧穿电子数目)热反射电子数目,j 可达108A/cm 2,T<1000K 场致发射,温度对发射的影响则不大。

)波动性 曲线d :极强电场,成本高,没有必要隧道效应粒子能穿透比动能更高的势垒的现象,隧道效应是微观粒子具有波动性的表现,隧道效应对势垒宽度十分敏感如一个α粒子穿过一个势垒:V 0-E 势垒宽度a 透射系数|T|21MeV ~10-14m 10−41MeV ~10-13m ~10-38对于宏观物体,隧道效应在实际上已经没有意义。

5.1.3场致发射方程――福勒-诺德海姆方程一、假设条件1、 电子能量满足费米-狄拉克分布2、 金属表面光滑,考虑镜像力3、 逸出功分布均匀二、方程与热发射类似,∫∞=0),(x e dvp E D e j ε1、 计算dvp x (单位时间,打到单位面积上,x 方向动量分量)2、 求出D (Ee , ε):确定势垒的形状,表示出势能函数,电子运动视为电子波的传播,满足薛定锷方程;确定边界条件,满足单值和连续;求出电子波在各界面上的入射波、反射波,求出反射系数R= (反射波振幅)2 / (入射波振幅)2,透射系数D=1-R3、 将dvp x 和D (Ee , ε)代入,积分得,福勒-诺德海姆方程T =0K ,)]1079.3(1083.6exp[1054.1)0(472623φεθφφφε−−××−×=j ) j 的单位为A/cm 2,ε单位为V/cm ,φ的单位为eVθ(x )为诺德海姆函数,是一慢变函数 简化,得)exp(2E B AE j E −=,热电子发射)exp(20kTAT j M ϕ−= 5.1.4 温度对场致发射的影响当kT/d<1,即T<2/131083.8ϕε×<T ,单位:T 为K ,ε为V/cm ,φ为ev 得))/sin(/)0()(d KT d KT j T j ππ= (a ) 当πkT/d<1,简化为])(611)[0()(2L ++=dKT j T j π (b ) ε(V/cm) T(K) πkT/d应用式 j(T) 300 0.4 (b ) 1.03j(0)4×1071000 1.5 (a ) 1.5j(0)温度更高,取更多级数或用数值积分法来计算。

P120,图2-24低温(T<1000K ),T 对j 影响很小一、j 与T 较高温度(T :2000~3000K ),T 对j 影响较大强电场,T 对j 影响变小低温时,场致发射起主要作用,温度变化引起热电子发射电流密度的改变不大(主要在E F附E对j影响小强场场致发射,E对j影响大三、j与φ:j随φ下降而上升5.2.3 场致发射的稳定性场致发射,φ和E对j影响很大。

E=αU,α-电场系数,与电极形状有关保持j的稳定性:保持φ和场发射阴极尖端形状不变。

影响因素:气体的吸附和脱附影响φ,离子回轰阴极(溅射)影响α。

采取措施:提高真空度(>10-8Pa),预加热阴极,选用耐离子轰击材料;脉冲状态工作超高真空技术:1954年直流25µA,5h;1960年直流1.5mA,1000h;5. 3 半导体的场致发射半导体的场致发射本质与金属一样,但有不同之处:1、导带中电子的浓度是施主种类、施主浓度和温度的函数;2、导带中电子能量满足麦-玻分布3、电子逸出表面时,镜像力要乘以一个修正系数特点:j max小,lgj~1/E非线性一、外电场的渗透作用:表面能带弯曲(渗透深度与电子浓度的平方根成反比)n(个/cm3)渗透深度(cm)金属1022 (3~5)×10-9半导体1014~1018 (3~5)×10-7~(3~5)×10-5(几十至几千原子层)二、表面态的影响:屏蔽作用(1013cm-2,可忽略外电场的渗透作用5. 4 场致发射的应用一、单尖场致发射阴极高亮度电子源(105~106A/cm2),应用领域:扫描电子显微镜,电子束光刻机二、多尖大电流场致发射阴极增加j,续增加尖端的曲率半径,工作电压和窄脉冲状态工作(a)梳形多尖端阴极(b)矩阵多尖端阴极1968年,美国斯坦福研究院的Dr.C. A.Spindt等用微细加工技术制出了栅控金属钼微尖场发射阵列(FEA),为FED(Field Emission Display)打下了基础,基本结构。

FED主要有两部分即平面电子源场发射阵列FEA和阳极荧光屏构成,再加上外围的辅助部分如消气剂、支撑柱、驱动电路等。

其中阳极的作用是收集电子产生荧光,而平面电子源通常由阴极和栅极构成,阴极发射电子,栅极加以调制,控制发射电流的大小,以便能够在阳极上显示图像。

因此一般FED也称为三极型FED,其原理图如图所示。

从图中可以看出,传统的FED的核心微尖型发射阵列由数以万计的尖锥和对准的栅极孔阵列组成,并且与阳极屏上涂有荧光粉的像素点一一对应。

在阴极和栅极之间是SiO2绝缘层,厚度在1μm左右。

阳极和栅极之间的距离约200μm,由隔离柱(支撑柱)支撑。

支撑柱起到固定阳极和栅极之间距离的作用;另一方面因为FED内部为高真空,所以支撑柱还起到承受外界大气压的作用。

阳极采用透明导电膜(ITO),其上涂敷荧光粉。

栅极、阳极和阴极由各自的引线电极与外围的驱动电路相连。

阴极和栅极互相垂直,利用栅极和阴极之间加上不同的电压实现矩阵式选址。

每个阴极和栅极的交叉点就是一个像素。

当栅极相对于阴极的电压超过阈值时,阴极的微尖发射,该像素被点亮;当电压低于阈值时,微尖不发射,像素不亮。

三、扫描隧道显微镜(STM)目前常规电子显微镜的分辨率可以达到理论的极限,但仍然无法在实空间看到一粒粒表面原子。

能看到一粒粒原子在空间的排列是几代科学家孜孜以求的梦想。

观察和操纵原子的科学意义是显而易见的。

从形状各异的晶体到千姿百态的高分子,到千变万化的生物分子,人们只有首先了解其结构,才能彻底理解客观物质的特性及变化规律,在此基础上解决长期悬而未决的重大科技问题,然后在纳米甚至原子尺度上设计具有特殊用途的材料和器件。

1986年瑞典诺贝尔物理评审委员会认为应奖励能直接观察原子行为的工具的发明者对科学的重要贡献。

目前,这类工具只有三种:透射电子显微镜(TEM)、场离子显微镜(FIM)和扫描隧道显微镜(STM)。

遗憾的是场离子显微镜的发明者穆勒(E.W.Muller)于1977年死于车祸,失去了获奖机会。

穆勒)的博士生,杨(R.D.Yang)于1972年在美国国家标准局构思了STM的雏形-形貌扫描仪。

当时,由于技术上的局限性和分辨率不高而未引起科技界的注意。

80年代初,真空、微电子、计算机技术迅速发展,为STM技术发展奠定了物质基础。

1982年,IBM公司苏黎世实验室的两位科学家宾宁(G.Binnig)和罗勒(H.Rohrer)成功发明了STM。

这种新型显微仪器的诞生,使人类能够实时地观测到原子在物质表面的排列状态和与表面电子行为有关的物理化学性质,对表面科学、材料科学、生命科学以及微电子技术的研究有着重大意义和重要应用价值。

为此这两位科学家与电子显微镜的创制者ERrska教授一起荣获1986年诺贝尔物理奖。

STM成为人类认识微观世界的有力工具。

利用STM宾宁等人首次在实空间成功地拍下了硅(111)7×7重构表面原子排列图像。

当看到一粒粒硅原子象阳光下的玻璃弹子一样清晰整齐地排列,整个科技界都受到极大震动。

硅(111)7×7重构表面扫描隧道显微镜,实际上就是一个由电子计算机操纵控制的长探针,它的一头变得越来越细,细到尖端就只有几个原子的厚度了。

其原理结构如图所示,探测针尖由极尖锐的钨或铂—铱合金做成。

附着于压电驱动器上,后者有三个互相垂直的压电传感器:P x ,P y ,P z 压电陶瓷臂,外加电压使压电元件伸长或收缩,P z 用以调节针尖与样品表面间的距离,P x 、P y 则可使针尖沿着样品表面扫描。

整个装置置于高真空中。

在P x 压电元件上加锯齿型电压,而在P y 压电元件上加台阶电压,针尖就可以在XY 平面内扫描。

运用粗定位器和P z 压电元件,把针尖带到与样品距离1nm 之内。

根据量子力学,针尖和样品的电子波函数会相互重叠。

在针尖—样品间加上偏压,导致电流的产生。

这种电流是量子效应,称为隧道效应。

针尖与样品间距的极微小变化都会引起隧道电流的急剧变化。

纳安级的隧道电流经电流放大器转换成电压,并与参考值作比较。

其差值再次放大以驱动P z 压电元件,调整针尖—样品间距。

选择放大器的位相以提供负反馈:若隧道电流大于参考值,加在P z 压电元件上的反馈电压倾向于使针尖后撤,反之亦然。

由此通过反馈回路建立P z 的平衡位置当针尖沿XY 平面扫描时,利用计算机很容易记录下来P z 平衡位置的二维阵列,即描绘相同隧道电流的面所形成的轮廓图。

该图描绘出样品的表面形貌,在一定条件下,可以绘出单个表面原子的图像。

扫描隧道显微镜原理图STM 针尖针尖与样品是两个电极,当样品相对于针尖加以正电压V T 时,针尖在强电场作用下将产生隧道电流反射。

隧道电流J T 是针尖与样品表面间距离s 和样品表面局部逸出功φ的函数,即)exp(23s B AV j T T φ−=式中,A 、B 是常数。

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