彩色滤光片RGB漏光不良工艺改善探究
TFT-LCD Stage Mura的研究与改善
第３２卷㊀第４期２０１７年４月㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀C h i n e s e J o u r n a l o fL i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a ys ㊀㊀㊀㊀㊀V o l ．３２㊀N o ．４㊀A pr ．２０１７㊀㊀收稿日期:２０１６Ｇ０８Ｇ２３;修订日期:２０１６Ｇ１０Ｇ１８．㊀㊀∗通信联系人,E Ｇm a i l :ya n r u nb a o ＠b o e ．c o m．c n 文章编号:１００７Ｇ２７８０(２０１７)０４Ｇ０２６９Ｇ０６T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善肖㊀洋,周㊀鹏,闫润宝∗,郑云友,齐勤瑞,魏崇喜,章㊀旭,张㊀然(北京京东方显示技术有限公司,北京１００１７６)摘要:T F T ＧL C D 面板在屏幕上有斑点或波浪状M u r a ,影响液晶显示器的品质,经过图形匹配,缺陷与曝光机机台形貌匹配.通过对异常区域特性分析,发现异常区域的B M C D ㊁B M 像素间距存在异常.对原因进行模型分析:玻璃在曝光机基台上局部区域发生弯曲,曝光距离变短,致使B M P R 受光区域变小,B M C D 会偏小,进而导致区域性透过光不均一产生M u r a ;玻璃弯曲后B M 像素间距相对于设计位置也会发生变化,从而导致漏光产生M u r a .经过实验验证,B M C D 和像素间距的偏差主要由机台凸起导致g l a s s 弯曲引起,可以通过降低吸附压力和研磨机台,来改善C D 差异和像素间距偏移,同时像素间距偏移漏光,也可以通过增加C D 来改善.最终通过B M C D 增加㊁研磨机台和降低吸附压力措施,S t a geM u r a 不良率由１０．０５％下降至０．１１％.关㊀键㊀词:薄膜晶体管液晶显示器;色斑;线宽;像素间距中图分类号:T N １４１．９㊀㊀文献标识码:A㊀㊀d o i :１０．３７８８/Y J Y X S ２０１７３２０４．０２６９R e s e a r c ha n d i m p r o v e m e n t o fT F T ＧL C DS t a g eM u r a X I A O Y a n g ,Z HO U P e n g ,Y A N R u n Ｇb a o ∗,Z H E N G Y u n Ｇy o u ,Q IQ i n Ｇr u i ,W E IC h o n gＧx i ,Z H A N G R a n ,Z H A N G X u (B e i j i n g B O E D i s p l a y T e c h n o l o g y C o ．,L t d ．,B e i j i n g １００１７６,C h i n a )A b s t r a c t :T h es p o t t e da n ds t r i p e d M u r ao n T F T ＧL C D P a n e ld e g r a d e d p r o d u c t q u a l i t y．T h ed e f e c t p a t t e r nm a t c h e d t h e e x p o s u r es t a g eb y a n a l y z i n g．I tw a s f o u n dt h a t t h eB M C Da n dP i x e lP i t c ha r e a b n o r m a l t h r o u g hr e s e a r c h i n g t h ea b n o r m a la r e ac h a r a c t e r i s t i c p a r a m e t e r ．M o d e la n a l ys i sb a s e do n S t a g eM u r a i n d i c a t e d t h a t t h eb e n d i n g o f g l a s s o ns t a g e s h o r t e d t h eE x p o s u r e g a p ,w h i c hs h r a n k t h e E x p o s u r e a r e a ,a n dm i n i f i e dC Da n d f o r m e d t r a n s m i t t a n c e d i f f e r e n c e ．T h e b e n d i n g o f gl a s s a l s o s h i f t e d t h eP i x e l P i t c h ,w h i c h r e s u l t e d i n l i g h t l e a ka n d M u r a ．T h e e x p e r i m e n t s h o w e d t h a t t h ed i f f e r e n c eo f B M C Da n dP i x e l P i t c hw e r e c a u s e d b y S t a g e f l a t n e s s ,w h i c h c o u l d b e i m p r o v e d b y p o l i s h i n g s t a ge a n d d e c r e a s i n g v a c u u m a d s o r p t i o n p r e s s u r e ．T h el i g h tl e a k o fP i x e lP i t c hc o u l d b ea l s oi m p r o v e d b ye x t e n d i n g C D．F i n a l l y ,t h e C F B M s t a g e M u r a w a si m p r o v e d g r e a t l y b y C D i n c r e a s i n g ,s t a g e p o l i s h i n g ,a n d v a c u u ma d s o r p t i o n p r e s s u r e d e c r e a s i n g ,a n d t h e S t a geM u r a d e f e c t r a t i o d e c r e a s e d f r o m １０ ５％t o ０．１１％．K e y wo r d s :T F T ＧL C D ;M u r a ;C D ;p i x e l p i t c h . All Rights Reserved.１㊀引㊀㊀言㊀㊀薄膜晶体管液晶显示器(T F TＧL C D)能够产生色彩的变化,主要是来自彩色滤光片(C o l o r F i l t e r,即C F).液晶面板是通过驱动集成电路(I C)的电压改变,使液晶分子排列呈站立或扭转状,形成闸门来选择背光源光线穿透与否,并通过彩色滤光片的红(R)㊁绿(G)㊁蓝(B)三种彩色层提供色相,形成彩色画面.随着T F TＧL C D高世代量产线投产以及更大尺寸L C D面板的研制,与之配套的大尺寸㊁高分辨率彩色滤光片的品质显得越发重要,M u r a是评价彩色滤光片宏观视觉品质的关键参数,因此对生产工艺中产生的M u r a 也管控越来越严格.(M u r a一词源自日语,是液晶面板生产过程中出现的各种色斑类不良现象总称[１Ｇ２])目前国内主要研究了C e l l和A r r a y工艺的T o u c h M u r a㊁Z a r aM u r a和R u b b i n g M u r a,很少有人进行C F M u r a的研究与改善,尤其是黑矩阵(B l a c k m a t r i x,简称B M)S t a g e M u r a的形成机理研究与改善[３Ｇ５].本文通过对２１．５T N(T w i s t e d N e m a t i c)产品模组段未确认M u r a,进行与设备图形匹配,找出造成该缺陷的设备,同时进行M u r a区域B M特性数据测量,分析B M C D(C r i t i c a lD i m e n s i o n),像素间距(即B M P a t t e r n相对于设计位置的偏移量)是否存在异常,B M P a t t e r n与玻璃平面的夹角(T a p e 角)和膜层厚度是否异常,对M u r a形成机理进行模型分析,并试验验证,最后提出合理的改善方法,使S t a g eM u r a得到了很大的改善.２㊀现象和试验思路２．１㊀不良现象B M S t a g eM u r a在下游工艺模组段能够被检出,现象为白色发亮的圆斑和波浪线,如图１左侧所示,该不良位置㊁大小等均与B M曝光机特有机台结构相吻合,如图１右侧所示.可以断定这种缺陷形貌是由B M E X PS t a g e产生,在M a c r o(宏观检查机)观察B M工艺产品,在特定光源角度下可以被检出,缺陷形态与图１左侧一致.统计B M S t a g e M u r a从高发期至改善结束(a)㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀(b)(c)㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀(d)图１㊀B M S t a g e M u r a与曝光机基台结构．(a)圆斑M u r a,(b)圆斑曝光机基台结构,(c)波浪线M u r a,(d)波浪线曝光机基台结构F i g．１㊀B M S t a g eM u r a a n d e x p o s u r e s t a g e s t r u c t u r e．(a)S p o t t e d M u r a;(b)S p o t t e de x p o s u r es t a g es t r u c t u r e;(c)S t r i p e d M u r a;(d)S t r i p e de x p oＧs u r e s t a g e s t r u c t u r e模组段不良发生率,如图２所示.模组段不良最高时发生率达１０．０５％,对品质影响巨大,经过后续一系列测试改善,不良发生率最终降至０．１１％.图２㊀B M S t a g eM u r a模组段不良发生率F i g．２㊀B M S t a g eM u r am o d u l e d e f e c t r a t i o ２．２㊀试验思路由于B M S t a g eM u r a发生原因明确,因此对B M相关特性参数进行详细测量,通过数据分析不良机理及改善方向.随机抽取一块模组段不良屏,分别测量C D㊁像素间距㊁膜层厚度及T B M p a t t e r n与玻璃平面夹角,测量结果如图３所示.０７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.(a)(b)(c)(d)图３㊀B M S t a geM u r a 不良屏特性相关参数．(a )不良屏B M C D 数据;(b )不良屏B M P i x e lP i t c hd a t a ;(c )不良屏B M 膜厚数据;(d )不良屏B M T a pe 角数据F i g ．３㊀B M S t a geM u r a c h a r a c t e r i s t i c p a r a m e t e r ．(a )B M C Dd a t a o f a b n o r m a l p a n e l ;(b )B M P i x e l P i t c h d a t a o f a b n o r m a l p a n e l ;(c )B M T h i c k n e s sd a t a o fa b n o r m a l p a n e l ;(d )B M T a p e a n gl e o f a b n o r m a l p a n e l ㊀㊀从上述数据可以看出:M u r a 区C D 较O K 区偏小０．５μm ,像素间距发生偏移成对称性偏移,像素间距数值为１．５２(S p e c ＜１),B M T a p e 角和膜厚数据则无变化.由此推断出B MS t a g eM u r a 与上述两种发生变化特性参数有关.基于B M 工艺特点及曝光机结构特点,对S t a g eM u r a 发生机理构建下述模型:①玻璃在曝光机基台上局部区域发生玻璃弯曲,E x p o s u r eG a p 变小,致使B M P R 受光区域变小,由于C F 使用负性光刻胶,故显影后B M C D 会偏小;②玻璃弯曲后B MP a t t e r n 相对于设计位置也会发生变化,故像素间距会呈现对称性偏移.简单机理描绘图如图４所示.图４㊀S t a geM u r a 发生机理模型构建F i g ．４㊀S t a geM u r a g e n e r a t i o nm e c h a n i s m m o d e l 通过构建机理模型分析,初步认为B MS t a geM u r a 发生根本原因为玻璃弯曲导致B M P a t t e r n 发生偏移导致漏光,同时B M C D 偏小导致局部区域透光过大.从生产工艺及设备实际情况出发,以曝光工艺变更及设备变更为改善方向.３㊀实验和分析３．１㊀工艺相关３．１．１㊀B M C D 改善测试工艺方面,通过增加B M C D ,达到减弱B M 漏光的目的.由于B M C D 增加后,会导致产品透过率下降,因此为了弥补产品透过率,将R G B 像素膜厚相应减薄,以补偿由于B M C D 增加而降低的透过率,实现平衡.针对２１．５T N 产品,B M C D 由２８．２μm 增加到２９μm (产品透过率下降０．９５％),为了弥补透过率的下降,R G B 像素膜厚,相应由２ ２５μm 下降到２．２１μm (产品透过率提高０ ９５％),实现平衡(见表１),并且相关信赖性评价１７２第４期㊀㊀㊀㊀㊀㊀肖㊀洋,等:T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善. All Rights Reserved.无异常(见表２).通过上述工艺优化调整,达到减弱B M 漏光(见图４),最终实现B M S t a g eM u r a 不良发生率(MM T R e s u l t _Q 级)由６．４３％降低为２ ２１％(下降３．６２％),改善效果明显.表１㊀２１．５T NB M C D 透过率模拟结果T a b ．１㊀t r a n s m i s s i o n s i m u l a t i o n r e s u l t o f ２１．５T NB M C DB MCD (μm )透过率/％T r ．/％R GB１５０n m １３５n m R a t i o/％２８．２５２．３０４８．７０５．４０５．２７Ｇ２８．５５２．１０４８５．３７５．２４０．５７２８．７５５２．００４７．８０５．３６５．２３０．７６２９５１．９０４７．５０Ｇ５．２２０．９５２９．２５５１．８０４７．２０５．３４５．２１１．１４２９．５５１．５０４６．９０５．３１５．１８１．７１２９．７５５１．２０４６．６０５．２８５．１５２．２８表２㊀２１．５T N R G B 膜厚透过率模拟结果T a b ．２㊀T r a n s m i s s i o n s i m u l a t i o n r e s u l t o f ２１．５T N R G BT h i c k n e s sR G BT h i c k (μm )色域/％T r ．/％１５０n m１３５n m R a t i o (ʏ)/％２．２５７３．７０７２．３＠５．４５．２７Ｇ２．２４７３．５０７２．１＠５．４１５．２８０．１９２．２３７３．３０７１．９＠５．４２５．２９０．３８２．２２７３．１０７１．７＠５．４３５．３００．５７２．２１７２．９０７１．５＠５．４５５．３２０．９５２．２７２．７０Ｇ５．３３１．１４２．１９７２．５０７１．１＠５．４７５．３４１．３３２．１８７２．２０７０．９＠５．４８５．３５１．５２表３㊀２１．５T NB M C D２９．２μm ＋R G BT h i c k２．２１μm 信赖性评价结果T a b ．３㊀R e l i a b i l i t y a s s e s s r e s u l t o f ２１．５T NB M C D２９．２μm ＋R G BT h i c k２．２１μm T e s t I t e mS p e c A v g．２１．５O R TC W １４R e s u l t A v g．C h r o m a t i c i t yW x０．３１３０．３２１０．３０５W y０．３２９０．３３８０．３２０C o l o rG a m u tＧ７４．３７３．０色温６５００６０３０７０４５O KM a xB r i g h t (W ２５５)C e n t e r ２００２１７２６５O K M i nB r i gh t (０００)C e n t e r Ｇ０．２２３０．２９８O K２７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.续㊀表T e s t I t e mS pe c A v g ．２１．５O R TC W １４R e s u l t A v g．U n i f o r m i t y(W ２５５)９P o i n t s ８０８２８６O KG r a y S c a l e L ２５５１００．００１００．００１００．００L １２７２１．５８２４．１１２１．３６L ００．０００．１００．１１g a mm a ２．２１．９５２．１６O KC o n t r a s t r a t i o C e n t e r ６００９７４８８９O K C r o s s ＧT a l kH X (％)Ｇ０．４０％０．３７％V X (％)Ｇ０．２７％０．１９％O KR e s po n s eT i m e T r ．１．５４．２４３．９５T f ３．５１．０２１．３９T r ＋T f ５５．２６５．３４O KG r e e n i s h １D o tＧ０．００４０．００３１＋２D o t Ｇ０．００３０．００２２D o t Ｇ０．００５０．００５O K T R５．００％５．０６％４．９７％O K３．２㊀设备相关图５㊀曝光基台C h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e 结构F i g ．５㊀E x p o s u r eC h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e s t r u c t u r e ３．２．１㊀曝光机基台吸附压力改善测试设备方面,在曝光过程中需要通过真空吸附将玻璃吸附在基台表面,因此在吸附过程中,会导致与基台C h u c kF l a t n e s sA d j u s tH o l e 结构接触区域的玻璃发生凸起,每个基台上有１４处C h u c k F l a t n e s s A d ju s t H o l e 结构(见图５),导致E x p o s u r eG a p 变小,光路衍射角较小,曝光后形成的C D 较小.同时,玻璃凸起曝光形成的B M C DP a t t e r n 发生偏移.B M C D 较小导致该区域透过光相对正常区域多,同时C DP a t t e r n 发生偏移,导致此处漏光.最终产生B M S t a ge M u r a .为了减弱基台吸附玻璃过程中,导致的特定区域处玻璃弯曲凸起,因此在保证玻璃可以被正常吸附的前提下,将基台吸附压力由－３０k P a 下降到－２０k P a.通过上述吸附压力优化调整,实现B M S t a g e M u r a 不良发生率(MMT R e s u l t _Q 级)由２．２１％降低为１．２４％(ˌ０．９７％),改善效果明显.图６㊀改善后B M C D 数据F i g ．６㊀I m pr o v e dB M C DD a t a ３．２．２㊀曝光机基台研磨测试设备方面,为了彻底改善曝光过程中由于基台真空吸附导致的玻璃弯曲凸起导致的B M 漏光(见图６),因此采取对基台C h u c k F l a t n e s sA d j u s tH o l e 结构(见图５)进行研磨作业,已达到降低玻璃弯曲凸起的目的,改善B MS t a geM u r a .３７２第４期㊀㊀㊀㊀㊀㊀肖㊀洋,等:T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善. All Rights Reserved.C h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e 结构凸起高度为０．２mm~０．３mm ,使用油石进行研磨,研磨去掉０．０２mm .研磨后测量特性数据,B M C D M u r a 区域比正常区域小０．３μm ,相比改善前的０．５μm 有所改善,同时测量像素问题数值为０．５３,相比改善前的１．５２改善很多(见图７).通过上述基台研磨调整,实现B M S t a ge M u r a 不良发生率(MMT R e s u l t _Q 级)由１．２４％降低为０ １１％(ˌ１ １３％),图７㊀改善后B M 像素间距数据F i g ．７㊀I m pr o v e dB M P i x e l P i t c hD a t a 不良彻底改善.４㊀结㊀㊀论本文通过对S t a geM u r a 相关特性数据(B M C D ㊁像素间距㊁膜厚㊁T a pe 角)测量分析,发现S t a g eM u r a 产生原因如下:①玻璃在曝光机基台上局部区域发生弯曲,E x p o ．G a p 变小,致使B M P R 受光区域变小,由于C F 使用负性光刻胶,故显影后B M C D 会偏小,容易发生漏光;②同时玻璃弯曲后B M P a t t e r n 相对于设计位置也会发生偏移,故像素间距会呈现对称性偏移,也会导致漏光.通过实验验证,B M C D 偏小和像素间距的偏差可以通过增加B M C D ,曝光机基台吸附压力降低和研磨机台,来进行改善.最终通过上述有效措施,S t a ge M u r a 不良得到彻底改善,模组段不良生率达由１０．０５％下降至０．１１％.参考文献:[１]㊀毕昕,丁汉．T F T ＧL C D M u r a 缺陷机器视觉检测方法[J ]．机械工程学报,２０１０．４６(１２):１３Ｇ１９．B IX ,D I N G H．M a c h i n e v i s i o n i n s p e c t i o nm e t h o d o fM u r a d e f e c t f o rT F T ＧLCD [J ]．J o u r n a l o f M e c h a n i c a lE n gi Ｇn e e r ,２０１０,４６(１２):１３Ｇ１９．(i nC h i n e s e)[２]㊀黄锡珉．液晶显示技术发展轨迹[J ]．液晶与显示,２００３,１８(１):１Ｇ６．HU A N G X M．R o a d Ｇm a p o fL C Dt e c h n o l o g y [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o f L i q u i dC r y s t a l sa n d D i s p l a ys ,２００３,１８(１):１Ｇ６．(i nC h i n e s e)[３]㊀周雷,徐苗,吴为敬,等．大尺寸金属氧化物T F T 面板设计分析[J ]．发光学报,２０１５,３６(５):５７７Ｇ５８２．Z HO U L ,X U M ,WU WJ ,e t a l ．D e s i g na n a l y s i so f l a r g es i z em e t a l o x i d eT F T p a n e l [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o fL u m i n e s c e n c e ,２０１５,３６(５):５７７Ｇ５８２．(i nC h i n e s e )[４]㊀桑胜光,车晓盼,王嘉黎,等．高P P IA D S 产品白M u r a 不良产生原理及改善研究[J ]．液晶与显示,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．S HA N GSG ,C H EXP ,WA N GJL ,e t a l ．P r i n c i p l ea n d i m p r o v i n g r e s e a r c ho fw h i t e M u r ad e f e c t i nh i g hP P I A D S p r o d u c t [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o f L i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a ys ,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．(i nC h i n e s e )[５]㊀车春城．广视角F F S 技术C E L L 研究与设计[D ]．成都:电子科技大学,２００７．C H ECC ．T h e r e s e a r c h a n d d e s i g n o f t h e t e c h n i q u e o f F F SC E L Lw i t hw i d e a n g l e o f v i e w [D ]．C h e n gd u :U n i ve r s i Ｇt y o fE l e c t r o n i cS c i e n c e a n dT e c h n o l o g y ofC h i n a ,２００７．(i nC h i n e s e )作者简介:肖洋(１９８７－),男,天津人,本科,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l:x i a o y a n g＠b o e ．c o m．c n 周鹏(１９８７－),男,湖北人,本科,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l :z h o u p e n g ＠b o e ．c o m．c n 闫润宝(１９８３－),男,吉林人,硕士,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l :ya n Ｇr u nb a o ＠b o e ．c o m．c n４７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.。
浅谈彩色滤光片生产制程不良解析及设备应用
浅谈彩色滤光片生产制程不良解析及设备应用作者：颜媛来源：《科技资讯》2018年第23期摘要：中电熊猫液晶材料科技有限公司自2012年建厂以来，在产线设备装机、调试的同时，也兼顾着实验室的相关设备安装，主要设备有FT-IR（红外光谱仪）、SEM/EDS（扫描电子显微镜/能谱仪）、3D显微镜、小型色度机、接触式膜厚计。
自2013年年底开始陆续投入使用，现已能够充分配合产线，对不良缺陷的形态、成分进行定量定性分析，也可对成品进行信赖性测试。
关键词：不良品红红外光谱仪客诉NR 扫描电子显微镜中图分类号：TN141 文献标识码：A 文章编号：1672-3791（2018）08（b）-0110-02随着TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）的流行，TFT-LCD正逐渐成为主流显示设备。
在TFT-LCD显示设备当中，TFT-LCD面板是其主要部件。
作为TFT-LCD面板的重要组件之一，彩色滤光片（Color Filter，简称CF）的质量对整个TFT-LCD产品影响巨大。
而在彩色滤光片制造中会出现一些常见的和突发的缺陷问题，它们直接影响着本身的合格率，也影响着TFT-LCD面板客户的合格率和满意度。
为此，我们必须着力对这些缺陷进行分析并找到快速、有效的解决方案，因此制程不良的解析及解析设备的有效应用变得至关重要。
实验室是确保产线高品质、高质量生产的后备力量，是分析产线不良的重要环节。
对CF产品进行表面、切面观察分析，品质确认，信赖性测试等。
1 实验室不良品解析种类汇总实验室分析事项，主要需分析事项为客诉不良品解析、产线其他测试、异物取样成分分析。
（1）客诉不良：异常集中于异物类，显影不良、色度异常、共通等。
较严重的是38.5 UV2A NR不良，周不良率最高达到1.3%。
现每周客户端会对NR不良进行挑样解析，在显微镜下区分不良发生侧（TFT/CF/Cell），做好分类，CF责不良品将由我们取回解析，履历调查，成因分析。
液晶显示屏挤压漏光的分析及改善
第37卷第4期2022年4月Vol.37No.4Apr.2022液晶与显示Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays液晶显示屏挤压漏光的分析及改善李愿愿1，2，程再军1*，颜华生2，张旭1，2，王建明1（1.厦门理工学院光电与通信工程学院，福建厦门361000；2.天马微电子股份有限公司消费品质量部，福建厦门361000）摘要：为提高液晶面板挤压漏光最大临界力值和抗挤压能力，通过对液晶面板挤压漏光机理进行分析，结合企业实际生产，采用实验设计（DOE）筛选主要因子。
DOE结果表明，挤压漏光的主要因子有柱状隔垫物（Photo spacer，PS）尺寸、黑色矩阵（Black Matrix，BM）宽度、PS站位以及平坦化层（PLN）厚度。
在实际生产过程中对挤压漏光进行改善设计实验，结果表明：增加PS的尺寸能有效提升面板抗击压能力的32.69%，且尺寸增大后，其弹性回复率增加了4.4%，能有效降低挤压漏光的发生；增加3μm BM宽度设计的面板挤压漏光平均临界值提升了30.61%；改变PS站位整体居中设计较PS偏右上设计的面板的挤压漏光平均临界力值提升了33.33%；PLN厚度减小0.6μm能有效提升27.08%的面板挤压漏光临界力值。
关键词：液晶面板；挤压漏光；隔垫物；实验设计中图分类号：TN141.9文献标识码：A doi：10.37188/CJLCD.2022-0003Analysis and improvement of LCD light leakage caused by pressing LI Yuan-yuan1，2，CHENG Zai-jun1*，YAN Hua-sheng2，ZHANG Xu1，2，WANG Jian-ming1（1.Institute of Optoelectronics and Communication Engineering，Xiamen University of Technology，Xiamen361000，China；2.Consumer Quality Department of Tianma Microelectronics Co.，Ltd.，Xiamen361000，China）Abstract：In order to improve the maximum critical force value and anti-pressed capacity of the liquid crys‐tal panel，by the mechanism analysis of LCD’s light leakage due to the pressing，and combining with the actual production，the main factors are screened using the method of design of experiments（DOE）.The DOE results show that the main factors of pressed leakage are the size of the photo spacer（PS），width of black matrix（BM），PS locations，and planarization-layer（PLN）thickness.Improved design experi‐ments are carried out in the actual production process and the results show that the panel anti-pressing ca‐pacity can be effectively enhanced by32.69%by increasing the size of the PS，and its elastic recovery rate can be increased by4.4%，which can effectively reduce the occurrence of light leakage.Also，by increas‐文章编号：1007-2780（2022）04-0475-08收稿日期：2022-01-04；修订日期：2022-02-02.基金项目：福建省自然科学基金（No.2021J011215）；厦门市青年创新项目（No.3502Z20206077）；厦门理工学院科研攀登计划（No.XPDKT20011）Supported by National Natural Science Foundation of Fujian Province（No.2021J011215）；Youth Innova‐tion Project of Xiamen City（No.3502Z20206077）；Research Climbing Project of Xiamen Institute of Tech‐nology（No.XPDKT20011）*通信联系人，E-mail：2011111002@第37卷液晶与显示ing BM width by3μm，changing the PS locations’design from upper right to center and reducing the thickness of PLN by0.6μm，the average critical value of the panels’pressing leakage can be increased by 30.61%，33.33%and27.08%，respectively.Key words：liquid crystal panel；light leakage；photo spacer；design of experiments1引言随着时代的进步和发展，液晶显示屏应用于手机、平板电脑、电视等各种电子产品中，给人们的生活带来了许多便利［1-3］。
浅谈彩色滤光片生产工艺和不良改善
• 108•ELECTRONICS WORLD ・探索与观察引言： TFT-LCD 的发展经历了漫长的研究阶段，在实现大生产、商业化之后，TFT-LCD 产品以其轻薄、环保、高性能等优点，它广泛应用在笔记本电脑、手机、显示器和电视等和人类生活相关的各种电子产品上。
彩色滤光片是液晶显示屏实现色彩的关键材料。
CF 除影响色彩外，还影响TFT-LCD 的亮度、对比度等光学特性。
彩色滤光片的技术发展与液晶显示面板的技术发展关联很大，彩色滤光片的成本也决定了整个显示面板的成本，彩色滤光片的每一步生产工艺都会影响产品的品质，对液晶屏的彩色显示都起着重要作用。
1.彩色滤光片的生产工艺彩色滤光片是TFT-LCD 实现色彩的核心材料，CF 的主要结构包括玻璃基板、黑色矩阵BM 、RGB 色层、导电膜ITO 、柱状Spacer 等。
一般的彩色滤光片生产过程为①受入清洗、②BM 工程、③Red 工程、④Green 工程、⑤Blue 工程、⑥RGB 修正、⑦ITO 工程、⑧PS/V A 工程、⑨最终检查。
：BM (Black Matrix)工序: 是玻璃基板上最初形成的层,在Glass 基板上形成BM Pattern ，制作成为基准的格子，其作用是隐藏TFT 的配线,遮蔽光线,防止RGB 的混色。
RGB (Red ／Green ／Blue) 工序: 是BM 的下一个工程,但RGB 三道的形成顺序根据会各家厂家各种各样.其主要作用是利用光的3原色原理达到Full Color 显示。
RGB 修正工序：其主要是把异物研磨除去，像素未涂布部分的Ink 涂布修正， 修正RGB 工程产生的不良。
ITO (Indium Tin Oxide)工序：RGB 工序后通过Sputtering 成膜，用氧化Indium 和氧化锡烧结体，形成TFT 对偶电极的透明薄膜。
PS (photo spacer) 工序：其作用是用来维持CF 和TFT 的Gap 的柱子，向由这些形成的空间注入液晶。
浅析彩色滤光片的修补工艺
科 技 视 界
科技・ 探索・ 争鸣
浅析彩色滤光片的修补工艺
彭 萍 高广 修 （ 南 京市 中电熊猫 液晶 材料科 技 有限公 司 ， 江 苏 南京 ２ １ ０ ０ ３ ３）
【 摘 要】 彩 色滤光片（ ｃ Ｆ ） 是液晶显示器的重要组成原件 ， 它直接影响着液晶显示 技 术的发展情况， 能够降低液晶显示器的制造成本。 本文主要
０ 引 言
一
要提升彩色滤光片的品质 良率 ． 必须从知道彩色滤光片的生产流 程、 熟悉 彩色滤光片 的修补 工艺 、 提高彩色滤光 片的修补 良率等方面 ２ ． ２ 缺 陷修 补 方法 着手 。虽然提高彩色滤光 片的良率不仅仅靠修补 ． 但修补工艺是绝对 对于彩色滤 光片的修补主要是研磨和修补两种 ． 研磨 是指对于异 不可忽视的 。 常凸起部 分进行研磨 将它磨平 ． 修补 是指对 于多出部分 或者 Ｄ ａ ｒ ｔ ｉ ｃ ｌ ｅ 进行先 ｌ ａ ｓ ｅ ｒ 去 除再 用 ｉ ｎ ｋ补 的 工 艺 【 参考文献】 修补的原理 即为在 Ａ ＯＩ 发现异 常的位置参数 会通过相应服 务器 ［ １ ］ 费民权 ， 费悦． Ｍ Ｖ Ａ模式 Ｔ Ｆ Ｔ － Ｌ Ｃ Ｄ用彩色滤光片制程解析． 现代显示 传输至修 补机台 ． 然后 由人为去判断缺陷要通过哪种方法进行修补 ［ ２ ］ 李宏彦 ， 王大巍 ， 李邓根． Ｌ Ｃ Ｄ彩色滤光片技术发展 ． 现代显示 黑缺 陷的修补方法包括研磨和修补 （ Ｌ ａ ｓ ｅ ｒ ＋ ｉ ｎ ｋ ） 。 对面积较小的突 ［ ３ ］ 马宝平 ， 陈在 良 Ｌ Ｃ Ｄ常见点缺陷． 苏卅Ｉ 大学学报． 起缺陷进行研磨 ， 即将 高度研磨至标准 （ 具 体 以客户 要求为准 ） 以下 ： 对 于面积较大的黑 缺陷 ． 则采用修补 ． 由设备 的激光 功能去掉异 常部 ［ 责任编辑 ： 田吉捷 ］ 分， 再由ｉ ｎ ｋ 针 找到这个位置并用相应 的墨水涂上此空缺 ． 再用 ｕ ｖ进
彩色滤光片黄光制程常见工艺异常的处理
彩色滤光片黄光制程常见工艺异常的处理作者：彭建中李亚明来源：《中国高新科技·上半月》2017年第03期摘要：文章主要基于涂布、曝光和显影三大设备，从产线特性值管控、RGB色度的影响因素及调整、产线良率的分析改善三方面，探讨了彩色滤光片黄光制程常见工艺异常的处理。
关键词：彩色滤光片；特性值管控；线宽调整；色度调整；良率改善文章编号：2096-4137（2017）07-074-03 DOI：10.13535/ki.10-1507/n.2017.07.18彩色滤光片（Color Filter）为液晶平面显示器（Liquid Crystal Display）彩色化关键部件，其主要制作工序为BM、RGB、ITO及PS制程。
BM制程在基板表面形成黑色矩阵（Black Matrix），RGB制程在制作彩色画素（Red Green Blue），ITO制程在基板表面溅镀导电膜，PS制程形成间隙粒子（Photo Support）。
BM、RGB及PS制作环境需在黄光条件下完成，工艺过程主要为涂布、曝光、显影及固化等。
制造型企业的核心在于产品的品质，CF的核心在于黄光和薄膜。
因为黄光线体多，设备多，本文对彩色滤光片黄光制程常见的特性值管控、色度调整、良率监控与改善展开分析，并提出对策。
1 特性值管控黄光RGB的色度偏差会影响液晶显示模组的画质，CD偏小会漏光，PSH过高或过低会影响后段液晶的注入，总之，彩色滤光片每一个制程的特性会最终影响液晶显示模组的品质。
因此，需严格管控产线产品特性。
黄光制程特性主要包括BM的TP、CD，RGB色度、膜厚和CD，PS的PSH DX DY等，因笔者单位产线BM TP大都采用TP feedback自动补正，本文不再赘述。
PS的DX DY调整可参考CD的调整方法。
1.1 显影机的工艺调整与线宽（CD）1.1.1 显影机的调整的原因因线宽CD与显影液成分、显影液浓度、显影温度、光阻材料及其膜厚，在发现CD异常时优先确认显影流量，显影时间是否正常。
浅析彩色滤光片制造中防玻璃基板破片的方法
• 206•ELECTRONICS WORLD ・技术交流彩色滤光片制造过程中，根据产品设计及工艺不同，每块液晶面板的生产完成，都要经过数道乃至数十道工序，而每一道工序又都要经过十余台设备进行搬送、制作；由于玻璃基板非常薄，大约在0.4mm —0.7mm 之间，在传输和搬送及工艺过程中，经常会有玻璃破片产生；原先的处理方法一般都是在玻璃破片发生后，对接触部件位置，气缸压力，工艺参数等进行微调，缺乏系统的分析和预防措施。
1.彩色滤光片制造中的基本工艺流程彩色滤光片在制造的过程中，要严格按照基本工艺流程进行生产：第一步，将素玻璃基板的外包装拆除，机器人手臂将将玻璃吸附，投入生产线；第二步，在产线循环线中，自动化生产线将对玻璃玻璃基板的外观进行检查，初步完成对玻璃基板的外观检测；第三步，进入到BM 生产环节，对玻璃进行黑色外框刻制，并经过高温固化，进入下一环节；第四步，在已经固化的黑色外框中，开始RGB ，即红绿蓝色的光刻工艺环节；第五步，形成黄绿蓝矩阵的表面，进行镀膜覆盖；第六步，进行PS 光刻流程；第七步，形成最终检查；第八步，成品下产线，进行捆包，出货。
2.彩色滤光片制作中产生玻璃碎片的原因彩色滤光片的制作，是在厚度为0.4-0.7m m 、大小为1800mm*1500mm 的玻璃基板上进行清洗，光刻，镀膜等工艺制作，最后制作成为液晶面板；在搬送，制作过程中，基板的震动，碰撞，挤压，真空，加热，清洗经常造成基板的破片；破片的损耗在严重影响到彩色滤光片制造厂内的产品品质良率；所以每个厂对破片的管控尤为重视。
3.彩色滤光片制作中破片发生率最为突出的三项现有的状况，是各厂内对破片的预防措施有限，多是发生后临时对应措施，对破片缺乏系统有效的分析；从而对相应设备进行改造的情况较少；经过多年的行业经验、总结，经过系统分析后得知彩色滤光片破片发生率最为突出的三项是：3.1 镀膜夹具：基板溅镀作业完成后进行破真空时，极易发生破片；作业完成，机器人从夹具上取玻璃时，由于玻璃和基板及夹具内框静电吸附在一起，吸力较大，比较容易发生破片。
彩色滤光片CD均匀性改善方法分析
彩色滤光片ＣＤ均匀性改善方法分析朱涵月摘㊀要:近年来ꎬ液晶屏技术得到了较为快速的发展ꎬ提高液晶屏的显示效果和用户体验ꎬ对于满足人们的视频需求发挥了重要作用ꎮ文章首先分析了对ＴＦＴ－ＬＣＤ液晶屏中的重要部件彩色滤光片的生产工艺中ＣＤ(线幅)的控制的必要性ꎬ之后阐述了具体的改善㊁管控ＣｏｌｏｒＦｉｌｔｅｒ产品中ＢＭ层㊁ＲＧＢ色层以及ＰＳ层ＣＤ线幅均匀性的方法ꎬ以提升产品品质和良率ꎮ关键词:彩色滤光片ꎻＣＤ均匀性改善ꎻ方法㊀㊀ＣｏｌｏｒＦｉｌｔｅｒ制造主要是形成红㊁绿㊁蓝三原色ꎬ再通过在Ａｒｒａｙ基板上每个ＴＦＴ控制一个子像素上方的液晶分子的扭曲程度调整亚像素的透光量透过ＣｏｌｏｒＦｉｌｔｅｒ基板上红㊁绿㊁蓝画素(三个子像素合成为一个显示像素)来达到合成不同的颜色的目的ꎬ从而使得液晶面板为彩色显示(如下图１)ꎮＣｏｌｏｒＦｉｌｔｅｒ基本构成为ＢＭ层ꎬＲＧＢ色层ꎬＩＴＯ导电层以及支撑盒厚的隔垫物ꎮ文章的总体目标是在解决Ｃｏｌｏｒ－Ｆｉｌｔｅｒ面板制造工序中Ｌｉｔｈｏ各工程中ＣＤ线幅均匀性ꎬ生产工程中决定ＣＤ线幅是曝光和显影ꎬ其中显影工艺对ＣＤ线幅均匀性影响更大ꎬ尤其是大尺寸面板技术方面ꎬ由于玻璃面板存在翘曲度等局限性使得显影工艺在ＣＤ线幅均匀性稳定过程中起着至关重要的作用ꎮ图１ 液晶面板彩色显示图一㊁改善ＣＤ线幅均匀性的必要性对于ＢＭ层管控ＣＤ线幅的目的在于:过小会导致漏光㊁过大会导致ＲＧＢ色层下方挡光ꎬ光量透过少ꎮ对于ＲＧＢ色层管控ＣＤ线幅的目的在于:过小会导致漏光产生ꎬ偏大会造成色光量透过比例变化ꎮ对于支撑盒厚的隔垫物(ＰＳ层)管控ＣＤ线幅的目的在于ꎬ隔垫物偏小会导致不起作用ꎬ偏大影响ＲＧＢ色层光量透过比例ꎮ二㊁显示制造改善线幅均匀性的方法Ｌｉｔｈｏ(显影)工程中常见问题主要是膜厚的均一性和ＣＤ线幅的均匀性ꎬＣＤ线幅的均匀性主要由显影工艺决定ꎬ针对小尺寸显影工艺主要采用槽式显影ꎬ大尺寸需要自动化生产ꎬ槽式显影工艺不易于自动化生产ꎬ该方法就是在自动化生产线上从显影工艺和设备对ＣＤ线幅均匀性㊁稳定性进行改善ꎬ以改善制程稳定性ꎬ优化产品品质为目的ꎬ在设备设计㊁ＴＰＭ保养体系以及制程工艺上进行ꎮ在设备设计上较一般的水洗设备有:１.５ʎ倾斜式设计ꎬ使得显影液不会在基板中心或翘曲部位逗留ꎬ导致显影不均ꎮ２.Ｓｈｏｗｅｒ摇动设计ꎬ使得显影液可均匀的喷洒在基板上ꎬ不会集中喷洒到喷嘴正下方部位ꎮ３.水洗端高压清洗设计ꎬ清洗去显影后边缘毛刺ꎬ保证边缘光滑ꎮ４.Ｓｈｏｗｅｒ喷嘴和ＲｏｌｌｅｒＶ型设计ꎬ喷嘴Ｖ型设计使得当某一喷嘴出现故障堵塞后不影响整体显影效果ꎬＲｏｌｌｅｒＶ型设计减小基板翘曲度ꎮ在ＴＰＭ保养上ꎬ建立完善的ＴＰＭ保养体系ꎬ形成«显影机清洁规程»ꎬ定期对Ｓｈｏｗｅｒ喷嘴进行清洁或更换ꎬ保养喷嘴喷出流量维持扇形ꎬ均匀地喷洒在基板上ꎬ清洁操作如下:ａ.将显影机内基板完全排出后ꎬ将设备由ＡＵＴＯ模式切至ＭＡＮＵＡＬ模式ꎬ手动将滚轮运转起来ꎮｂ.先使用高压水枪将显影机腔室各部位ꎬ如滚轮ꎬ显影机侧壁ꎬ摇摆机构ꎬＳｈｏｗｅｒ管㊁侧壁进行高压冲洗ꎮｃ.高压水枪冲洗后ꎬ如一些部位无法完全冲洗到ꎬ需使用酒精无尘布人工进行清洁ꎬ清洁部位显影机滚轮ꎬ辅助ｒｏｌｌｅｒ及自由ｒｏｌｌｅｒꎬＳｈｏｗｅｒ管ꎮ因Ｇ光阻比较黏ꎬ时间久会结成块状ꎬ酒精可能擦拭困难ꎬ必要时ꎬ可用少量丙酮进行清洁ꎮｄ.人工清洁后ꎬ需再次使用高压水枪进行冲洗ꎮｅ.高压水枪冲洗后ꎬ需将显影机显影ｔａｎｋ内显影液废液排除ꎬ并给水ꎬ手动喷淋３０~４０分钟后ꎬ再次将显影ｔａｎｋ内的水废液排除ꎬ给显影液ꎬ手动喷淋３０~４０分钟ꎮ在制程工艺上ꎬ通过对Ｓｈｏｗｅｒ摆动频度和显影流量大小进行测试ꎬ找出显影的最佳摆动频度和流量区间ꎮ三㊁结论采用文章所述的显示制造改善线幅均匀性的方法ꎬ可以改善ＣＤ(线幅)的均匀程度ꎮ通过对设备设计(５ʎ倾斜式设计㊁Ｓｈｏｗｅｒ摇动设计㊁水洗端高压清洗设计㊁Ｓｈｏｗｅｒ喷嘴和ＲｏｌｌｅｒＶ型设计)和设备维保(Ｓｈｏｗｅｒ喷嘴进行清洁或更换)ꎬ进而避免ＣＤ(线幅)不均问题ꎬ提升产品的品质和良率ꎬ减少客户投诉ꎮ参考文献:[１]肖洋ꎬ周鹏ꎬ闫润宝ꎬ等.ＴＦＴ－ＬＣＤＳｔａｇｅＭｕｒａ的研究与改善[Ｊ].液晶与显示ꎬ２０１７ꎬ３８(４):５４－５７.[２]贾宜訸ꎬ丁向前ꎬ张小祥ꎬ等.ＴＦＴ－ＬＣＤ工业中竖纹不良的研究与改善[Ｊ].电子世界ꎬ２０１９ꎬ５６１(３):１８－２０.[３]宋云霞.ＦＰＧＡ的ＴＦＴ－ＬＣＤ真彩液晶屏显示控制[Ｊ].单片机与嵌入式系统应用ꎬ２０１７ꎬ１７(４):４１－４２ꎬ５０.作者简介:朱涵月ꎬ南京中电熊猫液晶材料科技有限公司ꎮ４９１。
彩色滤光膜RGB光刻胶性质的分析与研究
俞 燕蕾 教授 (复旦 大 学材料 科 学 系)
向传 义 高工 ( 上 海 天 马微 电子有 限公 司 )
复旦大学硕 士毕业 论文 对 彩色滤 光膜 RGB 光刻胶性 质 的分析与研 究
摘 任石 3(
液 晶 显 示 器 已经 成 为 当今 的主 流 显 示 器 ，几 乎 无 处 不 在 。在 这 样 的 大 环 境 下 ， 中 国大 陆 的液 晶显 示 器 制 造 公 司 如 雨 后 春 笋 ，大 批 涌 现 。但 是 ，作 为 主 要 材 料 的 彩 色 滤 光 膜 RG B 光 刻 胶 的 供 应 仍 然 掌 握 在 国外 ，这 对 于 降低 成 本 ，提 升 产 品竞 争 力 是 十 分 不 利 的 。
ex P o su re in te n sity， ex P o su re g aP an d d ev e lo P in g tim e，w a s in v e stig ated .
K e y w o r d s : L C D ，e o lo r filte r，n e g a tiv e P h o to r e s ist C L C N u m b e r : T N 1 4 1 .9
2 . 1 T FT 一L C D 显 示 器 构 造 . .. . . .. . . . . . . . . . .. . .. . .. . .. ... . . . . . . .. … … 5 2.2 TF T一LC D 显 示 器 的工 作 原 理 . .. . ... .. ... . .. ... . ...... . ... . .. … … 5 2，3 本 章 小 结 . ... .... .. ...... . .. ... .. . .. . .. . ················… … 7 第 三 章 液 晶显 示器 的制 造 过 程 ......... .........................… … 8
液晶TFT—彩色滤光片工艺的生产制造与探究
液晶TFT—彩色滤光片工艺的生产制造与探究作者：王立夫盛大德庞华山毛继禹王旭来源：《科技创新与应用》2018年第07期摘要：液晶TFT屏幕的市场范围越来越广泛，尤其是近年来LED技术的迅速发展，文章通过对液晶TFT屏幕中彩色滤光片的分析，以下简称彩膜，对彩膜的生产工艺进行探究，为生产应用提供有力帮助。
关键词：彩色滤光片；LED技术；生产工艺中图分类号：TN837.93 文献标志码：A 文章编号：2095-2945（2018）07-0072-02Abstract： The market scope of liquid crystal TFT screen is more and more extensive，especially the rapid development of LED technology in recent years. This paper analyzes the color filter in liquid crystal TFT screen， hereinafter referred to as color film， to explore the production process of color film， and provide powerful help for the production and application.Keywords： color filter； LED technology； production process1 彩膜的结构所谓的彩色滤光片由玻璃基板、黑色矩阵、颜色层、保护层及ITO导电膜等部分组成[1]。
其中黑色矩阵（Black Matrix，简称BM）为黑色光刻胶涂布曝光显影后形成的模型，作用为防止漏光。
颜色层主要由三原色光刻胶（红、绿、蓝）分别经涂布曝光显影组成，为彩膜最重要的颜色层。
保护层（Over Coat，简称OC）分别由接近透明的光刻胶将玻璃基板整面涂布后产生。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
彩色滤光片RGB漏光不良工艺改善探究
针对高清晰液晶显示器制作所需的高开口率彩色滤光片制作过程中出现的RGB漏光不良进行工艺改善探究。
实验验证了Align Tolerance、PCP温度及Overlay补正等改善方法对产品的影响情况，同时结合成本及对实际生产的影响进行比较，成功导入最合适的PCP温度、新的Overlay补正方案，降低了高开口率产品的漏光不良发生率。
标签：彩色滤光片；漏光不良；工艺改善
Abstract：In view of the poor RGB leakage caused by the fabrication of high aperture color filters in the production of high-definition liquid crystal display （LCD），process improvement is explored. The experiment verified the effect of Align Tolerance，PCP temperature and Overlay correction on the product. At the same time，compared with the cost and the effect on the actual production，the most suitable PCP was introduced. The temperature and the new Overlay correction scheme have reduced the incidence of poor leakage of products with high opening rate.
Keywords：color filter；bad light leakage；process improvement
引言
随着高清晰，高透过率产品技术的发展，液晶面板的关键组件彩色滤光片制作工艺中BM线宽需要更窄，开口率需要更高，阵列基板与彩色滤光片基板对位成盒时所需的精度也越来越高，极易出现对位偏差，而对位偏差又会导致漏光不良。
实际生产中不同时间建立的TFT-LCD生产线的设备精度均有差异，因此，在现有生产线设备精度的基础上对彩色滤光片的RGB工艺图形位置和精度的改善研究对控制漏光不良发生及适应高开口率产品的导入具有重要意义。
本文从RGB工艺制作过程控制角度，在现有设备精度和开发工艺的基础上探讨如何减少漏光不良的发生。
1 漏光不良及工艺管控
1.1 不良现象
如图1，2所示，分别为三种亚像素透射光下漏光现象，多数情况下漏光是对应亚像素向Overlap方向偏移，不良在成盒工序完成后会形成规则的亮点或亮线。
1.2 漏光不良工艺管控
为保证不同layer位置精度，设计引入Overlay Mark 作为过程监控标志。
如图3所示（差异放大20000倍示意图），采用6shot 曝光时，color Pattern和BM
Pattern图形并非完全重合，总会出现偏差，在BM 图形制作时分别在shot四角位置为后工序制作RGB时预留出RGB Overlay Mark（如图4所示），在RGB各工序完成后，通过测量新的Overlay Mark 与BM Mark 中心点坐标的偏移量来表示RGB图形偏移的程度。
图4中内部黑色框为BM Overlay Mark，外部为G Overlay Mark。
因此，统一用Overlay Mark的形状和偏移量来表征量化漏光不良工艺管控的标志。
2 实验与分析
2.1 Align Tolerance相关性及改善
RGB基板曝光通过BM align Mark对位，以确定shot曝光精度，通过Align Tolerance加严，对改善Overlay偏移应当起到改善作用。
通过对比图5Overlay波动及图6Overlay x、y方向的Range比较，我们得出Align Tolerance 加严后有如下结论：
（1）对Overlay x波动性无改善，对Overlay y有较大改善。
（2）只对数据较差的点位有改善。
（3）加严会导致曝光机Tact time慢2s。
综上，Align Tolerance加严，对改善漏光不良影响小，但产能损失大。
2.2 PCP温度相关性及改善
针对不同温度条件下曝光时膨胀和收缩情况不同会导致图形的变化，考虑验证PCP温度的最优条件。
如图7为不同温度条件下单一shot Overlay map 内缩和外扩的示意图。
如图8可知随着温度的降低Overlay y方向内缩明显。
虽然调整PCP温度可以改善Overlay map向设计规格方向偏移，但微观像素上却仍存在漏光的风险；如图9所示，在不同温度下像素存在不同程度的偏移，在条状RGB像素设计中Overlap方向的偏移是最容易漏光的，而像素长边方向发生漏光的可能性是很小的；因此，考虑采用PCP温度改善漏光时，应考虑产品子像素在基板上的排布方向。
如圖10所示，不同产品像素在基板上的排列方向不同，当像素沿长边Shift 时，漏光风险较像素Overlap方向小，但是为了降低风险，需要根据不同产品Overlay伸缩特点分别测试，兼顾x，y两个方向，通过将像素最易发生漏光的方向的Overlay通过PCP温度改善到合适的值，之后确认Shot边缘的像素x，y两个方向的Overlap量，判断是否OK；以43寸某型号产品测试结果如图11所示。
结论：PCP温度调整Overlay x略有恶化，Overlay y改善明显，满足要求。
2.3 Overlay补正模板对比验证
在实际生产的产品Overlay测量数据会与设计值存在差异，为保证产品在规格内生产，需要对Overlay进行补正；如图12所示，为业界常用的四点平均补正方法和原理。
其中心思想是将Overlay组成的矩形图型的中心点坐标进行补正使其重叠以保证Overlay的位置精度。
然而，实际生产中内缩、外扩的情况会出现Overlay 组成的map不是矩形而是非规则四边形的情况，此时采用中心点重叠的补正方法在不能将Overlay持续的稳定在规格范围内，仍造成漏光的情况，因此，引入极值平均法进行补正，补正方法和原理如图13所示。
极值平均法补正后，新图形中心点并未与Mask 中心点重合，但能将Overlay 四角均补正至相对比较安全的规格内，能有效地避免区域漏光的情况发生。
通过实际产品测试，两种方法对比结果如表1。
3 结束语
本文通过对影响彩色滤光片RGB Overlay变化的各项工艺因素进行分析和实验验证，结合对实际生产的影响对比各项改善方案，成功导入合适的PCP温度及Overlay补正等改善方法，降低了高开口率产品的漏光不良发生率，为后续高开口率产品的开发或类似问题的改善积累了丰富经验，具有较高的参考价值。
参考文献：
[1]解会杰，穆树祥，范志新.降低小尺寸液晶显示模组漏光不良[J].现代显示，2010（11）：23-26.
[2]见帅敏，解洋，等.TFT-LCD边角漏光不良机理分析及改善研究[J].液晶与显示，2017（6）.
[3]液晶显示模组漏光不良现象的解决策略研究[J].中国新技术新产品，2016（09）.
[4]王立夫，盛大德，庞华山，等.液晶TFT-彩色滤光片工艺的生产制造与探究[J].科技创新与应用，2018（07）：72-73.
[5]庞华山，谭海洋，武占英，等.彩色滤光片Mura缺陷自动检测应用研究[J].科技创新与应用，2017（28）：1-6+8.。