杂质研究思路及控制与去除策略-罗海荣

合集下载

利奈唑胺制备工艺的优化研究

利奈唑胺制备工艺的优化研究
第 9期
顾荣领,等:利奈唑胺制备工艺的优化研究
·13·
利奈唑胺制备工艺的优化研究
顾荣领1,2,罗海荣1
(1.铜仁学院 材料与化学工程学院,贵州 铜仁 554300;2.浙江海正药业股份有限公司,浙江 台州 318000)
摘要:以吗啉和 3,4-二氟硝基苯为原料,通过缩合、还原、环合、肼解、和酰化反应制备利奈唑胺,优化了合成工艺中还原反应和环合反 应步骤:在还原反应中,用氢气还原代替甲酸铵做氢源;在环合反应中,用固体光气代替光气反应构建唑烷酮,并优化固体光气的反应 温度对反应的影响,确定了最佳反应条件,总收率达 65.2%,产品结构经1HNMR、ESI-MS确证。 关键词:利奈唑胺;还原反应;固体光气;环合反应 中图分类号:TQ465Байду номын сангаас 文献标识码:A 文章编号:1008-021X(2018)09-0013-02
利奈唑胺(Linezolid,1)作用于细菌 50S核糖亚单位,为细 菌蛋白质合成抑制剂[1],是全新类别的唑烷酮类合成抗菌药 物,由美国 Phfizer公司研制,2000年获得美国 FDA批准上市, 商品名为斯沃(Zyvox ),用于治疗革兰阳性(G+)球菌引起的 感染,包 括 由 MRSA 引 起 的 疑 似 或 确 诊 院 内 获 得 性 肺 炎 (HAP)、社区获 得 性 肺 炎 (CAP)、复 杂 性 皮 肤 或 皮 肤 软 组 织 感 染(SSTI)以及耐万 古 霉 素 肠 球 菌 (VRE)感 染 等 [2]。 文 献 [3]综 述了 1的合成方法,文献[4]以吗啉和 3,4-二氟硝基苯为原料, 经缩合、还原、酰化、环合、碱性水解、甲磺酰化、叠氮基取代、还 原和乙酰化得到利奈唑胺,该法用到铁粉 /氢气还原硝基,以及
图 1 利奈唑胺的合成路线

制剂杂质控制策略_概述及解释说明

制剂杂质控制策略_概述及解释说明

制剂杂质控制策略概述及解释说明1. 引言1.1 概述制剂杂质是指制药过程中不可避免地产生的与所需药物成分不同的其他化学物质。

这些杂质可能由原材料、催化剂、反应副产物等多种因素引起,而且可能对制剂的品质和安全性产生重要影响。

因此,在制药行业中,控制和管理制剂杂质至关重要。

本文旨在提供有关制剂杂质控制策略的综合概述和解释说明。

首先,我们将介绍本文的结构以及论文目的,然后探讨为什么需要制剂杂质控制策略。

1.2 文章结构本文分为五个主要部分。

在引言部分(第一章),我们将提供研究背景和文章结构的简要介绍。

在第二章中,我们将阐述制剂杂质控制策略的重要性,并讨论法规要求和行业标准方面的内容。

第三章将涵盖制剂杂质的分类与来源,包括其主要分类和特点、形成机理以及影响因素。

接着,在第四章中,我们将详细介绍制剂杂质控制策略的基本原则和方法,包括分析评估杂质风险、防控源头以及监测与控制生产过程中关键环节等方面的内容。

最后,在结论部分(第五章),我们将回顾研究现状,并展望未来在制剂杂质控制策略领域的发展方向。

1.3 目的文章的目的是为读者提供一个全面了解制剂杂质控制策略的概述,帮助他们认识到该领域对于制药行业的重要性。

通过解释法规要求和行业标准,读者将了解到为什么需要有效的制剂杂质控制策略。

此外,我们还将介绍不同类型和来源的制剂杂质,并讨论其对药物品质的影响。

最重要的是,我们将详细描述基本原则和方法,以指导读者在实践中建立合理、可行且高效的制剂杂质控制策略。

通过这篇文章,我们期望读者能够加深对于制剂杂质控制策略重要性及相关内容的理解,并为进一步研究和实践提供必要的指导和参考。

2. 制剂杂质控制策略的重要性2.1 杂质对制剂品质的影响制剂杂质是指在药物生产过程中存在于制剂中的不纯物质,可以影响药物的安全性、稳定性和疗效。

这些杂质可能来自原料药、辅料、溶剂、反应助剂或环境因素等。

杂质对制剂品质的影响包括以下几个方面:首先,杂质可能导致药物中毒作用或不良反应,危害患者健康。

ICH_Q3c_杂质:残余溶剂的指导原则(中文版)纯净版

ICH_Q3c_杂质:残余溶剂的指导原则(中文版)纯净版
方法 2:制剂中的每一种成分不必符合方法 1 的限度。药物中允 许的残留溶剂限度水平,可根据表 2 中 PDE mg/天及已知最大日剂 量,用方程(1)来计算。只要证明已降低至实际最低水平,便可以 认为这种限度是可接受的、该限度能说明分析方法的精度、生产能力 和生产工艺的合理变异,并能反映当前生产的标准水平。
表 1 药物制剂中含第一类溶剂的限度(应避免使用)
溶剂
浓度限度(ppm)
备注

2
致癌物
四氯化碳
4
毒性及环境公害
1,2-二氯乙烷
5
毒性
1,1-二氯乙烯
8
毒性
1,1,1-三氯乙烷
1500
环境公害
4.2 应限制的溶剂 列于表 2 的溶剂,由于其具毒性,在制剂中应予限制,规定 PDE
第 7 页 共 18 页
4. 残留溶剂的限度
4.1 应避免的溶剂
因其具有不可接受的毒性或对环境造成公害,第一类溶剂在原料
药、赋形剂及制剂生产中不应该使用。但是,为了生产一种有特殊疗
效的药品而不得不使用时,除非经过其他论证,否则应按表 1 控制,
1,1,1-三氯乙烷因会造成环境公害列人表 1,其限度 1500ppm 是
基于安全性数据而定的。
杂质:残留溶剂的指导原则
3.通则 3.1 根据危害程度对残留溶剂分类 “可耐受的日摄人量”(TDI)是国际化学品安全纲要(IPCS)用于 描述毒性化合物接触限度的术语。“可接受的日摄人量”(ADI)是 WHO 及一些国家和国际卫生组织所用的术语。新术语“允许的日接 触量”(PDE)是本指导原则中用于定义药物中可接受的有机溶剂摄 人量,以避免与同一物质的 ADI 混淆。
N-甲基吡咯烷酮

硝苯地平的制备及其杂质分离方法与应用[发明专利]

硝苯地平的制备及其杂质分离方法与应用[发明专利]

(10)申请公布号 (43)申请公布日 2013.07.17C N 103204814 A (21)申请号 201310130535.6(22)申请日 2010.09.02201010272773.7 2010.09.02C07D 239/06(2006.01)(71)申请人常州市第四制药厂有限公司地址213004 江苏省常州市梅龙坝(72)发明人王晓东 黄素萍 时敏 曹政屠永锐(74)专利代理机构上海新天专利代理有限公司31213代理人王巍(54)发明名称硝苯地平的制备及其杂质分离方法与应用(57)摘要本发明提供了一种硝苯地平的制备方法,包括邻硝基苯甲醛、乙酰乙酸甲酯和碳酸氢铵在甲醇中环合和精制等步骤。

并确证了硝苯地平制备中杂质的化学结构,该杂质的化学名为6-甲基-2,4-二(2-硝基苯基)-1,2,3,4-四氢吡啶-5-甲酸甲酯,本发明提供了其制备方法。

该杂质可以作为对照品,用以检测硝苯地平中相应的杂质,并在硝苯地平制备中对该杂质进行控制,可以有效地确保硝苯地平的纯度。

有较大的工业化应用价值。

(62)分案原申请数据(51)Int.Cl.权利要求书3页 说明书11页 附图5页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书3页 说明书11页 附图5页(10)申请公布号CN 103204814 A*CN103204814A*1.一种硝苯地平制备中分离的杂质6-甲基-2,4-二(2-硝基苯基)-1,2,3,4-四氢吡啶-5-甲酸甲酯,结构如下:所述杂质的1H NMR测定结果:;所述杂质的13C NMR测定结果:。

2.制备如权利要求1所述杂质6-甲基-2,4-二(2-硝基苯基)-1,2,3,4-四氢吡啶-5-甲酸甲酯的方法,其特征在于,该方法为:将15.1g邻硝基苯甲醛和5.8g乙酰乙酸甲酯溶于70mL95%乙醇中,边搅拌边滴加7.8mL25%的氨水,滴完室温搅拌24小时;减压蒸去大部分溶剂,剩余物为化合物X和少量乙醇的混合物,滤出化合物X,并用95%乙醇重结晶,得浅黄色固体约2.3g,即为杂质6-甲基-2,4-二(2-硝基苯基)-1,2,3,4-四氢吡啶-5-甲酸甲酯。

化学药品杂质的控制与案例分析85页PPT

化学药品杂质的控制与案例分析85页PPT
确度。 关于校正相对保留时间(RART)的应用。
残留溶剂检测的常见问题:
共出峰干扰 热降解干扰 基质效应的影响 药品溶解性的影响 溶剂介质的影响
共出峰干扰
共出峰: 在相同的色谱条件下具有相同 保留值的组分不一定是同一物质。不同的 物质在某一色谱条件下具有相同保留值的 现象,被称为共出峰现象。Biblioteka 气相色谱法:检查挥发性杂质
热分析法:检查不同晶型的杂质(影响生物利用度和
稳定性)
拉曼光谱法、红外光谱法、X-射线粉末衍射
生物检定法、酶联免疫试剂盒(抗生素残留量)
残留溶剂控制
标准起草过程中,应针对所用到的有机溶剂进行检查 建议采用了顶空进样方式和程序升温梯度洗脱的方法, 应注意供试品溶液的配制,要求供试品在溶剂中溶解。 方法学试验应进行回收试验,确认是否有基质干扰。 采用标准加入法,该方法可减少基质干扰,提高方法的准
标准加入法可以有效地排除基质效应的影 响;当标准加入法结果与内标法结果系统 偏差约10%(通常偏低)时,可以认为方 法存在明显的基质效应。
内标法与标准加入法测定结果的比较
药品名称 头孢氨苄
批号或箱号 211848 211850
残留溶剂 甲醇 甲醇
内标法 0.585% 0.445%
标准加入法 0.569% 0.437%
4.794% 0.579%
热降解干扰
如果药品对热不稳定,则可能会 在直接进样或顶空加热过程中发 生热降解,如果降解产物恰好与 待测的有机溶剂共出锋,或恰好 就是某种有机溶剂,则会导致把 降解产物当作残留溶剂检测,得 出错误结果。
热降解原因
分子结构中有烷氧基的药品可能热解产生 相应的醇。
排除干扰的办法
211854
甲醇

仿制药杂质研究管理基本思路

仿制药杂质研究管理基本思路


-改进工艺,降低杂质水平

合成工艺路线:起始原料、中间体质量控制

反应条件控制:精制方法等
仿制药杂质研究管理基本思路
17
第17页
二、仿制原料药杂质研究基本思绪
• 4.杂质程度要求: • 确定依据 • 指导标准要求(原料药杂质程度要求:汇报程
度、判定程度、质控程度) • 被仿品质量标准(该质量标准是否完善) • 被仿品实测结果(杂质种类、杂质含量) • 试制样品研究结构(杂质种类、杂质含量) • 相关文件资料
,但已确证结构,有安全性数据支持,依据样品实际杂质水平、安 全性资料可支持杂质水平综合考虑杂质程度
仿制药杂质研究管理基本思路
20
第20页
二、仿制原料药杂质研究基本思绪
• 4.杂质程度要求: • 依据指导标准、对比研究结果确定程度 • 适合以下情况 • -被仿品质量标准中杂质控制方法不完善 • -被仿品质量标准中无相关物质检验项 • -试制样品杂质谱及杂质含量与被仿品有较大差异 • 依据指导标准中程度要求、样品实际杂质水平、安全
性资料可支持杂质水平综合考虑,确定各已知杂质、未 知杂质(非特定杂质)、总杂质程度,与新药杂质程度 确定标准一致
仿制药杂质研究管理基本思路
21
第21页
二、仿制原料药杂质研究基本思绪
• 4.杂质程度要求: • 已知杂质程度
在杂质安全性得到充分验证前提下
考虑生产工艺与分析方法正常波动、产品稳定性
选择工艺相对成熟、批数多、批量靠近工业化生产样品
仿制药杂质研究管理基本思路
3
第3页
一、概述
• 1.杂质定义、分类及起源
• 杂质定义:任何影响药品纯度物质
• 杂质分类:有机杂质、无机杂质、残留溶剂

奥美拉唑杂质分析

奥美拉唑杂质分析

奥美拉唑杂质奥美拉唑( omeprazole),化学名为5-甲氧基-2 - [ [ ( 4-甲氧基-3,5-二甲基-2-吡啶基)甲基]亚硫酰基]-1-苯并咪唑,是英国AstraZeneca公司研发的质子泵抑制剂类抗溃疡药,临床主要用于治疗消化道溃疡和反食性胃炎。

欧洲药典(European Pharmacopeia ,缩写为EP)共列出其杂质9个。

奥美拉唑及其九由于合成方法和步骤的不同,所产生的杂质也有所不同。

根据本实验所采用的方法及所使用的原料情况,现分析其可能产生杂质如下:1. Omeprazole Imp. A (EP):化学名5-Methoxy-1H-benzimidazole-2-thiol ,是合成奥美拉唑中间体奥美拉唑硫醚的一个原料。

该方法的具体步骤为:500ml 三颈圆底烧瓶1只,安装搅拌轮,100。

C 温度计和加液管置于恒温水槽中。

烧瓶内加入苯并咪唑物(5-Methoxy-1H-benzimidazole-2-thiol )26.8g (0.15mol )、去离子水30ml 、NaOH6.0g(0.15mol)和乙醇200ml ,搅拌溶解后加入氯甲基物(2-Chloromethyl-4-methoxy-3,5-dimethylpyridine hydrochloride )33.3g (0.15mol ),加热搅拌回流3h 。

反应完毕,冷却,过滤,滤液用乙酸调至pH=7,加入去离子水适量,用乙酸乙酯萃取4次,合并有机层,水洗,无水Na 2SO 4干燥。

过滤,滤液减压蒸馏,剩余物用乙酸乙酯重结晶得米黄色固体,即奥美拉唑硫醚。

(李鸿运.奥美拉唑合成工艺研究.哈尔滨商业大学学报(自然科学版),2006).本实验所用方法与其所用方法与其相似,但有所改进,将氢氧化钠得使用量加大3倍,用乙酸调PH=8~9。

所以反应中有该杂质。

由于其为原料,所以较易获得。

2. Omeprazole Imp. B (EP):化学名2-[(R ,S)-[(3,5-Dimethylpyridin-2-yl)methyl]sulphinyl]-5-methoxy-1H-benzimi dazole ,是另一种方法所产生的副产物,该方法使用2-氯甲基-3,5-二甲基-4-硝基吡啶-N-氧化物与苯并咪唑物进行反应,在甲醇钠进行取代时未反应完全会产生该杂质,(颜国和,王飞武.奥美拉唑合成路线图解[J].中国医药工业杂志,1991,2 2( 6 ) :2 83-28)本反应与其使用方法不同,反应历程也不相同,最终结果未检测到该杂质,所以不对该杂质进行研究。

超级微波消解—ICP-AES法测定铱粉中16种杂质元素

超级微波消解—ICP-AES法测定铱粉中16种杂质元素

超级微波消解—ICP-AES法测定铱粉中16种杂质元素谢 阳1,赵志虎1,白伟道2,宋 翔1,孙海荣1(1.金川集团股份有限公司检测中心,甘肃 金昌 737102;2.金川集团铜业有限公司,甘肃 金昌 737100)摘 要:本方法充分发挥超级微波仪消解过程简单、产率高、消耗成本低及酸用量少、引入的污染少、安全、环保的优点,将超级微波技术与ICP-AES相结合,建立了 ICP-AES法测定铱粉中16种杂质元素的分析方法[1],选用盐酸和双氧水于聚四氟消解管(TFM管)溶解铱粉,避免了氯酸钾和石英管带来的盐类污染和硅污染,方法简便、快捷,填补了铱粉中硅元素分析的空白,能满足铱粉产品测定要求。

关键词:分析化学;铱粉;超级微波消解;ICP-AES;杂质元素中图分类号:O657.63 文献标识码:A 文章编号:1002-5065(2023)20-0113-6Microwave digestion-ICP-AES method for determining 16 impurities in iridium powderXIE Yang1,ZHAO Zhi-hu1,BAI Wei-dao2,SONG Xiang1,SUN Hai-rong1(1.Jinchuan Group Co., LTD. Testing center.Jinchang 737102,China;2.Jinchuan Group copper Co., LTD.,Jinchang 737100,China)Abstract: This method gives full play to the super microwave instrument digestion process is simple, high yield, low cost and less acid dosage, the introduction of less pollution, safety, environmental protection, super microwave technology combined with ICP-AES, established ICP-AES method to determine 16 impurities in iridium powder analysis method, choose hydrochloric acid and hydrogen peroxide in polytetrafluoride tube (TFM tube) dissolve iridium powder, avoid salt pollution and silicon pollution of potassium chlorate and quartz tube, method is simple, fast, fill in iridium powder silicon analysis blank, can meet the iridium powder product determination requirements.Keywords: analytical chemistry; iridium powder; super microwave digestion; ICP-AES; impurities铱具有高熔点、高稳定性,很多特殊领域具有重要用途,其中的杂质元素含量影响和制约产品使用性能和加工工艺,需要加以控制。

达格列净中特定杂质分析及稳定性研究

达格列净中特定杂质分析及稳定性研究

检测认证达格列净中特定杂质分析及稳定性研究■ 范祥元1 杜陈侠2*〔1. 安徽省食品药品检验研究院;2. 中国科学技术大学附属第一医院(安徽省立医院)〕摘 要:为建立达格列净中的特定杂质DGL301分析方法,采用十四酸丙酰胺基团键合硅胶为填充剂(Poroshell 120 Bonus-RP,100 mm×4.6 mm,2.7 μm或效能相当的色谱柱);流动相A:0.085%的磷酸水溶液;流动相B:乙腈;控制体积流量为1.0 mL/min进行梯度洗脱;检测波长为225 nm;柱温为25℃;进样体积10 μL。

在优化的色谱条件下,主峰、特定杂质DGL301及其他杂质分离度符合要求;特定杂质DGL301在0.16~0.79 μg/mL的浓度范围内,呈现良好的线性关系,回归方程为A=24.869 C+0.5787,r=0.9992,检测限为17.56 ng·mL-1,定量限为59.85 ng·mL-1,RSD=0.9%(n=6),平均回收率为98.37%(n=9)。

本方法可用于达格列净中特定杂质DGL301的检测。

关键词:达格列净,特定杂质,高效液相色谱法DOI编码:10.3969/j.issn.1002-5944.2024.05.036Analysis and Stability Study of Specifi c Impurities in Dapaglifl ozinFAN Xiang-yuan1 DU Chen-xia2*(1. Anhui Institute for Food and Drug Control; 2. The First Affi liated Hospital of University of Science and Technology ofChina/Anhui Provincial Hospital)Abstract:To establish an analysis method for specific impurity DGL301 in dapagliflozin, the tetradecanoic acid propionamide group bonded silica gel was used as the fi ller (Poroshell 120 Bonus-RP, 100mm×4.6mm, 2.7 μm or equivalent chromatographic column); mobile phase A: 0.085% phosphoric acid aqueous solution, mobile phase B: acetonitrile; the volume flow rate was controlled to 1.0 mL/min for gradient elution; the detection wavelength was 225 nm; the column temperature was 25℃; the injection volume was 10 μL. Under optimized chromatographic conditions, the separation of the main peak, specific impurity DGL301, and other impurities met the requirement; specific impurity DGL301 was in the concentration range of 0.16 to 0.79 μg/mL, showing a good linear relationship. The regression equation was A=24.869C+0.5787, r=0.9992; the detection limit was 17.56 ng·mL-1; the quantifi cation limit was 59.85 ng·mL-1, RSD=0.9% (n=6); and the average recovery rate was 98.37% (n=9). This method can be used for the detection of specific impurity DGL301 in dapaglifl ozin.Keywords: dapaglifl ozin, specifi c impurity, high performance liquid chromatography基金项目:本文受安徽省自然基金项目“基于植物分类学与分子网络技术的贝母属药材止咳、化痰‘属效标志物’研究”(项目编号:2108085MB63)资助。

原料药中杂质的控制与案例分析--中国药品生物制品检定所--胡昌勤

原料药中杂质的控制与案例分析--中国药品生物制品检定所--胡昌勤
1. 杂质B、杂质E可以源于头孢噻肟的降解
抗生素室
杂质谱分析
头孢噻肟有关物质分子结构
抗生素室
头孢噻肟钠的合成工艺
抗生素室
2. 杂质E可以源于起始原料
3. 杂质E可以源于合成中的 任一中间过程
由于起始物头孢菌素C 含有DAO-CC、DACC和CC-LT等杂质, 在半合成步骤中发生 相同的反应,分别生 成DAO-ACA、DAACA和ACA-LT,进 而生成DAO-CTAX、 DA-CTAX和CTAXLT等杂质。
JCPS,2010,19(4):285–292
抗生素室
MEKC与HPLC测定头孢菌素有关 物质的互补性分析
MEKC具有较强的杂质分离能力,但其检 测限(LOD)较高。 借助于加速实验,将MEKC分离出的杂质 峰数目与HPLC分离出的含量大于MEKC LOD的杂质峰数目进行比较,当两者基本 相对时,可以认为HPLC方法具有较满意 的分离能力。
生产工艺杂质
抗生素室
光照稳定性评价
大多数喹喏酮类抗生素对光不稳定,什么是光降解杂质? 按随机取19批样品 UV灯下照射10天 比较光照前后各杂质含量的变化
0.250%
加替沙星注射剂光照稳定性
0.200%
0.150%
0.100%
0.050%
1
2 U1
3 4
0.000%
1
2
U1 3
4
8
U2
5
7
6
6
5
6
– 是否有杂质吸附到色谱柱上未被洗脱? – 是否有杂质在色谱柱上未被保留? – 是否所检测到的色谱峰存在共出峰?
抗生素室
原方法
在对各国药典方法比较的基础 上确定分析方法 新方法

基因毒性杂质

基因毒性杂质
氯乙酸 甲醛 乙醛 丙二醛 环氧丙醇 环氧氯丙烷 3-氯-1,2-丙二醇 1,3-二氯-2-丙醇
CAS
74-87-3 75-00-3 75-29-6 79-11-8 50-00-0 75-07-0 542-78-9 556-52-5 106-89-8 96-24-2 96-23-1
PDE(ug/day)
对于无阈值效应的遗传毒性杂质,如果每日摄入量低于1.5ug, 那么患者因服药导致癌症发生的额外风险可以忽略不记。
精选2021版课件
7
3.药品杂质来
源途径分路线1析
SI 溶剂杂质
按来源
路线2
溶剂1,催化剂
A+B
C
RI 试剂杂质
溶剂2,试剂 DS
• 工艺杂质 • 降解杂质
路线3
(A’) 间、温度、pH…
关于PDE法与TTC法
PDE法
适用于有阈值效应的遗传毒性杂质;已有证据表明,该物质 只有在超过一定限度时才会产生遗传毒性。
杂质安全性限度的确定可以参照残留溶剂限度的计算方法, 根据相关动物的无可见效应剂量(No-Observed Effect Level) 计算其可接受的日暴露量(Permissible Daily Exposure),再根 据药品的最大日剂量计算出杂质的接受限度。
质 研
Q3B(R2): 新型药品中的杂质问题 (2006.06)
重点关注:法规适用范围
究 相
ICH Q3C(R6):杂质:残留溶剂的指导原则 (2016.10)
关 ICH Q3D:元素杂质的指导原则 (2014.12)

规 ICH Q11:原料药开发和生产(化学实体和生物技术生物实体药物)(2012.05)
➢ The Carcinogenic Potency Database (CPDB)
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
药品研发及药品评价遵循的一个基本原则是…。
保证药品安全有效的前提和基础是药品质量的稳定 可控。
杂质研究是药品质量研究的一项重要内容。
杂质研究与控制是药品质量保证关键要素之一!!
杂质研究是一项系统工程!!
与工艺研究/质量研究其他项目/稳定性研究等 存在着密切关系,直接关系到上市药品的质 量及安全性!
杂质限度的确定
杂质研究与制备工艺、稳定性研究的关系:
杂质研究与制备工艺
杂质研究结果为优化制备工艺提供重要信息; 制备工艺决定杂质水平(杂质种类、杂质含量);
杂质研究与稳定性
杂质研究(降解途径、降解产物)时稳定性研究的重要内容, 时贮藏条件选择的重要依据
杂质限度需要结合稳定性考察结果确定
杂质谱与被仿品一致或杂质种类较被仿品少,没有超过鉴定限度的 新杂质,但杂质含量超过了被仿品(改进工艺,降低杂质含
量)

杂质谱与被仿品不一致,有超过鉴定限度的新杂质,但已知杂质 含量不超过被仿品 -鉴定新杂质的结构 采用合成成分分离技术获得杂质,通过各种测试手段对杂质 的结构进行综合分析,以确证杂质的结构; -分析产生新杂质的原因,杂质含量不能降至鉴定限度以下, 应按照杂质研究决策树,进行后续研究; 杂质谱与被仿品不一致,有超过鉴定限度的新杂质,且已知杂质 含量超过被仿品 -改进工艺,降低杂质水平 合成工艺路线:起始原料、中间体质量控制 反应条件的控制:精制方法等
工艺杂质分析: --起始物料4-氰基吡啶引入的杂质 --水解反应步骤产生的杂质 --缩合反应步骤产生的杂质 降解杂质分析: --水解产生杂质
起始物料4-氰基吡啶中的杂质分析:
起始物料中可能存在的杂质:
水解反应步骤杂质分析:
中间体异烟酰胺中可能存在的杂质:
缩合反应步骤杂质分析:
缩合反应步骤产生的杂质:
杂质谱分析小结:
每一种原料药都应有杂质谱,用以描述常规产品中可能存 在的已确认和未确认的杂质情况(有机杂质、无机杂质、残 留溶剂、催化剂); 原料药杂质情况一般与原料药的生产工艺和所用起始物料 有关,通过对起始原料和工艺过程的系统分析,全面了解产 品中的杂质情况; 在杂质谱分析的基础上,针对性的建立有关物质检查方法, 以有效控制产品质量;
化学原料药杂质研究与控制策略
罗海荣 2013-09-03
主要内容
一、 概述
二、 杂质研究的基本思路
三、基于QbD方法学对杂质控制策略
一、 概述
仿制药
1、定义:仿制国内已批准上市的已有的国家标准的 药品(即注册分类6的药品); 2、广义:仿制国外已批准上市但国内尚未上市的药 品(即注册分类3的药品);
杂质限度的确定
直接采用被仿品质量标准中限度
前提 -被仿品质量标准中杂质控制方法规范、完善 -被仿品质量标准中检测方法适用于试制样品 -试制样品杂质水平不超过被仿品 (杂质种类、杂质含量)
以被仿制药品质量标准中的方法及限度为基础,增加对 单一杂质的控制
前提 -被仿品质量标准中杂质控制方法规范、完善 -被仿品质量标准中检测方法适用于试制样品 -试制样品杂质水平不超过被仿品
重结晶难去除杂质的来源分析:
杂质可能的来源渠道: 1)起始物料带入(峰定位) 2)中间体(峰定位) 3)副产物 4)起始物料中的杂质或它在反应过程中生成的新杂质; 5)溶剂中的杂质在反应过程中生成的新杂质;
对未知关键杂质的结构确证:
LC-MS+定向合成法
1)通过LC-MS确定分子量; 2)通过分离纯化(TLC/柱层析/制备HPLC); 3)通过化学合成,再通过HPLC定位确认;
二、 杂质研究的基本思路:
主要内容:
1、杂质谱分析;
2、建立杂质检测方法; 3、杂质对比研究; 4、杂质限度确定;
5)杂质研究与其他研究工作的关系;
杂质谱分析:
杂质来源主要从以下几方面考虑: 1)通过合成工艺及结构特征进行分析;
工艺杂质和降解产物
2)通过强制降解试验进行分析;
三、基于QbD方法学对杂质控 制策略
制定小试产品的初步的杂质概况表:
找出关键杂质:
重结晶条件下不易去除的杂质:
对比重结晶前后的杂质情况,区分出可以比较容易通过重结晶除 去的杂质和不容易除去的杂质。
强制降解产生的杂质:
通过强制降解实验和影响因素实验,区分出降解杂质和其他杂质。
为什么要定义关键杂质
酸、碱、高温、高湿、光照、氧化等因素降解
3)通过被仿药品质量标准进行分析; 4)通过被仿药品实际测定结果进行分析;
从合成工艺及结构分析:
从工艺分析杂质的来源:
对原料药在合成、精制和贮存过程中可能产生的(包括实 际存在的和潜在的杂质进行分析) 起始原料中引入 合成中未反应完全的反应物 中间体 副产物:工艺研究中需密切关注从哪一步引入 副产物的相关物质:进一步反应产物 降解产物 …
如:杂质产生的原因—优化工艺,提高生产水平
杂质研究内容涉及:
杂质的分离(或合成或购买)及结构确证; 杂质分析方法的建立与验证; 杂质限度的确定;
化学仿制药杂质研究特点: 主要采用桥接的研究思路,通过质量一致性的确认, 桥接已上市药品的安全有效性结果; 研究基础:拟仿产品的相关信息(质量标准、实测 结果等为研究工作的重要参考); 研究目标:杂质水平应不超过拟仿产品; 基本考虑: 结合杂质研究指导原则要求,拟仿产品的信息开展 研究工作。应选择原研产品作为研究工作的参考。
《药品注册管理办法》
两者在相关物质研究方面的基本研究思路一致,我 们统称仿制药。
化学API产品开发的一般流程:
杂质定义/分类/来源:
1、定义:任何影响药物纯度的物质; ICH—药物中存在的,化学结构与该药物不一致的 任何成分。
有毒副作用的物质(基因毒杂质); 本身无毒副作用,但影响药物的稳定性和疗效的 物质; 本身无毒副作用,也不影响药物的稳定性和疗效, 但影响药物的科学管理的物质;
对化学仿制药,对于未知杂质必须确保小于鉴定限度, 否则将必须鉴定结构,超过界定限度的,则必须进行毒 性研究。 重结晶难以去除的杂质和降解杂质都有超出鉴定限度 和界定限度的可能,必须找出有效控制的方法。 对于不能在最后精制中有效去除的杂质,必须对前期 的控制手段做详细研究,找出问题原因,如找不出,更 换工艺。
残留溶剂:有机溶剂…
原料药及制剂生产过程中使用的有机溶剂,一般具有已知毒性
杂质定义/分类/来源:
3、来源: 工艺杂质:工艺过程中引入的杂质;
包括反应物、中间体、副产物、试剂、催化剂等
降解杂质:
由药物降解产生,如水解、氧化、开环、聚合等反应产物, 与药物的结构特征密切相关;
杂质研究的重要性:
杂质定义/分类/来源:
2、分类:
有机杂质(通称为“相关物质”)
包括工艺中引入的杂质和降解产物等,可能是已知的或 未知的。化学结构与活性成分的分子式类似或具渊源关系
反应起始物、副产物、中间体、降解产物、试剂、配位体、催化剂等
无机杂质:
原料药生产或传递过程中产生的杂质,通常是已知的 催化剂、重金属、无机盐及过滤介质、活性炭等
建立杂质检测方法:
专属、灵敏、准确、简捷。
参考:杂质研究技术指导原则
杂质对比研究
对比试制品及被仿制品的实测结果
杂质种类--与被仿制品比较,是否有新的杂质出现; 杂质含量--是否超过被仿制品;
对比研究结果分析
杂质谱一致或杂质种类较比仿制品少,未见超过鉴定限度的 新杂质:各杂质含量不超过被仿品(试制品的杂质控制达 到了研究目标)
相关文档
最新文档