半导体材料和集成电路平面工艺基础

合集下载
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
Semiconductor Materials
&
Basic Principle of IC Planar
Processing 半导体材料
和 集成电路平面工艺基础
• References:(Materials)
1. Silicon Processing,By Stanley Wolf and Richard N. Tauber, (Lattice Press,2000); Ch1, Ch2
• 场效应晶体管:(P沟、N沟;增强型、耗尽型) MOS场效应晶体管(MOSFET)、 结型场效应晶体管(JFET)、 肖特基势垒场效应晶体管(SBFET)
2、集成电路的分类: – 按功能:
数字集成电路、模拟集成电路、微波集成电路、 射频集成电路、其它;
– 按工艺:
半导体集成电路(双极型、MOS型、BiCMOS)、
5. 半导体制造技术,Michael Quirk, Julian Serda (科学出版社,1999) Semiconductor Manufacturing Technology, (Prentice Hall, 2001)
6. 微电子技术工程—材料、工艺与测试,刘玉岭 等,(电子工 业出版社, 2004)
• 第八章:薄膜物理淀积技术(Ch12) • 第九章:薄膜化学汽相淀积(CVD)技术(Ch13) • 第十章:晶体外延生长技术(Ch14)
– 第四单元:集成技术简介
• 第十一章:基本技术(Ch15) • 第十二章:几种IC工艺流程(Ch16) • 第十三章:质量控制简介
第一章:IC平面工艺及发展概述
– 第一单元:热处理和局域掺杂技术
• 第二章:扩散掺杂技术(Ch3) • 第三章:热氧化技术(Ch4) • 第四章:离子注入技术(Ch5) • 第五章:快速热处理技术(Ch6)
– 第二单元:图形加工技术
• 第六章:图形转移技术(光刻技术)(Ch7~9) • 第七章:图形刻蚀技术(Ch10~)
– 第三单元:薄膜技术
• 主要教学内容:
• 第一篇(Overview &Materials)
• 第一章: IC平面工艺及发展概述
• 第二章:半导体材料的基本性质
• 第三章:Si单晶的生长与加工
• 第四章:几种化合物半导体的材料生长与加工
• 小结:
材料 器件
工艺
• 第二篇(Unit Process)
• 第一章:IC制造中的超净和硅片清洁技术
2. Silicon VLSI Technology—Fundamentals, Practice and Modeling, By Lame D. Plummer et al, (Pearson Education, , 2000) ; Ch3
3. 材料科学与技术丛书—半导体工艺, K. A. 杰克逊 等 主编, (科学出版社,1999)
3. Silicon Processing,By Stanley Wolf and Richard N. Tauber, (Lattice Press,2000)
4. ULSI Technology , By G. Y. Chang and Simon. M. Sze , (MiGraw Hill,1996)
集成电路芯片?
ຫໍສະໝຸດ Baidu
集成电路芯片?
Passivation lIaLyDe-r6
14
Bonding pad metal
M-4 13
M-3
ILD-5 ILD-4
12
M-2
11
ILD-3 ILD-2
M-1 10
Via
9
ILD-1
8 LI metal
Poly gate 5 LI oxide 3
n+ 2
p+
4
p+
• References:(Processing)
1. The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication, By Stephen A. Campbell, (Oxford, 2nd Edition, 2001)
2. Silicon VLSI Technology—Fundamentals, Practice and Modeling, By Lame D. Plummer et al, (Pearson Education, , 2000)
STI
n+
n+
6
p+
7
n-well
p-well
1
p- Epitaxial layer
p+ Silicon substrate
集成电路芯片?
集成电路芯片?
• 第一章:IC平面工艺及发展概述
– 1、集成电路的基本单元(有源元件) 二极管:
• 按结构和工艺: 金/半接触二极管:肖特基二极管、(点接触二极管) 面结型二极管:合金结二极管、扩散结二极管、 生长结二极管、异质结二极管、等
薄/厚膜集成电路、混合集成电路
– 按有源器件:
双极型、MOS型、BiCMOS、光电集成电路、 CCD集成电路、传感器/换能器集成电路
– 按集成规模:
小规模(SSI)、中规模(MSI)、 大规模(LSI)、超大规模(VLSI)、 甚大规模(ULSI)、巨大规模(GLSI)
3、基本工艺流程举例
• 几种二极管的基本结构
Processing of Semiconductors, By Kenneth A. Jackson and Wolfgang Schröter, (Wiley-VCH, 1996); Ch1,Ch2
4. 半导体器件的材料物理学基础,陈治明 等,科技版,1999
5. 微电子技术工程—材料、工艺与测试,刘玉岭 等,(电子工 业出版社, 2004)
合金
平面 生长(异质)
• 几种晶体管的基本结构
台面
Schottky
合金 生长(异质) 平面1
平面2
MOS
1)、简单的Bipolar IC 结构 隔离、基区、发射区、钨塞、集电区
• 按功能和机理: 振荡、放大类:耿氏二极管、雪崩二极管、变容二极管、等 信号控制类:混频二极管、开关二极管、隧道开关二极管、 检波二极管、稳压二极管、阶跃二极管、等 光电类:发光二极管(LED)(半导体激光器)、 光电二极管(探测器)
晶体管:
• 双极型晶体管:(NPN、PNP) 合金管、合金扩散管、台面管、外延台面管、 平面管、外延平面管等
相关文档
最新文档