光学第1章光的干涉(第5讲)
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S
M
D
b
注意 两束反射光在膜面上 相干叠加,故 干涉条纹定域在薄膜表面附近。
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
光程差的计算 作 AD CD
n2 AB BC n1 CD 2
第一章 光的干涉
s
c a
i1
D
C
c1
a2
h
n1 A n2 i 2 n1
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
第一章 光的干涉
二、薄层色
日光照射下的肥皂膜,液体上的薄层油膜,金属表面上 的氧化膜(电视机、电影摄像机镜头、高级相机镜头、潜望 镜)上呈现的彩色。一般是几种色光的混合色,在膜的厚度 为半个波长时,膜为黑色。
◆ 彩色条纹形成的原因及机制。 ◆ 彩色条纹不规则的原因。 ◆ 由于附加光程差,当薄膜厚 度很薄时会出现什么现象?
2n2
明 暗 纹 纹
l
空气劈( n 1 )
h
2
hj
n2 hj+1
h
h h 空气劈( n 1 ) l l sin 2n2 2
∴
l
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
等厚干涉花样的特点
第一章 光的干涉
(1)干涉花样为平行于尖劈棱的直条纹,相邻两明纹 (暗纹)的间距 l 都相等。其大小:
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
第一章 光的干涉
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
第一章 光的干涉
一、单色点光源所引起的等厚干涉条纹
单色点光源照射两个稍微有倾斜的表面构成的薄膜时在薄膜 表面形成等厚干涉。 c 、a 两 束 反
1 2
T
L
射光来自同一 束入射光,它 们可以产生干 涉。
B
( 设 n2 > n1 )
4 5 若 (10 ~ 10 rad) 很小,且薄膜很薄,对 C 点有
AB BC
2n2 h cos i2
程 差 条 件
2
2h n n sin i1
2 2 2 1 2
2
极值条件
明纹: ( h) j , j = 0,1,, ) ( 2 3 暗纹: ( h) ( 2 j 1)
h
2n2
l
2n2
(2)对于一定波长的入射光,条纹间距l与尖劈角 和 尖劈介质折射率成反比。 增大,n2增大,则条纹变密。 (3)尖劈是由两块玻璃所构成的,上玻璃向上移动,条纹 向尖劈的棱部移动;上玻璃移动 / 2n ,条纹移过一条。
2
(4)当入射光为白光时,每级条纹都是下紫(靠近棱边) 上红的彩色直条纹。
第一章 光的干涉
n2 1.52
条纹变密
0.158 x 0.104 ( mm ) 2n2 n2 1.52
(3)劈浸入油中:
ຫໍສະໝຸດ Baidu
x
n3 n2 n1
● 无额外光程差,棱处由暗变明 ● 条纹变密,向棱处靠拢 ● 可以观察到更多的条纹
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
2
,j = 0,,, …) ( 1 2 3
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
第一章 光的干涉
将光程差代入极值条件得 1 ( j 0, 2) 1, 位 明纹: h ( j ) 2 2 2 2 2 n2 n1 sin i1 置 条 件 ( j 0, 2) 1, 暗纹: h j 2 2 2 2 n2 n1 sin i1
第一章 光的干涉
图
等厚干涉花样示意图
点光源产生的等厚(尖劈)干 涉条纹为平行于尖劈棱的直线条 纹,同级条纹所对应的干涉点有 着相同的薄膜厚度。 发光面产生的干涉很复杂, 产生的条纹将略有弯曲。
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
条纹间距
计算明纹间距(暗纹结果相同):
第一章 光的干涉
h h j 1 h j
SiO2
O
n n 1 故O处为明纹。
Si
7 6 5 4 3 2 1
2ne
条纹间隔数为6.5
5.893 107 eN 6.5 1.31 μm 2n 2 1.46
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
第一章 光的干涉
例2 现有两块折射率分别为1.45和1.62的玻璃板,使其一端 接触,形成夹角α=6’的尖劈,如图所示。将波长为550nm 的单色光垂直投射在劈上,并在上方观察尖劈的干涉条纹。 (1)试求条纹间距;(2)若将整个尖劈浸入折射率为 1.52的杉木油中,则条纹的间距变为多少?(3)定性说明 当尖劈浸入油中后,干涉条纹如何变化。 解:(1) 已知:n2 1 n1 n2
采用正入射(垂直入射)方式,i1=0,干涉条件为:
位 置 条 件
1 明纹: h ( j ) 2 2n2
暗纹: h j
( j 0, 2) 1,
2n2
( j 0, 2) 1,
条纹的级数只与薄膜的厚度有关,厚度相同的位置有着相 同的干涉条纹级数。
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
故有额外光程差
n3 n2
n1 1.45
x
2h
2
h
h
2
n2 1
n3 1.62
5.5 104 x 0.158 ( mm ) 2 2 6 60 180
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
(2) 劈浸入油中:
§1.7 分振幅薄膜干涉(二)--等厚干涉
第一章 光的干涉
例1 在半导体元件生产中,为了测定硅( Si)表面 ( SiO2)薄膜的厚度,可将氧化后的硅片用很细的金 刚砂磨成如图所示的楔形并做清洁处理后进行测试,已 知 SiO2 和 Si 的折射率分别为 n 1.46 和 n 3.42, 用波长为 589.3nm 的钠光照射,观测到 SiO2 楔形膜上 出现7条暗纹。如图所示,图中实线表示暗纹,第7条 暗纹在斜坡的起点M。 问 SiO2 薄膜的厚度是多少? 解: 这是尖劈干涉问题
第一章 光的干涉