有机化学期末总结
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“有机化学”复习总结
一、有机物的命名
复习各章节有机物的“系统命名法”相关内容,并通过例题和做练习来掌握各类有机物系统命名法。
(一)系统命名的一般规律:
1、确定母体:按“官能团优先次序”判断分子母体官能团。
2、选主链:选择含有母体官能团的最长碳链为主链,如果有碳碳不饱和键要包含不饱和键。
3、编号:从主链靠近母体官能团的一端开始编号,以便使母体官能团编号尽可能小。如果有选择,也要使其它取代基的编号尽可能小。
4、命名:有机物名称基本组成结构“构型标记 - 取代基编号 - 取代基数量和名称(若有不同取代基,则按‘顺序规则’从小到大排列,重复前述内容) - 母体官能团编号 - 母体官能团名称”。各编号间用逗号隔开;构型标记、数字编号和汉字之间用短横“—”隔开。 例:
CH 2=CH
C =C
CH 3
CH 2CH 2CH 3CH 2CH 3
(Z)-3-甲基-4-乙基-1,3-庚二烯
5、以上是有机物命名时的基本方法,由于各类有机物结构特点不同,具体命名时有些差异,特别是一些脂环族、芳香族、羧酸衍生物、糖类和杂环化合物等,需要按照各自章节介绍的系统命名法规则来命名。
(二)官能团优先次序和常见烷基的名称
官能团优先次序(确定母体):
-COOH >-SO 3H >-(CO)2O >-COOR >-COX >-CONH 2 >-CN >-CHO >-COR >-OH >-NH 2> >
>-OR >-Ar >-R >-X >-NO 2>-NO -C CH -CH CH 2
CH 4
CH 3CH 2CH 3
CH 3CH 2CH 2CH 3
CH 3CHCH 3
CH 3
CH 3
CH 2CH 2CH 3
CHCH 3CH 3
CH 2CH 2CH 2CH 3CHCH 2CH 3CH 3
烷烃
烷基甲烷
丙烷
正丁烷异丁烷CH 2CHCH 3
C CH 3CH 3
CH 3
CH 3
甲基正丙基异丙基
正丁基
仲丁基
异丁基叔丁基C CH 3
CH 3
戊烷CH 2C CH 3
CH 3
CH 3
CH 3新戊基
CH 3
常见烷基
(三)各类有机物的命名
CH 3-C -CH 2CH 2CH 2CH 3CH 2CH 3
CH 3CH 3
C C H CH 3
CH 2CH 3
CH 3
CH 3CH C CH
CH 3
C =C
C =C H CH 3
H
H H CH 2CH 3
CH 3
CH 3
COOH
NH 2
Cl
OH
CH 3MgBr CH 3C CAg
CH 2
OH
CH 3
COOH
O
O
H
OH CHO CH 2OH
COOH HO H H
Cl
CH 3CHCH 2Br
CH 3
CH 2
CH 3CHCH 2CHCH CH 3
CH 2
OH
OH
CH 3-O -CH 2CH 3 CH 3CCH 2CH 2CHO
O
CH 3
O
CH 3C=CHCOOH
CH 3
COOH
COOH
OCOCH 3
CH 2=CHC -Br
O
C C O O
O O CH 2CH 2C
C
O
O
CH 2CONH 2
NHCOCH 3
NHCOCH 3
OH
COOCH 3
O O
COOH
OH
CH 3CCH 2C -OH O O CH 3CCH 2C -OCH 2CH 3
O O
CH 2OH O
H H
H HO
HO
OH
OH
CH 2OH O
H H
H
HO HO
OH
3
H
(CH 3)2NCH 2CH 3 (CH 3)3NCH 2CH 3OH
N N H
N
N
N
二、有机化学中的一些重要概念和机理
官能团、衍生物、同系列、同系物、正、异、新、伯、仲、叔、季、顺序规则、官能团优先次序、SP 3杂化、SP 2杂化、SP 杂化、单键、双键、叁键。
烯丙基、苄基、亲电试剂、亲核试剂、自由基、芳香性、羰基、醛基、酮基、半缩醛、缩醛、羧基、羧酸衍生物、取代羧酸、酸酐、酰卤、酯、酰胺、单糖、低聚糖、多糖、醛糖、酮糖、还原性糖、非还原性糖、碱性弱氧化剂、变旋现象、差向异构化、苷、糖脎、季铵盐、季铵碱、芳香重氮盐、
自由基反应、离子型反应、亲电取代、亲电加成、亲核取代、亲核加成、自由基取代、自由基加成、消除反应、氢化热、马氏规则、过氧化物效应、札依采夫规则、卢卡斯实验、重排、碘仿反应、羟醛缩合、歧化反应、傅-克反应、
诱导效应、电负性、吸电子基、斥电子基、共轭效应、π键、大π键、p-π共轭、π-π共轭、定位效应、邻对位定位基、间位定位基、共振论、共振能、共振杂化体、共振极限式、自由基稳定性、正碳离子稳定性、卤素活泼性、酚和羧酸的酸性强弱、胺的碱性强弱。
构型、构象、互变异构、对称面、对称中心、手性、手性碳原子、对映异构、顺反异构、对映异构体、顺反异构体、非对映体、差向异构体、船式、椅式、优势构象、Z/E 构型表示法、D/L 构型表示法、R/S 构型表示法、外消旋体、内消旋体、费歇尔投影式、纽曼投影式。
三、常见有机反应
R —H
+
X 2
R —X
+
HX hv
CH 3+ Br 2
CH 2Br
光
C =C
+
X 2
-C -C -X
CH 3CH =CH 2
+
HX
CH 3CHCH 3
X
CF 3-CH =CH 2
+
HBr
AlBr 3
CF 3-CH 2CH 2Br
CH 3CH 2CH=CH 2
CH 3CH 2CH 2CH 2Br HBr