感光性高分子材料

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3感光性高分子_900207985

3感光性高分子_900207985
– – – – – 液相、气相和固相均可进行; 不需要引发剂,生成的聚合物更加纯净; 聚合反应易于控制; 可在常温或低温下进行,引发的活化能接近于零; 可用剂量率等控制产物的分子量和分子量分布。
钴源装置—需要有严格的安全防护
光引发聚合
从计算机说起
• 1946年,世界第一台电子计算机问世,用18000只电子管组 装而成,总质量达30多吨,占地150m2; • 为使计算机体积小、质量轻,人们把许多晶体管和连线集成 在硅基片上,出现了集成电路。芯片是集成电路的心脏,指 甲盖大小的芯片上往往集成了几千万个器件,如此精密的材 料该如何制造?这离不开光刻技术。
阿累尼乌斯
• 斯万特· 奥古斯特· 阿尼乌斯( Svante August Arrhenius),瑞典 物理化学家。 • 电离理论的创立者,提出著名的 阿累尼乌斯方程,获得1903年的 诺贝尔化学奖。
lnk=lnk0-Ea/RT 或
由公式可推算出温度升高10℃,化学反应速度约加快一 倍,推动了化学动力学的研究。
22
一些常见的低聚物 (两端以丙烯酸酯基或甲基丙烯酸酯基封端) • 环氧树脂型
• 聚氨酯型
CH3 OCONH NHCOO CH3 OCONH CH2CH2O CH NHCOCH m 2 CH2 CH2CH2O CH CH2OCOC m 2 CH2
NHCOO CH3
一些常用的多官能度光聚合单体
名 称 结构式
氧化还原体系
卤化物 色素类 有机金属化合物 金属羰基类

300~400 400~700 300~450 360~400
铁(II)/过氧化氢
卤化银;溴化汞;四氯化碳 四溴萤光素/胺;核黄素;花菁色素 烷基金属类 羰基锰
金属氧化物

感光性高分子概述

感光性高分子概述
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第六章 感光性高分子
2 光化学反应的基础知识
2.1 光的性质和光的能量 物理学的知识告诉我们,光是一种电磁波。在
一定波长和频率范围内,它能引起人们的视觉,这 部分光称为可见光。广义的光还包括不能为人的肉 眼所看见的微波、红外线、紫外线、X 射线和γ射 线等。
12
第六章 感光性高分子
现代光学理论认为,光具有波粒二相性。光的 微粒性是指光有量子化的能量,这种能量是不连续 的。光的最小能量微粒称为光量子,或称光子。光 的波动性是指光线有干涉、绕射、衍射和偏振等现 象,具有波长和频率。光的波长λ和频率ν之间有 如下的关系:
价铬吸收光后还原成三价铬,而供氢体放出氢气生 成酮结构。
CH CH2 OH
hv + Cr [VI]
C CH2 O
+ C[r Ⅲ]+ H2
32
第六章 感光性高分子
当pH>8时,HCrO4-不存在,则体系不会发 生光化学反应。利用这一特性,在配制感光液时, 加入氨水使之成碱性,可长期保存,不会反应。成 膜时,氨挥发而使体系变为酸性,光化学反应能正 常进行。从表6—4可见,重铬酸铵是最理想的增感 剂,也是因为上述原因。

他 降重

带 解氮

感 性基

光 高和

基 分叠

的 子氮






























+

感光高分子材料介绍

感光高分子材料介绍
感光性高分子材料
一、定义
吸收了光能后,能在分子内或分子间产生化学、 物理变化的一类功能高分子材料。
如: 光导电材料、光电转换材料、光能储存材料、 光记录材料、光致变色材料和光致抗蚀材料。
光化学过程:材料吸收光能后可能发生光化学反
应,从而改变材料的分子结构
光物理过程:材料吸收光能后也可能发生光物理
光 聚 合 性 单 体 + 高 分 子 化 合 物
单 独 光 聚 合 物
其 他 带 感 光 基 的 高 分 子
光 降 解 性 高 分 子
带 重 氮 基 和 叠 氮 基 的 高 分 子ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
聚 乙 烯 醇 肉 桂 酸 酯 及 类 似 聚 合 物
其 他 的 感 光 性 化 合 物 + 高 分 子
重 氮 和 叠 氮 基 化 合 物 + 高 分 子
(2)芳香族重氮化合物 + 高分子 有自由基和离子两种形式:
R R N2+ Xhv -N2 R +
+X
(Ⅰ)
+ X-
(Ⅱ)
已实用的芳香族重氮化合物: 双重氮盐 十 聚乙烯醇感光树脂
R ClN2 R N2Cl R R +2N2+2Cl
CH2
CH OH
n
+ Cl
CH2
CH O
n + HCl
R CH2 CH O + n + HCl
变化,改变材料的外观或物理性质。
凡是能够有效吸收特定波长的光辐射,进而发 生光化学或光物理过程,并表现出明显特殊有 用性质的高分子材料都可称为光敏高分子材料。
二、感光性高分子的分类
1、根据光反应的类型 光交联型,光聚合型,光分解型等。 2、根据感光基团的种类 重氮型,叠氮型,肉桂酰型,丙烯酸酯型等。 3、根据物理变化 光致不溶型,光致溶化型,光降解型,光导 电型,光致变色型等。

感光性高分子的应用(精)

感光性高分子的应用(精)

感光性高分子的应用学校名称:华南农业大学院系名称:材料与能源学院时间:2017年2月27日感光性高分子材料的应用:光敏涂料、射线固化涂料、感光性油墨、光致抗蚀剂、印刷制版用感光性树脂、射线固化胶粘剂、光降解塑料、其他方面的应用。

1.光敏涂料和射线固化涂料传统的涂料是溶剂型的,有些涂料中溶剂的含量高达50%以上。

这些涂料在干燥成膜的过程中一是靠溶剂的自身的蒸发,二是依靠烘烤,它们都是引起大气污染的主要祸首之一。

不仅这些溶剂作为资源不能再生利用,烘烤涂料又消耗了能源。

随着各国环保法规的制订和实施日益严格,溶剂型涂料的产量比重逐渐在下降,取而代之的新型涂料主要有四种:高固化涂料、水性涂料、粉末涂料及光射线固化涂料。

其中射线固化涂斜是一种公认的四E染到即具有优异的性能(excellence of finish)、符合生态保护要求(Ecology)、节省能源(Energy)、具有经济性(Economy)。

射线固化涂料的应用领域(1)木材加工:填充腻子,表面涂层:装饰纸贴面的涂层。

(2)塑料加工:PVC地板表面耐磨涂层;有机玻璃板,聚碳酸酯板材表面增硬涂层,塑料件表面蒸铝的预处理层,塑料件表面装饰涂层,增强塑科件表面装饰涂层。

(3)金属加工:防锈涂层,干法电镀的底涂层,金属制品的装饰涂层。

(4)光导纤维的增强涂层。

(5)纸张、印刷品加工:纸张防水涂层,印刷品上光涂层,高级纸张制造。

(6)电子电氧:半导体管总芯、集成电路芯片、电子元器件表面涂层;太阳能电池、发光元件防潮绝缘涂料。

(7)医学:口腔防龈涂料(牙齿颌面点隙裂沟封密剂),四环素齿的表面涂料。

2.感光性油墨用感光性树脂制成的油墨能用紫外光和电子束快速地使之干燥,而且,整个过程是在室温和低温下进行,不会造成印刷品的挠曲、变形。

感光性油墨的优点及用途3.印刷制版用感光性树脂感光性树脂直接通过感光作用制成浮雕深度至少在0.2毫米以上的印版,代替了金属。

由于其吸墨、耐磨性都比金属好,而且和先进的电子排版、新闻传真技术可以联用,满足了印刷工业向高速、精细化发展的需要。

功能高分子重点

功能高分子重点
▪ (一)吸水性 ▪ 吸水性是高吸水性树脂最重要的特性。一般树脂
吸水量可达自重的500倍到l 000倍,最高可达 5300倍。根据弗洛利公式,吸水能力与树脂组成、 交联度有关,此外还与外部溶液的性质有关. ▪ (二)保水性 ▪ 高吸水性树脂与普通的纸、棉吸水不同,后者加 压几乎可以完全把水挤出,而前者加压失水不多。 这是因为吸水性树脂一旦吸水就彭胀为凝胶状, 高分子网链被扩展而具有一定的弹性,因此,在 加压下也不易挤出水来,但吸水性树脂可与环境 水份保持平衡.
▪ 阴离于絮凝剂主要有聚丙烯酰胺和它的部 份水解产物或是丙烯酰胺与丙烯酸的共聚 物,此外,还有聚苯乙烯磺酸钠等。
▪ 阳离子絮凝剂。阳离于絮凝剂一般是在侧 基或支链上带有正电荷的阳离子聚电解质
▪ 如高分子量聚丙烯酰胺的改性产物
▪ 非离子絮凝剂。这类絮凝剂主要有聚丙烯 酰胺、聚氧化乙烯、聚氧化丙烯等。
1、高分子化学反应的特点
相同点: 一般低分子化学反应包括氧化、还原、取代、 加成、消去、酯化、水解、氢化、卤化、 硝化、磺化、环化和配位等,也适用于高 分子.
高分子化学反应的特点
不同点: (l)高分子链含有大量具有反应能力的功能基,当 进行化学反应时,并非所有的基团都参与反应, 故不易分离出单一结构的产物. (2)高分子与化学试剂反应,如属非均相反应,则 试剂在高分子相内的扩散速度对反应的程度影 响很大. (3)由于高分子链很长,在物理或化学的因素作用 下,容易发生降解或异构化,甚至交联.
高分子絮凝剂的特点
▪ 一般低分子无机盐类混凝剂)是通过电荷中和 作用使胶粒碰撞而聚集沉降的。就应用的宏 观效果看,与无机混凝剂相比.高分子絮凝 剂的主要特点是用量少、效果好、适用范围 宽、所形成的絮体大、沉降快、污泥量少且 易于脱水处理

光敏高分子材料

光敏高分子材料

光敏高分子材料1. 概述光敏高分子材料是一种特殊的高分子材料,它具有对光的敏感性,能够在受到光的照射后发生一系列化学或物理变化。

这种材料具有广泛的应用潜力,在光学、光电子学、生物医学等领域得到了广泛的关注和研究。

2. 光敏高分子材料的分类根据光敏高分子材料的结构和机理,可以将其分为以下几类:2.1 光致变色材料光致变色材料能够在受到光照后改变其颜色,这种变色效应是由于材料内部的化学或物理结构发生了改变所致。

光致变色材料有着广泛的应用,如液晶显示屏、光学存储介质等。

2.2 光敏聚合物光敏聚合物能够在受到光照后发生聚合反应,从而改变其物理或化学性质。

这种材料常用于光刻工艺、光刻胶、光纤光缆等领域。

2.3 光敏降解材料光敏降解材料可以在光照下发生分解反应,从而改变物质的性质或失去其功能。

这种材料常用于药物递送系统、可降解材料等领域。

2.4 光敏流变材料光敏流变材料在受到光照后会发生形态变化,从而改变其流变特性。

这种材料常用于可调谐光学器件、人工肌肉等领域。

3. 光敏高分子材料的制备方法光敏高分子材料的制备方法多种多样,以下是几种常见的方法:3.1 光化学方法光化学方法是通过光照下进行化学反应来制备光敏高分子材料。

这种方法可以控制反应的位置、速率和产物,具有较高的选择性和灵活性。

3.2 光修饰方法光修饰方法是将已有的高分子材料用光敏分子进行修饰,从而赋予材料光敏性。

这种方法无需从头合成材料,节省了制备成本。

3.3 模板聚合方法模板聚合方法是在模板分子的作用下进行聚合反应,制备具有特定结构和功能的光敏高分子材料。

这种方法可以控制材料的形貌和性能。

4. 光敏高分子材料的应用领域光敏高分子材料具有广泛的应用潜力,以下是几个典型的应用领域:4.1 光刻工艺光敏高分子材料可用于光刻工艺中的光刻胶,用于制备微电子器件。

其优点是可调谐性好、制备成本低,能够满足不同工艺需求。

4.2 光学存储介质光敏高分子材料可用于制备光学存储介质,实现信息的写入和读出。

感光高分子

感光高分子

以发射磷光的方式放出能
量,而回复到基态。
添加各种有效的光引 发剂或光增感剂
• 1823年发现用沥青涂料制作的照相布景在强光的长期照射下,产生了交联现 象。 • 1903年,才首次运用光固化原理,将不饱和酸类和不饱和酮类涂料制成图像 来刻饰标牌。

感光性高分子发展简
• 1940年开始,用感光性高分子制成的光刻已经大量应用于印刷电路工业。
一些带有感光基团的单体
感光性高分子功能及应用
感光高分子功能性质
感光高分子具有制作照相图像、制作固化膜、降解老化、 催化及其他反应、固相表面改性等功能。 照相功能:感光性高分子是主要的光致抗蚀剂和印刷制版
的感光材料,它属于非银盐感光材料。(与传统制版工业相比,
用光刻胶制版,具有速度快、重量轻、图案清晰等优点。)
吸收光的过程可能是借助于其他感光 性低分子物(光敏剂),当光敏剂吸收 光能后再引发高分子物的化学变化。
感光作用机理
•分子具有三种能量:即转动能、振动能、电子能。在末吸收外界能量时,它处于基态(D),分子中的
电子处于成键轨道,配对自旋。分子一旦吸收了光的能量,振动能、转动能虽有增大,但以电子的激发能 量增加为最大。 分子受光照激发后,可能发生如下反应:(D*属于激发态分子)
感光化 合物+高 分子型 重氮和 叠氮基 化合物 + 高分子 重铬 酸盐 + 高分 子
重要的感光性高分子
高分子化合物+增感剂:
重络酸盐+亲水性高分子 重络酸盐导致高分子化合物光固化。
芳香族叠氮化合物+高分子 叠氮基具光学活性,能直接吸收光而分 解为亚氮化合物和氮。
1
2
3
芳香族重氮化合物+高分子 有自由基和离子两种形式。

光功能高分子材料ppt课件

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5.2 光敏涂料
优点: 固化速度快 不需加热,耗能少 污染少 便于流水线作业 缺点: 不适合形状复杂物体的涂层 价格高
烧伤病人的治疗通常是取烧伤病人的 健康皮 肤进行 自体移 植,但 对于大 面积烧 伤病人 来讲, 健康皮 肤很有 限,请 同学们 想一想 如何来 治疗该 病人
光 表面涂料:装饰和保护层 敏 涂 料 光致抗蚀剂:制造印刷电路板 光敏涂料体系的组成:
烧伤病人的治疗通常是取烧伤病人的 健康皮 肤进行 自体移 植,但 对于大 面积烧 伤病人 来讲, 健康皮 肤很有 限,请 同学们 想一想 如何来 治疗该 病人
主 要 内 容
概述 光敏涂料 光致抗蚀剂 光致变色高分子材料 光导电高分子材料
烧伤病人的治疗通常是取烧伤病人的 健康皮 肤进行 自体移 植,但 对于大 面积烧 伤病人 来讲, 健康皮 肤很有 限,请 同学们 想一想 如何来 治疗该 病人
光化学反应过程: 1. 激发过程:分子吸收光能,电子从基 态向高能级跃迁,成为激发态。 2. 化学反应:激发态分子向其它分子转 移能量或产生各种活性中间体而发生化 学反应。
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by l i ght
光引发剂(PI)
(PI)*(激发态生成)﹠

具有化学功能的高分子材料

具有化学功能的高分子材料

(a)主链导入型 C C C
(b)侧链导入型
(c)混合型
C C +C
图 3-1 感光高分子的组成
一、感光材料的功能基础 ――光化学反应
对有机化合物的光化学反应进行的大量研究, 是从五十年代到六十年代开始的,其后便迅速
发展起来,现在对于许多有机化合物的详细反
应机理已经搞清,并达到了系统化。开展光功
为考察对光功能材料进行分子设计的指导原则, 现举出在光化学反应和化合物的结构以及物性 等方面,材料是如何显示出功能的一个具体实 例进行探讨。图(3-3)所示的偶氮苯的顺反 式结构异构化,是有机光化学的基本反应实例, 包括多种衍生物在内,对这些光化学机理,人 们正进行仔细地研究。 有关这种光反应的化学和物理变化的主要内容, 可举出以下几种:
(4)以偶氮苯为交联剂合成的聚丙烯酸 乙酯 , 制成膜后用紫外光照射则收缩; 相反如用可见光照射,则能看到伸长。
这是一种光化学反应。因此,这种化合
物可能会成为今后将光能直接转换成机 械能的材料。
(5)将偶氮苯导入高分子主链,在溶液 中用紫外光照射,可将此高聚物异构化 为顺式结构,溶液的粘度减少 60 ~ 70 %。 根据受光感应所引起的粘度变化,可考
光聚合性单体中混入低聚物,从而引起光聚合
的物质。除感光树脂之外,安息香还应用于光
固化性油墨和涂料等。
4)异构化反应
所谓异构化反应,是指组成反应物和生成物的 原子不变,而只生成结构不同的物质(结构异 构体)的反应。由光或热的作用引起的异构化 反应,其逆反应也有很多实例。特别是利用可 逆的光异构化反应,可以设计出各种光功能性 材料。首先考虑的是光敏材料。所谓光致变色 现象(photochromism),是经光照射而发生的 一种可逆的变色现象。

光敏高分子

光敏高分子

❖㈠光交联型
❖ 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键 被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,而起 到抗蚀作用,这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属
此类。
❖负性光刻胶
❖ 树脂是聚异戊二烯,一种天然的橡胶;溶剂是二甲 苯;感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂, 产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不 溶于显影液。负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨; 曝光时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。
5)粘结力:涂层和低物的粘结力 影响:相容性,界面接触程度,涂层表面张力,固化条件。
三. 感光高分子体系的设计与构成 从高分子设计角度考虑,首先引入感光性化合物(基团),形式如下:
1)将感光性化合物加入到高分子中:
线性高分子 小分子感光化合物
物理混合
感光高分子
线性高分子:含有活泼氢的线性高分子 含有双键的不饱和高分子
例如:光二聚交联抗蚀剂
❖ 聚肉桂酸酯类光刻胶。在之外光线下发生光 交联反应,常加入5-硝基厄、芳香酮作增感 剂,是良好的负性光刻胶。
再如:环化橡胶抗蚀剂
❖ 环化橡胶双叠氮体系光刻胶,也是一种负性 光刻胶。是利用芳香族双叠氮化合物作为环 化橡胶的交联剂,属于聚合物加感光化合物 型光刻胶。
❖ 叠氮类化合物在紫外光照射下发生分解,析 出N2,并产生氮烯(nitrenen,RN:),它 有很强的反应能力,可向不饱和键加成,还 可插入C-H和进行偶合。
光敏高分子的分类:
(1)光敏涂料: 当聚合物在光照射下可以发生光聚合或光交联反应,有快速光 固化性能。
(2)光成像材料(光刻胶photoresist——印刷线路板、印刷板) 在光的作用下可以发生光化学反应(光交联或降解),反应后溶 解性能发生显著变化的聚合材料,具有光加工性能,可以作为成 像体系的光敏材料。

感光性高分子材料

感光性高分子材料

感光性高分子材料感光性高分子材料是一种能够对光线产生响应的材料,它在光的照射下可以发生一系列的光化学反应和物理变化。

这种材料在光电子、光化学、光子学等领域有着广泛的应用,并且随着科技发展的进一步推动,其应用前景更加广阔。

感光性高分子材料的基本结构通常包含有各种光敏单体、光致引发剂、稳定剂等组分。

其中,光敏单体是最基本的组分之一,它具有发生光化学反应的活性基团,包括各种不同结构的酮、醛、烯、炔等。

这些活性基团的结构和性质决定了感光性高分子材料的感光特性和应用领域。

感光性高分子材料在光电子领域的应用主要有光刻、光阻、激光打印等。

光刻是一种通过在光敏性高分子材料上进行曝光和显影来制备微细结构的技术,广泛应用于集成电路制造、微纳加工等领域。

光阻则是一种在光敏性高分子材料上形成的光学图形,在制备光电子元器件时用于光刻、腐蚀等工艺步骤。

激光打印技术则是利用光敏性高分子材料的高过电子离域性质,在光敏层上形成图案,实现高清晰度的打印效果。

另外,在光化学领域,感光性高分子材料也有广泛的应用。

例如,在光聚合反应中,光敏性高分子材料可以作为光引发剂,通过紫外光或可见光的照射来引发单体的聚合反应,从而得到聚合物材料。

这种技术在3D打印、光固化胶水等领域有着重要的应用。

此外,在光敏性高分子材料中加入特定的染料或荧光物质,还可以实现光学储存、光刻记录和数据存储等功能。

光子学是另一个感光性高分子材料的重要应用领域。

感光性高分子材料可以用于制备光波导、光栅、非线性光学器件等。

光波导是一种通过光的全反射在材料中传播的光学元件,在光通信领域有着重要的应用。

光栅和非线性光学器件则可以通过光的干涉和光学非线性效应来实现各种功能,如频谱分析、光学滤波、频率转换等,有着广泛的应用前景。

尽管感光性高分子材料在上述领域中已经发挥出了重要作用,但是与其他光电子材料相比,感光性高分子材料在灵敏度、稳定性和制备工艺上还存在一些局限性。

因此,未来的研究重点应该放在提高感光性高分子材料的灵敏度和稳定性,以及探索新的制备工艺和应用领域上。

从化学反应角度分析感光高分子材料类型

从化学反应角度分析感光高分子材料类型

从化学反应角度分析感光高分子材料类型感光高分子材料是一种具有光敏性的聚合物材料,可以在光照下发生化学反应,从而产生物理或化学性质的变化。

这种材料具有广泛的应用领域,包括光敏剂、光刻胶、光纤通信、激光输出和光电显示等。

1.光引发型:这种类型的感光高分子材料在光照下会发生链式反应或离子反应,引发聚合反应或交联反应。

常见的光引发型感光高分子材料有苯并噻吩衍生物、芳香化合物、吲哚衍生物等。

这些材料在紫外光或可见光的激发下,能够发生电荷转移,从而引发聚合反应。

2.光敏剂:光敏剂是一种具有可逆可非可逆光化学反应的分子,能够在光照下发生化学和物理性质的改变。

光敏剂分为两类:一类是光度敏剂,如硝酸红、亚甲基蓝等,这些分子在光照下可以发生光度转变;另一类是光化敏剂,如光敏性聚合物、螺菌紫等,这些分子可以在光照下发生光化学反应,引发聚合反应或交联反应。

3.光聚合型:这种类型的感光高分子材料具有高度的光敏性,可以在光照下实现高效的聚合反应。

光聚合型感光高分子材料有光引发型和光敏剂两种类型,但其聚合效率更高,适用于高分子电子器件和微电子加工等领域。

4.光降解型:这种类型的感光高分子材料在光照下会发生分解反应,从而产生化学性质的变化,如断裂、氧化、分子间断裂等。

光降解型感光高分子材料常用于激光打印、图像编码和传感等领域。

总结起来,感光高分子材料的类型可以从光引发型、光敏剂、光聚合型和光降解型等角度进行分类。

每种类型的材料在光照下会发生不同的化学反应,从而实现物理或化学性质的变化,并用于不同的应用领域。

随着科技的不断进步和发展,感光高分子材料将在光电子器件、光学器件和传感器等领域发挥越来越重要的作用。

光学功能高分子材料

光学功能高分子材料

32
以硅基片的制备为例:在表面有SiO2的硅片上涂上一层光刻胶, 干燥后加上一层掩膜进行曝光,这样曝光区与非曝光区的光刻胶膜就 发生了溶解度差异:
33
34
(一)光致抗蚀剂的分类
光致抗蚀剂按其光化学反应可分为光交联型和光分解
型。
根据采用光的波长和种类不同可以分为可见光刻胶、 紫外光刻胶、放射线光刻胶、电子束光刻胶和离子束光刻胶
分子量较小的低聚物,或者为可溶形线形聚合物,在分子量 上区别于一般聚合树脂和可聚合单体,为了取得一定的黏度 和合适的熔点,分子量一般要求在1000-5000之间。
23
4.2.1 光敏涂料预聚物
光敏涂料预聚合物是光敏涂料中最重要的 成分之一,涂层最终的性能,如硬度、柔韧性、 耐久性及黏附性等,在很大程度上与预聚物有 关。
重 铬 酸 盐 + 高 分 子
12
根据其在光参量作用下表现出的功能和性质分类:
(1)高分子光敏涂料 (2)高分子光刻胶 (3)高分子光稳定剂 (4)高分子荧光(磷光)材料
(5)高分子光催化剂
(6)高分子光导材料 (7)光致变色高分子材料
(8)高分子光力学材料
13
3.3 光学高分子体系的设计与构成
3、激发态的猝灭
4、分子间或分子内的能量转移过程
5
表 2 —1
光线名称 微 波 波长 /nm 106~107 103~106 800
各种波长的能量
能量 /kJ 10-1~10-2 10-1~102 147 紫外线 光线名称 波长 /nm 400 300 200 能量 /kJ 299 399 599
19
77
20
78
21
22
4.2 光敏涂料的结构类型

光敏感高分子材料的研究及应用

光敏感高分子材料的研究及应用

光敏感高分子材料的研究及应用前言:光敏感高分子材料研究是光化学和光物理科学的重要组成部分,近年来随着现代科学技术的发展,光功能高分子材料研究在功能材料领域占有越来越重要的地位,其中光敏感高分子材料日益受到重视。

光敏感高分子材料的应用领域已从电子、印刷、精细化工等领域扩大到塑料、纤维、医疗、生化和农业等方面,正在快速发展之中,光敏感高分子材料研究与应用也将越来越广。

光敏感材料的分类光敏感高分子材料在光作用下能迅速发生化学和物理变化的高分子,或者通过高分子或小分子上光敏官能团所引起的光化学反应(如聚合、二聚、异构化和光解等)和相应的物理性质(如溶解度、颜色和导电性等)变化而获得的高分子材料。

目前,光敏高分子的合成已成为精细高分子合成的一个重要方面按高分子合成目的不同分类①在侧链或主链上含有光敏官能团的高分子;②由二元或多元光敏官能团构成的交联剂;③在高效光引发剂存在下单体或预聚体发生聚合和交联而生成的高分子。

按应用技术不同分类①成像体系,主要用于光加工工艺、非银盐照相、复制、信息记录和显示等方面;②非图像体系,大量用于光固化涂层、印刷油墨、粘合剂和医用材料等方面。

光敏感材料的发展史从十九世纪开始,人类开始使用改造过的天然高分子材料。

火化橡胶和硝化纤维塑料(赛璐珞)是两个典型的例子。

进入二十世纪之后,高分子材料进入了大发展阶段。

首先是在1907年,Leo Bakeland发明了酚醛塑料。

1920年Hermann Staudinger提出了高分子的概念并且创造了Macromolecular这个词。

二十世纪二十年代末,聚氯乙烯开始大规模使用。

二十世纪三十年代初,聚苯乙烯开始大规模生产。

二十世纪三十年代末,尼龙开始生产。

随着工业企业现代化的发展,设备的集群规模和自动化程度越来越高,同时针对设备的安全连续生产的要求也越来越高,传统的以金属修复方法为主的设备维护工艺技术已经远远不能满足针对更多高新设备的维护需求,对此需要研发更多针对设备预防和现场解决的新技术和材料,为此诞生了包括高分子复合材料在内的更多新的维护技术和材料,以便解决更多问题,满足新设备运行环境的维护需求。

感光性高分子材料

感光性高分子材料

感光性高分子材料感光性高分子材料简史当今世界上几乎所有的高分子化合物, 不管是天然的还是人工合成的, 都能在强烈的光线辐射下,缓慢地或快速地发生化学变化。

“感光性高分子”是专指那些在一定能量的光线照射下, 很快地发生变化的高分子材料。

“光反应性高聚物”(photoreactive highpolymer)和“感光性树脂”(photosensitive resin)以及“感光性高分子”是同义词, 中国更习惯称谓“感光性高分子”。

其研究对象主要包括那些能够产生光聚合、光交联、光分解、光改性作用的高分子脂和光反应预聚体, 以及受光照射后能够产生引发作用的光引发剂和增加感光性高分子感度的增感剂。

尽管在1823年己经发现了用天然沥青涂料制作的照相布景在强光的长期照射下, 产生了交联现象,但首次应用光固化原理, 将不饱和酸类和不饱和酮类涂料制成图像来刻蚀标牌的工作始于1930年。

从1940年开始, 用感光性高分子制成的光刻胶已大量应用于印刷电路工业。

1947年以后, 光交联型感光性高分子己广泛应用在印刷工业的胶印技术上, 能印刷出非常逼真的艺术图片。

本世纪60年代中期, 随着半导体技术的发展, 对集成电路的精细加工提出了越来越高的要求,相继研究和开发了各种类型的感光性高分子。

目前己经能用感光性高分子加工分辨力为0.1μm精度,并能够经受各种化学腐蚀的光刻胶。

感光性高分子的发展历史虽然不长, 但近年发展却非常迅速。

目前, 不仅有光聚合型、光交联型, 还有光分解型其受光照的范围也由仅对紫外光感光, 发展到能感受能量较高的光—远紫外光、射线、电子束、激光等。

另外, 感光性高分子的敏感度也大大提高,近年来己涌现出在可见光区域内感光的感光性高分子, 以及激光直接扫描的高速感光性高分子同时,感光性高分子的聚合反应也从单一的光引发产生自由基聚合, 发展到由光引发产生阳离子聚合此外还出现了许多种“化学增幅”型感光性高分子。

感光高分子材料范文

感光高分子材料范文

感光高分子材料范文感光高分子材料是一类具有光敏性的高分子材料,其在受到光照的情况下可以发生物理或化学变化。

这种材料被广泛应用于激光打印、光刻、光学记录和光学储存等领域。

本文将介绍感光高分子材料的分类、工作原理、应用以及未来的发展方向。

感光高分子材料根据其光敏性质可分为光致变色材料和光刻材料两类。

光致变色材料主要通过光热效应或光化学反应来实现颜色的变化,可以应用于激光打印、传感器和显示器等领域。

而光刻材料则可通过光化学反应在光敏区域发生溶解或交联反应,从而实现微细图案的制作,广泛应用于集成电路制造中。

感光高分子材料的工作原理主要是通过光敏剂的作用来实现。

光敏剂是感光高分子材料中的重要组分,能够吸收光并发生物理或化学变化。

其中,光热效应是常见的一种反应机制,光敏剂在吸收光能后会导致材料温度升高,从而引起材料的颜色变化。

光化学反应也是常见的一种反应机制,光敏剂在光照下会发生化学反应,引起材料的物理性质或化学结构的变化。

感光高分子材料在激光打印领域有着重要的应用。

传统的喷墨打印技术由于喷头位移速度等原因,无法实现高分辨率的印刷效果,而激光打印技术则可以通过控制激光光束的移动来实现高分辨率的印刷。

感光高分子材料作为激光打印中的关键部件,其可以通过光化学反应变为固态,并通过激光光束的影响来改变其物理性质,从而实现印刷效果。

此外,感光高分子材料还被广泛应用于光学记录和光学储存领域。

在光学记录中,感光高分子材料可通过激光光束的作用来改变其光学性能,从而实现信息的存储和读取。

而在光学储存领域,感光高分子材料还可以通过激光的刻写作用来实现高密度的数据存储。

这些应用不仅在信息技术领域有着广阔的应用前景,还在光学传感器和显示器等领域有着重要的应用价值。

未来,感光高分子材料有望在准分子电子学、生物医学以及新型光学器件等领域发展出更广泛的应用。

随着科学技术的不断进步,人们对材料的性能和功能要求也越来越高,对感光高分子材料的研究也将越来越深入。

光敏高分子

光敏高分子

2)不饱和聚酯unsaturated polyester: 为了引入双键,以不饱和羧酸衍生物与二元醇缩合生成酯类。
3)聚醚(polyether)\聚酯(polyester): 由环氧化合物与多元醇缩聚而成,游离羟基为光交联点,粘度低, 价格低。
二. 光敏涂料的组成与性能关系
光敏涂料的组成与涂层的性能关系密切。
1)流平性:涂料被涂刷之后,其表面在张力作用下迅速平整光滑 的过程。
影响:涂料粘度,表面张力,润湿度
稀释 剂
表面活 性剂
2)机械性能:包括形成涂料膜的硬度、韧性、耐冲击力、柔顺性。 影响:树脂种类,光交联度(聚合度)
3)化学稳定性:涂膜的耐化学品、抗老化能力。 影响:化学组成
4)涂层光泽:低光、哑光、高光
2)在高分子主链或侧链引入感光基团:这一方法应用前景看好, 稳定性好,感光性能佳。
3)由多种组分构成的光聚合体系:
① 将下列光敏基团引入各种单体或预聚体中: 乙烯基vinyl、丙烯酰基acryloyl、烯醛olefine aldehyde、 缩水甘油(酯)基glycidyl ester等。
② 再加入光引发剂、光敏剂、抗氧剂、偶联剂等各种组分配 成。配方可根据应用进行调整,特别适于光敏涂料、光敏 粘合剂、光敏油墨。
(7)光致变色材料photochromic material: 在光的作用下其吸收波长发生明显变化,从而材料外观颜色 发生变化的高分子材料。
光刻胶
❖ 一.光刻胶的定义(photoresist)

光刻胶(英语:photoresist),亦称
为光阻或光阻剂,是指通过紫外光、深紫外
光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射,
其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光
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感光性高分子材料
感光性高分子材料
简史
当今世界上几乎所有的高分子化合物, 不管是天然的还是人工合成的, 都能在强烈的光线辐射下,缓慢地或快速地发生化学变化。

“感光性高分子”是专指那些在一定能量的光线照射下, 很快地发生变化的高分子材料。

“光反应性高聚物”(photoreactive highpolymer)和“感光性树脂”(photosensitive resin)以及“感光性高分子”是同义词, 中国更习惯称谓“感光性高分子”。

其研究对象主要包括那些能够产生光聚合、光交联、光分解、光改性作用的高分子脂和光反应预聚体, 以及受光照射后能够产生引发作用的光引发剂和增加感光性高分子感度的增感剂。

尽管在1823年己经发现了用天然沥青涂料制作的照相布景在强光的长期照射下, 产生了交联现象,但首次应用光固化原理, 将不饱和酸类和不饱和酮类涂料制成图像来刻蚀标牌的工作始于1930年。

从1940年开始, 用感光性高分子制成的光刻胶已大量应用于印刷电路工业。

1947年以后, 光交联型感光性高分子己广泛应用在印刷工业的胶印技术上, 能印刷出非常逼真的艺术图片。

本世纪60年代中期, 随着半导体技术的发展, 对集成电路的精细加工提出了越来越高的要求,相继研究和开发了各种类型的感光性高分子。

目前己经能用感光性高分子加工分辨力为0.1μm精度,并能够经受各种化学腐蚀的光
刻胶。

感光性高分子的发展历史虽然不长, 但近年发展却非常迅速。

目前, 不仅有光聚合型、光交联型, 还有光分解型其受光照的范围也由仅对紫外光感光, 发展到能感受能量较高的光—远紫外光、射线、电子束、激光等。

另外, 感光性高分子的敏感度也大大提高,近年来己涌现出在可见光区域内感光的感光性高分子, 以及激光直接扫描的高速感光性高分子同时,感光性高分子的聚合反应也从单一的光引发产生自由基聚合, 发展到由光引发产生阳离子聚合此外还出现了许多种“化学增幅”型感光性高分子。

图1为感光性高分子的发展简图。

感光性高分子学科是现代电子科学的基础、现代超细加工的基础、现代印刷技术的基础、现代高速固化涂料和高速固化油墨的基础、高速固化粘结剂的基础, 与现代微电子技术、计算机技术、现代印刷技术相互关联, 共同成为当今科学技术发展的重要领域。

分类
对于感光性高分子的分类并没有统一的说法, 在此分别列出永松元太郎在其《感光性高分子》一书中提出的及我个人的一些不成熟的看法。

永松元太郎在其书中所提的设想如下:
(1)根据光反应的种类光交联型、光聚合型、光氧化还原型、光二聚型、光分解型等。

(2)根据感光基团的种类重氮型、叠氮型、肉桂酞型、丙烯酸酷型等。

(3)着眼于物性的变化光致不溶化型、光致溶化型、光降解型、光导电型、光致变色型等。

(4)根据在照相上的特性阴图一阳图型、阳图一阳图型。

(5)根据骨架化合物系、聚醋系、尼龙系、丙烯酸醋系、环氧系、氨基甲酸酷系等。

(6)根据聚合物的形态或组成感光性化合物和聚合物的混合型、具有感光基团的聚合物型、光聚合组成型等。

我个人认为可以用下面的图表形式更好地表示感光性高分子的分类(见表1)。

其实我认为从实用角度来说,按感光性高分子对光波长的敏感性分类是最有价值的, 但由于数据有限, 在此无法具体来分了。

应用
1.感光性高分子在印刷工业的应用
无论从过去、现在和将来的角度来看印刷工业, 它都将是感光性高分子的主要应用方面。

感光性高分子材料可用于制备光固化型纸张上光油和光固化油墨。

用感光性高分子制作的印刷版材不仅分辨力高而且使用方便, 己逐步代替传统的铅字和铜锌版。

现在用酚醛树脂和双叠氮化合物的混合物来制备的PS版(如下),其分辨力可达1~2μm。

现在利用激光一次性直接制版己成为印刷工业的主攻方向。

2.感光性高分子在电子工业的应用
感光性高分子在电子工业及微电子工业的应用极广, 这主要是光刻胶在制造大规模集成电路被开发和应用以后发展起来的。

特别是当今的电子计算机工业的发展使得感光性高分子有了极大的发展空间。

无论是己经出现的1200兆的电脑芯片, 还是INTEL 将要开发的的微处理器都需要特种光刻胶的开发才能成功。

传统的光刻胶有重铬酸系抗蚀剂、聚乙烯醇肉桂酸酷系抗蚀剂、二叠氮蔡醒系抗蚀剂等, 近年来聚亚酞氨系化合物由于其稳定性好,有一定的强度, 较高感度, 保存期长, 正得到越来越多的青睐。

3.感光性高分子在其他领域中的应用
感光性高分子在精细金属加工、标牌刻蚀制作、医疗、生化、光固化粘结、光固化封装等许多领域中正得到日益广泛的应用。

当今感光性高分子的主要研制课题
从感光性高分子诞生以来, 人们为了获得更高感度的材料作了不懈的努力。

当代的印刷工业为了彻底抛弃对银盐的依赖, 正在努力开发新型的感光性高分子材料, 与此同时, 新兴的电子计算机工业也对感光性高分子的感度及稳定性提出了前所未有的要求, 而激光技术的发展己提供了必要的手段。

所以如何提高感光性高分子的感度仍将是感光性高分子的主要课题。

为提高感光性高分子的感度,学者们研究了各种方法, 其中最有代表性的为以下3种:
(1)提高感光性高分子的固有感度, 使其本身高感度化;
(2)使用有机染料增感剂,以增加光引发剂的活性;
(3)“化学增幅”法, 这是当前国际上的热门课题。

下面对这3种方法作一简介:
·提高感光性高分子的固有感度
最新的研究指出, 当感光性高分子的侧链上引入光反应性基团时, 感度将大大提高。

例如:
另外, 当使用N—苯基甘氨酸、有机过氧化物、硫杂酮燃料三元体系为光引发剂时,如果将甲基丙烯酰基引入感光性高分子的侧链,
并使用波长488nm氩离子激光, 其感度可提高60倍。

最后, 当前由于我们还没有开发出在感度上能与银盐感光材料相比的感光性高分子, 所以许多企业采取了将卤化银引入感光性高分子体系中, 使其感度甚至接近达到银盐的程度。

美国的柯达公司在1995年所公布的新型显影剂、感光胶中有许多就是通过此法制成的。

·提高光引发剂的增感度
感光性高分子本身对紫外光有一特定的吸收范围, 但它吸收光能的波长范围并不宽。

加入光引发剂以后, 感光性高分子的感光范围将会拓宽。

聚乙烯醇肉桂酸酷和聚乙烯醇苯乙烯基丙烯酸醋在加入光引发剂前后的增感效果比较见图2。

从图2可见, 在加入5—硝基危光引发剂以后, 它们的光谱吸收范围和相对感光度有很大的增加。

·感光性高分子的化学增幅法
早年感光性高分子的研究和开发都是围绕着提高感光性官能团自身的感度和光引发剂的活性来展开的, 有很大的难度和局限性。

近年来, 由于高能量激光光源的出现,计算机一激光连机直接扫描技术的发展和实用化, 要求感光性高分子能直接成像, 并要求克服由提高感光性高分子的感度和光引发剂的活性所带来的热稳定性问题。

为此,国外一些专家提出:感光性高分子经光照射感光时必须具有瞬时高速度, 在成像显影的过程中, 用化学反应增加和扩大感光的幅度。

这一新技术称为“化学增幅”, 也称“感光效果化学放大”。

化学增幅原理由下面例子说明:许多鎾盐系光引发剂在紫外光和其它高能射线照射后, 分解成路易斯酸和其它成分。

路易斯酸本身为酸性化合物, 它既作为酸性催化剂, 又作为阳离子聚合的引发剂。

例如二苯基碘鎾盐在紫外线照射后所发生的反应式:
路易斯酸是一种强酸, 它分布在受光照射后的感光高分子体系中, 而未受光照部分不存在路易斯酸。

因此鎾盐化合物为“光致酸供给体”采用鎾盐可得潜像, 显影后可得负型图像。

显而易见, 曝光过程中并未发生聚合反应, 只产生了聚合反应的“酸”—催化剂。

实质上, 成像是在后处理加热过程中完成的。

“化学增幅”可大大缩短感光时间, 这是当今感光性高分子领域的重要发现, 也是今后的发展方向。

山岗亚夫等人曾提出了用邻重氮醌化合物作为“光致酸供给体”,与酚醛树脂和甲醇醚化的三聚氰胺混合组成新的光敏体系, 其成像过程的光化学原理如式所示。

(1)光致酸发生反应
(2)酸催化交联
利用“化学增幅”也可用于正性感光性高分子成像技术。

“化学
增幅”技术摆脱了光能直接使感光性高分子发生反应的束缚, 开拓了由光能产生光催化的新技术。

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