《超大规模集成电路设计导论》第9章:系统封装与测试(1)
超大规模集成电路.pptx
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1)P阱CMOS集成电路工艺过程简介
一、硅片制备 二、前部工序
Mask 掩膜版
CHIP
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• 掩膜1: P阱光刻
Si-衬底
P-well
具体步骤如下: 1.生长二氧化硅:
SiO2
Si-衬底
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2.P阱光刻: 涂胶、掩膜对准、曝光、显影、刻蚀
§1 双极型(NPN)集成电路工艺 (典型的PN结隔离工艺)
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思考题
1.与分立器件工艺有什么不同? 2.埋层的作用是什么? 3.需要几块光刻掩膜版(mask)? 4.每块掩膜版的作用是什么? 5.器件之间是如何隔离的? 6.器件的电极是如何引出的?
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1.衬底准备 2.第一次光刻——N+隐埋层扩散孔光刻
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1.P阱CMOS工艺
P阱CMOS工艺以N型单晶硅为衬底, 在其上制作P阱。NMOS管做在P阱内, PMOS管做在N型衬底上。
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P阱CMOS工艺
电连接时,P阱接最负电位,N衬底接最正 电位,通过反向偏置的PN结实现PMOS器件和 NMOS器件之间的相互隔离。P阱CMOS芯片剖 面示意图见下图。
艺有时已不满足要求,双阱工艺应 运而生。
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双阱CMOS工艺
• 通常双阱CMOS工艺采用的原始材料是在 N+或P+衬底上外延一层轻掺杂的外延层, 然后用离子注入的方法同时制作N阱和P阱。
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双阱CMOS工艺
超大规模集成电路测试现状及关键技术
超大规模集成电路测试现状及关键技术一、本文概述随着信息技术的迅猛发展,超大规模集成电路(VLSI)已成为现代电子系统的核心组成部分,广泛应用于通信、计算机、消费电子等众多领域。
然而,随着集成电路规模的不断增大和复杂性的提升,其测试问题日益凸显,成为制约集成电路产业进一步发展的关键技术难题。
因此,对超大规模集成电路测试的现状进行深入分析,探讨其关键技术,对于提升我国集成电路产业的核心竞争力具有重要意义。
本文旨在全面概述超大规模集成电路测试的现状,分析当前面临的主要挑战,并深入探讨相关的关键技术。
我们将回顾超大规模集成电路测试的发展历程,阐述其基本原理和方法。
我们将分析当前超大规模集成电路测试面临的主要问题和挑战,如测试数据量巨大、测试成本高昂、测试效率低下等。
接着,我们将深入探讨超大规模集成电路测试的关键技术,包括可测试性设计、故障模型与故障诊断、测试数据生成与优化等。
我们将展望未来的发展趋势,提出相应的建议和对策,以期为我国集成电路产业的持续健康发展提供参考和借鉴。
二、VLSI测试现状随着科技的飞速发展,超大规模集成电路(VLSI)已经成为现代电子系统的核心组成部分。
然而,随着集成度的不断提高,VLSI的测试问题也日益凸显。
目前,VLSI测试面临的主要挑战包括测试数据的生成、测试复杂性的增加、测试成本的上升以及测试效率的提升等。
在测试数据生成方面,由于VLSI的规模庞大,传统的测试方法已经无法满足需求。
因此,研究人员提出了多种基于自动测试设备(ATE)和仿真工具的测试数据生成方法,以提高测试数据的覆盖率和故障检测能力。
测试复杂性的增加是另一个重要的问题。
由于VLSI结构复杂,故障模式多样,传统的测试方法往往难以有效应对。
为了解决这一问题,研究人员正在探索基于人工智能和机器学习的测试方法,以提高测试的智能化和自动化水平。
测试成本的上升也是一个不容忽视的问题。
随着VLSI规模的增加,测试所需的时间和资源也在不断增加,导致测试成本急剧上升。
《超大规模集成电路设计》考试习题(含答案)完整版分析
1.集成电路的发展过程经历了哪些发展阶段?划分集成电路的标准是什么?集成电路的发展过程:•小规模集成电路(Small Scale IC,SSI)•中规模集成电路(Medium Scale IC,MSI)•大规模集成电路(Large Scale IC,LSI)•超大规模集成电路(Very Large Scale IC,VLSI)•特大规模集成电路(Ultra Large Scale IC,ULSI)•巨大规模集成电路(Gigantic Scale IC,GSI)划分集成电路规模的标准2.超大规模集成电路有哪些优点?1. 降低生产成本VLSI减少了体积和重量等,可靠性成万倍提高,功耗成万倍减少.2.提高工作速度VLSI内部连线很短,缩短了延迟时间.加工的技术越来越精细.电路工作速度的提高,主要是依靠减少尺寸获得.3. 降低功耗芯片内部电路尺寸小,连线短,分布电容小,驱动电路所需的功率下降.4. 简化逻辑电路芯片内部电路受干扰小,电路可简化.5.优越的可靠性采用VLSI后,元件数目和外部的接触点都大为减少,可靠性得到很大提高。
6.体积小重量轻7.缩短电子产品的设计和组装周期一片VLSI组件可以代替大量的元器件,组装工作极大的节省,生产线被压缩,加快了生产速度.3.简述双阱CMOS工艺制作CMOS反相器的工艺流程过程。
1、形成N阱2、形成P阱3、推阱4、形成场隔离区5、形成多晶硅栅6、形成硅化物7、形成N管源漏区8、形成P管源漏区9、形成接触孔10、形成第一层金属11、形成第一层金属12、形成穿通接触孔13、形成第二层金属14、合金15、形成钝化层16、测试、封装,完成集成电路的制造工艺4.在VLSI设计中,对互连线的要求和可能的互连线材料是什么?互连线的要求低电阻值:产生的电压降最小;信号传输延时最小(RC时间常数最小化)与器件之间的接触电阻低长期可靠工作可能的互连线材料金属(低电阻率),多晶硅(中等电阻率),高掺杂区的硅(注入或扩散)(中等电阻率)5.在进行版图设计时为什么要制定版图设计规则?—片集成电路上有成千上万个晶体管和电阻等元件以及大量的连线。
超大规模集成电路技术基础课件
Part
03
超大规模集成电路制造工艺
制造流程
制造流程概述
超大规模集成电路的制造流程包 括晶圆制备、外延层生长、光刻 、刻蚀、离子注入、化学机械抛
光、检测与封装等步骤。
晶圆制备
晶圆制备是超大规模集成电路制造 的第一步,涉及到单晶硅锭的切割 和研磨,以获得所需厚度的晶圆。
外延层生长
外延层生长是指在单晶衬底上通过 化学气相沉积等方法生长出与衬底 晶体结构相同或相似的单晶层。
解决方案3
加强环保监管和提高环保意识:通过加强环保监管和提 高环保意识,推动超大规模集成电路制造行业的可持续 发展。
Part
04
超大规模集成电路封装与测试
封装技术
芯片封装
将集成电路芯片封装在管 壳内,以保护芯片免受环 境影响和机械损伤。
封装材料
常用的封装材料包括陶瓷 、金属和塑料等,每种材 料都有其独特的优点和适 用范围。
制造设备
超大规模集成电路制造中需要使用到各种复杂的设备和工具,如光刻机、刻蚀机 、离子注入机、化学机械抛光机等。
制造中的挑战与解决方案
挑战1
高精度制造技术的挑战:随着集成电路规模的不断缩小 ,制造精度和工艺控制的要求也越来越高,需要不断改 进制造工艺和研发新的制造技术。
挑战2
制造成本的不断增加:随着技术不断进步,超大规模集 成电路的制造成本也在不断增加,需要寻求更经济、高 效的制造方法和工艺。
封装形式
根据集成电路的类型和应 用需求,有多种封装形式 可供选择,如DIP、SOP 、QFP等。
测试方法与设备
测试方法
包括功能测试、性能测试、可靠 性测试等,以确保集成电路的性
能和质量。
测试设备
超大规模集成电路与系统导论(附光盘)
超大规模集成电路与系统导论(附光盘)
第1章VLSI概论 1.1复杂性与设计 1.1.1设计流程举例1.1.2VLSI芯片的类型 1.2基本概念 1.3本书安排 1.4参考资料第1部分硅片逻辑第2章MOSFET逻辑设计 2.1理想开关与布尔运算 2.2MOSFET开关 2.3基本的CMOS逻辑门 2.3.1非门(NOT门) 2.3.2CMOS或非门(NOR门) 2.3.3CMOS与非门(NAND 门) 2.4CMOS复合逻辑门 2.4.1结构化逻辑设计 2.4.2异或门(XOR)和异或非门(XNOR) 2.4.3一般化的AOI和OAI逻辑门 2.5传输门(TG)电路逻辑设计 2.6时钟控制和数据流控制 2.7参考资料 2.8习题第3章CMOS集成电路的物理结构第4章CMOS集成电路的制造第5章物理设计的基本要素第2部分从逻辑到电子电路第6章MOSFET的电气特性第7章CMOS逻辑门电子学分析第8章高速CMOS逻辑电路设计第9章CMOS逻辑电路的高级技术第3部分VLSI系统设计第10章用Verilog——硬件描述语言描述系统第11章常用的VLSI系统部件第12章CMOS VLSI运算电路第13章存储器与可编程逻辑第14章系统级物理设第15章VLSI时钟和系统设计第16章VLSI电路的可靠性与测。
超大规模集成电路设计
PentiumPro
当前:超大规模集成电路(VLSI)时代
为什么采用VLSI:人们对电子系统的需要
★ 功能要求越来越复杂:电路规模 ★ 性能要求越来越优良:速度、功耗 ★ 成本相对来讲最好低一点:尺寸
由于集成电路在电子系统中的核心作用,集成电路在系统功能、 性能和成本中所起的作用是关键性的
集成电路的三个关键特性(功能要求定下来的前提下)
课程参考书
(仅适用于Part 1) 中文版 《现代VLSI设计——系统芯片设计》(原书第三版)
[美]韦恩•沃尔夫 著 科学出版社
该书的前半部分 (Chap1-6)
英文版 Modern VLSI Design: System-on-Chip Design, 3th
by Wayne Wolf
绪 论
1. IC:从设计、制造、封装、测试到芯片产品
IC设计与EDA技术/EDA工具 (1)
• EDA(Electronic Design Automatic,电子设计自动化) 是指以计 算机为工作平台的电子CAD工具软件集 • EDA工具使得设计者的工作仅限于利用软件的方式,就能完成对 系统硬件功能和性能的实现 • 集成电路设计从一开始就依赖于EDA技术及工具,离开EDA技术 集成电路设计将寸步难行。而且随着技术的进步,集成电路的设 计越来越依赖EDA工具
• 数字IC中,数字ASIC与FPGA/CPLD 的区别 – ASIC:需制作掩模
• 设计时间长,硬件不能升级 • 芯片面积小,性能可以得到较好的优化 • 适合芯片需求量大的场合:片量用于平摊昂贵的光罩掩模制版 费,降低单片生产成本
– FPGA/CPLD:可以编程,不需要后端设计/制作掩模
• • • • 开发门槛较低,设计时间较短,可方便和快速地升级优化硬件 芯片面积大,性能不够优化 适合芯片需求量小的场合:不用支付昂贵的光罩掩模制版费 作为数字ASIC设计流程中的必要步骤:ASIC设计中前端设计 的FPGA原型验证(HDL功能验证)
集成电路封装与测试(一)
三人获得了1956年 诺贝尔物理学奖
William B. Shockley
John Bardeen
Walter H. Brattain
1958年9月10日美国的基尔比发明了集成电 路集成电路是美国物理学家基尔比(Jack Kilby)和诺伊斯两人各自独立发明的,都拥有 发明的专利权。 1958年9月10日,基尔比的第一个安置在半 导体锗片上的电路取得了成 功,被称为“相 移振荡器”。 1957年,诺伊斯(Robort Noyce)成立了仙童 半导体公司,成为硅谷的第一家专门研制硅 晶体管的公司。 1959年2月,基尔比申请了专利。不久,得 克萨斯仪器公司宣布,他们已生产出一种比 火柴头还小的半导体固体 电路。诺伊斯虽然 此前已制造出半导体硅片集成电路,但直到 1959年7月才申请专利,比基尔比晚了半年。 法庭后来裁决,集成电路的发明专利属于基 尔比,而 有关集成电路的内部连接技术专利 权属于诺伊斯。两人都因此成为微电子学的 创始人,获得美国的“巴伦坦奖章”。
双边 引脚
SOP (小型化封装 小型化封装) 小型化封装
单边 引脚
SIP 单列引脚式封装) (单列引脚式封装) ZIP 交叉引脚式封装) (交叉引脚式封装)
四边 引脚
QFP PLCC (四侧引脚扁平封装 (无引线塑料封装载体 ) 四侧引脚扁平封装) 四侧引脚扁平封装
双边 引脚
DIP (双列式封装) 双列式封装)
4.2 技术发展趋势
芯片封装工艺: △ 芯片封装工艺: 从逐个管芯封装到出现了圆片级封装, 从逐个管芯封装到出现了圆片级封装,即先将圆片 划片成小管芯。 划片成小管芯。 再逐个封装成器件,到在圆片上完成封装划片后 再逐个封装成器件, 就成器件。 就成器件。 芯片与封装的互连:从引线键合( △ 芯片与封装的互连:从引线键合(WB)向倒装焊 ) (FC)转变。 )转变。 微电子封装和PCB板之间的互连: 板之间的互连: △ 微电子封装和 板之间的互连 已由通孔插装(PTH)为主转为表面贴装(SMT)为主。 为主转为表面贴装( 已由通孔插装 为主转为表面贴装 )为主。
超大规模集成电路测试技术的研究与应用
超大规模集成电路测试技术的研究与应用超大规模集成电路(VLSI)是现代电子技术中一个关键的领域。
它是指在单块硅晶片上集成大量的电子元件,包括微处理器、内存、电源电路等。
随着电路设计技术的发展,VLSI 芯片变得越来越复杂,测试难度也随之增加。
对大规模电路进行有效的测试成为了保障芯片品质和可靠性的关键技术。
本文将探讨现代超大规模集成电路测试技术的研究与应用。
一、测试技术的现状随着晶片集成度的提高,按传统方式进行测试已经不再适用。
半导体行业在自己的特点上存在系统性问题,需要采用新的解决方案来实现更高效、更快速和更准确的测试。
随着10nm工艺逐步实现,如何完美测试这些高密度、高复杂性芯片将是检测技术研究面临的又一个挑战。
简单来讲,现有的测试技术通常用于在设备制造期间检查电路芯片是否工作正常、完成其预期目标,以及在设备维护期间识别设备故障的位置,以提高设备维护的效率。
然而,这些传统的测试方法在面对复杂、写作困难的电路时可能并不准确或完整。
二、测试技术的研究常见的VLSI测试技术包括扫描测试、波形测试、边界扫描测试等。
随着VLSI 芯片设计的发展,研究人员提出了一些高效的测试技术。
1. 结构测试结构测试是一种更加全面的测试方法,通过对芯片结构的分析,可以确定是否存在可能的故障点,并且能够预测各种故障的影响程度。
这种方法比较适用于极其复杂的芯片,可以实现应用覆盖率达到99%以上。
2. 动态测试动态测试(如存活性测试)是识别芯片内部电路中可能出现的随机错误的一种方法。
动态测试方法不同于静态测试方法,它试图在测试过程中利用电路输入序列产生尽可能多的状态,从而涵盖芯片可能发生的错误。
3. 组合测试组合测试的主要作用是评估芯片内部的相邻设计单元之间的质量互相交互性。
这种测试方法的特点在于它可以检测到由于电路结构上的错误或者可能错误所引起的问题。
三、测试技术的应用1. 自动化测试随着计算机技术的发展,具有自动化程度的芯片测试系统被广泛应用。
超大规模集成电路课程论文
标准单元设计方法(SC方法)
• · 概念:从标准单元库中调用实现经过精心设计的逻辑单元, 并排列成行,行间留有可调整的布线通道,再按照功能要 求将各内部单元以及输入/输出单元连接起来,形成所需 的专用电路。
•
芯片布局:芯片中心是单元区,输入/输出单元在芯片四周,基本单元具有等 高不等宽的结构,布线通道区没有宽度的限制,利于实现优化布线。 • · 标准单元设计的主要资源是标准单元库,单元库中单元电路的多少盒设计质 量直接影响到设计能力。下面将对标准单元库及标准单元设计技术的特点进 行介绍。 • · 标准单元库:标准单元库中的单元使用人工优化设计的,力求达到最小的面 积和最好的性能,完成设计规则检查和电学验证。 ---描述电路单元在不同层级的属性的一组数据 · 逻辑符号(L):单元名称与符号、I/O端:用于逻辑图 · 功能描述 · 电路结构、电学指标 · 拓扑版图(0):拓扑单元名、单元宽度高度、I/O位置及名称 · 掩膜版图(A) • · 标准单元库主要包括 ---与非门、或非门、触发器、锁存器、移位寄存器 ---加法器、乘法器、除法器、算术运算单元、FIFO等较大规模单元 ---模拟单元模块:振荡器、比较器等。 • · 标准单元库的来源 ----Foundry、第三方单元库提供商、EDA公司或自行简历。 Foundry提供的单元库一般是一个仿真单元库。 第三方单元库提供商提供的单元库一般建立与Foundry工艺。 自行建立单元库,费用很高,但一般大的计算机公司、电子公司等多采 用这种方式,以保证产品的竞争力。
积木块设计方法(BBL方法)
• · 布图特点:任意形状的单元(一般为矩形或“L”型)、 任意位置、无布线通道。 • · BBL单元:较大规模的功能块(如ROM、RAM、ALU或 模拟电路单元等),单元可以用GA、SC、PLD或全定制 方法设计
超大规模集成电路设计导论考试题及答案
1、MOS集成电路的加工包括哪些基本工艺?各有哪些方法和工序?答:(1)热氧化工艺:包括干氧化法和湿氧化法;(2)扩散工艺:包括扩散法和离子注入法;(3)淀积工艺:化学淀积方法:1 外延生长法;2 热CVD法;3 等离子CVD 法;物理淀积方法:1 溅射法;2 真空蒸发法(4)光刻工艺:工序包括:1 涂光刻胶;2 预烘干;3 掩膜对准;4 曝光;5 显影;6 后烘干;7 腐蚀;8 去胶。
2、简述光刻工艺过程及作用。
答:(1)涂光刻胶:为了增加光刻胶和硅片之间的粘附性,防止显影时光刻胶的脱落,以及防止湿法腐蚀产生侧向腐蚀;(2)预烘干:以便除去光刻胶中的溶剂;(3)掩膜对准:以保证掩模板上的图形与硅片上已加工的各层图形套准;(4)曝光:使光刻胶获得与掩模图形相同的感光图片;(5)显影:将曝光后的硅片浸泡在显影液中,使正光刻胶的曝光部分和负光刻胶的未曝光部分被溶解掉;(6)后烘干:使残留在光刻胶中的有机溶剂完全挥发掉,提高光刻胶和硅片的粘接性及光刻胶的耐腐蚀性;(7)腐蚀:以复制在光刻胶上图形作为掩膜,对下层材料进行腐蚀,将图形复制到下层材料中;(8)去胶:除去光刻胶。
3、说明MOS晶体管的工作原理答:MOS晶体管有四种工作状态:(1)截止状态:即源漏之间不加电压时,沟道各电场强度相等,沟道厚度均匀,S、D之间没有电流I ds=0;(2)线性工作状态:漏源之间加电压Vds时,漏端接正,源端接负,沟道厚度不再均匀,在D端电位升为V d,栅漏极电位差为Vgs-Vtn,电场强度变弱,反型层变薄,并在沟道上产生由D到S的电场E ds,使得多数载流子由S端流向D端形成电流I ds,它与V ds变化呈线性关系:I ds=βn[(V gs-V tn)-V ds/2]V ds(3)饱和工作状态:Vs继续增大到V gs-V tn时,D端栅极与衬底不足以形成反型层,出现沟道夹断,电子运动到夹断点V gs-V ds=V tn时,便进入耗尽区,在漂移作用下,电子被漏极高电位吸引过去,便形成饱和电流,沟道夹断后,(V gs-V tn)不变,I ds 也不变,即MOS工作进入饱和状态,I ds=V gs-V tn/R c(4)击穿状态:当Vds增加到一定极限时,由于电压过高,晶体管D端得PN结发生雪崩击穿,电流急剧增加,晶体管不能正常工作。
大规模集成电路测试 第1章
Rev.9
西安交通大学微电子系雷绍充
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测试方法分类标准 测试实施时间 测试激励源的位置 测试的目的
测试方法特征 测试实施时电路运行在正常工作条件下 测试施加时与电路运行不同时进行 嵌于电路内部 由外部测试设备提供 设计错误 制造错误 制造缺陷 早期物理失效 物理失效 IC 板级 系统级 存取 测试过程中生成 预先确定的顺序 按照当时得到的结果 比正常操作速度慢得多 正常操作速度 所有的输出图形 (部分)特征输出图形 仅IC的I/O IC的I/O或内部I/O
对于给定的故障模型,FC=(测试图形能够检 测到该类故障数目/可能存在的该类故障的数目) *100% 注意:大多数电路的FC都是标称值,也并不意 味着对所有类型的故障都有这样的FC。
Rev.9
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功能测试类型
按测试生成的方法,测试可分为穷举测试 (exhaustive test)、伪穷举测试(pseudoexhaustive test)、伪随机测试(pseudorandom test) 和确定性测试(deterministic test)。 按测试施加(test application)的方式,测试可分 为片外测试(off-chip test)和片上测试(on-chip test)。 按照测试图形施加时的时间,测试可分为离线测试 (off-line test)和在线测试(on-line test)。
1984年,Archambeau提出伪穷举法,为解决大型组合电路开辟新的途
径
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可测性设计的发展
1973年,Williams和Angel发表了路径扫描法,为设计易于测试 的同步时序电路.IBM在其80286的设计中采用此结构
超大规模集成电路的测试技术
目录摘要 (1)关键词 (1)Abstract (1)1 引言 (1)2 测试的基本概念 (2)2.1 测试的原理 (2)2.2 测试的环节 (2)2.3 测试的可靠性 (3)2.4 测试的分类 (3)3 测试的难度 (3)4 测试方法 (4)4.1 多工位测试 (4)4.2 SIP测试 (4)4.3 IDDQ测试 (4)4.4 DFT测试 (5)4.4.1 集成电路的可测试质量评价 (5)4.4.2 可测试性设计的目标 (5)4.4.3 效益和成本的分析 (5)4.4.4 三种DFT方案的对比分析 (6)4.4.5 DFT技术的应用策略 (7)4.5 系统测试 (7)4.6 模拟和混合信号测试 (7)5 总结 (8)致谢 (9)参考文献 (9)超大规模集成电路测试技术网络工程专业学生曲倩倩指导教师吴俊华摘要:随着电子工业发展、特征尺寸减少、集成度持续增加,需要更有效的测试方法以保证芯片的可靠操作。
为了控制产品的成本,测试工程师在不断地改进和组合各种测试方法。
首先综述了VLSI 测试的几项基本概念,测试的基本原理、测试的环节、测试的可靠性和测试的分类。
测试必然存在难度,随之分析了存在难度的原因。
然后介绍了多工位测试、SIP测试、IDDQ测试、DFT测试和系统测试五种测试方法,并分析比较了这几种方法各自的特点。
最后,预计了VLSI的未来,为了降低测试的难度,可测试性设计至关重要。
关键词:集成电路测试效率系统可测性The Test Technique of Very Large Scale IntegrationStudent Majoring in Network Engineering Qu QianqianTutor Wu JunhuaAbstract: With the electronics industry development, reduced feature size and increasing integration level, better and more efficient testing methods are needed to ensure reliable operation of the chip. In order to control the cost of the product, test engineers are constantly improving and combining various testing methods.Several basic concepts of VLSI testing, the classification reliability and testing principle, testing part of the test are reviewed firstly. Inevitably, the test is difficult, and the cause of the difficulty is analyzed. Then multistage test, SIP test, IDDQ test, DFT test and system testing are introduced, analyzed and compared. Finally, VLSI is expected ahead. In order to reduce the difficulty of the tests, the design of testability is essential.Key words:Integration; Testing; Productivity; System; Testability1引言集成电路的复杂性在日益增加,自从芯片系统(SOC)实现之后,各种知识产权(IP)模块大量集成在同一芯片内,包括逻辑电路、存储器、模/数和数/模转换器、射频前端等等。
《超大规模集成电路设计》考试习题(含答案)完整版
1.集成电路的发展过程经历了哪些发展阶段?划分集成电路的标准是什么?集成电路的发展过程:•小规模集成电路(Small Scale IC,SSI)•中规模集成电路(Medium Scale IC,MSI)•大规模集成电路(Large Scale IC,LSI)•超大规模集成电路(Very Large Scale IC,VLSI)•特大规模集成电路(Ultra Large Scale IC,ULSI)•巨大规模集成电路(Gigantic Scale IC,GSI)划分集成电路规模的标准2.超大规模集成电路有哪些优点?1. 降低生产成本VLSI减少了体积和重量等,可靠性成万倍提高,功耗成万倍减少.2.提高工作速度VLSI内部连线很短,缩短了延迟时间.加工的技术越来越精细.电路工作速度的提高,主要是依靠减少尺寸获得.3. 降低功耗芯片内部电路尺寸小,连线短,分布电容小,驱动电路所需的功率下降.4. 简化逻辑电路芯片内部电路受干扰小,电路可简化.5.优越的可靠性采用VLSI后,元件数目和外部的接触点都大为减少,可靠性得到很大提高。
6.体积小重量轻7.缩短电子产品的设计和组装周期一片VLSI组件可以代替大量的元器件,组装工作极大的节省,生产线被压缩,加快了生产速度.3.简述双阱CMOS工艺制作CMOS反相器的工艺流程过程。
1、形成N阱2、形成P阱3、推阱4、形成场隔离区5、形成多晶硅栅6、形成硅化物7、形成N管源漏区8、形成P管源漏区9、形成接触孔10、形成第一层金属11、形成第一层金属12、形成穿通接触孔13、形成第二层金属14、合金15、形成钝化层16、测试、封装,完成集成电路的制造工艺4.在VLSI设计中,对互连线的要求和可能的互连线材料是什么?互连线的要求低电阻值:产生的电压降最小;信号传输延时最小(RC时间常数最小化)与器件之间的接触电阻低长期可靠工作可能的互连线材料金属(低电阻率),多晶硅(中等电阻率),高掺杂区的硅(注入或扩散)(中等电阻率)5.在进行版图设计时为什么要制定版图设计规则?—片集成电路上有成千上万个晶体管和电阻等元件以及大量的连线。
集成电路封装与测试(一)PPT课件
电磁、化学等方面的防护
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信号传递
主要是将电信号的延迟尽 可能减小,在布线时尽可 能使信号线与芯片的互连 路径以及通过封装的I/O接 口引出的路径达到最短
电能传递
主要是电源电压的分配和导通
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散热 各种芯片封装都要考虑元 器件、部件长期工作时如 何将聚集的热量散出的问 题
封装保护 芯片封装可为芯片和其他连 接部件提供牢固可靠的机械 支撑,并能适应各种工作环 境和条件的变化
测试、评测
工艺问题
产品
定义问题
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1.1.2 封装的出现 “封装(Packaging)”用于电子工程的历史并不 很久。在真空电子管时代,将电子管等器件安装 在管座上构成电路设备,一般称为“组装或装 配”,当时还没有“Packaging”这一概念。
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60多年前的三极管,40多年前的IC半导体元件的出现,一方面,这些 半导体元件细小柔嫩;另一方面,其性能又高,而且多功能、多规格。 为了充分发挥其功能,需要补强、密封、扩大,以便实现与外电路可 靠的电气连接并得到有效的机械、绝缘等方面的保护作用。基于这样 的工艺技术要求,“封装”便随之出现。
带引脚的芯片载体
倒装芯片
陶瓷DIP
球栅阵列封装
芯片尺寸封装
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目前世界上产量较多的几类封装
SOP (小外形封装)
55~57%
PDIP(塑料双列封装)
14%
QFP (PLCC ) (四边引线扁平封装) 12%
BGA (球栅阵列封装)
4~5%
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1.5. IC封装的发展趋势
16.8~27.4%
2003 2004
“集成电路(IC)“是指微小化的或微电子的器件,它将这样的一些元 件如三极管、电阻、介电体、电容等集成为一个电学上的电路,使致 具有专门的功能。
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3. 可靠性大大提高;
2020/1/24 4. 更多的I/O端;
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• 二维MCM:所有元件安置在一个平面上。
• 三维MCM:在X-Y平面和Z方向上安置元件,所有元 件以叠层的方式被封装在一起。
• 3-DMCM的特点:
• 重量更轻
• 体积更小
• 更高的组装效率
• 更高的可靠性
• 缩短信号延迟时间
• 降低功耗
• 传统封装是以划片后的单个芯片为加工目标,而 WLP的处理对象为晶圆,直接在晶圆上进行封装和 测试,随后切割成一颗颗己经封装好的的IC,然 后在IC生长金属凸点,用倒装技术粘贴到基板或 玻璃基底上,最后再装配到PCB上。
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• 裸芯片技术(COB )
• COB技术:芯片主体和I/O端子在晶体的上方,在 焊接时将此裸片用导电、导热胶粘接在PCB上,凝 固后用Bonder机将金属丝(Al/Au)在超声、热压 的作用下,分别连接在芯片的I/O端子焊区和PCB 相应的焊盘上,测试合格后,再封上树脂胶。
第九章 系统封装与测试
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§1 系统封装
• 半导体器件复杂性和密度的急剧增加推动了 更加先进的VLSI封装和互连方式的开发。 •印刷电路板(printed Circuit Board-PCB) •多芯片模块(Multi-Chip Modules-MCM) •片上系统(System on a Chip-SOC)
• 与其它封装技术相比,COB技术有以下优点:价 格低廉、节约空间、工艺成熟。
• 缺点:另配焊接机和封装机、封装速度慢、PCB贴 片对环境要求更为严格、无法维修。
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• Flip chip技术:又称为倒装片,与COB相比,
芯片结构与I/O端子(锡球)方向朝下,由于I/O 引出端分布于整个芯片表面,故在封装密度和处 理速度上已达到顶峰。特别是它可以采用类似于 SMT技术的手段来加工,是封装技术及高密度安 装的方向。90年代,该技术已在多种行业的电子 产品中加以推广,特别是用于便携式的通信设备 中。
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速度——密度质量因子
• 封装工艺 英寸2)
• SOC • MCM • PCB
质量因子(英寸/10-9秒)×(英寸/
28.0 14.0
2.2
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MCM与SOC比较
• 随着芯片规模的不断扩大,可以将一个完整的电子 系统集成在一块芯片中,即系统级芯片SOC。SOC有 高性能、低功耗、体积小等诸多优点,是下一代集 成电路发展的主要方向。
提高; 5. 组装可用共面焊接,可靠性高; 6. 2020/1/24 BGA封装仍与QFP、PGA一样,占用基板面积6 过
•
CSP芯片尺寸封装
• 芯片面积/封装面积=1:1.1的封装结构,其封装外形 尺寸只比裸芯片大一点点。也就是说,单个IC芯片有 多大,封装尺寸就有多大,从而诞生了一种新的封装 形式——CSP。
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二、多芯片模块(MCM)
• 将高集成度、高性能、高可靠的CSP芯片(IC) 和专用集成电路芯片(ASIC)在高密度多层互联 基板上用表面安装技术(SMT)组装成为多种多 样电子组件、子系统或系统。
• MCM的特点有:
1. 封装延迟时间缩小,易于实现组件高速化;
2. 缩小整机/组件封装尺寸和重量,一般体积减小 1/4,重量减轻1/3;
• 减小信号噪声
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三、片上系统(system on a chip)
• 作为新一代集成技术的片上系统(SOC)直接将 系统设计并制作在同一个芯片上。
• SOC具有高性能、高密度、高集成度、高可保性 和低费用的优点,有着十分诱人的应用前景。
• 目前在实际应用中SOC还而临着很多限制回素, 包括现阶段lP资源还不够丰富、研发成本高及设 计周期长、生产工艺复杂、成品率不高等。此外 在SOC中采用混合半导体技术(如GaAs和SiGe) 也存在问题。
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• 集成电路的封装方法
• 双列直插式(DIP:Dual In-line Package) • 表面安装封装(SMP:Surface Mounted Package) • 球型阵列封装(BGA:Ball Grid Array) • 芯片尺寸封装(CSP:Chip Scale Package) • 晶圆级尺寸封装(WLP:Wafer Level CSP) • 裸芯片封装(COB:Chip On Board ) • 倒装芯片封装(FC:Flip Chip)
Hale Waihona Puke •引线数为:3~300, 引线节距为
1.27~0.4mm
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BGA球栅阵列封装
90年代出现球栅阵列封装,BGA封装特点:
1. I/O引脚数虽然增多,但引脚间距远大于QFP,从 而提高了组装成品率;
2. 虽然它的功耗增加,但BGA能用可控塌陷芯片法 焊接,从而可以改善它的电热性能;
3. 厚度比QFP减少1/2以上,重量减轻3/4以上; 4. 寄生参数减小,信号传输延迟小,使用频率大大
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• DIP封装结构形式
• 衡量一个芯片封装技术先进与否的重要指标是芯片 面积与封装面积之比,这个比值越接近1越好。
• 1965年陶瓷双列直插式DIP和塑料包封结构式 DIP • 引脚数:6~64, 引脚节距:2.54mm
• 例:40根I/O引脚塑料双列直插式封装(PDIP)的CPU
•
芯片面积/封装面积=3×3/15.24×50=1:86
• 这种封装尺寸远比芯片大,说明封装效率很低,占
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• SMP表面安装封装
• 1980年出现表面安装器件,包括:
• 小外型晶体管封装(SOT) • 翼型(L型)引线小外型封装(SOP) • 丁型引线小外型封装(SOJ) • 塑料丁型四边引线片式载体(PLCC) • 塑料L型四边引线扁平封装(PQFP)
• CSP封装具有以下特点: 1.满足了LSI芯片引出脚不断增加的需要; 2.解决了IC裸芯片不能进行交流参数测试和老化筛选 的问题; 3.封装面积缩小到BGA的1/4至1/10,延迟时间缩小 到极短。
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• 晶圆级尺寸封装WLP
• WLP可以有效提局封装集成度,是芯片尺寸封装 CSP中空间占用最小的一种。