有机合成中的常用保护基
有机化学基础知识点有机合成中的保护基与去保护
有机化学基础知识点有机合成中的保护基与去保护有机合成是有机化学的一个重要分支，它通过一系列的化学反应将简单的有机物转化为目标化合物，是现代有机化学的基础和核心。
在有机合成中，保护基（Protecting Group）和去保护（Deprotection）是经常用到的策略。
保护基是一种暂时性的官能团，它可以在某个特定的反应条件下保护某些功能团，以避免其在反应过程中发生意外的反应或损失。
而去保护则是将保护基从目标分子中除去，使其恢复原有的官能团。
有机合成中常用的保护基包括醚、酯、酸、酮、酰胺等。
它们的选择要考虑到以下几个因素：保护基的选择应易于引入和去除，同时要有足够的稳定性，以确保在反应条件下不发生早期去保护或其他副反应。
此外，还需考虑到保护基的引入和去除条件是否与目标分子的其他功能团相容，避免对其他反应步骤产生干扰。
醚和酯是常用的保护基，它们在酸性条件下稳定，在碱性条件下则容易去除。
当需要保护醇或羟基时，可以选择使用醚保护基，如醚化反应，将目标分子中的醇转化为相应的醚化物。
待其他反应完成后，通过酸催化或氧化还原等条件，将醚保护基去除。
而当需要保护羧酸时，可以选择使用酯保护基，如酯化反应，将目标分子中的羧酸转化为酯化物。
在需要的时候，通过碱的催化作用，将酯保护基去除。
酸和酮也是常见的保护基，它们在碱性条件下稳定，在酸性条件下易于去除。
当需要保护胺基时，可以选择使用酸保护基，如酸化反应，将目标分子中的胺基转化为相应的酸化物。
待其他反应完成后，通过碱的催化作用，将酸保护基去除。
而当需要保护羰基时，可以选择使用酮保护基，如酮化反应，将目标分子中的羰基转化为相应的酮化物。
在需要的时候，通过酸的催化作用，将酮保护基去除。
此外，酰胺也是常用的保护基。
它在碱性条件下稳定，在酸性条件下易于去除。
当需要保护胺基时，可以选择使用酰胺保护基，如酰胺化反应，将目标分子中的胺基转化为相应的酰胺化物。
待其他反应完成后，通过酸的催化作用，将酰胺保护基去除。
第12章有机合成中的保护基
4) 甲氧基甲醚(MOM醚)
甲氧基甲醚在pH= 4~12是稳定 的，遇亲核试剂、有机金属试剂、 氢化物还原剂、催化氢化(除酸性 条件下铂催化)和氧化反应等不受 影响。 脱保护法: 可用盐酸/甲醇溶液、盐酸/THF 水溶液、硫酸／乙酸水溶液 可选择性酸水解脱保护基。同时 含苄醚和甲氧基甲醚，盐酸甲醇 液可以选择性裂解甲氧基甲醚， 苄醚不裂解。
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2、二硫代缩醛、缩酮
优点: 在pH=1～12范围内稳定。能耐受还原剂、有机金属试剂、亲核试剂和部分 氧化剂。对一些氧化剂敏感性。硫化物可使一些金属催化剂的中毒而失去催 化活性
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三、氨基的保护
氨基的活性在于： 1)伯胺或仲胺氮上的活泼氢； 2) 氮上的孤对电子，具有很强的亲核性，许多亲 电试剂能与其反应。
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量对甲苯磺酸，丙酮的存在可使二醇转化成缩酮。
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2、酯类保护基
制备: 用作保护基的酯是乙酸酯、苯甲酸酯、2， 4，6—三甲基苯甲酸酸酯等。通常采用酸 酐或酰氯在碱存在下酰化制得。
去保护 一般用碱水解或碱醇解法， 用氨的醇溶液氨解(如甲醇氨溶液)。
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乙酸酯的稳定性 (用于羟基的保护)
乙酸酯在pH=1～8稳定, 有机金属试剂(如有机 铜)、催化氢化、硼氢化物还原、路易斯酸、氧化 反应等可以采用乙酸酯保护。
三氟乙酰基保护基的去保护方法 常用碳酸钾水甲醇溶液
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苯甲酰胺
稳定性: 在pH=1～14保持稳定。能耐受亲核试剂、有机金属试剂 (有机锂除外)、催化氢化、氢化物还原剂(锂铝氢和硼烷 除外)和氧化剂的反应。
苯甲酰胺去保护: 常用6 MHCl或HBr的乙酸溶液，或氢氧化钠浓碱液
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3、氨基甲酸酯保护
有机合成中的保护基和去保护反应
有机合成中的保护基和去保护反应有机化学中的保护基和去保护反应是合成有机化合物中非常重要的步骤之一。
保护基是指在有机分子中引入的一种临时性保护官能团，用以保护其他官能团不被化学反应所破坏。
去保护反应则是指在有机合成反应进行到一定程度后，选择性地去除保护基，使原始的官能团重新暴露出来。
在本文中，将详细讨论有机合成中的保护基和去保护反应的原理、常用保护基以及去保护反应的条件和方法。
一、保护基的原理和常用保护基保护基的引入可以有效地阻止某些化学反应的发生，从而保护其他官能团的完整性。
通常，保护基需要具备以下特点：1. 容易引入和去除；2. 在反应条件下稳定；3. 不干扰其他反应。
常用的保护基包括酯、醚、酮、醛、酰胺等。
酯和醚作为常见的保护基，广泛应用于有机合成中。
例如，酸性条件下，醇可以与酸反应生成酯，从而保护了醇的羟基。
二、去保护反应的条件和方法去保护反应的选择性很重要，需要保护基容易去除且不影响其他官能团的完整性。
常用的去保护反应方法主要包括但不限于以下几种。
1. 加氢还原法：在氢气的存在下，使用适当的催化剂催化，加氢还原保护基，恢复官能团的原貌。
例如，酯可以通过加氢还原去除醇的酯保护基。
2. 碱性水解法：在碱性条件下，加水使酯或酮脱去醇或酚的保护基。
碱性水解法是比较常用且方便的去保护方法之一。
3. 酸性水解法：在酸性条件下，加水使酯或酮脱去醇或酚的保护基。
与碱性水解法相比，酸性水解法具有更高的选择性，可以选择性地去除某一特定位置的保护基。
4. 热解法：将保护基暴露在高温下，使其发生热解反应，从而去除保护基。
热解法需要注意保护基的稳定性，在高温下不会引发其他反应。
除了上述方法，也可以利用其他特定的条件和方法进行去保护反应，如金属还原法、脱保护基化合物的环境条件等。
具体选择哪种方法要根据保护基的类型以及反应条件的要求来决定。
结论有机合成中的保护基和去保护反应在有机化学领域中扮演着至关重要的角色。
通过引入保护基，可以阻止某些化学反应的进行，从而保护其他官能团的完整性。
有机合成中的保护基
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2
选择保护基时要考虑：
1、保护基的供应来源，经济易得
2、必须能容易地进行保护，且保护效率要高
3、保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂 性，如引入新的手性中心 4、保护后的化合物要能承受得起以后进行的反应和后处理 过程
5、保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地 被除去
6、去保护过程的副产物和产物能容易被分离
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3
一、酯类保护基
第一节 羟基的保护
酯类保护基的生成
酸酐/酰氯 溶剂：Py-CH2Cl2
HO
OH OH
PivCl (1eq) Py-CH2Cl2
0-25 0C
90 %
Cat： DMAP
OH HO
OO
Nicolaou， K. C.; Webber, S. E. Synthesis 1986, 717.
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4
酯类保护基的除去
一般情况下，酯类保护基在碱性条件下除去，但各种酰基 的水解能力不同：
t-BuCO < PhCO < MeCO < ClCH2CO…. 常用的碱：K2CO3， NH3， KCN，肼、胍、Et3N或 i-Pr2NEt
位阻较大的酯需要较强的碱性体系：KOH/MeOH
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Cleavage 1、KHCO3, H2O, MeOH, 20°C, 3 days 2、 Dil. NH3, pH 11.2, 20°C , 62% yield.
I. W. Hughes, F. Smith, and M. Webb, J. Chem. Soc., 3437 (1949).
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2、KCN, 95% EtOH, 20 0 C to reflux, 12 h, 93% yield.
常见的羟基的保护与脱保护方法
常见的羟基的保护与脱保护方法保护羟基:羟基在许多有机合成反应中往往需要保护，以防止它们在反应条件下发生不需要的副反应。
常见的羟基保护基包括醚、酯、酮、酚、酰胺、醛等。
以下是一些常用的羟基保护方法：1.醚保护：醚保护可以通过将羟基与醇反应得到，生成醚。
醚保护通常使用对应于醇的活化试剂进行，例如甲基化反应中使用碘甲烷或次氯酸盐。
醚保护可以在中性或碱性条件下进行，但不适合在酸性条件下进行。
2.酯保护：酯保护是通过将羟基与酸酐反应得到，生成酯。
常用的酸酐有酸氯和酸酐等。
酯保护通常在碱性条件下进行，并且在加热时通常反应速率更快。
3.酮保护：酮保护是通过将羟基与酮反应得到，生成酮。
酮保护也通常在碱性条件下进行，使用碱金属如钠作为催化剂。
4.酚保护：酚保护是通过将羟基与酸酐反应得到，生成酯。
酚保护与酯保护原理相同，但需要更强的碱性条件。
5.酰胺保护：酰胺保护是通过将羟基与酰胺反应得到，生成酮。
常用的酰胺有二甲基亚砜、二甲基甲酰胺等。
6.醛保护：醛保护是通过将羟基和醛反应得到，生成醇。
这种保护方法通常使用缩醛反应进行，输入多相催化剂。
脱保护羟基：羟基的脱保护常常需要特定的条件和试剂来进行，以下是一些常用的羟基脱保护方法：1.醚脱保护：醚脱保护通常使用酸性条件进行，例如使用浓硫酸或三氟化硼进行醚的酸性水解。
2.酯脱保护：酯脱保护可以通过酸催化的水解得到，常用的酸催化试剂包括浓硫酸，氢氯酸等。
3.酮脱保护：酮脱保护通常使用还原剂进行，最常用的是氢化钠或氢化钠铝合金。
4.酚脱保护：酚脱保护可以使用酸性条件下的水解反应，例如使用浓硫酸进行酚的酸性水解。
5.酰胺脱保护：酰胺脱保护可以通过酸或碱催化进行，例如使用浓碱水解。
6.醛脱保护：醛脱保护可以通过加热和蒸馏等方法进行，例如使用强酸、碱或硼氢化钠等试剂进行醛的脱保护。
总结：羟基的保护与脱保护方法在有机合成反应中扮演重要的角色，能够有效地保护或脱除羟基。
合理选择适当的保护基和脱保护试剂可以帮助实现合成目标化合物的高产率和高选择性。
含硅的羧基保护基-概述说明以及解释
含硅的羧基保护基-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述含硅的羧基保护基是一种在有机合成中广泛应用的化学保护基。
它具有诸多独特的性质和优势，使得它成为了合成化学领域中不可或缺的重要工具之一。
硅基保护基是一类常见的有机化学保护基，其主要作用是在化学反应中保护或稳定某些化学基团，以避免其发生不必要的反应或降解。
而羧基保护基则是一种特殊的化学基团，常用于保护含有羧基的化合物，以避免其发生不必要的反应，同时保持原有化合物的稳定性。
而含硅的羧基保护基则是将硅基保护基和羧基保护基结合在一起，形成的一类具有独特性质和优势的保护基。
含硅的羧基保护基具有很强的稳定性和选择性，能够在多种条件下有效保护目标化合物的活性基团。
它不仅可以对羧基进行选择性保护，还可以通过调节硅基的结构和官能团的选择，实现对其他官能团的保护。
这种保护基在有机合成中具有广泛的应用前景，广泛应用于天然产物的合成、药物研发、化学生物学和材料科学等领域。
本文主要介绍了含硅的羧基保护基的定义和特点，以及与传统的硅基保护基和羧基保护基的区别与优势。
通过对相关文献的综述和实例的分析，我们将展示含硅的羧基保护基在不同领域中的应用前景，并讨论其与传统保护基的比较，以期为有机合成和化学研究提供新的思路和方法。
（注：以上内容仅为示例，具体内容可根据实际需要进行修改和补充）文章结构部分的内容可以如下所示：1.2 文章结构本文主要分为三个部分：引言、正文和结论。
引言部分主要介绍了本文所要探讨的主题——含硅的羧基保护基，并概述了本文的目的。
通过引言，读者可以了解到本文的研究背景和意义。
正文部分包括两个小节：硅基保护基的定义和特点，羧基保护基的定义和特点。
在硅基保护基的定义和特点部分，将详细介绍硅基保护基的含义、结构和特点，以及其在有机合成中的应用情况。
在羧基保护基的定义和特点部分，将介绍羧基保护基的概念、结构和特点，并探讨其在有机合成中的应用。
结论部分包括两个小节：含硅的羧基保护基的应用前景，硅基保护基与羧基保护基的比较。
常见有机合成中的保护基与去保护方法
常见有机合成中的保护基与去保护方法【常见有机合成中的保护基与去保护方法】有机合成化学是一个极具挑战性和创造性的科学领域。
在有机合成中，保护基（也称作保护基团）是一种化学基团，通常用于保护某些反应中的特定官能团，以防止其发生不必要的化学反应。
而去保护方法则是指在有机合成反应中，将保护基去除的方法。
本文将介绍一些常见的保护基以及它们的去保护方法。
一、醇保护基1.脂肪醇保护基：脂肪醇是有机合成中常用的保护基。
常见的脂肪醇保护基有烷基、苄基、戊二烯基等。
去保护方法可以是加热反应物或者在酸性条件下加入还原剂。
2.酯保护基：酯保护基通常用于保护羟基。
去保护方法可通过加入酸性条件或加热反应物来去除。
二、羧酸保护基1.酯保护基：酯保护基用于保护羧酸官能团，常用的酯保护基有甲基、乙基、苄基等。
去保护方法可通过加入碱性条件或加热反应物来去除。
2.酰氯保护基：酰氯保护基也是常见的羧酸保护基。
去保护方法可以是加入水或碱来水解酰氯基团。
三、氮保护基1.苄基保护基：苄基保护基通常用于保护胺官能团。
去保护方法通常是加入酸性条件或氧化剂，使其发生脱保护反应。
2.甲基保护基：甲基保护基也是常见的氮保护基。
去保护方法可以是加入酸性条件或还原剂。
四、硫保护基1.烷基硫基保护基：烷基硫基保护基通常用于保护硫氧化物。
去保护方法可以通过加入酸性条件或氧化剂。
2.苄基硫基保护基：苄基硫基保护基也是常见的硫保护基。
去保护方法通常是加入酸性条件或还原剂。
五、氧保护基1.苄基保护基：苄基保护基常用于保护醛官能团。
去保护方法可以通过加入酸性条件或还原剂。
2.乙酸保护基：乙酸保护基也是常见的氧保护基。
去保护方法可以通过加入碱性条件或加热反应物。
在有机合成中，保护基和去保护方法的选择是非常关键的。
不同的有机合成反应需要使用不同的保护基，而去保护方法则取决于保护基的性质和条件。
在合成中选择合适的保护基和去保护方法，对反应物的稳定性、产率和纯度有着重要的影响。
有机合成中的保护基
醛
酮
f o rm ald eh yd e
-
ethanal
-
propanal
acetone
butanal
butanone
pentanal
pentanone
heptanal
heptanone
octanal
octanone
nonanal
nonanone
decanal
decanone
undecanal undecanone
醇 -2
methyl alcohol ethyl alcohol propy alcohol butyl alcohol pentyl alcohol hexyl alcohol heptyl alcohol octyl alcohol nonyl alcohol decyl alcohol undecyl alcohol dodecyl alcohol tridecyl alcohol tetradecyl alcohol pentadecyl alcohol hexadecyl alcohol heptadecyl alcohol octadecyl alcohol nonadecyl alcohol eicosyl alcohol
dodecanal dodecanone
tridecanal tridecanone
tetradecanal tetradecanone
pentadecanal pentadecanone
hexadecanal hexadecanone
heptadecanal heptadecanone
octadecanal octadecanoneBiblioteka Abbreviation 1
有机合成策略中的保护基的选择与应用
有机合成策略中的保护基的选择与应用在有机合成过程中，保护基（protecting group）起着至关重要的作用。
保护基是一种临时性的化学修饰，它主要用于保护分子中的特定官能团，并且在需要时进行选择性地去除。
保护基的选择和应用对于有机合成的高效进行至关重要。
本文将探讨有机合成策略中的保护基的选择与应用。
一、保护基的选择原则在有机合成中，选择适当的保护基对于反应的顺利进行至关重要。
保护基的选择原则如下：1. 保护羟基在有机合成中，羟基是最常见的官能团之一。
羟基保护通常采用醚或酯的形式，常见的保护基有甲基、苄基、丙烯基等。
选择适当的保护基应考虑到反应条件对保护基的稳定性，以及保护基的去除条件和效率。
2. 保护胺基保护胺基的常用方法包括丙酮酮肟、酰肼、伯胺、二烯胺等。
保护胺基的选择应考虑到反应条件对保护基的稳定性、去除条件和效率，以及对其他官能团的兼容性。
3. 保护羰基羰基是有机合成中常见的官能团之一，保护羰基的方法有很多，例如醛肟、醇肟、脲、噻唑酮等。
保护羰基的选择应考虑到反应条件、保护基的稳定性、去除条件和效率。
二、保护基的应用1. 羟基保护基的应用羟基保护基在有机合成中广泛应用，例如在糖化学、肽化学、天然产物合成中。
其中，糖苷化反应中，羟基保护基的选择和去除条件对于合成目标的选择性和产率至关重要。
2. 胺基保护基的应用胺基保护基的选择和应用对于肽段的合成、氨基酸的保护及其它生物活性分子的合成都具有重要意义。
在肽段合成中，保护阴离子胺基的选择和去除条件是合成步骤中至关重要的一环。
3. 羰基保护基的应用在羰基化合物的合成中，羰基保护基的选择和应用对于反应的选择性和产率起着至关重要的作用。
保护羰基通常应具备高的稳定性和可逆性，以确保反应的顺利进行。
总结：有机合成策略中保护基的选择与应用对于有机合成的成功至关重要。
正确选择保护基可以提高反应的选择性和产率。
保护基的选择应考虑到反应条件、保护基的稳定性、去除条件和效率等因素。
有机化学基础知识点有机合成中的保护基与活化基
有机化学基础知识点有机合成中的保护基与活化基有机化学基础知识点：有机合成中的保护基与活化基有机化学是研究有机化合物结构、性质和反应的科学，是化学的一个重要分支。
在有机合成中，保护基和活化基是两个基础知识点，它们在有机合成过程中具有重要的作用。
本文将分析和探讨有机化学中的保护基和活化基的概念、种类以及应用。
一、保护基的概念与种类保护基，又称为保护基团，是指在有机合成中，通过引入某个特定的官能团对反应物中的某一个或多个化学中心进行保护，以避免其发生不必要的反应或者受到其他官能团的干扰。
保护基在反应结束后可以方便地被去除。
下面列举了一些常见的保护基及其用途：1. 叔丁酰氧基（t-BuO）：用于保护醇类和酚类化合物的羟基；2. 三甲基硅基（TMS）：用于保护醇类和羧酸类化合物的羟基；3. 苯甲酰氧基（PhCOO）：用于保护醛类化合物的羰基；4. 二甲基亚砜（DMS）：用于保护醚类化合物的氧原子。
除了上述的几个例子，还有许多其他常见的保护基，它们根据不同的官能团和反应物的要求而选择。
二、保护基的应用保护基在有机合成中起到了至关重要的作用，它可以控制反应的选择性、增加合成的效率、防止不必要的副反应等。
下面将针对不同的官能团和反应类型，介绍保护基的具体应用。
1. 保护羟基羟基的保护可以通过引入酯化、醚化或硅烷化等保护基来实现。
这可以有效地避免羟基发生缩合、酸催化的酯化反应以及其他影响反应结果的副反应。
2. 保护羰基常见的保护羰基的方法包括醛类保护和酮类保护，其中醛类保护以醇类保护和酯类保护为主，而酮类保护则多采用醇类保护。
这些方法可以有效地保护羰基，避免其发生亲核取代或发生酰亲核加成反应。
3. 保护胺基胺基的保护主要是通过引入保护基，如保护胺基的烷基、苯基、二甲基亚砜等，以避免胺基发生反应或者接受其他官能团的攻击。
三、活化基的概念与种类活化基是指引入在有机合成中用来增加反应活性的特殊官能团。
它可以通过提供电子、受体位或阴离子等方式改变分子的电子结构，使得反应更容易进行。
有机合成中的保护基团
有机合成中的保护基团在有机化学合成中，保护基团是一种重要的工具，用于保护化合物中的特定官能团或功能基团，以防止其在反应条件下发生不必要的变化或分解。
通过使用适当的保护基团，有机化学家能够实现高选择性和高收率的合成反应，从而有效地构建复杂的有机分子。
本文将介绍一些常见的保护基团及其在合成过程中的应用。
一、醇的保护基团1. 苄基（Bn）- 苄基是最常用的醇保护基团之一，它通过醇和苄溴化物反应制备。
苄基在碱性条件下可以容易地被去除，因此是一个理想的保护基团。
它广泛应用于糖类、多羟基醇和其他含醇化合物的合成中。
2. 丙二酰基（Ac）- 丙二酰基是另一种常用的醇保护基团。
丙二酰基化反应通常在醇和丙酰氯或丙二酸酐的存在下进行。
这个保护基团可以在碱性和酸性条件下容易去除，适用于多数醇类化合物的保护。
二、羧酸的保护基团1. 甲酯基（MeO）- 甲酯基是最常用的羧酸保护基团，在碱性或酸性条件下都可以容易去除。
甲酯化反应通常在酸催化下进行，可以实现选择性地保护羧酸基。
2. 苄基（Bn）- 苄基也可以用作羧酸的保护基团，它通过羧酸和苄溴化物反应制备。
苄基保护基团在碱性条件下容易去除，适用于一些特殊的有机合成反应。
三、胺的保护基团1. 丙酰胺基（AcNH）- 丙酰胺基是最常用的胺保护基团之一。
它通过胺和丙酰氯反应制备，可以在酸性条件下容易去除。
丙酰胺基在多肽合成和其他涉及胺基反应的有机合成中广泛应用。
2. 苄基（Bn）- 苄基也可以用作胺的保护基团，它通常通过胺和苄溴化物反应制备。
苄基在碱性条件下可以容易去除，适用于一些特殊的有机合成反应。
四、醛和酮的保护基团1. 乙二醇基（EG）- 乙二醇基是最常用的醛和酮的保护基团，它通过醛或酮和乙二醇反应制备。
乙二醇基在酸性条件下可以容易去除，适用于多数醛酮化合物的保护。
2. 氧代硅基（Si OR）- 氧代硅基是另一种常用的醛和酮保护基团，通过醛或酮和硅醇反应制备。
氧代硅基在酸性条件下可以容易去除，并可以通过适当的硅硫化剂在碱性条件下去除。
有机化学基础知识点整理有机合成中的保护基与去保护反应
有机化学基础知识点整理有机合成中的保护基与去保护反应有机合成是有机化学领域中的关键研究方向之一，常常涉及到保护基的使用和去保护反应的操作。
保护基起到保护特定官能团的作用，从而在合成过程中防止其受到不必要的干扰。
而去保护反应则是为了去除保护基，使官能团重新暴露出来，以便进行后续的反应。
本文将对有机合成中常见的保护基与去保护反应进行整理与总结。
一、保护基的类型和应用1.1 醚保护基醚保护基常用于保护醇官能团。
常见的醚保护基有甲基、乙基、苄基等。
以甲基醚为例，常用的保护剂有甲基三氯硅烷（Me3SiCl，DMS）、甲基叔丁基醚（MTBE）等。
在需要保护醇官能团的反应中，首先将醇与保护剂反应生成相应的醚保护基，待需要时再进行去保护反应，将醚保护基去除，恢复醇官能团。
1.2 酯保护基酯保护基可用于保护羧酸官能团。
常用的保护剂有二甲基二氯硅烷（Me2Cl2Si，DMC）、二甲基二氧硅烷（Me2OSi，DMSO）等。
与醇保护基类似，酯保护基的引入与去除也需要经历两个步骤。
1.3 醚酯保护基醚酯保护基常用于保护酮或醛官能团。
例如，苯甲醚（Bn2O）常用于保护酮官能团，乙基醚（Et2O）常用于保护羰基官能团。
这些保护基在有机合成中起到保护敏感官能团的作用，可保证反应的可控性与高选择性。
二、去保护反应的常见方法2.1 氢化还原氢化还原是常用的去保护反应方法之一。
在适当的反应条件下，醚、酯或酮官能团可以被选择性地还原为醇或羰基。
常用的还原剂有氢气（H2）、钠（Na）、铝（Al）等。
2.2 氢氧化物去保护氢氧化物去保护是去除酯保护基的常用方法。
通常在强碱性条件下，用氢氧化钠（NaOH）、氢氧化钾（KOH）、氢氧化铜（CuOH）等与酯进行反应，从而生成相应的酸。
2.3 酸催化去保护酸催化去保护是去除醚保护基的有效方法。
在适当的酸催化条件下，醚保护基可以被去除而不破坏其他敏感官能团。
常用的酸催化剂有硫酸（H2SO4）、金属氯化物等。
有机合成中的重要保护基团和去保护方法
有机合成中的重要保护基团和去保护方法在有机合成中，保护基团扮演着至关重要的角色。
它们可以保护反应中的特定功能团，以防止其与其他试剂发生不必要的反应。
保护基团的引入和去除成为了有机合成中的两个关键步骤。
在本文中，我们将探讨一些有机合成中的重要保护基团，以及去除它们的方法。
1. 醇保护基团醇保护基团是有机合成中最常用的保护基团之一。
它可以通过与醇反应生成醚来引入。
常用的醇保护基团包括醇酯、醚和醇醚。
在选取保护基团时，需要考虑其稳定性和去保护的条件。
去除醇保护基团的方法有很多种。
常用的方法包括酸处理和还原。
酸处理通常使用强酸，如硫酸、盐酸或三氟甲磺酸。
还原方法则是使用还原试剂，如铝醇盐或氢化钠。
2. 酰基保护基团酰基保护基团是保护羧酸的常用基团。
它可以通过与酸反应生成酯来引入。
常用的酰基保护基团包括乙酰基、苄酰基和丙酰基。
选择合适的酰基保护基团需要考虑其稳定性和易于去除的条件。
去除酰基保护基团的方法主要有碱处理和酸处理。
碱处理通常使用碱性试剂，如碳酸氢钠或氢氧化钠。
酸处理则使用酸性试剂，如盐酸或三氟甲磺酸。
3. 氨基保护基团氨基保护基团常用于保护胺官能团。
常用的氨基保护基团包括铺地基（Boc）、苄基、三甲基硅基（TMS）和甲酰基。
选择保护基团需要考虑其稳定性和去除的条件。
去除氨基保护基团的方法有多种。
常用的方法包括酸处理和碱处理。
酸处理通常使用强酸，如三氟甲磺酸或盐酸。
碱处理通常使用氢氧化钠或氢氧化铯。
4. 硅基保护基团硅基保护基团常用于保护醇和酚官能团。
常用的硅基保护基团包括二甲基氧硅基（TBS）、二异丙基氧硅基（TIPS）和三甲基硅基（TMS）。
选择硅基保护基团需要考虑其稳定性和去除的条件。
去除硅基保护基团的方法主要是酸处理。
常用的酸处理试剂包括氢氟酸、三氟甲磺酸和硼氟酸。
总结起来，有机合成中的保护基团起着至关重要的作用。
正确选择保护基团可以有效地保护特定的功能团，而去除保护基团则是合成目标化合物的关键步骤。
保护基及其在有机合成中的应用
5.四氢吡喃醚(THP醚) THP醚作为保护基问题在于：反应结果在
四保护氢的呋为喃非环手的性C2醇-位，产产生物一为个外潜消手旋性混中合心物，；若若被 为手性醇，则为手性异构体混合产物，进而造 成分离和结构鉴定的困难。
改用对称性的4-甲氧基四氢吡喃醚或4-甲 氧基四氢噻喃醚等，由于不引入额外的手性中 心，避免了上述困难。
在tBuOK-DMSO或(Ph3P)3RhCl作用下Allyl 醚异构化的容易次序如下：
tBuOK-DMSO：CH3CH=C(CH3)—>CH2=CHCH2— >CH2=C(CH3)CH2— (Ph3P)3RhCl：CH2=CHCH2—> CH2=C(CH3)CH2—>CH3CH=C(CH3)—
5.四氢吡喃醚(THP醚)
4.烯丙基醚(Allyl醚)
在碳水化合物的合成中Allyl醚是很常见的。 它易于生成，制备方法类似于苄基醚，常用试 剂为烯丙基溴。 Allyl醚对中等强度的酸性条件 稳定，但不能与溴、催化氢化试剂等亲电试剂 共存。去除保护基的方法是利用烯烃的异构重 排反应在进行水解，常用tBuOK-DMSO,也用 (Ph3P)3RhCl和Pd(Ph3P)4。
2.苄基醚(Bn醚)
例1 采用BnBr/NaH和低温反应可选择性实现伯醇的苄
基化，仲醇不受影响。
2.苄基醚(Bn醚)
例2 首先用苄基醚保护羟基，之后可实施碳碳双键上
一系列反应，最后采用Pd-C催化氢解去保护基，恢复 羟基，产物中甲醚不裂解。
2.苄基醚(Bn醚)
例3 原料槲皮素是广泛存在的天然黄酮醇之一，在
3.1.1.2 硅烷基醚
4ห้องสมุดไป่ตู้叔丁基二甲基硅醚(TBDMS醚) 叔丁基二甲基硅醚是常用的较稳定的硅醚保护基，
有机合成中的保护基
保护基团（Protecting Groups）： 将不希望发生反应的部位保护起来成为衍生物形式，待达到 目的后再恢复到原来的官能团。
下列情况考虑应用保护基团：
保护一些基团后能控制反应的区域选择性 保护某些基团后能提高反应的立体选择性 保护某些基团后有利于多种产物的分离
选择保护基时要考虑： 1、保护基的供应来源，经济易得
2、 Cleavage Et3N, Pyr, 2 h, 83-96% yield
C. Gioeli and G. B. Chattopadhyaya, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 672 (1982). K. Takeda, K, Tsuboyama, M. Hoshino, M, Kishino, and H. Ogura, Synthesis, 557，(1987).
K. C. Nicolaou, T. J. Caulfield, H. Kataoka, and N. A. Stylianides, J. Am. Chem. Soc., 112,3693 (1990).
2、Sm, I2, MeOH, 24 h reflux, 95% yield. Troc, Ac, and Bz groups are also cleaved.
5、MeC(OMe)3, TsOH, 1.5 h, then H2O for 30 min 6、Ac2O, Sc(NTf2)3, CH3CN, 0 0C, 1 h, 99% yield. The method is also good for tertiary alcohols.
Cleavage
1 . K2CO3, MeOH, H2O, 20 0 C, 1 h, 100% yield。 When catalytic NaOMe is used as the base in methanol, the Method is referred to as the Zemplen de-O-acetylation. 2、KCN, 95% EtOH, 20 0 C to reflux, 12 h, 93% yield. 3、Guanidine, EtOH, CH2Cl2, rt, 85-100% yield. 4、BF3*Et2O, wet CH3CN, 96% yield
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三甲基硅氧醚（TMS-OR）
形成保护
TMS-Cl、TMS-OTf、HMDS[(Me3Si)2NH]
胺催化：吡啶、三乙胺、二异丙基乙基胺、咪唑、DBU
常用溶剂：THF、DCM、MeCN、DMF、Py 遇水不稳定，暂时性保护基
脱除保护
水、饱和NaHCO3溶液、 K2CO3的甲醇溶液 HOAc、酸性树脂 FeCl3 、BF3.Et 2O
取代甲基酯 乙酯、乙基酯 烯丙基酯 硅烷酯类 酰胺 。。。
87
六、氨基的保护
含孤对电子
易取代反应和氧化反应 氨基甲酸酯（肽、蛋白质的合成）
酰胺（生物碱、核苷酸的合成）
磺酰胺 N-烷基 亚胺
88
1.酰胺类保护法
常用酰化试剂：酰氯、酸酐 稳定性好，较强的酸、碱溶液和加热水解 稳定性顺序：PhCONHR>CH3CONHR>HCONHR; CH3CONHR>ClCH2CONHR>Cl2CHCONHR>Cl3CCONHR>F3CCONHR
有机合成中的常用保护基
硅烷类
常用的保护基团
TMS、TES、TBDMS、TBDPS，DIPS、DPS、TIPDS 保护羟基、羧基、氨基（不常用）
F-脱保护
缩醛类
保护羟基、羰基
酯类
保护羟基、羧基的常用方法
酰胺类
保护氨基
酸脱除保护
质子酸、Lewis酸
常用的脱保护基方法
碱脱除保护
酯类水解
氢化脱除保护
有取代基的环状缩醛水解速率小于没有取代基的相应的环状缩醛。
非环状缩醛比环状缩醛容易水解
66
0.003M HCl的二氧六环-水溶液中(7:3)，30oC下的相对水解速率：
67
2. O,O-二乙酰基缩醛
也称为1,1-二乙酸酯
Lewis酸催化乙酸酐与醛基反应形成保护 质子酸和Lewis酸催化其水解而脱除保护 在中性和碱性条件下稳定
11
叔丁基二苯基硅氧醚（TBDPS-OR）
13
脱除TBDMS的质子酸和碱都可以脱除TBDPS，但 反应时间较长。
14
2. 烷基醚保护法
甲醚、苄醚、三苯甲基醚、叔丁基醚 甲氧基甲醚(MOM)、苄氧基甲醚(BOM)
甲硫基甲醚(MTM)
四氢呋喃醚(THP)
15
甲基醚（MeOR）
甲基化试剂：MeI、Me2SO4、MeOTf、CH2N2 强碱：MeI/KOH、NaOH、NaH， Me2SO4/KOH、NaOH 对强碱、亲核试剂、有机金属试剂、氧化剂、氢化物还原剂、催化 清华等稳定 常用BCl3或BBr3/CH2Cl2，TMSI/CHCl3、CH2Cl2或MeCN脱除 也可以BF3/RSH， AlBr3或AlCl3/EtSH等试剂脱除
28
29
4. 酯类保护法
羧酸酯：乙酸酯(Ac)、二氯乙酸酯(CAc)、苯甲酸酯(Bz)、 叔丁基甲酸酯(Pv) 碳酸酯：叔丁氧基甲酸酯(Boc)、苄氧基甲酸酯(Cbz)、9芴甲氧基甲酸酯(Fmoc)
30
乙酸酯
31
氯乙酸酯
氯原子具有较高的电负性 在碱性条件下比乙酸酯易水解
乙酰基保护基团的水解活性：氯乙酰酯的水解速度是乙 酰酯的760倍；二氯乙酰酯的水解速度是乙酰酯的16000 倍；三氯乙酰酯的水解速度是乙酰酯的1000000倍。
DDQ
位阻越大，水解速度越慢；带吸电子基团，水解加快
8
三乙基硅氧醚（TES-OR）
形成保护
TES-Cl、TES-OTf
脱除保护
对Swern、Dess-Martin、DDQ氧化，格氏试剂稳定
2%HF-MeCN、H2O-HOAc-THF (3:5:11)、10%Pd-C
叔丁基二甲基硅氧醚（TBDMS-OR）
89
甲酰胺
盐酸、碱水解、Pd-C/H2等方法脱除保护
90
乙酰胺
乙酰氯、卤代乙酸酐、以酸酐、乙酸苯酯等
酸、碱均能脱除保护
91
2.氨基甲酸酯类保护法
由氨基与氯代甲酸酯、重氮甲酸酯或各类碳酸 酯反应制备 脱除方法：催化氢解（Cbz）、酸性水溶液 （Boc）、碱性消除（Fmoc、Teoc、Troc）、金 属参与（Alloc）
苄基保护基，Pd-C
氧化脱除保护
DDQ、CAN、I2
还原脱保护
保护基的组合使用原则
酸、碱和氢解脱除的保护基组合使用 硅烷保护基与其它保护基组合使用
一、羟基的保护
最常见，亲核性较高，易氧化 在较温和条件下，易发生多种官能团转化 研究最多，保护方法最多（150多种）
1. 硅烷醚类保护法
酸性条件下的稳定性：
TMS<TES<TBDMS<TIPS<TBDPS
1 64 20000 700000 5000000
碱性条件下的稳定性： TMS<TES<TBDMS=TBDPS<TIPS 1 10~100 20000 100000
反应活性：ROH>ArOH>COOH>NH>CONH>SH>CH 不同位置上相同保护基的稳定性: 1o < 2o <3o Si-O键能：112kcal/mol, Si-F键能：142kcal/mol
60
1,1,3,3-四异丙基二硅氧醚
61
四、羰基的保护
醛、酮、酸、酯和酰胺 具有良好的亲电性 反应活性：醛（脂肪醛>芳香醛）>支链酮和环己酮>环 戊酮>α,β不饱和酮或α,O,O-缩醛、S,S-缩醛、O,S-缩醛、O,N-缩醛
62
形成保护 质子酸或Lewis酸催化 醛比酮容易更形成缩醛
48
1. 缩醛保护法
• 在质子酸或Lewis酸的催化下，醛或酮的羰基与二醇形成环状缩醛
• 缩醛在质子酸或Lewis酸的催化下水解呈羰基化合物和二醇
• 对碱性条件、金属氢化物等稳定
49
丙酮化合物
丙酮、2,2-二甲氧基丙烷、2-甲氧基丙烯 硫酸、p-TsOH、CSA。。。 CuSO4、ZnCl2、AlCl3、FeCl3、SnCl4。。。 （催化+脱水）
酸性条件下，烷氧基硅烷醚先被水解。 碱性条件下，酚羟基硅烷醚先被水解。
41
42
3. 酚酯的保护法
43
碳酸酯
44
磺酸酯
45
4. 邻二酚的保护
二醚、二酯、环缩醛、环酯
46
47
三、二醇的保护
1,2-二醇、1,3-二醇、邻苯二酚 糖类、核苷、核酸、生物碱 缩醛保护法（最早为丙酮保护糖） 二齿硅烷类保护基
78
79
形成保护
1. 甲酯保护法
80
脱除保护
碱金属的氢氧化物或碳酸盐
81
2. 叔丁酯保护法
空间阻碍大，亲核试剂不宜进攻其羰基 碱性溶液中水解速率慢
叔丁基碳正离子稳定，酸性条件下易水解
82
形成保护
83
脱除保护
84
形成保护
3. 苄基酯保护法
85
脱除保护
86
用于羧基的其他保护基
68
形成保护
69
脱除保护
70
S,S-缩醛比O,O-缩醛更稳定，易形成 在酸性和碱性条件下都稳定 形成：质子酸、LA，硫醇、二硫醇 脱除：氧化法、重金属参与法 气味
3. S,S-缩醛
催化剂中毒
71
形成保护
72
脱除保护
73
应用
74
4. O,S-缩醛
稳定性介于O,O-缩醛和S,S-缩醛之间 酸性水溶液中，比O,O-缩醛稳定，但比S,S-缩醛活泼很多 对于Hg2+、Ag+促进的脱保护反应，比S,S-缩醛活泼很多
16
形成保护
17
脱除保护
18
苄基醚（BnOR）
19
20
对甲氧苄基醚（PMB-OR）
3,4-二甲氧苄基（DMB）与PMB类似
21
22
三苯甲基醚（Tr-OR）
三苯甲基（Tr）、对甲氧基三苯甲基（MMT）、二甲氧基三苯甲基（DMT） 保护糖、核苷、核酸等伯羟基
23
24
3. 烷氧基甲基醚保护法
50
51
52
53
芳香亚甲基缩醛
54
55
56
亚甲基缩醛
57
二苯基亚甲基缩醛
Pd/C-H2，Li-NH3
58
2. 硅烷类保护法
二叔丁基亚硅醚（DBS） 1,1,3,3-四异丙基二硅氧醚（TIPDS）
59
二叔丁基亚硅醚
保护1,2、1,3-二羟基
稳定性较丙酮化合物、苯基亚甲基缩醛差
在温和氧化剂（DDQ、Dess-Martin）、LA（BF3、TiCl4）、质子酸（CSA） 等条件下稳定
对强酸条件稳定
98
芳香磺酰胺
99
100
4.N-烷基胺类保护法
101
102
5.亚胺类保护法
芳香醛、芳香酮、脂肪酮与伯胺形成的亚胺是稳定的 脂肪醛与与伯胺形成的亚胺是不稳定的
103
104
其他基团的保护
硫醇、硫酚：与醇、酚类似 磷酸：磷酸酯
105
1. O,O-缩醛
环状缩醛比非环状缩醛更容易形成 非共轭羰基比共轭羰基容易形成缩醛 有空间位阻的羰基不易形成缩醛 对于芳香醛或酮，有吸电子取代基时易形成缩醛，有给电子取代基时不易形成 缩醛 同一个碳原子上有两个取代基的二醇更容易与羰基形成环状缩醛 对很多的还原试剂、氧化试剂、碱性条件等稳定。
63
64
催化剂：质子酸、弱酸、DEAD-PPh3（Mitsunobu反应）、DCC-DMAP （Steglich酯化法）、CAN、TMSCl、DMAP-Boc2O
酰氯、酸酐与醇反应
加入弱酸来中和形成的酸，DMAP、甲基咪唑、LA催化