氢氟酸电子级指标
电子级氢氟酸质量标准
电子级氢氟酸福建省邵武市永飞化工有限公司电子级氢氟酸的质量标准
质量标准：
UP-S级:适用0.35-0.8微米集成电路加工工艺,金属杂质含量小于1ppb,经过0.05微米孔径过滤器过滤，控制0.2微米粒子,在100级净化环境中灌装达到SEMI C8标准.
UP级:适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤，控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准EL级:金属杂质含量小于100ppb,控制1微米粒径粒子,达到SEMI C1 C2标准,适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺
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•巨化凯圣氟化学有限公司
•电子级氢氟酸up级。
电子级氢氟酸生产工艺和质量指标介绍
电子级氢氟酸生产工艺和质量指标介绍电子级（高纯）氢氟酸是一种重要的化工原料，在半导体、电子、光学和其他精细化工领域有广泛应用。
其主要用途是用于刻蚀硅片和清洗半导体材料。
电子级（高纯）氢氟酸的生产工艺一般包括氟化矾石法和电解法两种。
氟化矾石法是将氢氟酸的原料矿石矾石与浓硫酸进行反应，生成氟化铝，然后用热蒸汽进行气化，生成气态氟化氢。
接下来，将气态氟化氢与空气中的水蒸气反应，生成氢氟酸。
这种方法可获得较高纯度的氢氟酸，但反应过程中需要高温和高压，工艺复杂，对设备要求较高。
电解法是将电解质性透明盐岩溶解在水中，经过电解，阳极会产生氧气，而阴极则产生氢气和氟气，从而通过电解生成氢氟酸。
这种方法的优点是工艺相对简单、操作方便，并且可连续生产。
但由于电解过程中存在多种杂质和杂质侵入的问题，所以其产出的氢氟酸需要经过进一步的纯化处理，以获得高纯度的电子级氢氟酸。
电子级（高纯）氢氟酸的质量指标主要包括纯度、水分、杂质和金属离子含量等。
一般来说，电子级（高纯）氢氟酸的纯度要求在99.999%以上，水分含量应控制在100ppm以下，杂质含量如氯离子、硫酸根离子等应低于1ppm。
金属离子如铁离子、铜离子等也应低于1ppm。
此外，颜色应无色透明、无悬浮物。
为了确保电子级（高纯）氢氟酸的质量，需要对生产过程进行严格的控制和监测。
比如，在氟化矾石法中，需要控制反应温度和压力，确保反应的高效进行，同时还要进行杂质的去除和纯化处理。
在电解法中，需要选用合适的电解质以及控制电化学条件，以减少杂质的产生。
而在后续的纯化过程中，常采用蒸馏、吸附等技术，去除残余的杂质和离子。
总而言之，电子级（高纯）氢氟酸的生产工艺和质量控制对于实现高纯度和稳定质量至关重要。
只有通过科学合理的工艺流程和严格的质量控制，才能生产出符合要求的电子级（高纯）氢氟酸，以满足精细化工产业的需求。
电子级氢氟酸质量标准
电子级氢氟酸福建省邵武市永飞化工有限公司电子级氢氟酸的质量标准
质量标准：
UP-S级:适用0.35-0.8微米集成电路加工工艺,金属杂质含量小于1ppb,经过0.05微米孔径过滤器过滤，控制0.2微米粒子,在100级净化环境中灌装达到SEMI C8标准.
UP级:适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤，控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准EL级:金属杂质含量小于100ppb,控制1微米粒径粒子,达到SEMI C1 C2标准,适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺
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•巨化凯圣氟化学有限公司
•电子级氢氟酸up级。
电子级氢氟酸国家标准
电子级氢氟酸国家标准电子级氢氟酸是一种重要的化工原料，广泛应用于半导体、光伏、电子等领域。
为了规范电子级氢氟酸的生产和使用，保障产品质量，国家相关部门制定了电子级氢氟酸国家标准，以下将对该标准进行详细介绍。
首先，电子级氢氟酸国家标准对产品的物理性质、化学性质、纯度、杂质含量、包装、标识等方面进行了规定。
其中，物理性质包括外观、密度、沸点等指标；化学性质包括PH值、水溶液外观、氟化硅含量等指标；纯度方面要求氢氟酸的纯度不低于99.99%，杂质含量严格控制在ppm级别以下。
此外，标准还对电子级氢氟酸的包装和标识做出了具体规定，以确保产品在运输和使用过程中的安全性和可追溯性。
其次，电子级氢氟酸国家标准对生产工艺和质量控制提出了严格要求。
生产工艺应符合国家相关法律法规，采用先进的生产设备和工艺流程，确保产品质量稳定可靠。
质量控制方面，标准要求生产企业建立健全的质量管理体系，对原材料、中间品和成品进行全程跟踪和控制，确保产品符合标准要求。
此外，电子级氢氟酸国家标准还对产品的储存和运输提出了具体要求。
储存环境要求干燥、通风、避光，避免与氧化剂、碱类物质混存，避免阳光直射。
运输过程中要采取防止产品泄漏的措施，确保产品安全到达目的地。
总的来说，电子级氢氟酸国家标准的制定和实施，对于规范产品质量、促进行业健康发展具有重要意义。
生产企业应严格按照标准要求进行生产，加强质量管理，确保产品符合标准，为电子行业的发展提供高质量的原材料保障。
同时，相关部门和监管机构应加强对标准的执行和监督，确保产品质量和安全，为行业发展营造良好的环境。
在未来，随着电子行业的不断发展，电子级氢氟酸的需求量将会进一步增加，国家标准也将不断完善和更新，以适应市场需求和技术发展的要求，推动行业持续健康发展。
通过对电子级氢氟酸国家标准的介绍，相信大家对该标准有了更深入的了解。
希望生产企业和相关行业能够严格遵守标准要求，共同努力，推动电子级氢氟酸行业的发展和进步。
电子级氢氟酸项目实施方案
电子级氢氟酸项目实施方案规划设计/投资分析/实施方案电子级氢氟酸项目实施方案我国氢氟酸产能“小而散”，高准入门槛及相关政策严控产能产量。
氢氟酸是氟化氢（化学式：HF）的水溶液，其与水的恒沸物中含38%（质量分数）HF，为一种弱酸。
而无水氢氟酸（AHF）为液态氟化氢，其酸性极强，是氟化工产业链的关键中间产品，为大多数氟化物最普遍和最基本的原料，可用于制备下游氟烷烃、氟化盐、含氟精细化学品、含氟聚合物等。
工业中的AHF由浓硫酸与酸级萤石精粉（氟化钙纯度高于97%）反应制得，其具有强腐蚀性、毒性、易对人体及环境造成危害等特点，属于危化品。
从行业格局上看，我国氢氟酸上下游主要配套在萤石资源丰富的区域内，以华东为主，产能“小而散”，生产存在污染严重、产能分散且利用率低、行业集中度低等问题。
近年来国家各部委和部门出台了一系列条例和准则来规范行业发展，氢氟酸的生产、贮藏、运输等环节均受到国家严格管控与限制，氢氟酸装置开工条件及产能投放等均受到制约。
该电子级氢氟酸项目计划总投资9245.97万元，其中：固定资产投资6835.28万元，占项目总投资的73.93%；流动资金2410.69万元，占项目总投资的26.07%。
达产年营业收入19113.00万元，总成本费用14377.14万元，税金及附加174.33万元，利润总额4735.86万元，利税总额5563.41万元，税后净利润3551.89万元，达产年纳税总额2011.51万元；达产年投资利润率51.22%，投资利税率60.17%，投资回报率38.42%，全部投资回收期4.10年，提供就业职位287个。
坚持安全生产的原则。
项目承办单位要认真贯彻执行国家有关建设项目消防、安全、卫生、劳动保护和环境保护的管理规定，认真贯彻落实“三同时”原则，项目设计上充分考虑生产设施在上述各方面的投资，务必做到环境保护、安全生产及消防工作贯穿于项目的设计、建设和投产的整个过程。
......电子级氢氟酸是半导体制作过程中应用最多的电子化学品之一，在氟化氢行业频遭限制的情况下，高纯电子级氟化氢却逆势而上，不断有企业增扩电子级氟化氢产能。
电子级氢氟酸研究进展
第52卷第8期 辽 宁 化 工 Vol.52，No. 8 2023年8月 Liaoning Chemical Industry August，2023收稿日期： 2021-08-23 电子级氢氟酸研究进展朱博超，章志成（浙江森田新材料有限公司，浙江 金华 321200）摘 要： 随着电子信息时代的到来，电子芯片逐渐成为国家未来大力发展的主要产业。
电子级氢氟酸作为芯片制作过程必需的化学品，也成为此产业上未来主要发展的方向。
介绍了氢氟酸一般生产流程、等级分类以及电子级生产工艺、技术难点等。
关 键 词：氢氟酸； 分类； 电子级中图分类号：TQ124.3 文献标识码： A 文章编号： 1004-0935（2023）08-1217-032021年3月13日，《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和2035年远景目标纲要》（以下简称《纲要》）发布，《纲要》中提到，加快智能制造、高端芯片等领域关键核心技术突破和应用。
未来五年，中国力争在芯片、人工智能、量子计算等先进技术领域取得领先的地位[1]。
围绕“光芯屏端网”等，攻克一批卡脖子技术，推动“临门一脚”关键技术产业化，增强产业核心竞争力[2]。
打造“光芯屏端网”等具有国际竞争力的万亿产业集群。
集成电路是指采用一定的工艺，将近亿晶体管等半导体器件与电阻、电容、电感等基础电子元件连接集成于小块基板，然后封装于管壳内，将组装为微型电子部件的集成电路通常称为芯片。
电子级多晶硅（以下简称“硅料”）是国家大力发展的一种战略性原材料，也是集成电路产业不可缺少的基础性原料[3]。
目前，西方等发达国家企业掌握其主要生产技术，而中国市场上的集成电路用多晶硅材料基本为国外生产，同时我国生产电子级氢氟酸的企业还未达到10家[4-5]，所以攻克电子级多晶硅关键生产技术可以增强产业在国际上的核心竞争力[6-7]。
硅料化学清洗作为电子级多晶硅生产关键核心工序，可以有效去除硅料表面颗粒及化学性沾污。
行业标准电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定
行业标准电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法（讨论稿）编制说明工作简况项目的必要性简述1 项目背景和立项意义近年来随着极大规模集成电路产业的发展，高纯氢氟酸的使用范围越来越广，使用量也越来越大，集成电路产业对氢氟酸的纯度要求也越来越高。
高纯氢氟酸作为清洗半导体材料的重要原料，其阳离子含量如钠、镁、铝、钾、钙、铬、铁、镍、铜、钴、锌、锡、钛、钒、铅、锂、锰等会对半导体材料的品质造成严重的影响。
目前国内生产氢氟酸的厂家很多，且产能也在不断的扩大，但每个厂家对氢氟酸的技术指标规定不统一，执行标准也不一致，已不能满足极大规模集成电路产业发展的需求，因此，急需建立一个适用于集成电路产业用高纯氢氟酸杂质元素检测的技术标准和检测方法标准，促使国内企业提高高纯氢氟酸的产品质量，统一高纯氢氟酸的技术规格和检测标准，为高纯氢氟酸的生产、销售、采购及使用提供参考依据，对促进我国极大规模集成电路产业发展具有重要的意义。
目前国外先进标准有《SEMI C28-0611 Specifications For Hydrofluoric Acid》，国内标准有《GB/T 620-2011化学试剂氢氟酸》、《GB/T 7744-2008工业氢氟酸》、《GB/T 31369-2015太阳电池用电子级氢氟酸》、《HG/T 4509-2013工业高纯氢氟酸》，这些标准中规定的技术规格较低，已不能满足国内极大规模集成电路产业发展的需求。
2 任务来源根据中国有色金属工业协会《关于下达2019年第一批协会标准制修订计划的通知》（中色协科字[2019]17号）的要求，《电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法》由青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司牵头负责起草，计划编号：2019-007-T/CNIA，要求于2020年完成。
3 标准项目编制单位简况青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司为青海黄河上游水电开发有限责任公司的内部核算单位，负责电子级多晶硅项目的生产运营、市场销售及技术研发管理，目前公司已建成年产2500吨电子级多晶硅的改良西门子法工艺生产线。
电子级氢氟酸的研究进展-1应韵进
电子级氢氟酸的研究进展应韵进（浙江厚鹏化工有限公司，浙江 金华 321000）摘要:我国半导体制备发展迅速，相应地对氟化工的依赖程度也在不断增加。
电子级氢氟酸作为半导体制备、集成电路清洗的关键性材料，我国长期以来依赖于进口。
对我国电子级氢氟酸的研究进展进行概述，主要包括发展现状、制备工艺、质量标准和发展前景等几个方面。
关键词:电子级氢氟酸；研究进展；制备工艺0 前言电子氢氟酸是无机酸的一种，具有弱酸性，常温下为无色透明液体，易挥发有强烈的刺激性气味。
腐蚀性较强，可以与金属盐的氧化物和氢氧化物发生化学反应生成氟化盐，从而造成对金属盐的腐蚀作用。
其中最典型的反应是与硅酸盐反应生成气态的四氟化硅，这也是其能在电子制造行业得到应用的主要原因，因此高纯氢氟酸在集成电路制造、太阳能电池板以及LED 面板的生产等方面得到了广泛的应用。
集成电路的可靠性、制备的成品率、电性能都很大程度上依赖于电子级氟酸的纯度和洁净度。
除此之外，氢氟酸还可以用作制备含氟化学品和分析试剂[1]。
1 电子级氢氟酸的制备工艺1.1生产工艺通常的电子级氢氟酸工业化生产工艺为：将工业无水氟化氢经氧化剂氧化后进入精馏塔提纯，从塔的中上部得到高纯度氟化氢，再经特制的吸收器用高纯水吸收成有水酸，随后经0.2 um 以下的过滤器过滤，再经循环吸收达到规定浓度，然后在洁净或者超净的环境下（通常要求100级以下），在带正压的条件下灌装得到产品电子级氢氟酸。
其典型的工艺流程如图1所示。
试剂A 试剂B 高纯水AHF釜液 尾气工业水 工业水工业级氢氟酸 电子级高纯度氢氟酸前处理 精馏 吸收 调配釜液调配 尾气吸收 过滤图1 电子级氢氟酸生产流程图1.2生产工艺要点电子级氢氟酸的生产制备中主要有以下几个要点：1）设备要求。
由于氢氟酸的强腐蚀性和高渗透性，设备需要采用碳钢衬高纯PFA材料。
对厂房的环境洁净度要求极高,尤其是产品检测及成品灌装的厂房内要求100级以下；2）高纯水。
10 nm制程用电子级氢氟酸中痕量阴离子分析方法
表 1 Cl-、Br-、NO3-、SO42-、PO43- 五种阴离子的
线性回归方程
离子
ClBrNO3SO42PO43-
检出限 /ng·L-1
73 111 75 102 298
定量限 /ng·L-1
242 371 251 339 993
RSD/%
1.69 1.65 2.91 1.12 1.82
线性回归方程 相关系数
试 验 在 ISO Class 5 级 洁 净 室 内 进 行（ 空 气 中 0.5 μm 微粒每立方米小于等于 3 500 个）[4]，以满足 集成电路产品生产过程及电子化学品使用过程中对 环境的要求。 1.2 仪器、耗材及试剂
离 子 色 谱 仪（DionexAquion，Thermo Fisher）， 超纯水机（RODI，厦门锐思捷纯水，取水电阻率： 18.2 MΩ·cm，25 ℃）。
0 引言 集成电路产品的良品率与外部引入的无机杂质
含量息息相关，电子化学品是引入无机杂质的主要 来源 [1]。电子级氢氟酸是电子化学品中重要的品种 之一，主要用作清洗剂、蚀刻剂，其质量的好坏不 但直接影响电子产品的质量，而且对微电子制造技 术的产业化具有重大影响 [2]。随着工艺制程由 14 nm 向 10 nm 延伸，电子化学品对无机杂质含量的要求 越来越高，电子级氢氟酸的品质要求在 SEMI Grade 5 以上，其阴离子含量不超过 10 μg/L[3]。文章通过离 子色谱法形成了对电子级氢氟酸中痕量阴离子（Cl-、 Br-、NO3-、SO42-、PO43-）的分析方法，对于提升电 子级试剂的产品质量具有重要意义，也将推动集成 电路行业的发展。 1 试验 1.1 试验环境
量 限； 取 加 入 5.0 μg/L 阴 离 子 标 准 品 的 4.9% 浓 度 电子级氢氟酸连续进样 6 次的峰面积，计算相对标 准偏差（RSD）；以本文 1.4 中所述配制的阴离子峰 面积为纵坐标，浓度为横坐标拟合线性回归方程， 其结果如表 1、图 3 所示。经考察 Cl-、Br-、NO3-、 SO42-、PO43- 检出限 73~298 ng/L，定量限 242~993 ng/L， 连续进样 6 次，RSD < 5%，线性相关系数≥ 0.999， 满足方法学验证的要求 。 [10]
电子级氢氟酸
电子级氢氟酸电子级氢氟酸用于超大规模集成电路芯片，太阳能电池，LED和TET-LCD面板制造过程的蚀刻和清洗，原子能工业化学试剂。
电子级氢氟酸是集成电路(IC)制造的关键性基础化工材料之一，主要用于芯片的清洗。
由于电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响，生产工艺技术要求很高，目前主要依靠进口产品满足国内市场需求。
随着世界半导体制造业向中国大陆的逐步转移，国内电子级氢氟酸需求量年增长约10％。
电子级氢氟酸也主要供应电子行业，特别是太阳能电池生产厂家。
近年来，我国相关行业发展迅速，对电子级氢氟酸的需求也逐年提高。
据悉，国内目前仅有四五家企业生产EL级电子级氢氟酸，属电子级的低端产品，在产量、质量方面与进口产品尚有较大差距。
浙江凯恒电子材料有限公司是巨化股份全资子公司之浙江凯圣氟化学有限公司的控股子公司。
致力于含氟系列超高纯微电子化学品的研发、生产、销售和服务，公司拥有目前国内最先进的年产3万吨电子级氢氟酸生产装置，是国内最大的电子级氢氟酸生产商。
主要产品：电子级氢氟酸(UP-SS级、UP-S级、UP级，EL级)等系列产品，公司配备ICP-MS和861型离子色谱仪等先进的分析测试仪器，产品性能及各项指标均处于国内领先地位。
浙江蓝苏氟化有限公司是由中化蓝天下属企业浙江蓝天环保高科技股份有限公司与苏威氟控股（亚太）有限公司合资建立的中外合资企业，注册资金5000余万元。
公司位于浙江省衢州高新技术产业园区，专业从事氟化学品的生产和销售。
公司现有2万吨/年无水氢氟酸生产线和5000吨/年电子级氢氟酸生产线，其中电子级氢氟酸引进苏威公司技术，填补国内空白。
福建永飞化工有限公司（福建省邵武氟化工厂）公司综合生产能力无水氟化氢56000 吨、高纯超净氢氟酸 15000 吨、硫酸 120000 吨、氟化盐 10000 吨、六氟化硫 600 吨、五氟化碘 60 吨，五氟化锑10吨，企业生产规模在全国氟行业内名列前茅。
电子级氢氟酸质量标准
电子级氢氟酸分子式：HF分子量：20.01性状：无色透明溶液，有强烈刺激性气味，剧毒。
并有强烈的腐蚀性。
质量标准：项目指标EL级UP级UP-S级氢氟酸(HF), w/% 49 + 0.5 49 + 0.5 49 + 0.5 色度Color, 黑曾≤10 10 10硅氟酸, H2SiF6ppb ≤100000 20000 20000 氯化物, Cl ppb ≤5000 5000 500 硝酸盐, NO3ppb ≤3000 3000 300 磷酸盐, PO4ppb ≤1000 1000 100亚硫酸盐, SO3ppb ≤5000 2000 200硫酸盐, SO4ppb ≤500 200 铝( Al ) ppb ≤100 10 1 砷( As ) ppb ≤50 10 1 钡( Ba ) ppb ≤100 10 1 铍( Be ) ppb ≤20 5 1 铋( Bi ) ppb ≤20 5 1 镉( Cd ) ppb ≤50 10 1 钙( Ca ) ppb ≤100 10 1 铬( Cr ) ppb ≤20 10 1 钴( Co ) ppb ≤20 10 1 铜( Cu ) ppb ≤20 10 1 镓( Ga ) ppb ≤20 10 1锗( Ge ) ppb ≤20 10 1金( Au ) ppb ≤20 5 1铁( Fe ) ppb ≤100 10 1铅( Pb ) ppb ≤50 10 1锂( Li ) ppb ≤20 5 1镁( Mg ) ppb ≤200 10 1锰( Mn ) ppb ≤20 10 1钼( Mo ) ppb ≤100 10 1镍( Ni ) ppb ≤50 10 1钾( K ) ppb ≤100 10 1银( Ag ) ppb ≤20 5 1钠( Na ) ppb ≤200 10 1铂( Pt ) ppb ≤100 10 1锶( Sr ) ppb ≤- 10 1铊( Tl ) ppb ≤- 10 1锡( Sn ) ppb ≤20 10 1锑( Sb ) ppb ≤- 10 1钛( Ti ) ppb ≤100 10 1矾( V ) ppb ≤- 10 1锌( Zn ) ppb ≤50 10 10 颗粒(≥ 0.5 μm ) 个/ml ≤25 25 25颗粒(≥ 0.3 μm ) 个/ml ≤- 150 150颗粒(≥ 0.2 μm) 个/ml ≤- 300 300备注：可满足用户提出的更高要求来组织生产。
电子级氢氟酸技术发展分析
电子级氢氟酸技术发展分析赵学军;张鹏;王玉成【摘要】介绍了电子级氢氟酸的生产流程和除砷技术,并对产品的检测技术和包装技术进行了分析.【期刊名称】《氯碱工业》【年(卷),期】2018(054)006【总页数】3页(P26-27,39)【关键词】电子级氢氟酸;生产技术;检测技术;包装技术【作者】赵学军;张鹏;王玉成【作者单位】滨化集团股份有限公司,山东滨州 256600;滨化集团股份有限公司,山东滨州 256600;滨化集团股份有限公司,山东滨州 256600【正文语种】中文【中图分类】TQ124.3电子级氢氟酸对金属和玻璃具有强烈的腐蚀性，是重要的化学试剂，因其具有清洗和蚀刻的两大功能而广泛应用于半导体、太阳能面板和液晶面板的制作过程中。
电子级氢氟酸对于微电子行业的安全性具有至关重要的作用，在其生产、测试、包装、运输等各个环节均有严格的管控制度，以保证电子级氢氟酸的质量，进而确保微电子产品制作过程的顺畅。
1 电子级氢氟酸生产技术电子级氢氟酸一般可通过精馏、亚沸蒸馏、气体吸收等工艺制备。
由于氢氟酸的强腐蚀性，因此采用蒸馏工艺时所使用的蒸馏设备一般以铂、金、银等贵金属或聚四氟乙烯材料制造。
目前国内最为常用的工艺路线是精馏法，其过程大致为：原料酸→化学处理→连续精馏→吸收塔→超净过滤→成品分装→包装。
精馏法的工艺流程如图1所示。
无水氢氟酸中所含的大部分杂质一般以氟化物的形式存在，具有很高的沸点，所以在精馏过程中能被很好地分离出去。
杂质中三氟化砷的沸点相对氢氟酸差距较小，因而增大了杂质砷的去除难度。
仅仅依靠精馏操作对其分离的效果欠佳，砷的前期处理成为电子级氢氟酸生产的一个关键工序。
图1 电子级氢氟酸精馏工艺流程示意图Fig.1 Process flow diagram of electronic-grade hydrofluoric acid distillation电子级氢氟酸生产过程中脱除砷的方法主要经历了硫化物法、电解法、离子交换法和氧化法等[1]。
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Item
Index
EL
UP
UP-S
Hydrogen Fluoride (HF), w/ %
49±0.5
49±0.5
49±0.5
Color,hazen≤
≤10
≤10
≤10
SilicofluoricAcid, H2SIF6ppb ≤
--
--
Tlppb ≤
--
≤10 ppb
≤1 ppb
Snppb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Sbppb ≤
--
≤10 ppb
≤1 ppb
Ti ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
V ppb ≤
--
≤10 ppb
≤1 ppb
Zn ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Packing: The product is filled in a 25 kg polythene plastic drum;Alsofill it on consumer requests.
≤10 ppb
≤1 ppb
Pbppb ≤
≤50 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Li ppb ≤
≤20 ppb
≤5 ppb
≤1 ppb
Mg ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Mnppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Mo ppb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Storage: The product should be stored in a storehouse with good ventilation.
Transport: It should be treated as GradeAinorganic acid corrosive goods during its transportation. Avoid heating or getting wet in the rain. Slightly load and unloappb
≤10 ppb
≤1 ppb
K ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Ag ppb ≤
≤20 ppb
≤5 ppb
≤1 ppb
Na ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Pt ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Srppb ≤
--
≤10 ppb
≤1 ppb
Be ppb ≤
≤20 ppb
≤5 ppb
≤1 ppb
Bi ppb ≤
≤20 ppb
≤5 ppb
≤1 ppb
Cdppb ≤
≤50 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Ca ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Cr ppb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Co ppb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Cu ppb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Gappb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Geppb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Au ppb ≤
≤20 ppb
≤5 ppb
≤1 ppb
Fe ppb ≤
≤100 ppb
Application: The product isaelectronic chemical. It is used for washing and etching in making VLSI wafer, solar battery, LED and TET-LCD faceplate,It'salso used in atomic energy industry chemical reagent.
≤100 ppb
Sulfite, SO3ppb ≤
≤5000 ppb
≤2000 ppb
≤200 ppb
Sulfate, SO4ppb ≤
≤500 ppb
≤200 ppb
Al ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
As ppb ≤
≤50 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Bappb ≤
≤100 ppb
≤100000 ppb
≤20000 ppb
≤20000 ppb
Chloride,Clppb ≤
≤5000 ppb
≤5000 ppb
≤500 ppb
Nitrate, NO3ppb ≤
≤3000 ppb
≤3000 ppb
≤300 ppb
Phosphate, PO4ppb ≤
≤1000 ppb
≤1000 ppb
Granules ( ≥ 0.5μm) p/ml ≤
≤25
≤25
≤25
Granules ( ≥ 0.3μm) p/ml ≤
--
150
150
Granules ( ≥ 0.2μm) p/ml ≤
--
--
--
Molecular formula: HF
Molecular weight: 20.01
Properties: The product is a colorless and transparent solution. It has a strongly pungent odor and a strong toxicity. It is very corrosive.