第二章-金属电沉积PPT优秀课件
《电镀培训教材》PPT课件
第二章 塑胶电镀
一.塑胶电镀对塑胶件的技术要求: 1.要求光度高的部位,制件必须表面平滑。 2.零件表面设计符合电镀要求,即较大平面中间应呈突 起状,一般突起在0.10-0.15mm;菱角部位到圆,v型 槽的宽度应是深度3倍,盲孔深度为直径的1/2-1/3。 3.零件应有足够的强度,壁厚一般在3mm左右,最薄不 应低于1.9mm,最厚不应大于3.8mm. 4.有镶嵌件的塑胶制品,应为铝制件。 5.应留有电镀装挂位置。装挂位置应设计在不影响外观 部位。
b.溶剂浸渍法 将零件完全浸入(20-22)℃1:1的甲乙酮和 丙酮的混合溶液液中15秒,取出后立即甩干,检验裂纹状态。
解决办法:在60-75℃的温度下加热2-4h,或在25%(体积) 的丙酮中浸泡30分。
常用塑胶热处理温度:ABS塑胶65-75 ℃,聚丙烯80-100 ℃, 氯化聚醚80-120 ℃,聚碳酸酯110-130 ℃,改性聚苯烯50-60 ℃,聚苯醚100-120 ℃;聚酰胺在沸水中处理。
3.阴极电流效率 改善阴极电流效率,提高电解液的分散能力和覆 能盖能力。
4.机体的表面状况 提高机体表面光洁度,采用短时间冲击电波, 提高氢在机体上的过电位等,可以消除机体对分散能力和覆盖 能力的不良影响。
5.几何因素的影响 在实际生产中采用辅助阴极和象形 阳极,合理调节阴阳极之间的距离等方法尽可能消除 对几何因素对电解液分散能力的影响。镀铬电解液是 一个特殊,它是一种强氧化性的酸性电解液,在所应 用的电解液中分散能力最差的一种,在镀铬时为了提 高电解液的分散能力往往从电化学性能以外的角度出 发,采用防护阴极,是用辅助阳极和非金属屏蔽以及 合理调节电极之间的距离等方法,使其处于最佳的电 流分布状态。
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金属的电沉积过程课件
金属的电沉积过程课 件
REPORTING
目录
• 电沉积过程简介 • 电沉积的物理化学基础 • 电沉积的工艺与参数 • 电沉积的设备与装置 • 电沉积的实践与应用 • 电沉积过程的优化与控制
PART 01
电沉积过程简介
定义与原理
定义
电沉积是一种通过电解液中的金 属离子在阴极上还原并沉积成金 属的过程。
电解液浓度
浓度对电沉积过程有重要 影响,过高或过低的浓度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
添加剂使用
为了改善电沉积效果,有 时需要添加一些添加剂, 如稳定剂、光亮剂等。
电沉积的工艺条件
电流密度
电流密度的大小直接影响 沉积速率和沉积物的质量 ,需要根据实际情况进行 调整。
温度
温度对电沉积过程有一定 影响,过高或过低的温度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
时间
电沉积时间的长短会影响 沉积层的厚度和致密性, 需要根据实际需求进行控 制。
电沉积参数的影响
电流密度对沉积层质量的影响
01
电流密度过小会导致沉积速率慢,过大则可能导致烧焦或气孔
等缺陷。
温度对沉积层质量的影响
02
温度过高可能导致金属离子水解,过低则可能导致沉积不均匀
。
时间对沉积层质量的影响
03
时间过长可能导致过度沉积或偏析,过短则可能导致沉积不完
金属离子的还原过程
还原反应
在电流的作用下,金属离子获得电子,从阳离子变为金属原子。
形核与生长
新形成的金属原子聚集形成晶核,随后晶核不断生长,形成金属沉积层。
PART 03
电沉积的工艺与参数
电解液的选择与制备
金属电沉积理论2
金属电沉积理论2⑴.降低游离金属离子浓度,是平衡电位负移。
电位负移程度与金属络离子稳定性有关,络离子越稳定,则平衡电位负移越显著。
金属络离子稳定性由络合物不稳定常数K不表征,当电离平衡为:ML(n-km)=Mn++Lm-K不=[Mn+][Lm-]/[ML(n-km)]⑵.提高阴极还原的电化学极化。
金属络离子的界面反应历程,通常是先经过表面转化形成低配位数的表面络合物,如多核络离子或缔合离子,然后放电。
放电前配体的变换和配位数的降低涉及能量变化,导致还原所需活化能的升高,因而表现出比简单金属离子更大的电化学极化。
络合物对电化学极化的贡献取决于配体界面性质和不稳定常数两个因素。
当配体具有对电极过程起阻化作用的性质时,K不越小的配体转化所须的活化能越大,则阴极极化增大效应越显著。
如配体对电极过程起活化作用则很难通过K 不来预测阴极极化效果。
络合剂具有选择性。
根据软硬酸碱的原理,形成络合物的稳定性服从"软亲软,硬亲硬"的规律。
金属离子和配体分别当作广义碱时的软硬划分可以软硬势标镀为据。
金属的电子构型对络合物的影响较大。
满d壳层的d10类金属(如Cd,Sn,Pb,Cu,Zn,Ag等),一般只能形成活性络合物,可选用络合能力很强的络合剂。
d6,d8,d13等类金属(如Fe,Co,Ni,Cr等),与K不小的配体移形成惰性络合物而难以还原析出。
金属离子浓度提高时,界面浓度与交换电流均相应增加,一般会降低电化学极化,故无论在单盐还是络盐溶液中提高金属离子浓度,都具有减小形核率并伴随着镀层粗糙的趋势。
但浓度降低导致浓差极化增强,极限电流也随之下降。
3.游离络合剂游离酸存在于单盐溶液中,并依其含量高低可分为高酸度和低酸度两类镀液。
在高酸度镀液中,游离酸能在一定程度上提高阴极极化,并防止主盐水解或氧化,提高镀液电导率。
但游离酸浓度过高时,主盐溶解度下降,浓差极化趋势增强。
低酸度镀液中,游离酸浓度过低易引起主盐水解或发生沉淀;过高则导致大量析氢,电流效率下降。
应用电化学41金属电沉积和电镀原理ppt课件
2)络离子的还原
设 氰化物镀铜电解液基本组成
CuCN 35g/L(0.4 mol/L) NaCN 48g/L (1.0 mol/L) Cu+ 与CN-形成的络离子可能有[Cu(CN)2]-、 [Cu(CN)3]2-、 [Cu(CN)4]3-等不同形式,认为主要存在形式是[Cu(CN)3]2其在水中的电离平衡为:[Cu(CN)3]2-=Cu++3CN-
阴极性镀层 当镀层与基体金属形成腐蚀电池时,镀层因电位比基体更
正,基体金属首先受到腐蚀溶解,这时镀层为阴极性镀层。 阴极性镀层仅能对基体起到机械保护作用,不能起到电化
学保护作用,如:
铁上镀Sn: Sn2 /Sn -0.14V Fe2 /Fe -0.44V?
形成腐蚀电池时,Sn为阴极,Fe为阳极
(4) 电铸
提纯金属或湿法冶金
(5) 电加工 某些精密的零件,机械加工困难,可采用电加
工成型技术
(6) 表面处理 制备特殊用途材料如发泡镍、中空镍纤维等
(7) 高科技 如电沉积法制备一维纳米线
(8) 材料制备 制备催化材料、复合材料、金属膜材料等
常规电镀对电镀层的基本要求: 通常对电镀层要求:
镀层与基体结合牢固,一定的厚度及厚度均匀 镀层结构致密、孔隙率小等。 进一步要求:镀层内应力小、柔韧性好、有一定的硬度、
自行车轮镀铜镍铬; 吊灯等灯具电镀仿金镀层或仿银镀层; 仪器仪表盘装饰性电镀缎面镍;
功能性镀层 功能性镀层是具有特定功能和特定意义的镀层, 通常是只对 某一种零件和某一种特殊使用条件下所要求的特殊功能,因 此功能性镀层包括的项目较多,而且随着技术的发展和应用 的开发,今后还会越来越多,如: •耐磨镀层: 提高零件的表面硬度,增加抗磨损性能(如直 轴、曲轴、气缸, 纺织机械中的各种辊桶镀硬铬或喷涂陶磁 微粒); •减磨镀层: 多用于滑动接触面,需要电镀韧性好的金属, 如轴瓦,轴套等镀Sn、Pb-Sn、Pb-In等;
电镀工艺学-金属电沉积理论
即电化学步骤和电结晶步骤,动力学规律交迭,极化曲线复
杂、数据分析困难; 2 固体表面不均匀,结晶过程中电极表面不断变化; 3 对大多数金属而言,界面步骤都进行的很快, 用经典电化学 测量极化曲线的方法不能揭示界面动力学规律。
2
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
电镀工艺学
第二章 金属电结晶
1
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
• 金属电结晶的基本概念 • 定义:通常把金属离子或络离子的放电并形成金属晶体的过 程称为金属电结晶 1 金属电结晶的界面反应至少包括放电和结晶两个连续的步骤,
1. 电化学极化较小的金属体系:
当从铜、银、锌、镉、铅、锡等金属的简单盐溶液中沉积这 些金属时极化都很小,即交换电流密度都很大。
8
Plating technology 如: 1 M
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
ZnSO4
80mA/cm2 42mA/cm2
吸附原子的表面扩散控制 在许多电极上,吸附原子的表面扩散速度并不大,如果电
化学步骤比较快, 则电结晶过程的进行速度将由吸附原子的
表面扩散步骤控制;如果电极体系的交换电流较小,则往往是 联合控制。 假设一个台阶上有一个无穷小面积dx、dy。 假设单位表面上吸附原子的平均浓度为。
其对时间t的变化应为表面上由法拉第电流产生的吸附原子的
第二章-金属电沉积PPT优秀课件
二、传质控制步骤
1)电迁移:溶液中的荷电粒子(离子)在外电场作用下, 向电极迁移的一种传质方式。在电镀中,由于大量导电盐 的加入或其它不参加电极反应的荷电粒子的存在,一般沉 积金属离子的电迁移可忽略不计。
二、传质控制步骤
2)对流:溶液中的反应粒子(或组分)随液体流动同时 进行传递的过程称为对流。此时液体与物质粒子之间不存 在相对运动,电解液流动的主要原因为:
第四节 金属的电结晶
一、电结晶的基本概念
电结晶:金属离子放电以后进入晶格形成晶体 的过程。
晶体表面并不是十分完整,存在台阶和拐角。通 常把拐角这类位置称为晶体的生长点。
第四节 金属的电结晶
一、电结晶的基本概念
在电极电位偏离平衡电位不远处,电流密度很 小,晶粒长大比较 粗大。 当电极电位变得更负时,吸附原子来不及规则 地排列在晶格上,获得的晶粒 细小。
V DCi0 Cis
-扩散层的有效厚度
ik
I S
Q St
ik-电流密度
法拉第定律:
如果氧化还原反应中表示得失电子的计量系数为 n,即为n mol电子从负极通过外电路转移到正极, 则产生的电量Q为nF。
F-法拉第常数,其值为96485 C·mol-1。
根据法拉第定律:
Q nFM M-反应物摩尔数
一、电结晶的主要形态
可见叠加层的形貌,层与 层之间紧密连接、叠加 厚度均匀,每层的厚度保持在30-80 nm左右。
二、结晶形态与过电位的关系
过电位是决定结晶形态的首要因素。
实际使用的电流密度超过极限电流密度时,扩散过
电位急剧增大,会导致阴极上大量析氢和常常形成
形状如树枝的枝状沉积层,或形状如海绵的疏松沉
式中:io—交换电流密度,是当电极反应处平衡时 ( ik k)a 的电i0流密度;α、β为阴阳极反应的传递系 数且满足α+β=1。
金属的电沉积过程
金属的电沉积过程电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下,经电极反应还原成金属原子并在阴极上进行金属沉积的过程。
图4.4是电沉积过程示意图,完成电沉积过程必须经过液相传质、电化学反应和电结晶三个步骤。
电镀时以上三个步骤是同时进行的,但进行的速度不同,速度最慢的一个被称为整个沉积过程的控制性环节。
不同步骤作为控制性环节,最后的电沉积结果是不一样的。
(1)液相传质步骤液相传质使镀液中的水化金属离子或络离子从溶液内部向阴极界面迁移,到达阴极的双电层溶液一侧。
液相传质有三种方式:电迁移、对流和扩散。
在通常的镀液中,除放电金属离子外,还有大量由附加盐电离出的其他离子,使得向阴极迁移的离子中放电金属离子占的比例很小,甚至趋近于零。
因此,电迁移作用可略去不计。
如果镀液中没有搅拌作用,则镀液流速很小,近似处于静止状态,此时对流的影响也可以不予考虑。
扩散传质是溶液里存在浓度差时出现的一种现象,是物质由浓度高区域向浓度低区域的迁移过程。
电镀时,靠近阴极表面的放电金属离子不断地进行电化学反应得电子析出,从而使金属离子不断地被消耗,于是阴极表面附近放电金属离子的浓度越来越低。
这样,在阴极表面附近出现了放电金属离子浓度高低逐渐变化的溶液层,称为扩散层。
扩散层两端存在的放电离子的浓度差推动金属离子不断地通过扩散层扩散到阴极表面。
因此,扩散总是存在的,它是液相传质的主要方式。
假如传质作为电沉积过程的控制环节,则电极以浓差极化为主。
由于在发生浓差极化时,阴极电流密度要较大,并且达到极限电流密度i d时,阴极电位才急剧地向负偏移,这时很容易产生镀层缺陷。
因此,电镀生产不希望传质步骤作为电沉积过程的控制环节。
图4.4电沉积过程(2)电化学反应步骤电化学反应水化金属离子或络离子通过双电层,并去掉它周围的水化分子或配位体层,从阴极上得到电子生成金属原子(吸附原子)的过程。
水化金属离子或络离子通过双电层到达阴极表而后,不能直接放电生成金属原子,而必须经过在电极表面上的转化过程。
第二章 金属电沉积过程中的极化
一、金属电沉积步骤和稳态过程 3)电化学步骤:反应粒子在阴极上得到电子还 原成为金属的过程。 如:
Zn(OH ) 2(吸) 2e Zn (吸) 2OH
4)新相生成步骤:反应产物生成新相,如电结 晶体、气体等。
一、金属电沉积步骤和稳态过程
二、传质控制步骤
影响沉积金属的质量。 若电极反应为浓差极化控制,说明电子传递反
应的速度比离子扩散到电极的速度要快的多,因此
种还原后的金属原子没有足够的时间按品格点阵排
列,所得到的常是疏松、海棉状或粗糙的镀层,因
此可以说,纯粹的浓差极化控制的电沉积是得不到 质量好的镀层的。
三、电化学反应控制步骤
1、阴极电位的改变对阴极反应速度的影响
三、电化学反应控制步骤
必有
i Dk 等式才能成立,所以
0
k
折 平 0 i i
a
阴极反应近似为可逆反应,此时电化学不可能成
为控制步骤。
②当电化学极化很大时, 0.12V 即i0十分小, 0 且 Dk i 或 i i
k
a
三、电化学反应控制步骤
纯浓度极化,由于外加电流极易超过DL,常出
现树枝状疏松镀层,加强搅拌提高许用电流密度,
如酸性镀锌,镀镉便是一例,要使镀层细致均匀, 必须提高电化学极化,常用络合剂或加入表面治性 剂等方法。但在实际电镀过程中,络合剂或表面治 性剂加入,往往是传质步骤和电化学步骤联合控制
为多。
三、电化学反应控制步骤
3、传质步骤和电化学步骤联合控时的极化特征
当用大电流密度电镀时,可能使DK接近DL, 此时,必须考虑电极表面离子浓度的影响,其形 式: Cis 0 nF Dk 0 ia exp k Ci RT
金属镀层沉积原理PPT课件
★ 电化学步骤
★ 新 相 生 成 步骤
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第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
2、电镀过程的步骤与稳态过程
★ 液相传质步骤 溶液中的水化金属离子或络离子从溶液 内部向阴极界面迁移,达到阴极的双电层溶液一侧。
★ 表面转化步骤 水化金属离子或络离子通过双电层到达 阴极表面后,不能直接放电生成金属原子,而必须经过在 电极表面的转化过程,才能进行电化学反应。
◆ 阳极活化剂:镀液中能促进阳极活化的物质称为阳极 活化剂。其作用在于提高阳极开始钝化的电流密度,从 而保证阳极处于活化状态而能正常溶解。
◆ 添加剂:不改变镀液性能的微量物质,却能显著改善 镀层性能的物质,按所起作用可分为光亮剂、整平剂、 润湿剂和抑雾剂等。
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第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
△ 较大。
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1、电极反应机理 (2)极 化
第r=二σ章A金/ρn属F镀△层的沉积原理与工艺 △Ek=πhσ2 A/ρnF△
W=K·exp︱-πhσ2NA/ρnFRT△ ︱
② 浓差极化
由于溶液中离子扩散速度 小于电子运动速度,使阴极附 近溶液中的金属离子还原沉积 后,补充不及时,造成邻近电 极表面液层离子的浓度与溶液 主体浓度发生差异而产生的极 化称为浓差极化。
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
1.电镀技术 1.1 电镀的定义
★ 在含有镀层金属离子的盐溶液 中,以被镀金属为阴极,通过电 解作用,使镀液中欲镀金属的阳 离子在阴极金属表面沉积出来, 形成镀层的一种表面加工方法。
镀 层性能 不同于 基体, 具有独 特的形 态、结 构、组 织和性 能。
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1、电极反应机理 (2)极 化
第二章 金属电沉积
表2-3 直接在电极上放电的络离子
电极体系
络离子的主要存在形式
直接在电极上放电的络离子
Zn(Hg)/Zn2+,CN-,OH-
[Zn(CN)4]2-
Zn(OH)2
Zn(Hg)/Zn2+,NH3 Cd(Hg)/Cd2+,CN-,
Ag/Ag+,CNAg/Ag+,NH3
[Zn(NH3)3OH]+ [Cd(CN)4]2-
22
自电化学暂态测量方法出现以来,采用暂态可减少浓差 极化,使电极表面变化轻微,或用液体电极撇开结晶过程, 如此,才对电结晶过程有了一个较统一的认识。目前,电结 晶的研究理论与实践仍有很大差距,而由于多种综合因素的 影响使其在解决电化学结晶的实际问题时,现有理论还不能 很好的解释。
23
2.3.1 电结晶历程
??
图2-1 金属电结晶过程可能的历程
25
实验:在45%的HClO4中测定固态和液态汞电极上
的交换电流密度,由于电极为液态时,电化学反应中没有 结晶步骤,如果放电可以在任意位置进行,则在固态和液 态时,反应速度应该接近。
试验表明,固态和液态情况下,电极上的交换电流密 度相差较小,认为放电反应可以在任意位置上进行。
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
x
=
K a / a 不
A g ( CN ) + 2
第2章金属电沉积理论(2)
参数
电解参数:电流密度、溶液浓度、搅拌情况、电源类型;
4.1 镀液的组成与类型
镀液的组成
图2-4 电解液中各种物质的关系
1、 主盐及其分类 (1)主盐:在电镀工艺中,常将含有沉积金属的盐类称 为主盐,如各种镀锌溶液中的硫酸锌、锌酸钠等; (2)分类:根据主盐化学成分和性质不同,分为单盐、 复盐、络盐。一般将单盐,复盐组成的电解液归为单盐电 解液,把络盐和螯合物组成的电解液称为络合物电解液; 2、 镀液的基本类型: (1)单盐电解液类型(见表2-3) 硫酸盐型,氯化物型,氟硼酸型,氟硅酸型,氨基磺酸型 (2)络合物电解液类型(见表2-4) 氨合络盐型,有机络盐型,焦磷酸盐型,碱性络盐型,氯 化物型
Tc Ru Rh Pd Ag Re Os
Ir
Cs Ba La
稀 土
W
Pt
Au
Bi Po At
水溶液中可能电沉积
氰化物电解液可以电沉积
非金属
第二节
2.1 电结晶过程
金属电结晶及电沉积过程
电结晶历程至少包括金属离子的放电和长入晶格两个步骤,
其影响因素很多,如温度、电流密度、电极电位、电解液组
成、添加剂等,这些因素对电结晶过程的影响直接表现在所 获得电沉积层的各种性质上,如致密、反光性、分布均匀性、 结合力及机械性能等, 因此有一定的研究意义。 当金属离子在很小的过电位(η<100mV)下放电时,新晶核形 成的速度很小, 这时电结晶过程主要是原有的晶体长大,若 过电位较大,就有可能产生新晶核。
5.4 强度和塑性 : 通常强度较冶金金属大,塑性较冶金金属差
表2-6 某些电镀层和冶金材料的抗拉强度和伸长率
5.5 电镀层的内应力
通常软金属内应力较 低,硬金属内应力较高
金属的电沉积过程课件
B、多价金属离子的阴极还原符合多电子电极反应规律(多步反应)
2.3. 金属络离子的阴极还原
加入络合剂后,由于络合剂和金属离子的络合反应,使水化金属离子转变为 不同配位数的络合离子,金属离子在溶液中的存在形式和在电极上的放电粒 子都发生了改变,因而引起了该电极体系的电学性质变化
电冶炼、电精炼、电铸、电镀。
1.1. 金属电沉积的基本历程
A、液相传质步骤 溶液中的反应粒子(金属水化离子)向电极表面迁移
B、前置转化 迁移到电极表面的粒子发生化学转化反应,如离子 水化程度降低、重排,络离子配位数变化 C、电荷转移 反应粒子得到电子、还原为吸附态金属原子
D、电结晶 新生吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置进 入金属晶格生长,形成晶体
晶核长大时过电 位
晶核生成时过电位
电结晶形核过程规律 一、电结晶形核需要消耗一定电能,因而在平衡电位不能形核,从 物理意义上来说,过电位或阴极极化只所起的作用与盐溶液结晶的 过饱和度相同
二、阴极过电位的大小决定了电结晶层的粗细度,过电位越高,晶 核数量越多,沉积层越细致,反之越粗
3.2. 在已有晶面上的延续生长
A、使金属电极的平衡电位负移 25oC时,银在1mol/L AgNO3中平衡电位:
e = Ө + RT/F lnaAg+ = 0.779 + 0.0591 log(0.4) =0.756 V
加入1mol/L KCN后,因Ag+与CN-形成络离子,平衡反应为:
Ag+ + 2CN- = Ag(CN)2K不 = aAg+ aCN-2/ aAg(CN)2- = 1.6 10-23 Ag+ 的活度为
第二章 金属电沉积
如:1 M ZnSO4 、0.2 M Pb(NO3)2 中所得镀层不 致密,结晶粗大。
2. 电化学极化较大的金属体系 当铁、钴、镍等金属从硫酸盐或氯化物中电沉积时,
它们的交换电流密度都很小。 如: 1M FeSO4 、NiSO4 中所得的镀层致密。
14
铑
高交换电流密度金属 中交换电流密度金属 低交换电流密度金属
22
自电化学暂态测量方法出现以来,采用暂态可减少浓差 极化,使电极表面变化轻微,或用液体电极撇开结晶过程, 如此,才对电结晶过程有了一个较统一的认识。目前,电结 晶的研究理论与实践仍有很大差距,而由于多种综合因素的 影响使其在解决电化学结晶的实际问题时,现有理论还不能 很好的解释。
23
2.3.1 电结晶历程
(2)电极表面溶液层中金属离子水化数降低、水化层发 生重排,使离子进一步靠近电极表面,过程表示为:
M 2+.mH2O − nH2O → M 2+.(m − n)H2O
(3) 部 分 失 水 的 离 子 直 接 吸 附 于 电 极 表 面 的 活 化 部 位,并借助于电极实现电荷转移,形成吸附于电极 表面的水化原子,过程表示为:
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
x
=
K a / a 不
A g ( CN ) + 2
第二章 金属电沉积
1
2 .1 金属离子还原的可能性
第2章-金属的电沉积
电沉积的金属种类
目前,电沉积单金属的种类众多,有锌、镉、 铜、镍、铁、铬、银、金、锡、铅、铟、钴、 钌、铑、铂、锇、钯、铝、铍、镁、钙、铕、 铈、铼、钇、钐、铀、钍、镎、钚等。
这些金属中有一些不是用来作镀层的,其中还 有不少金属无法从水溶液中得到,而只能从非 水溶剂组成的电解液或熔盐浴中电沉积,至于 电沉积合金的种类更是五花八门、不胜枚举。
在什么情况下,金属会从溶液中阴极还原沉积出来 ,在什么情况下会形成结构致密、厚度均匀,结合 力好的金属层,进而起到防护、装饰、功能性的作 用。
这样就需要首先了解金属的电沉积机理,以及电镀 液和电解规范对镀层质量的影响。
第 2 章 金属的电沉积
2.1 金属离子阴极还原的可能性 2.2 金属电结晶的基本历程 2.3 金属析氢过电势 2.4 电沉积金属的形态和结构 2.5 金属配离子还原时的极化 2.6 金属的E-pH图及其在电镀领域中的应用 2.7 电解液对沉积层结构的影响(简单离子) 2.8 电解规范对沉积层结构的影响
•例如飞机发动机的钢轴承上先镀一层银,然后在氟硼酸盐镀液中镀 上一层厚度为25斗m的铅层,最后镀1μm~2.5μm的铟层,然后在与 空气隔绝条件下进行热处理,在2h内缓慢升温至l50℃-l70℃。另一 种方法是在热油中加热,使得铟在铅中充分进行扩散,这样铟就固 溶于铅层之中。
二、金属离子沉积的情形
•镀镀铅简介
铅的电位比铁正,对钢铁而言是属于阴极性镀层,所以只有铅镀层 厚而无破损、无孔隙时才能有效地保护铁基体不受腐蚀。镀铅层适 用于接触的硫酸的设备和零件,也用于接触二氧化硫气体的器具和 仪表零件的防腐蚀。利用其良好的塑性和韧性,也可作为冷拉加工 的润滑材料。 镀铅的镀液种类很多,如氟硼酸盐、氟硅酸盐、氨基磺酸盐、醋酸 盐等,氟硼酸镀液以其简单、稳定、结晶细密而应用最广。
电沉积法制备金纳米结构 ppt课件
电沉积法制备金纳米结构将清洁干燥的ito玻璃作为工作电极pt电极为对电极232饱和甘汞电极为参照电极选择适当的电沉积电压和电沉积时间在导电玻璃表面原位沉积得到一定疏密程度和尺寸的纳米金结构
电沉积法制备金纳米结构
电沉积法制备金纳米结构
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电沉积法制备金纳米结构
材料与方法
1.材料 氯金酸(HAuCl4 } 4H20 , 99.9%,购自上海化学试剂有限公司。 ITO导电玻璃,厦门爱特欧光电实业有限公司。 所有用水皆为超纯水,由Milli-pore-Q纯水仪制备。
电沉积法制备金纳米结构
电沉积法制备金纳米结构
沉积电压为0.1 V,沉积时间分别 为1,10,30,60 min。当沉积时间越 长,沉积位点越多,并且颗粒逐 渐增大,颗粒间的间距逐渐减小, 颗粒表面形成凹凸不平的结构。 颗粒粒径由20nm士2 nm逐渐增大 到180 nm士4 nm。可通过调节成 核时间,得到适宜疏密程度和大 小的成核位点和种子,以制备不 同形貌的纳米材料。沉积时间 “控制”了纳米结构的尺寸,随 着生长时间的增加,在纳米结构 的表面会沉积更多的金原子,使 纳米结构不断长大,纳米结构之 间的间距逐渐变小,当超过一定 时间后,纳米结构继续生长,最 后连接成片
固定沉积时间为30 min,分别选取4 个电压一0.3,0.1,0.3,0.5 V作为沉积电 压,以寻找合适的生长条件。当沉积 电压为一0.3 V时,形成的纳米颗粒粒 径大约为20 nm士2 nm的球形颗粒, 颗粒间间距较大。随着沉积电压的增 大,所形成的纳米结构增大,颗粒间 的间隙减小,形成较大的纳米簇。
电沉积法制 将清洁干燥的ITO玻璃作为工作电极,Pt电极为对电极,232饱和甘汞电极为参照电极,选择 适当的电沉积电压和电沉积时间,在导电玻璃表面原位沉积得到一定疏密程度和尺寸的纳米 金结构。本试验中,用ITO玻璃作为工作电极,沉积电压分别选择了0.3 , 0.1, 0.3 , 0.5 V,沉积时间为1,10,30,60 min
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V DCi0 Cis
-扩散层的有效厚度
ik
I S
Q St
ik-电流密度
法拉第定律:
如果氧化还原反应中表示得失电子的计量系数为 n,即为n mol电子从负极通过外电路转移到正极, 则产生的电量Q为nF。
F-法拉第常数,其值为96485 C·mol-1。
根据法拉第定律:
Q nFM M-反应物摩尔数
第二节 金属配离子的阴极还原
放电的离子由简单金属离子变成络离子,其本性发
生了变化,平衡电位必然也会相应地变化,这部
分能量变化表现为标准电极电位的变化。
Ag/Ag
0.799V
A g/[A g(C N )2] 0.30 V
标准电极电位向负的方向移动了1.099 V。
金属配离子的放电机理?
大多数情况下,直接在阴极上放电的既不是 “简单金属离子”,也不是配位数最高的络离子, 而是具有较低配位数的络离子。
电化学极化:如果供给电子的速率无限小,而离子 与电子的结合速率又相当快,则可在维持平衡电势 不变的条件下进行还原。实际上,外电流不是无限 小,Zn2+的还原速度也不是无限大。在外电源把电 子供给电极以后,离子来不及将其全部消耗掉,这 样,电极表面就积累了过剩电子,使电势偏离了平 衡值,向负方向移动。
iknFD2 3u0 1 2v1 6x1 2(Ci0Cis)
说明: 2 (1) ik D由3 于搅拌,ik受扩散系数影响程度下降。
(电2流) 的ik 行 之u由012有于效搅的拌方,法ik。可得到提高,是增加扩散
何为极化?
极化:电极上没有电流通过时,电极处于平衡状态; 而有电流通过电极时,电极电位偏离了平衡值,这 种现象称为电极的极化。 阳极极化:电流在阳极上通过时,电极电势向 正向 移动,称为阳极极化。
氰化镀铜时的阴极过程主要是:
[Cu(CN)3]2- +e→Cu +3CN-
同时还有析氢反应:
2H2O +2e→H2↑+2OH-
第三节 传质步骤和电子转移步骤
一、金属电沉积步骤和稳态过程 1、电沉积步骤
1) 传质步骤 2) 表面转化步骤 3) 电化学步骤 4) 新相生成步骤:反应产物生成新相,如电结 晶体、气体等。
镍
0.21
0.65
铜
0.23
0.58
铅 高过电位 锌
0.64 0.70
1.09 0.75
汞
0.78
1.10
1000 0.055 0.77 0.82 0.90 0.89 0.82 1.20 1.06 1.18
电镀适用的范围
一般来说,若金属元素在周期表中的位 置越靠左边,它们在电极上还原及电沉 积的可能性越 小。
第二节 金属配离子的阴极还原
向电镀液中加入配合剂,如氰化物、酒石酸、柠檬 酸、EDTA后,金属离子将与配位体作用,生成一 系列具有不同配位数的配合离子。
络离子存在的形式: [Cu(CN)4]3-、[Cu(CN)2]-和[Cu(CN)3]2-,通常 电解液中的[Cu(CN)4]3-和[Cu(CN)2]-含量很低, 而[Cu(CN)3]2-的含量较高,即电解液中铜氰络离 子的主要存在形式是[Cu(CN)3]2-,但最稳定的形 式是[Cu(CN)4]3-。
第二章 金属电沉积
一、金属配离子阴极还原的可能性 二、金属配离子的阴极还原 三、传质步骤和电子转移步骤 四、金属的电结晶 五、电沉积的形态和结构 六、金属在阴极的共沉积 七、金属阳极与阳极过程
第一节 金属配离子阴极还原的可能性
O2 + OH-
电源
H2 _ H+
Ni2+
阳极
阴极
+ O2
Ni 阳极
在水溶液中,金属离子析出的顺序是怎样的?
阴极极化:电流在阴极上通过时,电极电势向负 方向移动,称为阴极极化。
U外
i
阴
阳
E可逆 E阴,平 E阳,平
E
何为浓差极化和电化学极化?
Zn2++2eZn
浓差极化:离子与电子结合的反应进行得很快,而 离子的扩散速率又较慢,结果离子的供应不足,使 电极表面的离子贫化。
何为浓差极化和电化学极化?
Zn2++2eZn
以上四个步骤的反应速度不一致,但因串联进行, 因此整体反应速度就由四个步骤中最慢的决定, 称该过程中各个步骤的反应速度趋于相等时的状 态为稳态过程,而决定整个反应过程的速度最后 的一步称为“控制步骤”。
一般来说,稳态过程有以下两个特征: 1) 反应快的步骤被迫趋于同反应慢的控制步骤速
度相等;
2) 将反应快的步骤看成是平衡态来处理。
金属在电极上发生还原或电沉积的条件: 金属离子的还原电位比溶剂的还原电位要正。 氢离子的标准电极电位为0 V。 氢离子析出的过电位大。
在各种金属上氢的过电位
金属
电流密度/(A·m-2)
へ0.5 100
低过电位 铂
0.005 0.035
金
0.02
0.56
铁 中过电位 银
0.08 0.15
0.56 0.76
iL nFDi0C/
增加电流密度极限值的方法: 增大扩散系数(提高温度); 减少扩散层的厚度(加强搅拌); 增加放电离子的浓度。
当施于强烈搅拌时,此时扩散层厚度为:
1 1 1 1
D3v6x2u02
式中:D—反应离子扩散系数;v—溶液动力学粘
度系数;x—距冲击点的距离;m0—溶液沿电极
平行方向的流速(搅拌强度)。此时: 1 u02 搅拌越强,扩散层厚度越小。 iknF3 2uD 0 1 2v1 6x1 2(C i0C is)
二、传质控制步骤
1)电迁移:溶液中的荷电粒子(离子)在外电场作用下, 向电极迁移的一种传质方式。在电镀中,由于Байду номын сангаас量导电盐 的加入或其它不参加电极反应的荷电粒子的存在,一般沉 积金属离子的电迁移可忽略不计。
二、传质控制步骤
2)对流:溶液中的反应粒子(或组分)随液体流动同时 进行传递的过程称为对流。此时液体与物质粒子之间不存 在相对运动,电解液流动的主要原因为:
故
ikS I SQ tnSFt M nF扩V
ik
nFDCi0 Cis
说明:
ik
nFDCi0 Cis
① 当Ci0,ik,表明较高的反应离子浓度,可 使用较高的ik;
② Cis→0时,则电流密度达到极限值,称为极流 电流密度(iL),iL=nFDCi0/δ,这表示以扩散 传质为控制步骤的电沉积时,ik不能太大,否则 很易达到iL而使镀层质量下降。
①密度差异;
②温度不同; ③搅拌。
3)扩散:溶液中某一组分自高浓度向低浓度传递的过程称 为扩散,动力是浓度梯度引起。
菲克第一定律:扩散过程中,单位时间内通过垂直 于扩散方向的单位截面积的扩散物质量与该截面积 处的物质浓度梯度成正比,即:
V D dCi dx
D-扩散系数,dx-距离
当达到稳定后: