分子束外延技术(MBE)的原理及其制备先进材料的研究进展培训讲学
分子束外延量子点
分子束外延量子点分子束外延（Molecular Beam Epitaxy，简称MBE）是一种先进的薄膜生长技术，它通过在真空环境中逐层生长材料，可制备出高质量的纳米结构。
其中，分子束外延量子点（MBE Quantum Dots）作为一种特殊的纳米结构材料，具有许多独特的物理性质和广泛的应用前景。
一、MBE Quantum Dots的基本原理MBE Quantum Dots的基本原理是利用分子束外延技术，在二维材料上生长呈点状的纳米结构。
其过程是在高真空环境下，将所需原子或分子的束流蒸发到表面上，并通过超高真空下的化学反应沉积在衬底上，从而形成纳米尺寸的量子点结构。
二、MBE Quantum Dots的优势及应用1. 优势：- 控制性强：MBE Quantum Dots生长过程中，可以通过调节束流的强度和温度来控制点的尺寸和分布。
这使得其在量子力学研究和纳米器件制备中具有很大的优势。
- 结构单一：由于MBE生长的过程是原子层沉积，因此量子点的结构单一性优于其它生长技术，从而在光、电、磁学等研究领域有广泛的应用前景。
- 生长速度快：MBE Quantum Dots的生长速度快，可以大幅度提高材料的生产效率。
2. 应用：- 量子器件：MBE Quantum Dots作为量子点纳米结构具有良好的量子调控性能，被广泛应用于光电子器件、量子计算和传感器等领域。
例如，在光电子器件中，MBE Quantum Dots可用于制备高性能的激光器、光电二极管和太阳能电池等。
- 纳米材料：MBE Quantum Dots还可以应用于纳米材料研究。
通过控制点的尺寸和结构，可以调控其光学、电学、力学和磁学性质。
这为纳米材料的制备和应用提供了新的途径。
- 量子力学研究：MBE Quantum Dots的独特特性使得它在量子力学研究中得到广泛应用。
通过在点之间形成耦合，可以研究量子隧穿效应、自旋共振和量子纠缠等现象。
三、MBE Quantum Dots的挑战与发展趋势1. 挑战：- 生长的均匀性：MBE Quantum Dots的生长均匀性是一个挑战，需要对生长条件和衬底特性进行进一步优化，以获得更加均匀分布的点。
分子束外延技术(MBE)的原理及其制备先进材料的研究进展教材
在各加热炉和衬底之间分别插有单个的活门,可以精确 控制薄膜的生长过程。通过对活门动作的适当安排, 可 以使各射束分别在规定的时间间隔内通过或关断。 单个束源炉中必须使用高纯度原料。
MBE前沿介绍 制备GaNAs基超晶格太阳能电池 理论计算表明,对于GaInP/ GaAs/ Ge 三结电池来说,当在GaAs 电池与Ge 电池之间再增加一个带隙在1 eV左右的子电池将会进 一步提高多结太阳能电池的效率。由于四元合金Ga1-xInxNyAs1-y 带隙可调控至1 eV 且能与GaAs 或Ge 衬底实现晶格匹配(当x≈3y), 于是成为研究多结太阳能电池的热门材料 。
MBE前沿介绍 拓扑绝缘体薄膜微器件
近年来，拓扑绝缘体因其独特的电子结构和性质成为凝聚态物理研究的 热点领域。 三维拓扑绝缘体具有绝缘型的体能带和受时间反演对称性保护的 金属型表面态，这种表面态在动量空间具有狄拉克型的色散关系，并且在狄 拉克点之外的地方是自旋非简并的，这种独特的拓扑表面态有可能导致多种 新奇的量子现象，如表面量子霍尔效应、激子凝聚现象、量子反常霍尔效应 等。 三维拓扑绝缘体己经在很多材料中被预言或发现，其中Bi2Se3家族的化 合物(Bi2Se3，Bi2Te3和Sb2Te3)因为其简单的表面态结构、较大的体能隙、较 易制备等优点成为目前研究最多的一类三维拓扑绝缘体材料。 拓扑绝缘体很多独特的输运性质需要在微米尺度甚至亚微米尺度的结构 中才能观测到。因此，必须将其加工成微器件。但是，传统的制备工艺一般 需要对其进行紫外光刻或电子束刻蚀，这样就可能显著改变载流子浓度和迁 移率，从而影响各种量子效应的观测。 为了避免传统制备工艺的缺陷，中科院物理研究所的科研团队借助MBE 设计了新工艺。
MBE前沿介绍 北京科技大学的研究团队设计了如下实验方案：
分子束外延
设备结构
高真空生长室：
源发射炉、衬底夹、加热器
过程控制系统：
闸门、热电偶、加热器控制
监测、分析系统：
高能电子、衍射仪质谱仪、俄歇分析仪
生长室结构
经典范例——GaAs薄膜的生长
主要利用到达表面的 Ga原子束和As2及As4 的分子束。 关键是在单个Ga原子 上的As2分子的分解化 学吸附反应。 过量As2的分子可以保 证满足化学配比GaAs 的薄膜的生长。
起源与发展
20世纪70年代初由美国BELL实验室开创Байду номын сангаас70年代中期，我国中科院物理所和半导体所 开始对MBE的探索，80年出产首台MBE， 91年长春召开第1届学术研讨会 1986年，GaAs/Al-GaAs系材料开始进入 器件应用阶段 目前，研发人造结构(自然界不存在)
生长原理及方法
物理沉积单晶薄膜方法。 在超高真空腔内，源材料通过高温蒸发、辉 光放电离子化、气体裂解，电子束加热蒸发 等方法，产生分子束流。 入射分子束与衬底交换能量后，经表面吸附、 迁移、成核、生长成膜。
分子束外延
Molecular Beam Epitaxy (MBE)
分子束外延
概述 起源与发展 生长原理及方法 设备结构 经典范例 优点 存在问题
概述
是一种可在原子尺度上精确控制外延厚度、 掺杂和界面平整度的薄膜制备技术； 主要用于半导体薄膜制备（超薄膜、多层量 子结、超晶格）； 新一代微波器件和光电子器件的主要技术方 法
优点
源和衬底分别进行加热和控制，生长温度 低 ，可形成超精细结构。 生长速度低，容易在过程中控制，有利于生 长多层异质结构 是一个动力学过程，可以生长一般热平衡生 长难以得到的晶体 。 生长过程中，表面处于真空中，利于实时监 控检测。
分子束外延环评 -回复
分子束外延环评-回复分子束外延（Molecular Beam Epitaxy, MBE）是一种用于制备纳米材料的先进技术。
它可以在真空环境下通过控制分子束的方向和能量，沉积材料的分子层，从而制备出高质量的薄膜材料。
本文将从介绍MBE的原理、开发历史和应用领域开始，逐步探讨其环境效应和环境可持续性的评估。
MBE技术的原理非常简单，即通过物质分子束的蒸发和沉积实现纳米材料的生长。
首先，我们需要创建一个真空环境，以便在不受干扰的状态下进行分子束的传输。
然后，通过热源使固态材料蒸发，并将蒸发的分子束通过加速电场引导到衬底上，最终形成一层薄膜。
MBE技术的发展起源于20世纪60年代初。
当时，科学家们通过将分子束从一个小孔中释放出来，实现了材料的成分梯度沉积。
之后，人们逐渐发展出更加高效和精确的控制方法，使得MBE成为目前制备纳米材料的重要工具。
现如今，MBE已经广泛应用于半导体器件、光电器件、磁性材料等领域。
在半导体器件中，MBE被用于制造高效能的固态激光器、太阳能电池等。
在光电器件中，MBE可以制备高性能的发光二极管、光电导等。
此外，MBE还可以用于制备具有特定磁性性质的材料。
然而，MBE技术在环境方面也面临一些挑战。
首先，MBE需要在高真空环境下进行，因此需要大量的能源用于制造和维护真空系统。
其次，材料蒸发产生的废气可能会对环境造成污染。
同时，MBE技术在生产过程中使用的材料和化学品也可能对环境和人体健康产生潜在威胁。
为了评估MBE技术的环境效应和环境可持续性，我们可以采用生命周期评估（Life Cycle Assessment, LCA）方法。
LCA是一种系统性的方法，用于评估产品、过程或服务的环境影响，从原材料的获取到制造、使用和最终处理的环节。
通过应用LCA方法，我们可以对MBE技术的整个生命周期进行评估，包括能源消耗、废气排放、材料使用等因素。
根据LCA的结果，我们可以得出一些结论以指导MBE技术的环境改进。
mbe外延原理及设备结构
mbe外延原理及设备结构
MBE外延原理及设备结构如下：
原理：分子束外延（MBE）是一种化合物半导体多层薄膜的物理淀积技术。
其基本原理是在超高真空条件下，将组成薄膜的各元素在各自的分子束炉中加热成定向分子束入射到加热的衬底上进行薄膜生长。
设备结构：MBE设备主要配置包括进样室、预处理室和生长室三个部分。
1. 进样室与外部环境直接互连，用于衬底或外延片的进出样，以及衬底的预除气过程。
2. 预处理室是进样室和生长室的过渡区域，主要完成衬底的除气过程以及样品的暂存。
3. 生长室是整个MBE系统的核心，主要监测并完成材料的生长过程。
其中配备了真空系统、样品架辅助系统、束源炉、以及实时监控系统等多个装置。
真空系统为生长提供较高的真空环境，使得气体的平均运动自由程远远超过腔体的尺寸，从源炉喷射出来的金属蒸汽不会发生碰撞且能够直接沉积到衬底表面。
以上内容仅供参考，建议查阅专业书籍或文献资料获取更全面和准确的信息。
原子层沉积 分子束外延
原子层沉积分子束外延摘要：1.原子层沉积与分子束外延的概述2.原子层沉积技术的原理与特点3.分子束外延技术的原理与特点4.两种技术的应用领域及优缺点对比5.中国在相关领域的研究与发展正文：原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）和分子束外延（Molecular Beam Epitaxy，简称MBE）是两种重要的薄膜制备技术，广泛应用于半导体、光学和能源等领域。
原子层沉积技术是一种自下而上的薄膜制备方法，通过气相沉积的方式，将材料原子一层一层地沉积在基底上。
ALD技术的特点是薄膜厚度可控、成分均匀、生长速率慢，因此能够实现对薄膜的精确控制。
此外，ALD技术可以应用于多种材料，包括金属、氧化物和化合物等。
在我国，ALD技术已经取得了显著的研究成果，并在半导体、太阳能电池、发光二极管等领域得到了广泛应用。
分子束外延技术则是一种自上而下的薄膜制备方法，通过将材料分子束射到基底表面，使其逐层生长。
MBE技术的特点是薄膜生长速率快、薄膜质量高、成分可控。
由于MBE技术对薄膜的生长具有很高的控制能力，因此在我国被广泛应用于量子点、量子井、超晶格等纳米材料的制备。
此外，MBE技术还在光电子器件、半导体器件等领域具有重要应用价值。
在对比两种技术时，ALD适用于大面积、均匀薄膜的制备，而MBE更适用于小面积、高质量薄膜的制备。
同时，ALD技术在我国的研究与应用相对成熟，拥有较高的产业化水平；而MBE技术在我国的研究尚处于起步阶段，但具有巨大的市场潜力。
总之，原子层沉积和分子束外延技术在我国都取得了显著的研究成果，并具有广泛的应用前景。
作为职业写手，我们有责任关注这两种技术的发展动态，挖掘其在不同领域的应用潜力，为我国科技事业的发展贡献力量。
mbe分子束外延材料
MBE分子束外延材料一、介绍分子束外延（Molecular Beam Epitaxy，简称MBE）是一种重要的材料生长技术，广泛应用于半导体器件的制备过程中。
本文将从以下几个方面对MBE分子束外延材料进行全面、详细、完整且深入地探讨。
二、MBE的原理MBE是一种通过在真空环境中，将单个原子或分子逐个地沉积在衬底表面上，从而形成薄膜或多层结构的技术。
其主要原理包括以下几个步骤：1. 高真空环境MBE需要在高真空环境下进行，以保证材料生长的纯净性和控制性。
2. 分子束发射通过加热源将所需材料加热至蒸发温度，使其形成分子束。
3. 分子束传输通过操控分子束的速度和方向，将其传输到衬底表面。
4. 衬底表面反应分子束到达衬底表面后，与表面原子进行反应，形成新的材料层。
5. 生长控制通过控制分子束的强度和衬底温度，可以控制材料的生长速率和晶体质量。
三、MBE分子束外延材料的优势MBE分子束外延材料具有以下几个优势：1. 高质量晶体生长MBE可以在原子级别控制材料的生长过程，使得晶体质量更高，晶格更完整，缺陷更少。
2. 精确的层厚控制MBE可以实现对材料层厚的精确控制，从而满足不同器件对薄膜厚度的要求。
3. 多元化材料生长MBE可以实现多种材料的生长，包括合金材料、异质结构等，满足不同器件对材料性能的需求。
4. 低温生长MBE可以在相对较低的温度下进行材料生长，减少材料的热膨胀和晶体缺陷。
四、MBE分子束外延在半导体器件中的应用MBE分子束外延材料广泛应用于半导体器件的制备过程中，包括以下几个方面：1. 光电器件MBE可以生长高质量的半导体材料，用于制备光电器件，如激光器、太阳能电池等。
2. 量子结构器件MBE可以生长具有量子效应的材料，用于制备量子阱、量子点等器件。
3. 磁性材料MBE可以生长磁性材料，用于制备磁存储器件、磁传感器等。
4. 纳米材料MBE可以生长纳米材料，用于制备纳米器件、纳米传感器等。
五、总结MBE分子束外延材料是一种重要的材料生长技术，具有高质量晶体生长、精确的层厚控制、多元化材料生长和低温生长等优势。
分子束外延技术
分子束外延技术1. 引言分子束外延技术（Molecular Beam Epitaxy，简称MBE）是一种先进的材料制备技术，广泛应用于半导体器件和纳米材料的研究和生产领域。
该技术利用超高真空环境下的分子束束流，通过在晶体表面逐层沉积原子和分子，从而制备出具有高结晶质量和精确控制的薄膜和异质结构。
本文将详细介绍分子束外延技术的原理、仪器设备、潜在应用以及一些发展趋势。
2. 分子束外延技术原理分子束外延技术的核心原理是利用超高真空环境下的分子束束流进行材料的生长。
该技术的关键步骤包括分子束的制备、束流的对准和单分子层的沉积。
首先，需要使用分子束制备室来蒸发所需的材料。
通常使用的方法有热源蒸发、激光蒸发和电子束蒸发。
通过控制蒸发源温度和压力，可以得到所需的原子或分子束。
然后，将分子束引入基底材料的表面。
为了精确地控制分子束的对准，常采用光束热脱附（Photodesorption）和金刚石细针扫描（Diamond Anvil Scanning）等技术。
最后，在基底材料的表面逐层沉积原子和分子，形成所需的薄膜和结构。
这需要控制沉积速率、表面扩散和吸附动力学等参数，以保证沉积的薄膜具有高结晶质量和所需的形貌。
3. 分子束外延技术仪器设备分子束外延技术需要高度精密的仪器设备来实现对分子束的制备和束流的对准。
典型的MBE系统包括以下几个关键组件：3.1 蒸发室蒸发室用于蒸发所需的材料。
该室通常具有多个独立的炉子，可以同时蒸发多种材料。
蒸发室还包括温度控制装置、高真空泵和检测装置等。
3.2 基底基底是分子束外延技术中用于生长薄膜的材料。
常用的基底材料包括GaAs、InP、Si和Ge等。
基底通常具有高结晶质量和平整的表面，以保证薄膜的生长质量。
3.3 光束对准系统光束对准系统用于精确地对准分子束到基底的表面。
该系统通常包括光源、准直系统和检测器。
光源可以是连续光源或激光光源，用于产生对准所需的光束。
3.4 薄膜生长监测系统薄膜生长监测系统用于实时监测薄膜生长的情况。
mbe分束外延
mbe分束外延
MBE（Molecular Beam Epitaxy，分子束外延）是一种先进的半导体薄膜生长技术，通过精确控制各种元素或化合物的纯度极高、能量可控的分子束，逐层沉积在洁净的衬底表面上，实现原子级别的精确生长。
该技术适用于制备高性能的超薄半导体异质结构，如量子阱、超晶格等，广泛应用于半导体器件如激光器、高速电子器件以及量子计算等前沿领域的研究与开发。
在MBE过程中，通过对分子束的流量、沉积速率以及生长温度的精确控制，可以实现对薄膜厚度、组分和界面质量的精准调控。
分子束外延法制备超导材料研究
分子束外延法制备超导材料研究分子束外延法（Molecular Beam Epitaxy，MBE）是一种先进的材料生长技术，广泛应用于能源、电子、光电等领域的研究和应用中。
其中，MBE在超导材料研究中尤为重要。
本文将介绍MBE方法的原理、优势以及在超导材料研究中的应用。
MBE是一种利用超高真空条件下的分子束沉积技术。
其原理是通过控制分子束中所含原子或分子的能量和角度来精确控制材料的生长。
MBE的核心设备包括分子束源、靶标和探针，通过调节这些参数可以实现对材料生长过程的精确控制。
MBE方法在超导材料研究中的应用主要体现在两个方面：材料生长和薄膜研究。
首先，MBE方法可以用于制备高质量的超导材料薄膜。
由于其在真空条件下进行生长，可以大大减少外界杂质的干扰，从而得到相对纯净的超导材料。
同时，通过控制材料的生长参数，例如温度、沉积速率等，可以实现对超导材料结构和性能的精确调控。
其次，MBE方法在超导材料薄膜的研究中起到了重要的角色。
MBE可以制备出高质量、单晶、单层超导材料薄膜，这对于研究超导材料的表面和界面性质具有重要意义。
通过控制薄膜的生长条件，可以获得具有不同物理性质的超导材料薄膜，进而深入研究超导材料的表面电子结构、超导机制等。
在超导材料研究中，MBE方法的优势主要表现在以下几个方面。
首先，MBE可以实现对超导材料的“原位”生长和表征，即在材料生长过程中进行现场观测和性能测试。
这样可以及时发现材料生长过程中存在的问题，并通过调控生长参数进行纠正，从而得到更好的材料性能。
其次，MBE方法可以制备出单晶质量极高的超导材料薄膜，这对于研究超导材料的基本性质非常重要。
单晶材料具有均一的晶体结构和较低的晶界密度，可以减少材料的缺陷和散射，提高超导材料的临界温度和电流密度等关键参数。
此外，MBE方法还可以实现超导材料与其他材料的异质结构生长。
通过在超导材料薄膜上生长其他材料的薄层，可以实现超导材料与其他材料的界面调控，从而改变超导材料的性能。
分子束外延技术简介市公开课获奖课件省名师示范课获奖课件
进气
转子 叶片
定子 叶片
排气
叶片切向速度
b
入射气体
分子速度
a
(a)
b a
(b)
涡轮分子泵
吸附泵
在液氮温度下使用多孔 吸附剂吸气旳真空泵 可分为内冷式和外冷式
内冷式吸附泵
低温泵（冷凝泵）
使用低于20K旳金属表面对气体分子进行多分子层 旳吸附－－相对于气体旳凝聚，可取得更低旳极限 压强、更大旳抽速。
衬底旳脱氧化物
当衬底温度升高到某一特定温度时， 衬底表面氧化物迅速分解，脱离衬底。 该变化能够由RHEED图样旳变化观 察到。一般旳，以为：GaAs脱氧化 物温度为580 OC，InP脱氧化物温度 为540 OC。衬底旳脱氧现象可用来拟 定生长时衬底实际温度所相应旳表观 温度。
Байду номын сангаас长
按照预先编制好旳程序，在计算 机控制下开关各源炉挡板、变化各源 炉温度，进行材料旳生长。在生长过 程中，有关人员亲密注意和定时统计 仪器旳多种状态参数，要及时、正确 地处理生长中发生旳异常情况。
5～8小时才干扑满整个样品
真空技术简介
真空：低于一种大气压旳气体状态 真空技术主要涉及： 真空旳取得、真空旳测量、真空检漏
真空旳大致范围
极高真空 超高真空
高真空
低真空 粗真空
10－10 10－8 10－6 10－4 10－2 100 102 104 Pa
真空度旳单位：
1 mmHg＝1 Torr 1 Torr＝133 Pa 1 mbar＝100 Pa 1 ATM＝101325 Pa 1 ATM＝760 Torr
旋片式真空泵
是一种油封式机械真 空泵。其工作压强范 围为760～0.01 Torr 属于低真空泵。它能 够单独使用，也能够 作为其他高真空泵或 超高真空泵旳前级泵。
分子束外延
分子束外延分子束外延（英文名称；Molecular Beam Epitaxy）1、定义：分子束外延是一种新的晶体生长技术，简记为MBE。
其方法是将半导体衬底放置在超高真空腔体中，和将需要生长的单晶物质按元素的不同分别放在喷射炉中（也在腔体内）。
由分别加热到相应温度形成蒸汽，经小孔准直后形成分子束或原子束直接喷射到上述衬底上，同时控制分子束对衬底的扫描，就可以生长出极薄的（可薄至单原子层水平）单晶体和几种物质交替的超晶格结构。
2、研究对象：分子束外延主要研究的是不同结构或不同材料的晶体和超晶格的生长。
3、MBE的一般结构：目前最典型的MBE系统是由进样室、预备分析室、和外延生长室串连而成。
进样室：进样室用于换取样品，是整个设备和外界联系的通道，也可同时放入多个衬底片。
预备分析室：对衬底片进行除气处理，对样品进行表面成分、电子结构和杂质污染等分析。
通常在这个真空室配置AES、SIMIS、XPS、UPS等分析仪器。
外延生长室：是MBE系统中最重要的一个真空工作室，用于样品的分子束外延生长。
配置有分子束源、样品架、电离记、高能电子衍射仪和四极质谱仪等部件。
监测分子束流有以下几种：●（1）石英晶体常用于监测束流，束流屏蔽和冷却适当，可得满意结果。
但噪音影响稳定性。
几个 m后，石英晶体便失去了线性。
调换频繁，主系统经常充气，这不利于工作。
●（2）小型离子表，测分子束流压，而不是测分子束流通量。
由于系统部件上的淀积而使其偏离标准。
●（3）低能电子束，横穿分子束，利用所探测物种的电子激发荧光。
原子被激发并很快衰退到基态产生UV荧光，光学聚焦后荧光密度正比于束流密度。
可做硅源的反馈控制。
不足之处：切断电子束，大部分红外荧光和背景辐射也会使信噪比恶化到不稳定的程度。
它只测原子类，不能测分子类物质。
生长室结构：分子束外延中的分子（原子）运动速率非常之高，源分子（原子）由束源发出到衬底表面的时间极其短暂，一般是毫秒量级，一旦将分子束切断，几乎是在同时，生长表面上源的供应就停止了，生长也及时停止。
第五章 分子束外延ppt课件
.
第五章 分子束外延--5.2 分子束外延的原理和特点
➢ 分子束外延技术的典型特点： （３）通过调节束源和衬底之间的挡板的开闭，可严格控制膜
第五章 分子束外延
.
第五章 分子束外延--5.1引言
➢ 分子束外延（Molecular Beam Epitaxy, 简称MBE）是晶体薄 膜的一种外延生长技术。是指在清洁的超高真空（UHV）环 境下，使具有一定热能的一种或多种分子（原子）束流喷射 到晶体衬底，在衬底表面发生反应的过程，由于分子在“飞 行”过程中几乎与环境气体无碰撞，以分子束的形式射向衬 底，进行外延生长，故此得名。
缺点是，溅射时引起的晶格残余损失不易恢复，想获得非常平整的表面 有些困难，因此现在已较少采用。
.
第五章 分子束外延--5.4 分子束外延生长硅
一、表面制备 （２）热处理方法
在超高真空腔内，对硅片高温退火处理，可获得清洁的表面。该方法关键处 在于，在快速升温的过程中，真空室本底真空要足够好（优于5 107Pa），因此整个真空系统以及样品架在加热之前应充分烘烤、除气，否 则在硅表面会形成难以除去的SiC杂质。高温处理的一个实际问题是无法 对目前使用的大直径硅片均匀加热。
.
第五章 分子束外延--5.4 分子束外延生长硅
一般来说，硅分子束外延是指与硅有关的分子束外延，既包 括在硅衬底上同质外延生长Si薄膜，也包括在硅衬底上异质 外延生长其他系统的分子束外延技术。 一、表面制备 集成电路制造过程中的硅片清洗是指在氧化、光刻、外延、 扩散和引线蒸发等工序前，采用物理或化学的方法去除硅片 表面的污染物和自身氧化物，以得到符合清洁度要求的硅片 表面的过程。 随着集成电路由大规模向超大规模发展，电路的集成度日益 提高、单元图形的尺寸日益卫华，污染物对器件的影响也越 加突出。
射频等离子体辅助分子束外延（rf-mbe）制备高质量zno薄膜与研究
８＃零秘蓖夫学骥“ｌ：警热谂文翁籁镰赢誉张鞴辫癸予袋舞怒（ｒｆ－ＭＢＥ）糕蓊袭溪鬣ＺｎＯ薄簇毳簪爨第一攀绪论１。
｛引言选年蘩，宽蘩带半导体已缝戚为一拿研黧熬焘。
它燕矮渡筏麓光器粹霸激毙器释方巍，蠢挺赢巍遴禳瓣帮露、党髂息熬１懑豢寮鏖秽渡戳瀵度寄囊篓应闹，是信感撼示、绿色照明等颧域取得革命性毵展的基础。
ＺｎＯ具有多种桡越性熊，鼹程透明导电麟、裹蕊声学波器件、变魍器、气敏嚣襻、透明巍翡率穗子器件、黼藏痤电甓感器等方蟊彀褥广泛巍鬻。
同辩，：？－ｎＯ也是一稀囊接鞭迂篓ｌｌ～Ｖ｜族宽禁带拳簿薅，室涅蘩带窕鹰为３．３７ｅＶｌ轴。
瓣凡年兴怒的ＧａＮ蒸蕊绿光材料很慢成为人们关注的焦点，其蓝绿光黢光二授营现融商龋化，蓝光激光器也已走内市场。
与当今簏鬟半导体材料ＧａＮ相比，飘Ｏ黧餐毒乒常鞫骰麴魏翰、麴瑗授繇学方囊的燃麓，它遂翼煮以下橇点嘿（１》囊幽擞子结合魏麓，遮剽６０ｍｅＶ，菊ＧａＮ黔镶渗２ｉ－＇－－２５ｍｅＶ；拯ｊ有天然树瘾；《毒》黼洼讫学戆瑷霹行：＠）黼辅辩灏侥更强，逡台太空应藤｛§）外挺生长溢艘低；（６）熔点离．热稳定性和化学稳定性离。
这样，ＺｎＯ撼示出比ＧａＮ慰太憋发屡瓣力，餐整在发竟餐、激巍嚣翻繁多≥攥测器等方蕊邈德蠛瓣劳取代ＯａＮ光也嚣棒。
笼黧是秘拳稠黉港韵一个裔襻磷究小组巍转鼢年公舔了ＺｎＯ薄膜在三僚濑ＹＡＧ激光黪激发下产生迓紫努激光速一结暴溺，寰斛雩｜超强裂霞响。
为此，｛Ｓｃｉｅｎｃｅ））ｔ４ｌ第２７６卷以“ＷｉｌｌＷＬａｓｅｒｓＢｅａｔｔｈｅＢｔｕｅｓ？”为题黠她研究遴行了鞠获评逮，稼之为“基ｇｒｅａｔｗｏｒｋ”，盎越，程垒毽劳兴趣了麟究Ｚｎ０鹩熬潮。
她后不久，蕊溺薅就太攀瞧撩邋了ＺｎＯ耩料邋过自彩藏｛辫攥艘实理受激整党熬蕊蘩１５ｌ。
邀穰夫鲶携麓了ＺｎＯ材糕最莛光魄瓣辫舔懿的发展，憾熊成为继ＧａＮ之精的又一重娶半母体材料。
获得纛斌爨熬ＺｎＯ零撼簿膜是实现圭述艇鞠的娘奉感。
潋老出予材料铡罄技术藩蘑，缀罐蒺褥诋缺陷攀壤熬高震嚣ＺｎＯ单鳋薄罐，褥ＺｎＯ巾瀵予熬存在强裂溅缀赖于瑟髂鹣翘磐缡蒜槛［６－ｓ］，逮撵，媳裁摄熊获褥裰强的紫辨帅宁师范＾学砸十毕业论立射频等离于体辅助丹于＿束外延（水ＭＢＥ）制薪高质矗ｔＺｎＯ薄膜研宽自由激子发射。
分子束外延基本原理
分子束外延基本原理
分子束外延（Molecular Beam Epitaxy，MBE）是一种用于薄膜生长的技术，主要应用于半导体、光电子器件等领域。
其基本原理如下：
分子束源：将需要生长的材料放在加热源中，通过热蒸发或激光脱附等方式将其转化为气态分子，形成分子束。
分子束狭缝：将分子束通过一条狭缝，使其成为高速、高度准直的分子束。
基片表面：将待生长的基片表面清洗干净，使其表面光滑且没有杂质。
分子束轰击：将高速、高度准直的分子束照射到基片表面，使分子被吸附在表面，并形成原子沉积。
控制生长速度：通过调节加热源的温度、分子束的狭缝大小、分子束的照射时间等参数，控制生长速度，使其达到所需的厚度。
结晶生长：在分子沉积的过程中，原子间形成化学键，并在基片表面上形成晶体结构，从而完成薄膜的生长。
通过MBE技术生长的薄膜具有高质量、高纯度、可控性强等特点，广泛应用于微电子、光电子等领域。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
MBE前沿介绍
北京科技大学的研究团队设计了如下实验方案：
设备：Veeco公司生产的Gen20A 全固态MBE 系统； 目标物：GaN0.03As0.97/In0.09 Ga0.91As短周期超晶格结构； 原料：生长过程是在半绝缘GaAs 衬底的(001)面上进行 的,Si和Be分别作为GaAs 的n 型和p 型掺杂源。 工艺：生长之前,需在生长室内对GaAs衬底进行高温( ~ 600 ℃) 脱氧处理10min;然后,将GaAs衬底温度从600℃降 为580 ℃,生长300nm厚度的GaAs缓冲层以获得更好的外 延生长表面;最后,将生长温度降至480℃,进行GaNAs/ InGaAs超晶格的生长和后续电池中10 周期数的 GaNAs/ InGaAs超晶格有源区的生长。（GaNAs/InGaAs 超晶格中阱层和垒层厚度相同,总厚度为0. 2 μm。在总厚 度不变的条件下,周期厚度在6 ~30 nm之间变化。）
MBE前沿介绍
制备GaNAs基超晶格太阳能电池
理论计算表明,对于GaInP/ GaAs/ Ge 三结电池来说,当在GaAs 电池与Ge 电池之间再增加一个带隙在1 eV左右的子电池将会进 一步提高多结太阳能电池的效率。由于四元合金Ga1-xInxNyAs1-y 带隙可调控至1 eV 且能与GaAs 或Ge 衬底实现晶格匹配(当x≈3y), 于是成为研究多结太阳能电池的热门材料 。
注：超高真空(Ultrahigh Vacuum)指的是真空压 力至少低于1.33x10-8Pa。 外延生长：在一个晶体表面上生长晶体薄膜， 并且得到的薄膜和衬底具有相同的晶体结构和 取向。
MBE原理—历史
1968年，美国Bell实验室的Arthur首先进行了Ga 和As在GaAs表面的反应动力学研究，奠定了 MBE的理论基础。
极质谱仪、原子吸收光谱等现代仪器时时监测分子束的 种类和强度，从而严格控制生长过程与生长速率。另一 方面，复杂的设备也增大了生产成本。
在各加热炉和衬底之间分别插有单个的活门,可以精确 控制薄膜的生长过程。通过对活门动作的适当安排, 可 以使各射束分别在规定的时间间隔内通过或关断。
单个束源炉中必须使用高纯度原料。
MBE原理—系统
目前最典型的MBE设备是由进样室、预处理和表 面分析室、外延生长室三个部分串连构成。
M600
MBE原理—系统
进样室（装样、取样、对衬底进行低温除气）：进样 室用于换取样品，可同时放入多个衬底片。
预处理和表面分析室：可对衬底片进行除气处理，通 常在这个真空室配置AES、XPS、UPS等分析仪器。
分子束外延技术（MBE）的原理及 其制备先进材料的研究进展
学号：XXXXXXXXXX 姓名：XX
主要内容
MBE原理 MBE前沿介绍
MBE原理—定义
分子束外延(Molecular Beam Epitaxy，简称 MBE)：它是在超高真空的条件下，把一定比 例的构成晶体的各个组分和掺杂原子(分子) 以一定的热运动速度喷射到热的衬底表面来 进行晶体外延生长的技术。
衬底温度较低，因此降低了界面上热膨胀引入的晶格失 配效应和衬底杂质对外延层的自掺杂扩散影响。
受衬底材料的影响较大，要求外延材料与衬底材料的晶 格结构和原子间距相互匹配，晶格失配率要≤7%。
能独立控制各蒸发源的蒸发和喷射速度，从而能制备合 金薄膜。
MBE原理—特点总结 MBE制膜并不以蒸发温度为控制参数，而以系统中的四
外延生长室：是MBE系统中最重要的一个真空工作室， 配置有分子束源、样品架、电离记、高能电子衍射仪 和四极质谱仪等部件MBE系统略图
MBE原理—系统
反射高能电子衍射仪 （Reflection High—Energe Electron Diffraction ，RHEED） 是十分重要的设备。高能电子 枪发射电子束以1~3°掠射到 基片表面后，经表面晶格衍射 在荧光屏上产生的衍射条纹可 以直接反映薄膜的结晶性和表 面形貌，衍射强度随表面的粗 糙度发生变化，振荡反映了薄 膜的层状外延生长和外延生长 的单胞层数。
然而,众多研究发现,In和N 共存于GaInNAs 中会导致成分起伏和应 变,并导致In团簇的产生以及与N 元素有关的本征点缺陷等,这些问 题的存在使得高质量的GaInNAs 基电池很难得到。一种解决方法 是利用In 和N 空间分离的GaNAs/ InGaAs 超晶格替代四元合金 GaInNAs 材料。这就必须借助于MBE设备工艺。
MBE前沿介绍
实验结论：周期厚度为20nm时，所制备的超晶格电池的短路 电流密度达到10.23mA/cm2,大大高于一些已报道的GaInNAs 电池。
MBE前沿介绍
制备高发光性能InN
光通讯波段的高性能硅基光电子器件的制备不仅是光通信技术发展的需 要，也是实现硅基光电集成的需要。虽然硅材料的制备和应用技术已经非常 成熟，但由于硅材料是间接带隙半导体，其发光效率较低，因此通过在硅衬 底上异质外延高发光性能的Ⅲ一VA族半导体材料的方法来获得所需的光性能 是一个很好的选择。在所有氮化物半导体中，InN具有最高的饱和电子漂移速 度、最小的电子有效质量及最高的电子迁移率，并且InN材料特性受温度的影 响非常小。
1969-1972年间，Bell实验室的A. Y. Cho进行了 MBE的开创性研究，用MBE生长出了高质量的 GaAs薄膜单晶及n型、p型掺杂，制备出了多种 半导体器件，而且生长出第一个GaAs／AIGaAs 超晶格材料，从而引起了人们的关注。
1979年T. W. Tsang将MBE法制备的GaAs／AlGaAs DH激光器的阈值电流密度降到1KA／cm2以下， 使其能在室温下工作，达到了LPE水平。
MBE原理—生长的动力学过程
1.入射的原子或分子在 一定温度衬底表面进 行物理或化学吸附。
2.吸附分子在表面的迁 移和分解。
3.组分原子与衬底或外 延层晶格点阵的结合 或在衬底表面成核。
4.未与衬底结合的原子 或分子的热脱附。
MBE生长过程的三个基本区域
MBE原理—特点总结
生长速率低，大约1μm/h，相当于每秒生长一个单原子 层，因此有利于实现精确控制厚度、结构与成分和形成 陡峭异质结等，特别适于生长超晶格材料和外延薄膜材 料。但是，极低的生长速率也限制了MBE的生产效率， 同时考虑到昂贵的设备，使其无法进行大规模生产。